CN104765515A - 一种g1f结构电容式触摸屏的制作工艺 - Google Patents

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刘刚
杨卫卫
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Abstract

一种G1F结构电容式触摸屏,包含盖板玻璃(1)、ITO Film(2),盖板玻璃(1)通过光学透明胶层(4)与ITO Film(2)粘接在一起;ITO薄膜(3)分别镀在盖板玻璃(1)的下表面和ITO Film(2)的上表面,这两层ITO薄膜(3)构成X轴和Y轴电极矩阵;所述盖板玻璃(1)和ITO Film(2)均采用干蚀刻法进行蚀刻。ITO干法蚀刻法工艺包括如下步骤:(1)蚀刻印刷:将事先做好的丝印网板覆在ITO膜层上,丝印网板将需要保留的图案盖住,不需要的部分涂上蚀刻膏;(2)蚀刻干燥:经过高温烘烤后ITO被蚀刻膏侵蚀;(3)清洗:用水或碱液洗去反应后的混合物。该制作工艺方法简单、良率高,整个过程中只排放一次污水,提高了生产效率,减少了对环境的污染。

Description

一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺
技术领域
本发明涉及触摸屏技术领域,尤其涉及一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺。
背景技术
触摸屏是一种显著改善人机操作界面的输入设备,具有直观、简单、快捷的优点。触摸屏在许多电子产品中已经获得了广泛的应用,比如手机、PDA、多媒体、公共信息查询系统等。
一般的电容式触摸屏结构为玻璃+玻璃或者玻璃+感应薄膜的组合结构,这类结构的触摸屏产品太厚,整体尺寸太大,透明度太低,出口灵敏度低,而且生产过程复杂,生产成本高。在触控技术迅速发展的浪潮下,该类产品逐渐被淘汰。
为了弥补常规电容式触摸屏的诸多缺点,人们开发出双层玻璃触摸屏,它不仅厚重,而且不能做成窄边框的触摸屏。G1F结构的触摸屏是由ITO导电膜+钢化玻璃盖板组成,G1F结构的触摸屏由于仅有一层玻璃,而另外一层选用了ITO导电膜。ITO导电膜即氧化铟锡涂层,是整片镀在玻璃或PET上的,要实现电容屏要求的触摸效果需要将整片ITO膜层蚀刻成一定的图案。玻璃上的ITO蚀刻一般用曝光法,PET上的ITO膜蚀刻一般用湿蚀刻法或曝光法,无论是曝光法还是湿蚀刻法,其蚀刻方法效率低,而且排放大量污水,对环境污染严重。
发明内容
为了克服现有技术的上述缺点,本发明提供了一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺。
为了解决上述技术问题,本发明通过下述技术方案得以解决:
一种G1F结构电容式触摸屏,所述G1F结构电容式触摸屏包含盖板玻璃1、ITO Film 2,盖板玻璃1通过光学透明胶层4与ITO Film 2粘接在一起;ITO薄膜3分别镀在盖板玻璃1的下表面和ITO Film 2的上表面,这两层ITO薄膜3构成X轴和Y轴电极矩阵;所述盖板玻璃1和ITO Film 2均采用ITO干蚀刻法进行蚀刻。
进一步地,盖板玻璃1的制作工艺流程为:大片玻璃分成小片玻璃后,分别经CNC精雕、强化、印刷、镀ITO膜、蚀刻ITO、印刷银线工序后,形成盖板玻璃1。
进一步地,ITO film 2的制作工艺流程为:ITO膜依次经裁切、蚀刻ITO、印刷银线、激光蚀刻银线、贴OCA胶工序,制成ITO film 2。
进一步地,蚀刻ITO工序采用ITO干法蚀刻法,所述ITO干法蚀刻法工艺流程包括如下步骤:
(1)蚀刻印刷:将事先做好的丝印网板覆在ITO膜层上,丝印网板将需要保留的图案盖住,不需要的部分涂上蚀刻膏;
(2)蚀刻干燥:经过高温烘烤后ITO被蚀刻膏侵蚀;
(3)清洗:用水或碱液洗去反应后的混合物,从而得到所需要的ITO图案。
本发明还涉及一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺,其中:
盖板玻璃1的制作工艺流程包括如下步骤:
步骤A:玻璃大片切割:在大片玻璃上根据产品的尺寸,用切割机切割成小片玻璃插入机架上;
步骤B:CNC精雕工序:把小片玻璃放置在玻璃CNC精雕机上根据产品的形状进行开孔,开槽,倒圆弧,保持产品的精度在正负50微米;
步骤C:强化工序:将精雕后的产品清洗后,放置在强化架上,投入全自动的强化炉,先在预热槽进行250度的预热,以减少产品强化的翘曲度;再在420度的装满硝酸钾的强化槽强化,在玻璃6个面形成符合产品要求的应力层和应力值;
步骤D:印刷工序:将强化后的产品,洗净干燥后进行印刷一层黑色油墨,覆盖了包括盖板边框的绑定区域;黑色油墨厚度控制在6微米以下;
步骤E:ITO镀膜工序:在盖板上均匀镀上一层导电ITO,电阻值控制在60欧姆;
步骤F:蚀刻ITO工序:采用蚀刻膏工艺对镀有ITO的盖板进行蚀刻,形成ITO透明导电线路;
步骤G:印刷银线工序:在玻璃盖板上印刷银线,把ITO的导电线路通过银线导出;经过烤箱进行烘干,温度在150度;得到盖板玻璃1。
进一步地,步骤D中油墨为G1F专用耐高温油墨,通过隧道炉烘干,烘干温度在150度。
进一步地,所述ITO film 2的制作工艺流程包括如下步骤:
步骤H:ITO膜裁切工序:把成卷的ITO膜裁切成大片400mm*500mm;
步骤I:蚀刻ITO工序:采用蚀刻膏工艺对ITO膜进行蚀刻,形成ITO透明导电线路;
步骤J:印刷银线工序:通过CCD印刷机通过抓取ITO靶标进行CCD定位,精度控制在30微米;在ITO膜上印刷银线,把ITO的导电线路通过银线导出;
步骤K:激光蚀刻银线工序:通过激光蚀刻机,把银线切割成细银线,规格是线宽线距在50微米-50微米,确认短断路不良;
步骤L:贴OCA胶工序:在ITO膜上贴上125微米的OCA胶,形成ITO film 2。
进一步地,上述得到的玻璃盖板1和ITO film 2粘接工序包括如下步骤:
步骤M:将蚀刻印刷好的玻璃盖板1和贴好OCA的ITO film 2通过贴合设备贴合,贴合时控制贴合平整度;
步骤N:FPC绑定工序:将ACF粘贴到FPC上,FPC分别和玻璃盖板侧的银线,ITO膜侧的银线通过热压机热压的形式进行FPC的绑定;
步骤O:电测外观检查工序:在三波长的灯光下对产品依据产品出货规范进行检查,最终制作出完整的G1F结构电容式触摸屏。
进一步地,蚀刻ITO工序采用ITO干法蚀刻法,所述ITO干法蚀刻法工艺流程包括如下步骤:
(1)蚀刻印刷:将事先做好的丝印网板覆在ITO膜层上,丝印网板将需要保留的图案盖住,不需要的部分涂上蚀刻膏;
(2)蚀刻干燥:经过高温烘烤后ITO被蚀刻膏侵蚀;
(3)清洗:用水或碱液洗去反应后的混合物,得从而到所需要的ITO图案。
本发明的一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺方法简单、良率高,且整个过程中只排放一次污水,它提高了生产效率,减少了对环境的污染。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本申请的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1为本发明的G1F结构电容式触摸屏的结构示意图;
图2为本发明的G1F结构电容式触摸屏的制作工艺流程示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例的附图,对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1所示,本发明的G1F电容式触摸屏包含盖板玻璃1、ITO Film 2,盖板玻璃1通过光学透明胶层4与ITO Film 2粘接在一起。ITO薄膜3分别镀在盖板玻璃1的下表面和ITOFilm 2的上表面,这两层ITO薄膜3构成X轴和Y轴电极矩阵。本发明中盖板玻璃1和ITO Film2均采用干蚀刻法进行蚀刻。通过采用干蚀刻法进行蚀刻,提高了生产效率,同时也降低了对环境的污染。
如图2所示,本发明中盖板玻璃1的制作工艺流程主要包括:
大片玻璃分成小片玻璃--→CNC精雕--→强化--→印刷--→镀ITO膜--→蚀刻ITO--→印刷银线--→盖板玻璃1
ITO film 2的制作工艺流程主要包括:
ITO膜裁切--→蚀刻ITO--→印刷银线--→激光蚀刻银线--→贴OCA胶--→ITO film 2
本发明中盖板玻璃1和ITO Film 2均采用ITO干法蚀刻工艺,该工艺简单、良率高,且整个过程中只排放一次污水,它提高了生产效率,减少了对环境的污染。
优选地,ITO干法蚀刻工艺流程:
蚀刻印刷(事先做好的丝印网板覆在ITO膜层上,丝印网板将需要保留的图案盖住,不需要的部分涂上蚀刻膏)--→蚀刻干燥(经过高温烘烤后ITO被蚀刻膏侵蚀)--→清洗(用水或碱液洗去反应后的混合物)--→我们需要的ITO图案。
本实施例提供的一种G1F结构电容式触摸屏的ITO干法蚀刻工艺,包括以下工序:
盖板玻璃1的制作工艺流程:
A:玻璃大片切割:在来料大片玻璃上根据产品的尺寸,用切割机切割成小片玻璃插入机架上;
B:CNC精雕工序:把小片玻璃放置在玻璃CNC精雕机上根据产品的形状进行开孔,开槽,倒圆弧。保持产品的精度在正负50微米;
C:强化工序:将精雕后的产品清洗后,放置在强化架上,投入全自动的强化炉,先在预热槽进行250度的预热,以减少产品强化的翘曲度。再在420度的装满硝酸钾的强化槽强化,在玻璃6个面形成符合产品要求的应力层和应力值。符合跌落试验的要求。
D:印刷工序:将强化后的产品,洗净干燥后进行印刷一层黑色油墨,覆盖了包括盖板边框的绑定区域。黑色油墨厚度控制在6微米以下。此油墨为G1F专用耐高温油墨,通过隧道炉烘干,烘干温度在150度。
E:ITO镀膜工序:在盖板上均匀镀上一层导电ITO,方租值控制在60欧姆。
F:蚀刻ITO工序:采用蚀刻膏工艺对镀有ITO的盖板进行蚀刻,形成ITO透明导电线路;
G:印刷银线工序:在玻璃盖板上印刷银线,把ITO的导电线路通过银线导出。经过烤箱进行烘干,温度在150度;得到盖板玻璃1。
ITO film 2的制作工艺流程:
H:ITO膜裁切工序:把成卷的ITO膜裁切成大片400mm*500mm;
I:蚀刻ITO工序:采用蚀刻膏工艺对ITO膜进行蚀刻,形成ITO透明导电线路;
J:印刷银线工序:通过CCD印刷机通过抓取ITO靶标进行CCD定位,精度控制在30微米。在ITO膜上印刷银线,把ITO的导电线路通过银线导出;
K:激光蚀刻银线工序:通过激光蚀刻机,把银线切割成细银线,一般规格是线宽线距在50微米-50微米,确认短断路不良;
L:贴OCA胶工序:在ITO膜上贴上125微米的OCA胶,形成ITO film 2;
上述得到的玻璃盖板1和ITO film 2贴合工序:
M:将蚀刻印刷好的玻璃盖板1和贴好OCA的ITO film 2通过贴合设备贴合,贴合时控制贴合平整度,间隙,贴合位置。
N:FPC绑定工序:将ACF黏贴到FPC上,FPC分别和玻璃盖板侧的银线,ITO膜侧的银线通过热压机热压的形式进行FPC的绑定,注意检查ACF粒子的爆破状态。
O:电测外观检查工序:使用电测夹具和设备进行产品的功能测试测试时要使用正确的电测程序。在三波长的灯光下对产品依据产品出货规范进行检查。
通过以上工序制作出完整的G1F结构电容式触摸屏。
此工艺它提高了生产效率,减少了对环境的污染。比GFF结构更薄,比OGS的强度更好。
应该理解,尽管参考其示例性的实施方案,已经对本发明进行具体地显示和描述,但是本领域的普通技术人员应该理解,在不背离由权利要求书所定义的本发明的精神和范围的条件下,可以在其中进行各种形式和细节的变化,可以进行各种实施方案的任意组合。

Claims (9)

1.一种G1F结构电容式触摸屏,其特征在于:所述G1F结构电容式触摸屏包含盖板玻璃(1)、ITO Film(2),盖板玻璃(1)通过光学透明胶层(4)与ITO Film(2)粘接在一起;ITO薄膜(3)分别镀在盖板玻璃(1)的下表面和ITO Film(2)的上表面,这两层ITO薄膜(3)构成X轴和Y轴电极矩阵;所述盖板玻璃(1)和ITO Film(2)均采用ITO干法蚀刻法进行蚀刻。
2.根据权利要求1所述的一种G1F结构电容式触摸屏,其特征在于:盖板玻璃(1)的制作工艺流程为:大片玻璃分成小片玻璃后,分别经CNC精雕、强化、印刷、镀ITO膜、蚀刻ITO、印刷银线工序后,形成盖板玻璃(1)。
3.根据权利要求1或2所述的一种G1F结构电容式触摸屏,其特征在于:ITO Film(2)的制作工艺流程为:ITO膜依次经裁切、蚀刻ITO、印刷银线、激光蚀刻银线、贴OCA胶工序,制成ITO Film(2)。
4.根据权利要求1-3任一所述的一种G1F结构电容式触摸屏,其特征在于:蚀刻ITO工序采用ITO干法蚀刻法,所述ITO干法蚀刻法工艺包括如下步骤:
(1)蚀刻印刷:将事先做好的丝印网板覆在ITO膜层上,丝印网板将需要保留的图案盖住,不需要的部分涂上蚀刻膏;
(2)蚀刻干燥:经过高温烘烤后ITO被蚀刻膏侵蚀;
(3)清洗:用水或碱液洗去反应后的混合物,从而得到所需要的ITO图案。
5.根据权利要求1所述的一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺,其特征在于:
盖板玻璃(1)的制作工艺流程包括如下步骤:
步骤A:玻璃大片切割:在大片玻璃上根据产品的尺寸,用切割机切割成小片玻璃插入机架上;
步骤B:CNC精雕工序:把小片玻璃放置在玻璃CNC精雕机上根据产品的形状进行开孔,开槽,倒圆弧,保持产品的精度在正负50微米;
步骤C:强化工序:将精雕后的产品清洗后,放置在强化架上,投入全自动的强化炉,先在预热槽进行250度的预热,以减少产品强化的翘曲度;再在420度的装满硝酸钾的强化槽强化,在玻璃6个面形成符合产品要求的应力层和应力值;
步骤D:印刷工序:将强化后的产品,洗净干燥后进行印刷一层黑色油墨,覆盖了包括盖板边框的绑定区域;黑色油墨厚度控制在6微米以下;
步骤E:ITO镀膜工序:在盖板上均匀镀上一层导电ITO,电阻值控制在60欧姆;
步骤F:蚀刻ITO工序:采用蚀刻膏工艺对镀有ITO的盖板进行蚀刻,形成ITO透明导电线路;
步骤G:印刷银线工序:在玻璃盖板上印刷银线,把ITO的导电线路通过银线导出;经过烤箱进行烘干,温度在150度;得到盖板玻璃(1)。
6.根据权利要求5所述的一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺,其特征在于:步骤D中油墨为G1F专用耐高温油墨,通过隧道炉烘干,烘干温度在150度。
7.根据权利要求5或6所述的一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺,其特征在于:
所述ITO Film(2)的制作工艺流程包括如下步骤:
步骤H:ITO膜裁切工序:把成卷的ITO膜裁切成大片400mm*500mm;
步骤I:蚀刻ITO工序:采用蚀刻膏工艺对ITO膜进行蚀刻,形成ITO透明导电线路;
步骤J:印刷银线工序:通过CCD印刷机通过抓取ITO靶标进行CCD定位,精度控制在30微米;在ITO膜上印刷银线,把ITO的导电线路通过银线导出;
步骤K:激光蚀刻银线工序:通过激光蚀刻机,把银线切割成细银线;
步骤L:贴OCA胶工序:在ITO膜上贴上125微米的OCA胶,形成ITO Film(2)。
8.根据权利要求7所述的一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺,其特征在于:
上述得到的玻璃盖板(1)和ITO Film(2)粘接工序包括如下步骤:
步骤M:将蚀刻印刷好的玻璃盖板(1)和贴好OCA的ITO Film(2)通过贴合设备贴合,贴合时控制贴合平整度;
步骤N:FPC绑定工序:将ACF粘贴到FPC上,FPC分别和玻璃盖板侧的银线,ITO膜侧的银线通过热压机热压的形式进行FPC的绑定;
步骤O:电测外观检查工序:在三波长的灯光下对产品依据产品出货规范进行检查,最终制作出完整的G1F结构电容式触摸屏。
9.根据权利要求7所述的一种G1F结构电容式触摸屏的制作工艺,其特征在于:蚀刻ITO工序采用ITO干法蚀刻法,所述ITO干法蚀刻法工艺流程包括如下步骤:
(1)蚀刻印刷:将事先做好的丝印网板覆在ITO膜层上,丝印网板将需要保留的图案盖住,不需要的部分涂上蚀刻膏;
(2)蚀刻干燥:经过高温烘烤后ITO被蚀刻膏侵蚀;
(3)清洗:用水或碱液洗去反应后的混合物,得从而到所需要的ITO图案。
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