CN104744078A - 青花釉里红的烧制工艺 - Google Patents

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马健
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Abstract

本发明公开了一种青花釉里红的烧制工艺，包括以下步骤：1)制备坯料、釉料；2)制备坯体：将坯料制成坯体，修整，晾干后备用；3)釉下青花：在坯体表面用青料和铜红料描绘图案或书写文字，然后进行施釉处理，晾干，得打青花坯体；4)烧制：将青花坯体放入窑内，先控制窑炉在氧化气氛下，以100～120℃/h的升温速度升温至300℃，再以150～200℃/h速度继续升温至950℃；然后控制窑炉在还原气氛下，以40～60℃/h的速度升温至1260～1360℃并保温1～2h，停止加热，待冷却后出窑，即为成品。本发明制得的青花釉里红瓷器青料发色鲜艳，呈色稳定均匀，红料呈色艳丽，无飞红，不发黑，青红相映，相得益彰。

Description

青花釉里红的烧制工艺
技术领域
本发明涉及陶瓷的制作工艺，具体涉及青花釉里红的烧制工艺。
背景技术
青花瓷又称白地青花瓷，常简称青花，是中国瓷器的主流品种之一，属釉下彩瓷。青花瓷是用含氧化钴的钴矿为原料制成青花料，在青花瓷坯体上描绘纹饰，再罩上一层透明釉，经1320℃左右高温还原焰一次烧成。经过高温物理化学变化，青花被固结于坯釉之间，不怕酸碱腐蚀，不易磨损，永不退色，永不剥离。青花瓷以其清新秀丽，清白相应，娇翠欲滴，幽静雅致而著称。青花的呈色，类似于水墨画，随着颜料涂布厚度的变化，可以产生由淡到浓的各种颜色效果。釉里红是以氧化铜为着色剂在瓷胎上描绘图案花纹，再施以透明釉，在1250～1280℃高温下强还原气氛下高价铜还原成低价铜，呈现娇艳艳丽的红色花纹。釉里红以其呈色庄重，典雅浑厚著称，既壮丽又朴实。釉里红色料层只有涂绘到一定厚度才能呈红色，而一旦呈色，颜色都比较浓，不能产生颜色深浅的层次变化。因此，釉里红能丰富了青花瓷的色彩，而青花弥补了釉里红呈色层次变化的不足，青花瓷与釉里红结合成青花釉里红瓷器青红两色相互衬托，实现素雅与艳丽的和谐统一，令人赏心悦目。由于青花料与釉里红色料性质不同，容易出现釉里红色料飞红、发黑以及青花色料呈色不均匀，甚至在釉面产生针孔会气泡，严重降低瓷器品质。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种青花釉里红的烧制工艺。
本发明提供的技术方案是1、青花釉里红的烧制工艺，包括以下步骤：
1)制备坯料、釉料：
所述坯料由以下重量百分数的原料组成：SiO270～75％、Al2O315～20％、Fe2O30.15～0.24％、CaO 0.3～0.5％、K2O 1.2～2％、Na2O 0.6～1.5％、MgO 0.4～0.7％、IL 5～10％；
所述釉料由以下重量百分数的原料组成：SiO275～80％、Al2O313～15％、Fe2O30～0.3％、CaO 0～2％、K2O 2～4％、Na2O 3～5％、MgO 0～4％；
2)制备坯体：将坯料制成坯体，修整，晾干后备用；
3)釉下青花：在坯体表面用青料和铜红料描绘图案或书写文字，然后进行施釉处理，晾干，得打青花坯体；
4)烧制：将青花坯体放入窑内，先控制窑炉在氧化气氛下，以100～120℃/h的升温速度升温至300℃，再以150～200℃/h速度继续升温至950℃；然后控制窑炉在还原气氛下，以40～60℃/h的速度升温至1260～1360℃并保温1～2h，停止加热，待冷却后出窑，即为成品。
上所述还原气氛是窑炉内CO体积浓度为1～8％。
作为优选，当窑炉内温度为950～1100℃时，CO体积浓度为1～4％；当窑炉内温度为1100～1200℃时，CO体积浓度为4～8％；当窑炉内温度高于1200℃时，CO体积浓度为1～8％。
本发明分段控制烧制温度和还原气氛浓度，不仅能确保青料发色鲜艳，呈色稳定均匀，还能保证红料呈色艳丽，无飞红，不发黑，制成的青花釉里红瓷器青红相映，相得益彰，极富观赏价值与商业价值。
具体实施方式
以下具体实施例对本发明作进一步阐述，但不作为对本发明的限定。
实施例1
1)制备坯料、釉料：
所述坯料由以下重量百分数的原料组成：SiO270％、Al2O320％、Fe2O30.15％、CaO 0.3％、K2O 1.2％、Na2O 0.6％、MgO 0.4％、IL 7.35％；
所述釉料由以下重量百分数的原料组成：SiO275％、Al2O315％、CaO 2％、K2O 2％、Na2O 3％、MgO 3％；
2)制备坯体：将坯料制成坯体，修整，晾干后备用；
3)釉下青花：在坯体表面用青料和铜红料描绘图案或书写文字，然后进行施釉处理，晾干，得打青花坯体；
4)烧制：将青花坯体放入窑内，先控制窑炉在氧化气氛下，以100℃/h的升温速度升温至300℃，再以150℃/h速度继续升温至950℃；然后控制窑炉在还原气氛下(当窑炉内温度为950～1100℃时，CO体积浓度为1％；当窑炉内温度为1100～1200℃时，CO体积浓度为4％；当窑炉内温度高于1200℃时，CO体积浓度为1％。)，以40℃/h的速度升温至1260℃并保温1h，停止加热，待冷却后出窑，即为成品。
实施例2
1)制备坯料、釉料：
所述坯料由以下重量百分数的原料组成：SiO275％、Al2O315％、Fe2O30.24％、CaO 0.5％、K2O 2％、Na2O 1.5％、MgO 0.7％、IL 6.86％；
所述釉料由以下重量百分数的原料组成：SiO280％、Al2O315％、K2O 2％、Na2O 3％；
2)制备坯体：将坯料制成坯体，修整，晾干后备用；
3)釉下青花：在坯体表面用青料和铜红料描绘图案或书写文字，然后进行施釉处理，晾干，得打青花坯体；
4)烧制：将青花坯体放入窑内，先控制窑炉在氧化气氛下，以120℃/h的升温速度升温至300℃，再以200℃/h速度继续升温至950℃；然后控制窑炉在还原气氛下(当窑炉内温度为950～1100℃时，CO体积浓度为4％；当窑炉内温度为1100～1200℃时，CO体积浓度为8％；当窑炉内温度高于1200℃时，CO体积浓度为4％)，以60℃/h的速度升温至1360℃并保温2h，停止加热，待冷却后出窑，即为成品。
实施例3
1)制备坯料、釉料：
所述坯料由以下重量百分数的原料组成：SiO272％、Al2O318％、Fe2O30.2％、CaO 0.4％、K2O 1.5％、Na2O 1％、MgO 0.5％、IL 6.4％；
所述釉料由以下重量百分数的原料组成：SiO278％、Al2O314％、Fe2O30.1％、CaO 0.5％、K2O 3％、Na2O 4％、MgO 0.4％；
2)制备坯体：将坯料制成坯体，修整，晾干后备用；
3)釉下青花：在坯体表面用青料和铜红料描绘图案或书写文字，然后进行施釉处理，晾干，得打青花坯体；
4)烧制：将青花坯体放入窑内，先控制窑炉在氧化气氛下，以110℃/h的升温速度升温至300℃，再以180℃/h速度继续升温至950℃；然后控制窑炉在还原气氛下(当窑炉内温度为950～1100℃时，CO体积浓度为2％；当窑炉内温度为1100～1200℃时，CO体积浓度为6％；当窑炉内温度高于1200℃时，CO体积浓度为2％)，以50℃/h的速度升温至1300℃并保温1.5h，停止加热，待冷却后出窑，即为成品。

Claims (3)

1.青花釉里红的烧制工艺，其特征在于：包括以下步骤：
1)制备坯料、釉料：
所述坯料由以下重量百分数的原料组成：SiO2 70～75％、Al2O3 15～20％、Fe2O3 0.15～0.24％、CaO 0.3～0.5％、K2O 1.2～2％、Na2O 0.6～1.5％、MgO 0.4～0.7％、IL 5～10％；
所述釉料由以下重量百分数的原料组成：SiO2 75～80％、Al2O3 13～15％、Fe2O3 0～0.3％、CaO 0～2％、K2O 2～4％、Na2O 3～5％、MgO 0～4％；
2)制备坯体：将坯料制成坯体，修整，晾干后备用；
3)釉下青花：在坯体表面用青料和铜红料描绘图案或书写文字，然后进行施釉处理，晾干，得打青花坯体；
4)烧制：将青花坯体放入窑内，先控制窑炉在氧化气氛下，以100～120℃/h的升温速度升温至300℃，再以150～200℃/h速度继续升温至950℃；然后控制窑炉在还原气氛下，以40～60℃/h的速度升温至1260～1360℃并保温1～2h，停止加热，待冷却后出窑，即为成品。
2.根据权利要求1所述的青花釉里红的烧制工艺，其特征在于：所述还原气氛是窑炉内CO体积浓度为1～8％。
3.根据权利要求2所述的青花釉里红的烧制工艺，其特征在于：当窑炉内温度为950～1100℃时，CO体积浓度为1～4％；当窑炉内温度为1100～1200℃时，CO体积浓度为4～8％；当窑炉内温度高于1200℃时，CO体积浓度为1～4％。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106278186A (zh) * 2016-08-30 2017-01-04 广东昌隆陶瓷股份有限公司 一种青花釉里红陶瓷的制备方法
CN107473589A (zh) * 2017-09-02 2017-12-15 景德镇陶瓷大学 一种碧绿泛蓝玲珑釉及其应用方法
CN108546100A (zh) * 2018-04-17 2018-09-18 安徽青花坊瓷业股份有限公司 一种釉里红瓷器的烧制工艺

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101318842A (zh) * 2008-07-08 2008-12-10 吴渭阳 陶瓷表面装饰层的制造方法
CN101525249A (zh) * 2009-03-04 2009-09-09 景德镇环球实业有限公司 一种中温青花瓷的制备方法
CN102276294A (zh) * 2011-07-15 2011-12-14 广东长城集团股份有限公司 一种铜红釉及其生产方法和用其制成陶瓷产品的方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101318842A (zh) * 2008-07-08 2008-12-10 吴渭阳 陶瓷表面装饰层的制造方法
CN101525249A (zh) * 2009-03-04 2009-09-09 景德镇环球实业有限公司 一种中温青花瓷的制备方法
CN102276294A (zh) * 2011-07-15 2011-12-14 广东长城集团股份有限公司 一种铜红釉及其生产方法和用其制成陶瓷产品的方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106278186A (zh) * 2016-08-30 2017-01-04 广东昌隆陶瓷股份有限公司 一种青花釉里红陶瓷的制备方法
CN107473589A (zh) * 2017-09-02 2017-12-15 景德镇陶瓷大学 一种碧绿泛蓝玲珑釉及其应用方法
CN107473589B (zh) * 2017-09-02 2019-05-31 景德镇陶瓷大学 一种碧绿泛蓝玲珑釉及其应用方法
CN108546100A (zh) * 2018-04-17 2018-09-18 安徽青花坊瓷业股份有限公司 一种釉里红瓷器的烧制工艺

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