CN104661828A - 平版印刷版用支承体以及平版印刷版原版 - Google Patents

平版印刷版用支承体以及平版印刷版原版 Download PDF

Info

Publication number
CN104661828A
CN104661828A CN201380048604.7A CN201380048604A CN104661828A CN 104661828 A CN104661828 A CN 104661828A CN 201380048604 A CN201380048604 A CN 201380048604A CN 104661828 A CN104661828 A CN 104661828A
Authority
CN
China
Prior art keywords
quality
lithographic printing
printing plate
supporting body
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201380048604.7A
Other languages
English (en)
Inventor
西野温夫
泽田宏和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of CN104661828A publication Critical patent/CN104661828A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/034Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/02Etching
    • C25F3/04Etching of light metals
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

本发明目的在于提供一种在作为平版印刷版时,耐刷性和耐清洁剂性优异的平版印刷版以及其中使用的平版印刷版用支承体。本发明的平版印刷版用支承体是在铝板上实施包含电化学粗面化处理的粗面化处理而得到的平版印刷版用支承体,铝板含有以下范围的Fe、Si、Cu、Mn、Mg、Zn和Ti,余量由Al和不可避免的杂质构成,Fe:0.10质量%以上且小于1.0质量%,Si:大于0.25质量%且1.00质量%以下,Cu:0.001质量%以上且0.1质量%以下,Mn:0.1质量%以上且小于1.0质量%,Mg:0.001质量%以上且小于0.10质量%,Zn:0.10质量%以上且0.30质量%以下,Ti:0.001质量%以上且0.05质量%以下,表面积比ΔS为35~80%,并且陡度a45为35~75%。

Description

平版印刷版用支承体以及平版印刷版原版
技术领域
本发明涉及平版印刷版用支承体以及平版印刷版原版。
背景技术
平版印刷法是利用水与油本质上互不混合的印刷方式,在其中使用的平版印刷版的印刷版面中形成接受水而排斥油性墨液的区域(以下,将该区域称为“非图像部”。)和排斥水而接受油性墨液的区域(以下,将该区域称为“图像部”。)。
用于平版印刷版中的平板印刷版用铝支承体(以下也简称为“平版印刷版用支承体”)的表面以承担非图像部的方式使用,因此要求具有许多冲突性质,包括:亲水性和保水性优异、与形成在其上的图像记录层的粘附性优异。对于平版印刷版用支承体而言,如果表面的亲水性过低,则在印刷时墨液会附着于非图像部,导致胶布滚筒(ブランケット胴)变脏,从而产生所谓的糊版(地汚れ)。也就是说,耐污性变差。另外,如果表面的保水性过低,则会产生如下缺陷,即在印刷时润版液不多时,暗调部分产生堵塞。另外,如果与图像记录层的粘附性过低,则图像记录层容易剥离,在印刷张数较多时的耐久性(耐刷性)变差。
因此,为了提高耐污性、耐刷性等各种性能,在平版印刷版用支承体的表面上实施了各种粗面化处理,形成凹凸(以下,也称为“凹痕”、“砂目”。)。
作为粗面化处理的方法,例如,已知有机械粗面化处理、电化学粗面化处理(以下,也称为“电解粗面化处理”。)、化学粗面化处理(化学蚀刻)、将它们组合起来的方法。
其中,在电解粗面化处理中,在含有酸性溶液的水溶液中在铝板上施加交流电流的方法,由于可以在铝板表面上生成微细的凹凸,因此被广泛使用。
例如,在专利文献1中,记载了“一种平版印刷版用支承体的制造方法,其特征在于,在铝合金板上实施包含电化学粗面化处理的表面处理,得到平版印刷版用支承体,其中,该铝合金板的铝含有率为95~99.4质量%,并且该电化学粗面化处理是在以盐酸为主体的水溶液中使用交流电进行的。”(“权利要求1”),并且记载了作为铝合金板的组成,含有以下的范围的选自由Fe、Si、Cu、Mg、Mn、Zn、Cr和Ti构成的群中的3种以上元素(“权利要求2”)。
Fe:0.20~1.0质量%
Si:0.10~1.0质量%
Cu:0.03~1.0质量%
Mg:0.1~1.5质量%
Mn:0.1~1.5质量%
Zn:0.03~0.5质量%
Cr:0.005~0.1质量%
Ti:0.01~0.5质量%
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-339098号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明人对于由专利文献1中记载的制造方法制作的平版印刷版用支承体进行了研究,结果发现使用该支承体的平版印刷版原版由于在以盐酸为主体的水溶液中使用交流电实施电解粗面化处理(以下,也称为“盐酸电解”。),因此根据使用的铝板的合金组成,有时作为平版印刷版时的耐刷性和耐清洁剂(クリーナ)性(清洁剂耐刷性)差。
因此,本发明目的在于提供一种在作为平版印刷版时,耐刷性和耐清洁剂性优异的平版印刷版以及其中使用的平版印刷版用支承体。
解决问题的方法
本发明人为了实现上述目的而进行了深入研究,结果发现:通过使用采用含有特定量的Fe、Si、Cu、Mn、Mg、Zn和Ti(特别是Si、Mg和Zn)的铝板、并且将使用原子力显微镜求出的表示表面形状的各种因素设定为特定的范围的平版印刷版用支承体,而制成平版印刷版时,制成了耐刷性和耐清洁剂性优异的平版印刷版,从而完成本发明。
即,本发明提供以下(1)~(5)。
(1)一种平版印刷版用支承体,其是在铝板上实施包含电化学粗面化处理的粗面化处理而得到的平版印刷版用支承体,
铝板含有以下范围的Fe、Si、Cu、Mn、Mg、Zn和Ti,余量由Al和不可避免的杂质构成,
Fe:0.10质量%以上且小于1.0质量%,
Si:大于0.25质量%且1.00质量%以下,
Cu:0.001质量%以上且0.1质量%以下,
Mn:0.1质量%以上且小于1.0质量%,
Mg:0.001质量%以上且小于0.10质量%,
Zn:0.10质量%以上且0.30质量%以下,
Ti:0.001质量%以上且0.05质量%以下,
表面积比ΔS为35~80%,并且陡度a45为35~75%。
此处,表面积比ΔS是由实际面积Sx和几何学测定面积S0通过下述式(1)求出的值,其中,实际面积Sx是通过近似三点法由使用原子力显微镜在256×256点测定表面的25μm×25μm方形所得的三维数据而得到的,陡度a45是具有角度45°以上的较大倾斜(倾斜度45°以上)的部分相对于所述实际面积Sx的面积率。
ΔS=(Sx-S0)/S0×100(%)…(1)
(2)根据(1)所述的平版印刷版用支承体,
其具有形成平均开口直径为0.01~0.50μm的小波结构的表面,
所述小波结构是开口直径大于0.2μm且0.5μm以下的凹凸中的深度与开口直径的比率(深度/开口直径)的平均值大于0.20且0.60以下的结构。
(3)根据(1)或(2)所述的平版印刷版用支承体,Si和Zn的质量比(Si/Zn)为1.0~8.0和/或Mn和Zn的质量比(Mn/Zn)为0.7~8.0
(4)根据(1)~(3)中任一项所述的平版印刷版用支承体,其中,铝板还含有0.001~0.02质量%的Sn。
(5)一种在(1)~(4)中任一项所述的平版印刷版用支承体上设置图像记录层而形成的平版印刷版原版。
发明效果
如下所述,根据本发明,可以提供一种在作为平版印刷版时,耐刷性和耐清洁剂性均优异的平版印刷版原版以及其中使用的平版印刷版用支承体。
附图说明
图1是表示在本发明的平版印刷版用支承体的制造方法中的电化学粗面化处理中使用的电解处理槽一例的示意剖面图。
具体实施方式
[平版印刷版用支承体]
本发明的平版印刷版用支承体是在具有后述规定的铝合金组成的铝板上实施包含电化学粗面化处理的粗面化处理而得到的平版印刷版用支承体,并且表示表面形状的因素的表面积比ΔS和陡度a45在特定的范围内。
需要说明的是,在本说明书中使用“~”表示的数值范围是指将“~”前后所记载的数值作为下限值和上限值而包含的范围。
<表面形状(表面积比ΔS和陡度a45)>
本发明的平版印刷版用支承体的表面积比ΔS为35~80%,并且陡度a45为35~75%。
通过使用表面积比ΔS和陡度a45为上述范围的平版印刷版用支承体,平版印刷版原版的耐刷性和耐清洁剂性均良好。
虽然其详细情况尚不明确,但可以认为是平版印刷版用支承体表面上所形成的凹痕(凹凸)深度变深,与图像记录层的粘附性提高。
此处,表面积比ΔS是由实际面积Sx和几何学测定面积S0通过下述式(1)求出的值,其中实际面积Sx是通过近似三点法由使用原子力显微镜在256×256点测定表面的25μm×25μm方形所得的三维数据得到的,陡度a45是具有角度45°以上的较大倾斜(倾斜度45°以上)的部分相对于所述实际面积Sx的面积率。
需要说明的是,表面积比ΔS和陡度a45可以通过以下说明的方法求出。
ΔS=(Sx-S0)/S0×100(%)…(1)
(i)通过原子力显微镜进行的表面形状的测定
首先,通过原子力显微镜(Atomic Force Microscope:AFM)测定表面形状,求出三维数据(f(x,y))。
测定例如可以在以下条件下进行。即,将平版印刷版用支承体切下1cm见方的大小,设置在压电扫描器上的水平试样台上,使悬臂接近试样表面,在到达原子间力作用区域的位置,在XY方向上进行扫描,这时,通过Z方向上压电的位移捕捉试样的凹凸。压电扫描器使用能够对XY方向扫描150μm,对Z方向扫描10μm的设备。悬臂使用共振频率120~400kHz、弹性常数12~90N/m的悬臂(例如,SI-DF20,Seiko Instruments株式会社制;NCH-10,NANOSENSORS公司制;或者,AC-160TS,奥林巴斯株式会社制),并且以DFM模式(Dynamic Force Mode)测定。另外,通过对求出的三维数据进行最小二乘逼近,修正试样的微小倾斜,求出基准面。
在测量时,在256×256点测定表面的25μm×25μm方形。XY方向的分辨率为0.1μm,Z方向的分辨率为0.15nm,扫描速度为50μm/sec。
(ii)表面积比ΔS的计算
使用上述(i)中得到的三维数据(f(x,y)),提取相邻的3点,求出由该3点形成的微小三角形的面积总和,作为实际面积Sx。表面积比ΔS可以由得到的实际面积Sx和几何学测定面积S0通过上述式(1)求出。
(iii)陡度a45的计算
使用上述(i)中得到的三维数据(f(x,y)),针对各基准点算出各基准点和规定方向(例如,右和下)的邻接的2点这3点所形成的微小三角形与基准面所成的角。用微小三角形的倾斜度为45度以上的基准点的个数除以全部基准点的个数(从作为总数据个数的256×256点中减去无规定方向的邻接2点的点的个数而得的个数,即,255×255点),算出倾斜度为45度以上的部分的面积率a45。
在本发明中,从平版印刷版原版的耐刷性和耐清洁剂性更良好的理由考虑,表面积比ΔS优选为40~70%,更优选为50~70%。
另外,基于同样的理由,陡度a45更优选为40~70%,进一步优选为45~65%。
<表面形状(大波结构和小波结构)>
从平版印刷版原版的耐污性良好的理由考虑,本发明的平版印刷版用支承体优选具有形成了平均开口直径为0.01~0.50μm的小波结构的表面。
另外,从平版印刷版原版的耐刷性和耐清洁剂性更良好的理由考虑,上述小波结构优选为开口直径大于0.2μm且0.5μm以下的凹凸中的深度与开口直径的比率(深度/开口直径)的平均大于0.20且0.60以下的结构,更优选为大于0.22且0.50以下的结构,进一步优选为大于0.25且0.40以下的结构。
此外,从平版印刷版原版的耐污性更良好的理由考虑,上述小波结构优选与平均波长5~100μm的大波结构重叠,更优选与平均波长10~60μm的大波结构重叠,进一步优选与平均波长20~60μm的大波结构重叠。
此处,小波结构的平均开口直径和上述比率的平均值以及大波结构的平均波长是通过如下测定而求出的值。
(i)小波结构的平均开口直径
使用高分辨率扫描型电子显微镜(SEM),从正上方以50000倍的倍率拍摄平版印刷版用支承体的表面,在得到的SEM照片中提取至少50个小波结构的凹痕(凹凸),读取其直径作为开口直径,算出平均开口直径。
(ii)小波结构的深度与开口直径的比值的平均
小波结构中深度与特定开口直径(大于0.2μm且0.5μm以下)的比值的平均,是使用SEM以50000倍的倍率拍摄平版印刷版用支承体的断裂面,在得到的SEM照片中提取20个开口直径大于0.2μm且为0.5μm以下的凹凸,读取开口直径和深度,求出比值,算出平均值。
(iii)大波结构的平均波长
使用触针式粗糙度计(sufcom575,株式会社东京精密制)进行二维粗糙度测定,测定5次ISO4287中规定的平均峰间隔Sm,将其平均值作为平均波长。二维粗糙度测定在以下条件下进行。
(二维粗糙度测定条件)
Cutoff值0.8,倾斜修正FLAT-ML,测定长度3mm,纵向倍率10000倍,扫描速度0.3mm/sec,触针前端直径2μm
<表面形状(平均粗糙度Ra)>
本发明的平版印刷版用支承体的平均表面粗糙度Ra优选为0.3~0.8μm,更优选为0.35~0.55μm。
此处,平均表面粗糙度Ra是使用触针式粗糙度计(sufcom575,株式会社东京精密制)进行二维粗糙度测定,测定5次ISO4287中规定的平均粗糙度Ra,将其平均值作为平均表面粗糙度Ra。二维粗糙度测定在以下条件下进行。
(二维粗糙度测定条件)
Cutoff值0.8,倾斜修正FLAT-ML,测定长度3mm,纵向倍率10000倍,扫描速度0.3mm/sec,触针前端直径2μm
<铝板(轧制铝)>
本发明的平版印刷版用支承体的制造中使用的上述铝板是含有以下范围的Fe、Si、Cu、Mn、Mg、Zn和Ti,并且余量由Al和不可避免的杂质构成的铝板。需要说明的是,通过使用这种铝板,对于在粗面化处理后得到的本发明的平版印刷版用支承体,也满足以下的铝合金组成。
Fe:0.10质量%以上且小于1.0质量%,
Si:大于0.25质量%且1.00质量%以下,
Cu:0.001质量%以上且0.1质量%以下,
Mn:0.1质量%以上且小于1.0质量%,
Mg:0.001质量%以上且小于0.10质量%,
Zn:0.10质量%以上且0.30质量%以下,
Ti:0.001质量%以上且0.05质量%以下,
另外,上述铝板优选还含有0.001~0.02质量%的作为任意成分的Sn。
以下,针对这些元素,对其功能、优选含量进行说明。
Fe生成Al-Fe系金属间化合物,并且与Si共存而生成Al-Fe-Si系金属间化合物,通过这些化合物的分散使再结晶组织微细化,这些化合物成为产生凹痕的起点,在电化学粗面化处理(以下,也称为“电解处理”。)时使凹痕的形成均匀化,并且使凹痕微细地进行分布。
在本发明中,从通过电解处理所形成的凹痕(砂目)的均匀性的观点考虑,Fe的含量优选为0.10质量%以上且小于1.0质量%,优选为0.25~0.8质量%,更优选为大于0.30质量%且小于0.40质量%。
Si如上所述与Fe共存而生成Al-Fe-Si系金属间化合物,通过该化合物的分散使再结晶组织微细化,该化合物成为产生凹痕的起点,在电解处理时使凹痕的形成均匀化,并且使凹痕微细地进行分布。
在本发明中,从通过电解处理(特别是在以盐酸为主体的水溶液中使用交流电实施的电解处理)所形成的凹痕(砂目)的均匀性提高,平版印刷版原版的耐刷性和耐清洁剂性更良好的理由出发,Si的含量为大于0.25质量%且1.00质量%以下,优选为大于0.30质量%且0.95质量%以下,更优选为大于0.50质量%且0.90质量%以下。
Cu容易固溶于铝,具有使凹痕微细化的效果。
在本发明中,从通过电解处理而形成的凹痕(砂目)的均匀性的观点考虑,Cu的含量为0.001质量%以上且0.1质量%以下,优选为0.01~0.09质量%,更优选为0.05~0.08质量%。
需要说明的是,为了获得上述Fe和Si的含量,从采用的铝原料金属中混入的Cu的含量为5~100ppm(0.0005~0.01质量%)左右。
Mn是起到提高强度和耐热软化性的作用的元素。
此处,所谓强度是指平版印刷版用支承体在常温下的拉伸强度,160MPa以上是实际使用中的优选范围。另外,耐热软化性也称为耐烧热性,是指在280℃左右的温度下加热后的0.2%耐力,90MPa以上是实际使用中希望的范围。
在本发明中,从通过电解处理形成的凹痕(砂目)的均匀性的观点考虑,Mn的含量为0.1质量%以上且小于1.0质量%,优选为0.15~0.90质量%,更优选为0.20~0.80质量%。
Mg由于大部分固溶于铝,因此与Mn同样地为起到提高强度和耐热软化性的作用的元素。
在本发明中,从通过电解处理(特别是在以盐酸为主体的水溶液中使用交流电实施的电解处理)所形成的凹痕(砂目)的均匀性提高,平版印刷版原版的耐刷性和耐清洁剂性更良好的理由出发,Mg的含量为0.001质量%以上且小于0.10质量%,优选为0.005~0.09质量%,更优选为0.01质量%以上且小于0.05质量%。
Zn与Mg同样,其大部分固溶于铝,但其并不像Mg那样有助于强度和耐热软化性的提高,而是对形成于铝板表面上的氧化皮膜产生影响的元素。
此处,形成于铝板表面上的氧化皮膜,有在室温下放置时形成的氧化皮膜(自然氧化皮膜)以及在制造过程中的热处理时形成的氧化皮膜,Zn对这两者都有影响。
在本发明中,从通过电解处理(特别是在以盐酸为主体的水溶液中使用交流电实施的电解处理)所形成的凹痕(砂目)的均匀性提高,平版印刷版原版的耐刷性和耐清洁剂性更良好的理由出发,Zn的含量为0.10质量%以上且0.30质量%以下,优选为0.11~0.29质量%。
Ti使铸块组织变得微细,并且使晶粒微细化,其结果是,使电解处理时凹痕的形成均匀化,并且防止了在作为印刷版进行处理时条纹的产生。
在本发明中,从通过电解处理形成的凹痕(砂目)的均匀性的观点考虑,Ti的含量为0.001~0.05质量%,优选为0.005~0.03质量%。
Sn是有助于电解处理时的凹痕形成均匀性的元素。
在本发明中,从均匀地生成较深凹痕的观点考虑,作为任意成分的Sn的含量优选为0.001~0.02质量%,更优选为0.003~0.01质量%。
作为不可避免的杂质,例如,可以含有在L.F.Mondolfo著“AluminumAlloys:Structurand properties”(1976年)等中记载的量的杂质。作为铝合金板中含有的不可避免的杂质,例如,可以列举B、Ga、Ni、Pb、Na、V、Nb、Cr等。
在本发明中,在这些成分中,对于Si、Mn和Zn来说,从通过电解处理形成的凹痕(砂目)的均匀性良好的理由出发,优选Si和Zn的质量比(Si/Zn)为1.0~8.0,和/或Mn和Zn的质量比(Mn/Zn)为0.7~8.0。
此处,Si和Zn的质量比(Si/Zn)优选为1.5~7.0,更优选为3.0~5.0。
同样地,Mn和Zn的质量比(Mn/Zn)优选为1.0~7.5,更优选为2.0~7.0。
使用这种组成的铝合金的上述铝板(轧制铝)的制造方法没有特别限定,可以采用以往公知的连铸方式和DC铸造方式中的任一种,也可以根据常规方法实施清洁化处理。
具体而言,优选列举以下方法,即,对具有上述组成的铝合金进行铸造,将所得铸块的轧制面表层切削3~15mm后,以20~60℃/hr的升温速度加热至450~580℃的温度区域,进行保持1hr以上的均质化处理,接着进行开始温度为400~520℃,结束温度为320~400℃,结束时的厚度为5mm以下的热轧,然后进行冷轧,制成0.1~0.4mm的轧制板。
需要说明的是,在热轧后也可以进行中间退火,而从可以简化轧制工序,减少轧制工序中的故障发生率,以及减少能量消耗的观点考虑,优选不进行中间退火。
上述铝板(轧制铝)可以是作为连续带状的片材或板材的铝片,也可以是作为制品上市的被裁剪为对应于平版印刷版原版尺寸等的单叶状片材。
另外,铝板的厚度为0.1~0.6mm左右,优选为0.15~0.4mm,更优选为0.2~0.3mm。其厚度可以根据印刷机的大小、印刷版的大小、用户需求等而适当变化。
<粗面化处理>
在上述铝板上实施的粗面化处理,包含电化学粗面化处理,并且只要满足处理后所得的本发明的平版印刷版用支承体的上述表面形状(表面积比ΔS和陡度a45),就没有特别限定。
作为上述粗面化处理,例如,对于上述铝板,可以列举出机械粗面化处理、在碱水溶液中的化学蚀刻处理(碱蚀刻处理)、在酸性水溶液中的化学蚀刻处理(除灰(デスマット)处理)、在酸性水溶液中使用交流电的电化学粗面化处理、依次实施碱蚀刻处理和除灰处理的处理等。
这种粗面化处理中的机械粗面化处理等的各种处理,可以适宜采用日本特开2002-339098号公报(专利文献1)的[0019]~[0049]段、日本特开2007-260987号公报的[0015]~[0041]段等中记载的公知条件来实施。
在本发明中,上述电化学粗面化处理优选在以盐酸为主体的水溶液中使用交流电来进行。
此处,以盐酸为主体的水溶液的盐酸浓度优选为5~20g/L,更优选为8~15g/L,另外,铝离子浓度优选为3~20g/L,更优选为5~18g/L。
另外,以盐酸为主体的水溶液中铝离子的浓度,可以通过向上述盐酸浓度的盐酸水溶液中添加氯化铝而调整。
此外,在以盐酸为主体的水溶液中,优选以1~30g/L的比例添加硝酸、硫酸而使用,特别是更优选以1~5g/L的比例添加硫酸而使用。
另外,在本发明中,优选使用例如图1所示的分割为多个的交流电解槽来代替大型的电解槽,更优选使用2~6个槽的电解槽。
此处,图1是表示在本发明的平版印刷版用支承体的制造方法中的电化学粗面化处理中使用的电解处理槽一例的示意剖面图。
图1所示的电极处理槽1具有第1槽11、第2槽12、第3槽13和第4槽14这4个槽的电解槽,并且具有以图1中箭头所示方向输送铝板15的输送辊16,在每个电解槽中具有电解液17、电极18和交流电源19。
在使用这种交流电解槽时,如国际公开第2009/122882号中所述,如果设置1次以上在电解槽和电解槽之间在铝板上不施加交流电的休止期,并且将休止期的长度设定为0.1~10秒,则在铝合金板的表面整体均匀地形成大波结构,因此优选。
<阳极氧化处理>
在本发明中,从提高平版印刷版用支承体表面的保水性、耐磨耗性(强度)的观点考虑,在上述粗面化处理后,优选实施阳极氧化处理。
上述阳极氧化处理的处理条件没有特别限定,例如,可以适宜采用日本特开2002-339098号公报(专利文献1)的[0050]~[0055]段、日本特开2007-260987号公报的[0042]段等中记载的公知条件。
<封孔处理>
在本发明中,在实施上述阳极氧化处理的情况下,也可以进行使形成了阳极氧化膜的铝板与沸水、热水或水蒸气接触,从而封闭在阳极氧化处理中存在的小孔(微孔)的封孔处理。该处理可以根据公知方法进行。
<亲水化处理>
在本发明中,在实施上述阳极氧化处理或上述封孔处理的情况下,在这些处理后,优选通过浸渍于硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水溶液的方法、涂布亲水性乙烯基聚合物或亲水性化合物形成亲水性的底涂层的方法等来进行亲水化处理。
上述亲水化处理的处理条件没有特别限定,例如,可以适当采用日本特开2007-260987号公报的[0043]~[0048]段等中记载的公知条件。
<干燥>
在本发明中,优选在上述粗面化处理(根据需要实施了阳极氧化处理等的情况下,为阳极氧化处理等)后,在设置图像记录层形成平版印刷版原版前,使平版印刷版用支承体的表面干燥。
干燥优选在表面处理的最后的处理后,在进行水洗处理和使用夹辊除液后进行。
干燥温度优选为70℃以上,更优选为80℃以上,另外,优选为110℃以下,更优选为100℃以下。
干燥时间优选为1秒以上,更优选为2秒以上,另外,优选为20秒以下,更优选为15秒以下。
[平版印刷版原版]
在本发明的平版印刷版用支承体上可以设置以下举例的感光层、感热层等图像记录层而制成本发明的平版印刷版原版。
<图像记录层>
上述图像记录层没有特别限定,例如,可以适宜列举在日本特开2003-1956号公报的[0042]~[0198]段、日本特开2006-88369号公报的[0147]~[0176]段等中记载的常规的正型、常规的负型、光聚合物型(光聚合型感光性组合物)、热正型、热负型、可机上显影的未处理型。
<背涂层>
根据需要,为了防止进行重叠时图像记录层的损伤,可以在本发明的平版印刷版原版的背面设置由有机高分子化合物形成的被覆层。
<制版方法(平版印刷版的制造方法)>
本发明的平版印刷版原版,通过适合图像记录层的各种处理方法制成平版印刷版。
作为可以用于图像曝光的活性光线的光源,例如,可以列举水银灯、金属卤化物灯、氙灯、化学灯。作为激光器,例如,可以列举氦-氖激光(He-Ne激光)、氩激光、氪激光、氦-镉激光、KrF准分子激光、半导体激光、YAG激光、YAG-SHG激光。
在上述曝光后,在图像记录层为热正型、热负型、常规的负型、常规的正型以及光聚合物型中的任何一种的情况下,在曝光后优选使用显影液进行显影得到平版印刷版。
显影液优选为碱性显影液,更优选实质上不含有有机溶剂的碱性水溶液。
另外,也优选实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液。作为使用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液进行显影的方法,可以使用在日本特开平11-109637号公报中详细记载的方法。
另外,也可以使用含有碱金属硅酸盐的显影液。
实施例
以下,给出实施例具体地说明本发明。但是,本发明并不限定于此。
[1.铝板的制造]
使用含有表1所示的各成分(质量%)、并且余量由Al和不可避免的杂质构成的铝合金来制备熔液,在进行熔液处理和过滤后,通过DC铸造法制作厚500mm、宽1200mm的铸块。使用面切削机按照平均10mm的厚度切削表面后,在550℃下均热保持约5小时,温度降为温度400℃时,使用热轧机形成厚2.7mm的轧制板。此外,使用连续退火机在500℃下进行热处理后,进行冷轧,精加工为厚0.3mm、宽1035mm,制造下述表1的铝板A~T。
[表1]
[2.平版印刷版用支承体的制作]
(实施例1~17和比较例1~3)
对制作的铝板A~T实施以下所示的表面处理,分别制作实施例1~17和比较例1~3的平版印刷版用支承体。
<表面处理>
表面处理通过连续进行以下(a)~(j)的各种处理而进行。
(a)碱水溶液中的蚀刻处理(第1蚀刻处理)
从喷射管向铝板喷射苛性钠浓度370g/L、铝离子浓度100g/L、温度50℃的水溶液,进行蚀刻处理。铝板的之后实施电化学粗面化处理的面的蚀刻量为1g/m2
然后,用夹辊进行除液,再进行水洗处理,然后进一步用夹辊进行除液。
(b)酸性水溶液中的除污处理(第1除污处理)
从喷射管向铝板喷射硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L、温度30℃的水溶液,进行5秒钟除污处理。作为硫酸水溶液,使用后述的(f)阳极氧化处理的废液。
然后,用夹辊进行除液,再进行水洗处理,然后进一步用夹辊进行除液。
(c)电化学粗面化处理
作为电解液,使用盐酸浓度10g/l、铝离子浓度15g/l、硫酸浓度2.5g/l、温度33℃的水溶液,通过使用了IGBT元件的变流器控制来控制电流,使用可以产生任意波形的交流电的电源产生正弦波,对实施了上述(b)处理的铝板实施电化学粗面化处理。
此处,在铝板上流过的交流电流为正弦波,频率为60Hz,duty为0.5。电量以铝板的阴极反应时的电量总和计为400C/dm2。另外,交流的峰时的铝板的阳极反应时的电流密度为80A/dm2。阳极反应和阴极反应的电量相同。
电解槽使用图1所示的4槽型电解处理槽,各电解槽的电量调整为100C/dm2。电解槽间的铝通过时间(即休止时间)为4秒。
然后,用夹辊进行除液,再进行水洗处理,然后进一步用夹辊进行除液。
(d)碱水溶液中的蚀刻处理(第2蚀刻处理)
从喷射管向铝板喷射苛性钠浓度5g/L、铝离子浓度5g/L、温度35℃的水溶液,进行蚀刻处理。铝板的之后实施电化学粗面化处理的面的蚀刻量为0.1g/m2
然后,用夹辊进行除液,再进行水洗处理,然后进一步用夹辊进行除液。
(e)酸性水溶液中的除污处理(第2除污处理)
从喷射管向铝板喷射硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L、温度50℃的水溶液,进行5秒钟除污处理。作为硫酸水溶液,使用后述的(f)阳极氧化处理的废液。
然后,用夹辊进行除液。除液后,不进行水洗处理,即供给至(i)阳极氧化处理工序。
(f)阳极氧化处理
作为电解液,使用将硫酸铝溶解于170g/L硫酸水溶液中而使铝离子浓度为7g/L的电解液(温度50℃)。
阳极氧化处理以铝板进行阳极反应期间的平均电流密度为15A/dm2的方式进行,最终的氧化皮膜量为2.4g/m2
然后,用夹辊进行除液,再进行水洗处理,然后进一步用夹辊进行除液。
(g)亲水化处理
使铝板在3号硅酸钠1质量%水溶液(温度20℃)中浸渍10秒钟。使用荧光X射线分析装置测量的铝板表面的Si量为3.5g/m2
然后,用夹辊进行除液,再进行水洗处理,然后进一步用夹辊进行除液。此外,喷吹90℃的风10秒钟使其干燥,制作平版印刷版用支承体。
[3.平版印刷版用支承体的表面形状]
<表面积比ΔS和陡度a45>
通过上述方法对制作的各平版印刷版用支承体计算表面积比ΔS和陡度a45。这些结果示于下述表2。
需要说明的是,在通过原子力显微镜进行的表面形状的测定中,作为悬臂,使用共振频率120~150kHz、弹性常数12~20N/m的悬臂(AC-160TS,奥林巴斯株式会社制)。
<凹痕(砂目)的均匀性>
使用扫描型电子显微镜以2000倍的倍率观察制作的各平版印刷版用支承体的表面形状,评价形成于表面上的凹痕(砂目)的均匀性。
其结果是,将砂目均匀的支承体评价为“A”,将砂目大致均匀的支承体评价为“B”,将砂目不均匀的支承体评价为“C”。这些结果示于下述表2。
<大波结构和小波结构>
通过上述方法对制作的各平版印刷版用支承体计算形成于表面的大波结构的平均波长和平均开口直径,以及小波结构的平均开口直径和上述比率的平均值。这些结果示于下述表2。
[4.平版印刷版原版的制作]
(实施例1~10、实施例12~17和比较例1~3)
在实施例1~10、实施例12~17和比较例1~3中制作的各平版印刷版用支承体上涂布下述组成的底涂液A,在80℃下干燥15秒钟,形成该成分的涂膜(中间层)。干燥后的涂膜的被覆量为15mg/m2
(底涂液A组成)
·下述高分子化合物   0.3g
·甲醇   100g
·水   1g
[化1]
接着,使用线棒以干燥后为0.85g/m2的方式在该涂膜上涂布下述组成的图像记录层用涂布液B1,在140℃下干燥50秒钟。
然后,使用线棒以干燥后为0.25g/m2的方式涂布下述组成的图像记录层用涂布液B2,在140℃下干燥1分钟,形成叠层型的热正型的图像记录层,得到平版印刷版原版。
<图像记录层用涂布液B1的组成>
·N-(4-氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲酯共聚物(摩尔比36/34/30,重均分子量50000)    1.920g
·间,对-甲酚酚醛(间甲酚/对甲酚比为6/4(摩尔比),重均分子量4000)    0.213g
·下述式表示的花青染料B    0.032g
·对甲苯磺酸    0.008g
·四氢邻苯二甲酸酐    0.19g
·双-对羟基苯砜    0.126g
·2-甲氧基-4-(N-苯基氨基)重氮苯·六氟磷酸盐    0.032g
·使维多利亚艳蓝BOH的抗衡阴离子为1-萘磺酸阴离子的染料0.078g
·氟系表面活性剂(MegaFac F-780,DIC株式会社制)    0.020g
·γ-丁内酯    13.18g
·甲乙酮    25.41g
·1-甲氧基-2-丙醇    12.97g
[化2]
花青染料B
<图像记录层用涂布液B2的组成>
·苯酚/间,对-甲酚酚醛(苯酚/间甲酚/对甲酚=5/3/2(摩尔比),重均分子量4000)    0.274g
·上述式所表示的花青染料B    0.029g
·下述式所表示的结构聚合物C/甲乙酮30%溶液    0.14g
·下述式所表示的季铵盐D    0.004g
·下述式所表示的锍盐E    0.065g
·氟系表面活性剂(MegaFac F-780,DIC株式会社制)    0.004g
·氟系表面活性剂(MegaFac F-782,DIC株式会社制)    0.020g
·甲乙酮    10.39g
·1-甲氧基-2-丙醇    20.98g
[化3]
结构聚合物C
季铵盐D
锍盐E
[5.平版印刷版原版的评价]
通过下述方法对制作的平版印刷版原版评价作为平版印刷版时的耐刷性、耐清洁剂性(耐化学试剂性)和耐污性。
(1)耐刷性
使用Creo公司制TrendSetter以滚筒旋转速度150rpm、光束强度10w的条件,在制作的平版印刷版原版上进行图像形状描绘。
然后,使用加入了下述组成的碱性显影液的富士胶片株式会社制PSプロセツサー940H,将液温保持在30℃,以显影时间20秒进行显影,得到平版印刷版。需要说明的是,任一平版印刷版原版的灵敏度均良好。
<碱性显影液组成>
·D-山梨醇    2.5质量%
·氢氧化钠    0.85质量%
·聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1000)    0.5质量%
·水    96.15质量%
通过株式会社小森Corporation制的LITHRONE印刷机,使用DIC株式会社制的DIC-GEOS(N)墨的墨液对得到的平版印刷版进行印刷,通过目视确认满版图像浓度开始变薄的时间点的印刷张数来评价耐刷性。
结果示于下述表2。需要说明的是,表2中的符号含义如下所述。
A:40000张以上
A-B:30000张以上且少于40000张
B:20000张以上且少于30000张
B-C:10000张以上且少于20000张
C:少于10000张
(2)耐清洁剂性(耐化学试剂性)
在印刷时每印刷2000张使将富士胶片株式会社制的多功能清洁剂在图像记录层的表面上附着1分钟,然后用水进行擦除,除了进行该操作之外,与上述(1)的耐刷性评价同样地,通过墨液浓度(反射浓度)比印刷开始时降低0.1时的印刷张数来评价耐清洁剂性。此处,耐清洁剂性用作耐刷性的评价方法的一种。
结果示于下述表2。需要说明的是,表2中的符号含义如下所述。
A:10000张以上
A-B:6000张以上且少于10000张
B:4000张以上且少于6000张
B-C:3000张以上且少于4000张
C:少于3000张
(3)耐污性
和上述(1)耐刷性的评价的情形同样地,使用得到的平版印刷版,通过三菱ダイヤ型F2印刷机(三菱重工业公司制),使用DIC-GEOS(s)红的墨液进行印刷,通过目视评价印刷1万张后的胶布的污染情况。
结果示于下述表2。需要说明的是,表2中的符号含义如下所述。
A:胶布几乎无污染
A-B:胶布稍微产生污染
B:胶布污染在允许范围内
C:胶布污染
[平版印刷版原版的制作]
(实施例11)
在实施例11中制作的各平版印刷版用支承体上以干燥涂布量为20mg/m2的方式涂布下述组成的底涂层用涂布液,形成底涂层。
(底涂层用涂布液)
·下述结构的底涂层用化合物(1)    0.18g
·羟乙基亚氨基二乙酸    0.10g
·甲醇    55.24g
·水    6.15g
[化4]
接着,将下述组成的图像记录层涂布液进行棒涂后,以70℃、60秒的条件进行烘箱干燥,形成干燥涂布量为0.6g/m2的图像记录层。
<图像记录层涂布液>
·按照以下所示的方法制备的聚合物微粒水分散液    20.0g
·下述式表示的红外线吸收剂(1)    0.2g
·聚合引发剂Irgacure250(汽巴精化制)    0.5g
·下述式(U-20)表示的自由基聚合性化合物U-4HA(新中村化学工业株式会社制)    1.50g
·巯基-3-三唑    0.2g
·BYK 336(Byk Chimie公司制)    0.4g
·Klucel M(Hercules公司制)    4.8g
·ELVACITE 4026(Ineos Acrylica公司制)    2.5g
·正丙醇    55.0g
·2-丁酮    17.0g
[化5]
[化6]
(聚合物微粒水分散液的制备)
在1000ml的四口烧瓶中安装搅拌机、温度计、滴液漏斗、氮气导入管、回流冷凝器,导入氮气进行脱氧,同时加入聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯(PEGMA乙二醇的平均重复单元为50)20g、蒸馏水200g和正丙醇200g,加热至内温达到70℃。
接着,经1小时滴加预先混合的苯乙烯(St)10g、丙烯腈(AN)80g和2,2’-偶氮二异丁腈0.8g的混合物。滴加结束后直接持续反应5小时,然后添加2,2’-偶氮二异丁腈0.4g,使内温上升至80℃。
接着,经6小时添加0.5g的2,2’-偶氮二异丁腈。
在合计进行20小时反应的阶段中,聚合物化进行了98%以上,可以得到以质量比计PEGMA/St/AN=10/10/80的聚合物微粒水分散液。
粒径为150nm。此处,粒径分布如下求出:拍摄聚合物微粒的电子显微镜照片,在照片上测定总计5000个微粒的粒径,将得到的粒径测定值的最大值到0之间以对数标度分为50份,绘制各粒径的出现频度。需要说明的是,对于非球形粒子而言,将具有与照片上的粒子面积相同的粒子面积的球形粒子的粒径值作为粒径。
另外,上述组成中以商品名描述的化合物如下所述。
·IRGACURE 250:(4-甲氧基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]碘鎓六氟磷酸盐(75质量%碳酸亚丙酯溶液)
·BYK 336:改性二甲基聚硅氧烷共聚物(25质量%二甲苯/甲氧基丙基乙酸酯溶液)
·KLUCEL M:羟丙基纤维素(2质量%水溶液)
·ELVACITE 4026:高枝化聚甲基丙烯酸甲酯(10质量%2-丁酮溶液)
接着,在如上所述形成的图像记录层上进一步棒涂下述组成的外涂层涂布液后,以120℃、60秒的条件进行烘箱干燥,形成干燥涂布量为0.15g/m2的保护层,得到平版印刷版原版。
<外涂层用涂布液>
·按照以下所示的方法制备的无机质层状化合物分散液    1.5g
·聚乙烯醇(日本合成化学工业株式会社制CKS50,磺酸改性,皂化度99摩尔%以上,聚合度300)6质量%水溶液    0.55g
·聚乙烯醇(株式会社可乐丽制PVA-405,皂化度:81.5摩尔%,聚合度:500)6质量%水溶液    0.03g
·表面活性剂(日本Emulsion株式会社制EMALEX 710)1质量%水溶液    0.86g
·离子交换水    6.0g
(无机质层状化合物分散液的制备)
向离子交换水193.6g中加入合成云母Somasif ME-100(Co-OpChemical株式会社制)6.4g,使用均化器将其分散至平均粒径(激光散射法)达到3μm。得到的分散粒子的长宽比为100以上。
[平版印刷版原版的评价]
通过下述方法对制作的实施例11的平版印刷版原版评价机上显影性、耐刷性、耐清洁剂性(耐化学试剂性)和耐污性。
(1)机上显影性
用搭载有红外线半导体激光的富士胶片株式会社制的LuxelPLATESETTER T-6000III,在外鼓转速1000rpm、激光功率70%、分辨率2400dpi的条件下对得到的平版印刷版原版进行曝光。使曝光图像含有满版图像以及20μm光斑FM投影屏的50%网点图。
不对得到的曝光后原版进行显影处理,将其安装在株式会社小森Corporation制印刷机LITHRONE 26的印版滚筒上。使用Ecolity-2(富士胶片株式会社)/自来水=2/98(容量比)的润版液和Values-G(N)黑色墨液(DIC株式会社制),通过LITHRONE 26的标准自动印刷启动方法供给润版液和墨液,进行机上显影。
此处,测量图像记录层的未曝光部的印刷机上的机上显影完成、成为墨液未转印到非图像部的状态为止所需的印刷用纸张数,将其作为机上显影性。
结果示于下述表2。需要说明的是,表2中的符号含义如下所述。
A:15张以下
(2)耐刷性
在进行机上显影性的评价后,继续进行印刷。随着印刷张数的增加而图像记录层慢慢地磨耗,因此通过目视评价印刷物上墨液浓度的下降,评价耐刷性。
结果示于下述表2。需要说明的是,表2中的符号含义如下所述。
A-B:30000张以上且少于40000张
(3)耐清洁剂性(耐化学试剂性)
在印刷时每印刷2000张就使富士胶片株式会社制的清洁剂CS-2在图像记录层的表面上附着1分钟,然后用水进行擦除,除了进行该操作之外,与上述(2)的耐刷性评价同样地,通过墨液浓度(反射浓度)比印刷开始时降低0.1时的印刷张数来评价耐清洁剂性。
结果示于下述表2。需要说明的是,表2中的符号含义如下所述。
A-B:6000张以上且少于10000张
(4)耐污性
在进行机上显影性的评价后,继续进行印刷,通过目视评价印刷5000张后胶布的污染情况。
结果示于下述表2。需要说明的是,表2中的符号含义如下所述。
A:胶布几乎无污染
[表2]
由表1和表2明确可知,使用表面积比ΔS小于35%并且陡度a45小于35%的比较例1~3的平版印刷版用支承体的平版印刷版原版在作为平版印刷版时,耐刷性和耐清洁剂性均较差。
相反可知,使用表面积比ΔS和陡度a45均在规定范围内的实施例1~10和实施例12~17的平版印刷版用支承体的平版印刷版原版在作为平版印刷版时,耐刷性和耐清洁剂性均优异。
并且可知,特别是使用表面积比ΔS在50~80%的范围内、陡度a45在45~75%的范围内的实施例5~10的平版印刷版用支承体的平版印刷版原版,耐清洁剂性进一步提高。
另外,由实施例1~10和实施例12~17的结果可知,如果小波结构中规定的比率(深度/开口直径)变大,则有耐刷性和耐清洁剂性变好的倾向。
此外,由实施例1~10(特别是实施例6和9)和实施例12~15的结果可知,通过含有特定量(0.001~0.02质量%)的Sn,耐清洁剂性和耐污性进一步提高。
此外,由实施例1~10(特别是实施例1和6)和实施例16~17的结果可知,当Si和Zn的质量比(Si/Zn)为1.0~8.0,Mn和Zn的质量比(Mn/Zn)为0.7~8.0时,印刷性能进一步提高。
另一方面可知,使用实施例11中制作的平版印刷版用支承体的机上显影型的平版印刷版原版,其机上显影性优异,之后的耐刷性也良好。
符号说明
1   电解处理槽
11  第1槽
12  第2槽
13  第3槽
14  第4槽
15  铝板
16  输送辊
17  电解液
18  电极
19  交流电源

Claims (5)

1.一种平版印刷版用支承体,其是在铝板上实施包含电化学粗面化处理的粗面化处理而得到的平版印刷版用支承体,
所述铝板含有以下范围的Fe、Si、Cu、Mn、Mg、Zn和Ti,余量由Al和不可避免的杂质构成,
Fe:0.10质量%以上且小于1.0质量%,
Si:大于0.25质量%且1.00质量%以下,
Cu:0.001质量%以上且0.1质量%以下,
Mn:0.1质量%以上且小于1.0质量%,
Mg:0.001质量%以上且小于0.10质量%,
Zn:0.10质量%以上且0.30质量%以下,
Ti:0.001质量%以上且0.05质量%以下,
表面积比ΔS为35~80%,并且陡度a45为35~75%,
此处,表面积比ΔS是由实际面积Sx和几何学测定面积S0通过下述式(1)求出的值,其中,实际面积Sx是通过近似三点法由使用原子力显微镜在256×256点测定表面的25μm×25μm方形所得的三维数据而得到的,陡度a45是具有角度45°以上的较大倾斜(倾斜度45°以上)的部分相对于所述实际面积Sx的面积率,
ΔS=(Sx-S0)/S0×100(%)…(1)。
2.根据权利要求1所述的平版印刷版用支承体,
其具有形成平均开口直径为0.01~0.50μm的小波结构的表面,
所述小波结构是开口直径大于0.2μm且0.5μm以下的凹凸中的深度与开口直径的比率(深度/开口直径)的平均值大于0.20且0.60以下的结构。
3.根据权利要求1或2所述的平版印刷版用支承体,Si和Zn的质量比(Si/Zn)为1.0~8.0和/或Mn和Zn的质量比(Mn/Zn)为0.7~8.0。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的平版印刷版用支承体,其中,所述铝板还含有0.001~0.02质量%的Sn。
5.一种在权利要求1~4中任一项所述的平版印刷版用支承体上设置图像记录层而形成的平版印刷版原版。
CN201380048604.7A 2012-09-18 2013-08-21 平版印刷版用支承体以及平版印刷版原版 Pending CN104661828A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012204357 2012-09-18
JP2012-204357 2012-09-18
PCT/JP2013/072314 WO2014045789A1 (ja) 2012-09-18 2013-08-21 平版印刷版用支持体および平版印刷版原版

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104661828A true CN104661828A (zh) 2015-05-27

Family

ID=50341113

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201380048604.7A Pending CN104661828A (zh) 2012-09-18 2013-08-21 平版印刷版用支承体以及平版印刷版原版

Country Status (3)

Country Link
CN (1) CN104661828A (zh)
BR (1) BR112015006033A2 (zh)
WO (1) WO2014045789A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109642301A (zh) * 2016-09-01 2019-04-16 诺维尔里斯公司 铝锰锌合金

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6454059B1 (ja) * 2017-10-31 2019-01-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法およびアルミニウム支持体の製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63135294A (ja) * 1986-11-27 1988-06-07 Furukawa Alum Co Ltd 平版印刷版用アルミニウム合金支持体およびその製造方法
JPH01306288A (ja) * 1988-06-06 1989-12-11 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体
CN1343569A (zh) * 2000-09-14 2002-04-10 富士胶片株式会社 平版印刷版铝支撑体的生产方法、平版印刷版铝支撑体和平版印刷模板
JP2004009631A (ja) * 2002-06-10 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体
JP2004114677A (ja) * 2002-09-02 2004-04-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体およびそれを用いる平版印刷版原版
US20040166442A1 (en) * 2003-02-25 2004-08-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Support for lithographic printing plate and presensitized plate

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002103840A (ja) * 2000-09-26 2002-04-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法、平版印刷版用アルミニウム支持体、および平版印刷版原版

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63135294A (ja) * 1986-11-27 1988-06-07 Furukawa Alum Co Ltd 平版印刷版用アルミニウム合金支持体およびその製造方法
JPH01306288A (ja) * 1988-06-06 1989-12-11 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体
CN1343569A (zh) * 2000-09-14 2002-04-10 富士胶片株式会社 平版印刷版铝支撑体的生产方法、平版印刷版铝支撑体和平版印刷模板
JP2004009631A (ja) * 2002-06-10 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体
JP2004114677A (ja) * 2002-09-02 2004-04-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体およびそれを用いる平版印刷版原版
US20040166442A1 (en) * 2003-02-25 2004-08-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Support for lithographic printing plate and presensitized plate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109642301A (zh) * 2016-09-01 2019-04-16 诺维尔里斯公司 铝锰锌合金

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014045789A1 (ja) 2014-03-27
BR112015006033A2 (pt) 2017-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3476616B1 (en) Lithographic printing plate precursor, method for manufacturing a lithographic printing plate, and printing method
US9259954B2 (en) Support for lithographic printing plate and manufacturing method therefor, as well as original lithographic printing plate
CN102616049B (zh) 平版印刷版载体和预制感光版
BR112019015879A2 (pt) precursor de chapa de impressão litográfica, métodos para prover uma chapa de impressão litográfica e para preparar o precursor de chapa de impressão litográfica, e, substrato
JP7518160B2 (ja) 平版印刷版原版および使用方法
WO2019179996A1 (en) A lithographic printing plate precursor
BR112012015476B1 (pt) suporte para chapa de impressão litográfica e método de produção do mesmo e chapa pré-sensibilizada
CN104661828A (zh) 平版印刷版用支承体以及平版印刷版原版
US8632949B2 (en) Lithographic printing plate support and presensitized plate
JP2011067971A (ja) 平版印刷版原版
JP2004230624A (ja) 平版印刷版用支持体、平版印刷版原版および平版印刷版原版の処理方法
JP3925717B2 (ja) 平版印刷版用支持体および平版印刷版原版
US20010038908A1 (en) Substrate for a planographic printing plate and substrate fabrication method
JP2007062216A (ja) 平版印刷版用支持体の製造方法
WO2024030272A1 (en) Lithographic printing plate precursors, methods of using and manufacture
JP4252272B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP2007175867A (ja) 平版印刷版用支持体の製造方法、並びに平版印刷版用支持体及び平版印刷版原版
EP2551385A2 (en) Method and apparatus for electrolytic surface roughening treatment of aluminium and method and apparatus for manufacturing planographic printing plate precursor
JP2012057185A (ja) 平版印刷版用アルミニウム合金板及びその製造方法
JP2004249728A (ja) 平版印刷版用支持体および平版印刷版
JPH11170717A (ja) 感光性平版印刷版
JP2005125546A (ja) 平版印刷版用支持体および平版印刷版原版
JP2006276346A (ja) 平版印刷版原版
JP2002099092A (ja) 平版印刷版原版
JP2001341444A (ja) 平版印刷版用支持体

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20150527