CN104620306A - 显示器用玻璃基板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种与吸附台接触的一侧的表面与吸附台的接触面积足够小的显示器用玻璃基板及其制造方法。一种显示器用玻璃基板，其具有在玻璃基板(2)上附着有微粒(3)的一面(21)，且所述一面(21)的粗糙度Ra为0.5～10nm。微粒(3)的平均粒径优选为50nm以下。微粒(3)优选为包含金属氧化物的微粒。

Description

显示器用玻璃基板及其制造方法
技术领域
本发明涉及显示器用玻璃基板及其制造方法。
背景技术
在等离子体显示面板(PDP)、液晶显示器(LCD)、电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)等平板显示器中，使用在玻璃基板上形成有透明电极、半导体元件等的基板。例如，在LCD中，使用在玻璃基板上形成有透明电极、TFT(薄膜晶体管)等的基板。
在玻璃基板上的透明电极、半导体元件等的形成在通过真空吸附将玻璃基板固定于吸附台上的状态下进行。
但是，玻璃基板为绝缘体，由于与异种物质的接触、摩擦而容易带电，从而强力地吸附在吸附台上。因此，在将形成有半导体元件等的玻璃基板从吸附台上剥离时，玻璃基板难以从吸附台上剥离，强行剥离时，会导致玻璃基板破损。
另外，在将玻璃基板从吸附台上剥离时发生剥离带电的情况下，会产生形成在玻璃基板上的TFT等半导体元件的静电破坏。
因此，对与吸附台接触的一侧的玻璃基板的表面进行粗糙化处理，从而减小玻璃基板与吸附台的接触面积。减小玻璃基板与吸附台的接触面积时，玻璃基板的带电量变少，易于从吸附台上剥离，并且剥离带电量变少。
作为粗糙化处理的方法，已知例如向玻璃基板的一个面喷射包含液体和磨粒的研磨液并用刷子研磨玻璃基板表面的方法(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2001-343632号公报
发明内容
发明所要解决的问题
但是，对于利用以往的方法进行了粗糙化处理的玻璃基板而言，不能充分抑制从吸附台上剥离玻璃基板时的剥离带电的发生，有时会产生半导体元件的静电破坏。另外，对于以往的进行了粗糙化处理的玻璃基板，要求更容易从吸附台上剥离。
本发明提供一种与吸附台接触的一侧的表面具有能够充分减小与吸附台的接触面积的粗糙度的显示器用玻璃基板及其制造方法。
用于解决问题的手段
[1]一种显示器用玻璃基板，其具有在玻璃基板上附着有微粒的一面，且所述一面的粗糙度Ra为0.5～10nm。
[2]如[1]所述的显示器用玻璃基板，其中，所述微粒的平均粒径为50nm以下。
[3]如[1]或[2]所述的显示器用玻璃基板，其中，所述微粒为包含金属氧化物的微粒。
[4]如[1]～[3]任一项所述的显示器用玻璃基板，其中，所述微粒为选自二氧化铈微粒、氧化锆微粒、二氧化硅微粒、氧化铝微粒中的一种或者两种以上的微粒。
[5]一种显示器用玻璃基板的制造方法，其为制造[1]～[4]任一项所述的显示器用玻璃基板的方法，该方法包括：
在玻璃基板的一面上涂布含有微粒的涂布液的涂布工序，
用纯水洗掉所述一面上的所述微粒的一部分的冲洗工序，和
干燥所述玻璃基板的干燥工序。
发明效果
本发明的显示器用玻璃基板的一面的粗糙度Ra为0.5～10nm，因此通过将一面配置在与吸附台接触的一侧，能够充分减小与吸附台的接触面积。因此，本发明的显示器用玻璃基板在从吸附台上剥离时，能够容易地剥离，并且不容易发生剥离带电。
根据本发明的显示器用玻璃基板的制造方法，能够制造与吸附台接触的一侧的表面具有能够充分减小与吸附台的接触面积的粗糙度的显示器用玻璃基板。
附图说明
图1为表示本发明的显示器用玻璃基板的一例的剖视图。
图2为用于说明图1所示的显示器用玻璃基板的制造方法的图。
图3为用于说明图1所示的显示器用玻璃基板的制造方法的图。
图4为表示本发明的显示器用玻璃基板中使用的玻璃基板的一例的剖视图。
图5(a)～(c)为用于说明图1所示的显示器用玻璃基板的另一制造方法的图。
具体实施方式
<显示器用玻璃基板>
图1为表示本发明的显示器用玻璃基板的一例的剖视图。图1所示的显示器用玻璃基板1具有在玻璃基板2上附着有微粒3的背面21(一面(图1中为上面))。
显示器用玻璃基板1的背面21为在显示器用玻璃基板1上形成透明电极、半导体元件等时与吸附台接触配置的面。
另一方面，显示器用玻璃基板1的表面2b(与一面相反侧的面(图1中为下面))为形成有透明电极、半导体元件等的面。如图1所示，显示器用玻璃基板1的表面2b由玻璃基板2的表面构成。显示器用玻璃基板1的表面2b(玻璃基板2的表面)为粗糙度Ra为约0.2～约0.4nm的光滑面。
图1所示的显示器用玻璃基板1的背面21的粗糙度Ra为0.5～10nm，优选为0.7～5nm，更优选为1～4nm。
本发明中的粗糙度Ra为利用原子力显微镜测定5μm×5μm的测定区域，由此求出JIS B0601(2001年)规定的算术平均高度，通过求出其平均值而计算得到的数值。在使用原子力显微镜测定5μm×5μm的微小的测定区域时，能够纯粹地测定玻璃基板2的“粗糙度”，而不考虑玻璃基板2的“起伏(うねり)”。
背面21的粗糙度Ra为0.5nm以上时，在显示器用玻璃基板1的表面2b上形成透明电极、半导体元件等时，背面21与吸附台的接触面积足够小。其结果是，显示器用玻璃基板1在从吸附台上剥离时能够容易剥离，并且不容易发生剥离带电。另外，背面21的粗糙度Ra为10nm以下时，能够抑制可见光的散射的发生，从而能够保持可见光的高透射率。
在图1所示的显示器用玻璃基板1中，玻璃基板2上的附着有微粒3的被附着面2a例如可以为粗糙度Ra为约0.2nm的火琢面(火造り面)，也可以为如图4所示的粗糙化处理的粗糙度Ra为约0.4nm的面。
被附着面2a经过粗糙化处理的显示器用玻璃基板1成为玻璃基板2的背面21与吸附台的接触面积更小的基板。因此，在将显示器用玻璃基板1从吸附台上剥离时，能够更容易地剥离，并且能够更有效地抑制剥离带电的发生。
作为玻璃基板2，可以列举：钠钙硅酸盐玻璃基板等含碱玻璃基板、硼硅酸玻璃基板等无碱玻璃基板等。
玻璃基板2的形状和平面尺寸没有特别限定，玻璃基板2为矩形且长和宽均为100～3000mm时，适合作为显示器用基板。另外，为了用作显示器用基板，玻璃基板2的厚度优选为0.1～3mm。
在玻璃基板2为无碱玻璃基板的情况下，玻璃基板2的组成优选为：例如以摩尔％表示，含有SiO2：66～70％、Al2O3：9～14％、B2O3：6～9.5％、MgO：1～5％、CaO：1～6％、SrO：2～8％、MgO+CaO+SrO：9～16％，并且实质上不含BaO。另外，在玻璃基板2为无碱玻璃的情况下，特别优选0.3～1.0mm的厚度。
微粒3优选为包含金属氧化物的微粒。包含金属氧化物的微粒3优选为选自二氧化铈(CeO2)微粒、氧化锆(ZrO2)微粒、二氧化硅(SiO2)微粒、氧化铝(Al2O3)微粒中的一种或者两种以上的微粒，其中，从起因于表面电位差的附着力的观点出发，特别优选使用二氧化铈微粒。
微粒3的平均粒径只要是能够形成Ra为0.5～10nm的背面21的大小，就没有特别限定，优选为50nm以下，更优选为5～30nm，更优选为10～20nm。
需要说明的是，微粒3的平均粒径为由BET吸附法得到的比表面积测定值(按照JIS Z8830 1990年制定(最新修订年2013年))的换算值。
微粒3的平均粒径为50nm以下时，在使用含有微粒的涂布液将微粒3附着于玻璃基板2上的情况下，涂布液中的微粒3不容易沉降，能够将微粒3良好地分散在涂布液中，涂布液的操作容易，因此是优选的。另外，微粒3的平均粒径为50nm以下时，在后述的冲洗工序中被洗掉或者附着于玻璃基板2后脱落的微粒3不会作为异物在显示器的制造工序中造成障碍。
<制造方法>
接下来，作为本发明的显示器用玻璃基板的制造方法的一例，使用图2和图3说明图1所示的显示器用玻璃基板的制造方法。
为了制造图1所示的显示器用玻璃基板1，首先准备玻璃基板2。
接下来，在玻璃基板2的被附着面2a(作为显示器用玻璃基板1的背面21一侧的面)上，如图2所示，涂布含有微粒3的涂布液4(涂布工序)。
通过进行涂布工序，将微粒3供给至玻璃基板2的被附着面2a上，利用起因于玻璃基板2与微粒3的表面能、表面电位差的附着力，将微粒3附着于玻璃基板2的被附着面2a上。
作为含有微粒3的涂布液4，可以列举：将微粒3分散在水中而得到的涂布液。涂布液中的微粒3的含量可以根据显示器用玻璃基板1的背面21的微粒3的密度、涂布液4的涂布量、涂布液4的易于涂布的粘度等适当确定，没有特别限定。在涂布液4中根据需要也可以含有硝酸等pH调节剂、醇等介电常数调节剂等添加剂。
需要说明的是，作为涂布液4，还可以使用将微粒3分散在水和乙醇的混合溶液、水和甘油的混合溶液中而得到的涂布液。
涂布液4的涂布量可以根据涂布液中的微粒3的含量等适当确定，优选使得玻璃基板2的被附着面2a的Ra为0.5～10nm。
涂布液4的涂布方法没有特别限定，优选为能够将涂布液4仅涂布于玻璃基板2的被附着面2a的一侧的方法，可以列举例如：将玻璃基板2的被附着面2a朝向上方并滴加涂布液4的方法，将被附着面2a朝向下方并使用涂布辊、喷雾器进行涂布的方法等。
接下来，如图3所示，进行用纯水5洗掉被附着面2a上的微粒3的一部分的冲洗工序。在冲洗工序中，可以使用例如，在涂布有涂布液4的玻璃基板2的被附着面2a上使用喷嘴供给纯水5的方法。
在本实施方式中，即使进行冲洗工序，如图3所示，利用起因于表面能、表面电位差的附着力附着在玻璃基板2的被附着面2a上的微粒3残留而未被除去，仅仅是玻璃基板2的被附着面2a上存在的多余的微粒3被选择性地除去。
在本实施方式中，多余的微粒3是指与玻璃基板2的被附着面2a不直接相互作用的微粒3a(3)。
接下来，对冲洗工序结束后的玻璃基板2进行干燥，从而除去在冲洗工序中使用的纯水5(干燥工序)。作为干燥方法，没有特别限定，可以使用气流干燥法等。
在本实施方式中，通过在干燥工序之前进行冲洗工序，除去在玻璃基板2的被附着面2a上存在的多余的微粒3a(3)。因此，可以防止：在干燥工序中，未附着于被附着面2a上的残留的多余的微粒3a(3)绕回到显示器用玻璃基板1的表面2b上，并附着于显示器用玻璃基板1的表面2b上。
另外，玻璃基板2的被附着面2a上的微粒3利用起因于表面能、表面电位差的附着力而附着于被附着面2a上，因此即使进行干燥工序也难以除去。因此，在干燥工序后的被附着面2a上微粒3也以足够的密度残留。因此，干燥工序后的显示器用玻璃基板1的背面21的粗糙度Ra在0.5～10nm的范围内。另外，由于即使进行干燥工序也难以除去被附着面2a上的微粒3，因此可以使用例如气流干燥法等效率高且能够容易干燥的方法进行干燥工序。
通过以上的工序，能够得到图1所示的显示器用玻璃基板1。
之后，在由此而得到的图1所示的显示器用玻璃基板1的表面2b(图1中为下面)上，形成透明电极、半导体元件等。在形成透明电极、半导体元件等之前，可以擦洗显示器用玻璃基板1的两面。在图1所示的显示器用玻璃基板1中，微粒3利用起因于表面能、表面电位差的附着力附着在玻璃基板2的被附着面2a上，因此即使进行擦洗也难以除去微粒3。因此，即使通过擦洗，附着在被附着面2a上的微粒3的一部分脱落，在显示器用玻璃基板2的背面21也可以确保约1nm的足够的粗糙度Ra。
本发明的显示器用玻璃基板的制造方法并不限定于上述的方法。例如，上述的涂布工序、冲洗工序、干燥工序可以使用具有运送单元的制造装置，例如在将玻璃基板2沿图5(a)所示的箭头的方向以80～1500cm/分钟运送的同时连续地进行。
本实施方式中使用的制造装置具有例如包含多个运送辊(未图示)的运送单元。作为运送辊，可以使用例如以夹持玻璃基板2的方式上下成对地配置的辊。
在本实施方式中，通过运送单元，以被附着面2a朝下的方式运送玻璃基板2。
本实施方式中使用的制造装置，如图5(a)所示，具备具有配置在运送中的玻璃基板2的下方的涂布液槽41和涂布辊42的涂布单元。如图5(a)所示，在涂布液槽41中放入含有微粒3的涂布液4。涂布辊42的与玻璃基板2的运送方向正交的方向上的尺寸，比玻璃基板2的宽度(与玻璃基板2的运送方向正交的方向)长。涂布辊42如图5(a)所示以沿着与玻璃基板2的运送方向正交的方向延伸的旋转轴为中心，在沿着玻璃基板2的运送方向的方向上旋转。
如图5(a)所示，涂布辊42的下面与放入涂布液槽41内的涂布液4接触。涂布辊42的上面以与沿着运送方向移动的玻璃基板2的被附着面2a接触的方式进行配置。
在图5(a)所示的涂布单元中，伴随着被运送的玻璃基板2的移动，与玻璃基板2接触的涂布辊42旋转，涂布液4被供给到与涂布辊42的上面接触的移动中的玻璃基板2的被附着面2a上。由此，在玻璃基板2的被附着面2a上涂布涂布液4(涂布工序)。
本实施方式中使用的制造装置具有纯水供给单元，其使用喷嘴(未图示)将纯水5供给到通过运送单元运送的玻璃基板2的上下两面上。在图5(b)所示的纯水供给单元中，喷嘴以夹持被运送的玻璃基板2的上下两面的方式相对地配置多个。
在本实施方式中，利用运送单元运送涂布有涂布液4的玻璃基板2，如图5(b)所示，使其通过纯水供给单元的供给纯水5的区域。由此，用纯水洗掉在运送中的基板2的被附着面2a上存在的微粒3的一部分(冲洗工序)。在本实施方式中，如图5(b)所示，即使进行冲洗工序，利用起因于表面能、表面电位差的附着力附着在玻璃基板2的被附着面2a上的微粒3残留而未被除去，仅仅是在玻璃基板2的被附着面2a上存在的多余的微粒3a(3)被选择性地除去。
需要说明的是，在图5(b)所示的纯水供给单元中，在冲洗工序中，纯水5不仅被供给到运送中的玻璃基板2的被附着面2a上而且也被供给到表面2b上。此外，在本实施方式中，由于玻璃基板2以被附着面2a朝下的方式运送，因此在冲洗工序中洗掉的多余的微粒3a(3)向下方排出。由此，在本实施方式中，能够有效地防止：在冲洗工序中洗掉的未附着于被附着面2a上的多余的微粒3a(3)附着于玻璃基板2的表面2b上。
本实施方式中使用的制造装置具有分别配置在玻璃基板2的上下的干燥单元(未图示)。作为干燥单元，可以列举例如：朝向玻璃基板2、沿着与玻璃基板2的运送方向正交的方向以壁状喷出空气的气刀。
在本实施方式中，利用运送单元运送完成冲洗工序的玻璃基板2，使其通过从作为干燥单元的气刀以壁状喷出空气的区域。由此，如图5(c)所示，从运送中的玻璃基板2的两面除去在冲洗工序中使用的纯水5(干燥工序)。
实施例
以下列举实施例对本发明进行具体说明，但是本发明并不限定于这些例子。
实施例1
使用以下所示的方法，制造实施例1的显示器用玻璃基板。
首先，作为玻璃基板，准备利用浮法成形并切断后，依次进行用于除去起伏的研磨和用于除去研磨后的残渣的洗涤，由此将两面粗糙化处理的基板(旭硝子公司制：AN100、长550mm×宽440mm×厚0.7mm)。
接下来，在玻璃基板的被附着面(作为显示器用玻璃基板的背面的一侧的面)上，滴加含有微粒的涂布液200mL使得扩展至整个基板(涂布工序)。
作为涂布液，使用将含有20～21质量％的平均粒径8～12nm的二氧化铈微粒的CE-20A(商品名：日产化学公司制)用纯水稀释而得到的二氧化铈含量为0.01质量％的溶液。
接下来，如图3所示，进行用纯水洗掉被附着面上的微粒的一部分的冲洗工序。冲洗工序通过使用喷嘴以流量2000mL/分钟向玻璃基板的被附着面上供给纯水5秒钟而进行。
接下来，将完成冲洗工序的玻璃基板使用气流干燥法干燥，从而除去冲洗工序中使用的纯水(干燥工序)。
通过以上的工序，得到了实施例1的显示器用玻璃基板。
实施例1的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为2.78nm。
实施例2
作为涂布液，使用将含有12质量％的平均粒径15nm的二氧化硅微粒的PL-1(商品名：扶桑化学公司制)用纯水稀释而得到的二氧化硅含量为0.01质量％的溶液，除此以外，以与实施例1同样的方式，得到了实施例2的显示器用玻璃基板。
实施例2的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为5.37nm。
实施例3
作为涂布液，使用将含有40质量％的平均粒径15nm的二氧化硅微粒的COMPOL20(商品名：Fujimi Incorporated公司制)用纯水稀释而得到的二氧化硅含量为0.01质量％的溶液，除此以外，以与实施例1同样的方式，得到了实施例3的显示器用玻璃基板。
实施例3的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为1.22nm。
实施例4
作为涂布液，使用将CE-20A(商品名：日产化学公司制)用纯水稀释而得到的二氧化铈含量为0.1质量％的溶液，除此以外，以与实施例1同样的方式，得到了实施例4的显示器用玻璃基板。
实施例4的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为4.29nm。
实施例5
作为涂布液，使用将CE-20A(商品名：日产化学公司制)用纯水稀释而得到的二氧化铈含量为0.001质量％的溶液，除此以外，以与实施例1同样的方式，得到了实施例5的显示器用玻璃基板。
实施例5的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为1.16nm。
实施例6
作为玻璃基板，准备利用浮法成形并切断后的被附着面为火琢面的玻璃基板(旭硝子公司制：AN100、长550mm×宽440mm×厚0.7mm)。除此以外，以与实施例1同样的方式，得到了实施例6的显示器用玻璃基板。
实施例6的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为2.19nm。
实施例7
作为涂布液，使用将CE-20A(商品名：日产化学公司制)用纯水稀释而得到的二氧化铈含量为0.001质量％的溶液，除此以外，以与实施例6同样的方式，得到了实施例7的显示器用玻璃基板。
实施例7的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为1.47nm。
实施例8
将在实施例1中制作的Ra＝2.78nm的玻璃基板的背面用2000mL/分钟的流水进行5秒钟擦洗，得到了实施例8的显示器用玻璃基板。
实施例8的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为2.46nm。
实施例9
将在实施例6中制作的Ra＝2.19nm的玻璃基板的背面用2000mL/分钟的流水进行5秒钟擦洗，得到了实施例9的显示器用玻璃基板。
实施例9的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为0.96nm。
实施例10
作为涂布液，使用将CE-20A(商品名：日产化学公司制)用纯水/乙醇为1/1(重量比)的溶液稀释而得到的二氧化铈含量为0.01质量％的溶液，除此以外，以与实施例6同样的方式，得到了实施例10的显示器用玻璃基板。
实施例10的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为2.94nm。
实施例11
作为涂布液，使用将CE-20A(商品名：日产化学公司制)用纯水/甘油为1/1(重量比)的溶液稀释而得到的二氧化铈含量为0.01质量％的溶液，除此以外，以与实施例6同样的方式，得到了实施例11的显示器用玻璃基板。
实施例11的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为2.56nm。
实施例12
作为涂布液，使用将SNOWTEX AK(商品名：日产化学公司制)用纯水稀释而得到的阳离子性二氧化硅含量为0.01质量％的溶液，除此以外，以与实施例6同样的方式，得到了实施例12的显示器用玻璃基板。
实施例12的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为2.16nm。
实施例13
作为涂布液，使用将超细微粒ZIRCONIA SOL#1(商品名：日产化学公司制)用纯水稀释而得到的氧化锆含量为0.01质量％的溶液，除此以外，以与实施例6同样的方式，得到了实施例13的显示器用玻璃基板。
实施例13的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为1.57nm。
比较例1
使用以下所示的方法，制造比较例1的显示器用玻璃基板。
将在实施例6中准备的进行涂布工序之前的玻璃基板作为比较例1的显示器用玻璃基板。
比较例1的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为0.20nm。
接下来，对于实施例6和比较例1的显示器用玻璃基板的剥离带电量，通过以下所示的方法进行评价。
(剥离带电量)
将显示器用玻璃基板真空吸附于吸附台上一定时间，之后用起模针(lift pin)进行剥离。随着时间经过，测定在从吸附台上剥离时发生的带电所产生的玻璃基板与吸附台之间的电压。
设Q为带电量，d为玻璃基板与吸附台的距离，S为玻璃基板面积，ε为大气中的介电常数时，带电所产生的玻璃基板与吸附台之间的电压(V)用下式(1)表示。
V＝dQ/εS…(1)
玻璃基板与吸附台的距离d用起模针上升速度v与时间t的乘积表示，因此，式(1)用下式(2)表示。
V＝vtQ/εS…(2)
对(2)式进行时间微分，得到下式(3)。
dV/dt＝vQ/εS…(3)
式(3)表示：通过测定得到的数据的斜率与带电量成比例。带电量Q由于时间经过以及外部干扰而减少，因此，将剥离瞬间的斜率的最大值作为剥离带电量。
由此计算的剥离带电量，在将比较例1设为“1”时，实施例6低至“0.66”。
比较例2
使用以下所示的方法，制造比较例2的显示器用玻璃基板。
对在实施例6中准备的进行涂布工序之前的玻璃基板喷射专利文献1中记载的包含研磨材料的研磨液并且通过用刷子擦刷的方法进行处理，由此得到了比较例2的显示器用玻璃基板。
比较例2的显示器用玻璃基板的背面的粗糙度Ra为0.42nm。
接下来，评价实施例11和比较例2的显示器用玻璃基板的剥离带电量。
计算的剥离带电量，在将比较例2设为“1”时，实施例11低至“0.64”。
虽然详细并且参照特定的实施方式说明了本发明，但是在不脱离本发明的精神和范围的情况下可以包括各种变更或修饰，这对于本领域技术人员而言是显而易见的。
本申请基于2012年9月10日申请的日本专利申请2012-198825，其内容作为参考并入本文。
产业实用性
本发明的显示器用玻璃基板作为PDP、LCD、ELD、FED等显示器的基板是有用的。
附图标记
1  显示器用玻璃基板
2  玻璃基板
2a 被附着面
2b 表面
3  微粒
4  涂布液
5  纯水
21 背面(一面)
41 涂布液槽
42 涂布辊

Claims (5)

1.一种显示器用玻璃基板，其具有在玻璃基板上附着有微粒的一面，且所述一面的粗糙度Ra为0.5～10nm。
2.如权利要求1所述的显示器用玻璃基板，其中，所述微粒的平均粒径为50nm以下。
3.如权利要求1或权利要求2所述的显示器用玻璃基板，其中，所述微粒为包含金属氧化物的微粒。
4.如权利要求1～权利要求3中任一项所述的显示器用玻璃基板，其中，所述微粒为选自二氧化铈微粒、氧化锆微粒、二氧化硅微粒、氧化铝微粒中的一种或者两种以上的微粒。
5.一种显示器用玻璃基板的制造方法，其为制造权利要求1～权利要求4中任一项所述的显示器用玻璃基板的方法，该方法包括：
在玻璃基板的一面上涂布含有微粒的涂布液的涂布工序，
用纯水洗掉所述一面上的所述微粒的一部分的冲洗工序，和
干燥所述玻璃基板的干燥工序。
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