CN104745327A - 一种水性光学清洗、脱膜剂及其制备和使用方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种水性光学清洗、脱膜剂及其制备和使用方法,可以洗净工件表面的各种污垢,也可以用于脱除工件表面的加硬层、镀膜层、抗指纹和防雾涂层。清洗、脱除膜层后的工件表面不留斑、无腐蚀、不起白雾,脱除膜层的工件可以重新进行加硬、镀膜、抗指纹或防雾等处理,把不良品回收利用变成良品。制得的水性光学清洗、脱膜剂不含VOC有机挥发性物质,不含高毒性物质,安全、环保。
Description
技术领域
本发明属于光学清洗剂制备领域,具体涉及一种水性光学清洗、脱膜剂及其制备和使用方法。
背景技术
光学镜片行业是目前对镜片表面洁净度和平整度要求较高的一个领域,品质管控十分严格,很多工件因为灰尘、油污、汗迹、指纹、毛屑、水印等污垢没清洗干净,或者因为硬化、镀膜、抗指纹、防雾等加膜工序产生的缺陷,出现了大量的不良品,通常不良品只能当做废品处理,造成极大浪费。过往的技术、产品中,具有以下一个或者多个缺陷:1、大量使用有机溶剂和高毒性物质,造成污染和使用的不安全性;2、不能同时通用于玻璃清洗和光学塑料的清洗;3、不能同时用于脱除工件表面的硬化、镀膜、抗指纹、防雾等膜层,而且在脱除膜层时,也产生了很多缺陷,特别在脱除光学塑料表面的膜层时,比如造成工件表面粗糙、发白、起雾等问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种水性光学清洗、脱膜剂及其制备和使用方法,可以洗净工件表面的各种污垢,也可以用于脱除工件表面的加硬层、镀膜层、抗指纹和防雾涂层,不含VOC有机挥发性物质,不含高毒性物质,安全、环保。
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种水性光学清洗、脱膜剂由以下组分组成,按重量百分数计:
有机强碱:5-30%
羟基有机碱:0.5-10%
缓蚀剂:5-20%
渗透剂:5-20%
阴离子表面活性剂:5-10%
非离子表面活性剂:5-10%
两性离子表面活性剂:5-15%
螯合剂:1-5%
消泡剂:0-1%
分散剂:5-15%
去离子水:余量。
所述的有机强碱为胆碱、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四甲基胍、二乙烯三胺、三乙烯四胺、氨基硅氧烷中的一种或几种;羟基有机碱为二乙醇胺、三乙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、二甘醇胺、羟基乙二胺中的一种或几种。
所述的缓蚀剂为四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、偏硅酸钠、硅酸钠中的一种或几种;渗透剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、顺丁烯二酸二仲辛酯磺酸钠、异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯中的一种或几种。
所述的阴离子表面活性剂为含苯环的磺酸盐;非离子表面活性剂包括烷基酚聚氧乙烯醚类和烷基醇酰胺类化合物;两性离子表面活性剂为羧酸基甜菜碱型、磷酸脂甜菜型、咪唑啉型中一种或几种。
所述的螯合剂为乙二胺四乙酸钠;消泡剂为甘油聚氧丙烯醚、聚醚改性硅、失水山梨醇脂肪酸酯中的一种或几种;分散剂为三聚磷酸钠、萘磺酸缩合物钠盐、聚丙烯酸钠中的一种或几种。
制备方法:往去离子水中边搅拌边依次加入螯合剂、消泡剂、有机强碱、羟基有机碱、两性离子表面活性剂、非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、渗透剂、缓蚀剂和分散剂,继续搅拌30分钟。
使用方法:用于清洗光学镜片时:把所述的水性光学清洗、脱膜剂加入到其重量50倍的去离子水中,开启超声波,加热到40-80℃,把欲清洗工件浸入其中,浸泡30秒到5分钟,取出,用去离子水冲洗三次,烘干,即可;用于脱膜时:将所述的水性光学清洗、脱膜剂加热到40-90℃时,放入欲脱膜工件,浸泡1-30分钟,取出,用去离子水冲洗三次,烘干,即可。
本发明的显著优点在于:制得的水性光学清洗、脱膜剂可以洗净工件表面的各种污垢,也可以用于脱除工件表面的加硬层、镀膜层、抗指纹和防雾涂层,不含VOC有机挥发性物质,不含高毒性物质,安全、环保。
具体实施方式
一种水性光学清洗、脱膜剂由以下组分组成,按重量百分数计:
有机强碱:5-30%
羟基有机碱:0.5-10%
缓蚀剂:5-20%
渗透剂:5-20%
阴离子表面活性剂:5-10%
非离子表面活性剂:5-10%
两性离子表面活性剂:5-15%
螯合剂:1-5%
消泡剂:0-1%
分散剂:5-15%
去离子水:余量。
所述的有机强碱为胆碱、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四甲基胍、二乙烯三胺、三乙烯四胺、氨基硅氧烷中的一种或几种;羟基有机碱为二乙醇胺、三乙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、二甘醇胺、羟基乙二胺中的一种或几种。
所述的缓蚀剂为四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、偏硅酸钠、硅酸钠中的一种或几种;渗透剂为脂肪醇聚氧乙烯醚(如JFC、JFC-1、JFC-2、JFC-E)、顺丁烯二酸二仲辛酯磺酸钠(如快速渗透剂T)、异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯(如OEP-70)中的一种或几种。
所述的阴离子表面活性剂为含苯环的磺酸盐,如十二烷基苯磺酸钠、十二烷基二苯基醚磺酸钠、烷基萘磺酸钠盐中的一种或几种;非离子表面活性剂,包括:烷基酚聚氧乙烯醚(APEO)类,如辛基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚;烷基醇酰胺类,如N,N--—双羟乙基十二烷基酰胺(净洗剂6501)、月桂酸二乙醇酰胺中的一种或几种;两性离子表面活性剂为羧酸基甜菜碱型、磷酸脂甜菜型、咪唑啉型中一种或几种。
所述的螯合剂为乙二胺四乙酸钠;消泡剂为甘油聚氧丙烯醚、聚醚改性硅、失水山梨醇脂肪酸酯中的一种或几种;分散剂为三聚磷酸钠、萘磺酸缩合物钠盐(如德国巴斯夫的Tamol NN 8906)、聚丙烯酸钠(如美国陶氏的ACUSOL 445N)中的一种或几种。
制备方法:往去离子水中边搅拌边依次加入螯合剂、消泡剂、有机强碱、羟基有机碱、两性离子表面活性剂、非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、渗透剂、缓蚀剂和分散剂,继续搅拌30分钟。
使用方法:用于清洗光学镜片时:把所述的水性光学清洗、脱膜剂加入到其重量50倍的去离子水中,开启超声波,加热到40-80℃,把欲清洗工件浸入其中,浸泡30秒到5分钟,取出,用去离子水冲洗三次,烘干,即可;用于脱膜时:将所述的水性光学清洗、脱膜剂加热到40-90℃时,放入欲脱膜工件,浸泡1-30分钟,取出,用去离子水冲洗三次,烘干,即可。
实施例1:
清洗、脱膜剂配制:取100kg的去离子水,搅拌下依次加入:5kg乙二胺四乙酸钠、30kg二乙烯三胺、5kg三乙醇胺、20kg十二烷基羟丙基磷酸酯甜菜碱、15kg净洗剂6501、15kg十二烷基苯磺酸钠、15kgJFC-1、15kg甲基三甲氧基硅烷、20kg Tamol NN 8906,搅拌均匀,标记为A。
镜片清洗:往装有100kg去离子水的不锈钢清洗槽中,加入2kg A,然后开启超声波,并加热到55℃,按表1把各种待清洗镜片浸入洗槽中,浸泡清洗时间达到后,转入后道三池去离子冲洗槽,洗净残余清洗剂,然后把水分烘干。清洗效果如表1所示。
脱膜工艺:取50kgA倒入不锈钢清洗槽中,按表2所示的工艺控制温度,然后浸入欲脱膜的素材,按表2所示的时间浸泡,之后取出镜片,通过三槽去离子水冲洗、烘干水分,脱膜效果如表2所示。
表1 玻璃镜片、塑料镜片的清洗效果
表2 脱除工件表面膜层效果
以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本发明的涵盖范围。
Claims (7)
1.一种水性光学清洗、脱膜剂,其特征在于:由以下组分组成,按重量百分数计:
有机强碱:5-30%
羟基有机碱:0.5-10%
缓蚀剂:5-20%
渗透剂:5-20%
阴离子表面活性剂:5-10%
非离子表面活性剂:5-10%
两性离子表面活性剂:5-15%
螯合剂:1-5%
消泡剂:0-1%
分散剂:5-15%
去离子水:余量。
2.根据权利要求1所述的水性光学清洗、脱膜剂,其特征在于:所述的有机强碱为胆碱、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四甲基胍、二乙烯三胺、三乙烯四胺、氨基硅氧烷中的一种或几种;羟基有机碱为二乙醇胺、三乙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、二甘醇胺、羟基乙二胺中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的水性光学清洗、脱膜剂,其特征在于:所述的缓蚀剂为四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、偏硅酸钠、硅酸钠中的一种或几种;渗透剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、顺丁烯二酸二仲辛酯磺酸钠、异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的水性光学清洗、脱膜剂,其特征在于:所述的阴离子表面活性剂为含苯环的磺酸盐;非离子表面活性剂包括烷基酚聚氧乙烯醚类和烷基醇酰胺类化合物;两性离子表面活性剂为羧酸基甜菜碱型、磷酸脂甜菜型、咪唑啉型中一种或几种。
5.根据权利要求1所述的水性光学清洗、脱膜剂,其特征在于:所述的螯合剂为乙二胺四乙酸钠;消泡剂为甘油聚氧丙烯醚、聚醚改性硅、失水山梨醇脂肪酸酯中的一种或几种;分散剂为三聚磷酸钠、萘磺酸缩合物钠盐、聚丙烯酸钠中的一种或几种。
6.一种制备如权利要求1所述的水性光学清洗、脱膜剂的方法,其特征在于:往去离子水中边搅拌边依次加入螯合剂、消泡剂、有机强碱、羟基有机碱、两性离子表面活性剂、非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、渗透剂、缓蚀剂和分散剂,继续搅拌30分钟。
7.一种使用如权利要求1所述的水性光学清洗、脱膜剂的方法,其特征在于:用于清洗光学镜片时:把所述的水性光学清洗、脱膜剂加入到其重量50倍的去离子水中,开启超声波,加热到40-80℃,把欲清洗工件浸入其中,浸泡30秒到5分钟,取出,用去离子水冲洗三次,烘干,即可;用于脱膜时:将所述的水性光学清洗、脱膜剂加热到40-90℃时,放入欲脱膜工件,浸泡1-30分钟,取出,用去离子水冲洗三次,烘干,即可。
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