CN104614520A - 一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺及其玻片 - Google Patents

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Abstract

一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其包括以下步骤：第一步，玻片预处理：将玻片置于烘箱中烘烤，烘烤之后冷却，然后置于碱性溶液中浸泡，除去表面油污；第二步，喷涂疏水抗菌涂层：在玻片的加样孔的周围喷涂疏水抗菌层；第三步，喷涂抗菌亲水层：在玻片的加样孔处喷涂抗菌亲水层。本发明的一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，采用这种工艺制备的玻片，抗体使用量小，且不易溢出，从而保证了实验的准确性。

Description

一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺及其玻片
技术领域
本发明涉及生物医学检测技术领域，尤其涉及一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺以及玻片。
背景技术
免疫学的基本原理是抗原-抗体反应。由于抗原抗体反应具有高度的特异性，所以当抗原抗体发生反应时，只要知道其中的一个因素，就可以查出另一个因素。免疫荧光技术就是将不影响抗原抗体活性的荧光色素标记在抗体(或抗原)上，与其相应的抗原(或抗体)结合后，在荧光显微镜下呈现一种特异性荧光反应。
间接免疫荧光方法是将已知抗原固定在玻片载体上的，利用一抗体，与已知抗原结合，将未结合的免疫球蛋白除去，加入用荧光素标记的抗抗体，与抗原-抗体复合物结合，通过免疫荧光显微镜进行结果观察。现有的玻片在滴加抗体后，再将玻片置于37℃进行孵育，使得抗体与固定在玻片上面的抗原进行，但在这个过程中，现有的玻片有以下的缺点：抗体使用量大，否则易分散不均匀。抗体可能因轻微的晃动而溢出清洗过程中，液体的冲力可能造成玻片或玻片上的抗原物质丢失。37℃环境中，多数微生物在此温度下可迅速繁殖，会对抗体及抗原造成污染，增加了实验的不确定性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其解决了目前工艺制备的玻片，荧光反应用量大，容易溢出，易被污染的技术问题。
为达到上述目的，本发明所提出的技术方案为：
一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其包括以下步骤：
第一步，玻片预处理：将玻片置于烘箱中烘烤，烘烤之后冷却，然后置于碱性溶液中浸泡，除去表面油污；
第二步，喷涂疏水抗菌涂层：在玻片的加样孔的周围喷涂疏水抗菌层；
第三步，喷涂抗菌亲水层：在玻片的加样孔处喷涂抗菌亲水层。
其中，所述的第一步中烘箱的温度为180摄氏度至220摄氏度。
其中，所述的第二步中疏水抗菌层的喷涂厚度为0.5毫米至1毫米。
其中，所述的第二步与第三步之间还包括一将喷涂有疏水抗菌层的玻片置于90摄氏度至110摄氏度的恒温箱中烘烤，疏水抗菌层固化的步骤。
其中，所述的第三步之后还包括一将玻片置于紫外光固化箱固化的步骤。
其中，所述的碱性溶液为浓度为1mol/L的NaOH溶液。
一种玻片，玻片的加样孔处喷涂有抗菌亲水层，加样孔周围喷涂有疏水抗菌层。
与现有技术相比，本发明的一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，采用这种工艺制备的玻片，抗体使用量小，且不易溢出，从而保证了实验的准确性。
附图说明
图1为本发明一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺的流程图。
具体实施方式
以下参考附图，对本发明予以进一步地详尽阐述。
请参阅图1，本发明的一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其包括以下步骤：
第一步S1，玻片预处理：将玻片置于烘箱中烘烤，烘烤之后冷却，然后置于碱性溶液中浸泡，除去表面油污；其中，所述烘箱的温度为180摄氏度至220摄氏度；
第二步S2，喷涂疏水抗菌涂层：在玻片的加样孔的周围喷涂疏水抗菌层；并将喷涂有疏水抗菌层的玻片置于90摄氏度至110摄氏度的恒温箱中烘烤，使疏水抗菌层固化；并且所述的疏水抗菌层的喷涂厚度为0.5毫米至1毫米。
第三步S3，喷涂抗菌亲水层：在玻片的加样孔处喷涂抗菌亲水层。之后将玻片置于紫外光固化箱固化的步骤。
其中，所述的碱性溶液为浓度为1mol/L的NaOH溶液。
其中，所述的疏水抗菌原理为：聚四氟乙烯(PTFE)属于非极性高分子材料，有较低的表面能(20mN/m)。但单一的PTFE材料不经过复杂的表面活化不能与涂层界面粘连而且不能在常温固化。本发明通过硅烷偶联剂γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷改性硅溶液，使SiO2离子表面的硅醇嫁接部分水水集团，同时提高例子的分散性。而TiO2还能分解有机物、具有抗菌、防污、防臭等作用。因此，改性硅溶胶、TiO2、PTFE乳液杂化形成均匀混合体系而制备超疏水抗菌涂层。
亲水抗菌机理：在杂化溶胶的制备过程中，硅溶胶中的SiO2溶胶粒子通过Si-OH集团与HPA中的羟基缩合以共价键链接丙烯酸酯集团。而Si-OH集团与HPA中的羟基缩合过程中丙烯酸羟丙酯剩余部分可通过与HDDA聚合形成聚合物，该聚合物可牢固地结合在玻璃表面。与此同时，硅溶液中剩余的Si-OH集团又能字缩合成新的Si-O-Si链接，形成二氧化硅相互交联的表面网络结构。这些带有大量羟基的SiO2纳米微粒保证了加样孔表面的亲水性。而TiO2则保证了表面的抗菌性。
疏水抗菌层的涂料的制备工艺如下：
将1mlγ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、5ml无水乙醇溶于10ml水中，调节pH至5.0并在磁力搅拌器下搅拌20min，再加入酸性SiO2溶胶(质量分数30％、pH＝5.0，粒径7-9nm)20ml制备得到改性的硅溶胶。将3g的152nm粒径的TiO2粉末(所述TiO2粉末的粒径在95-400nm之间)可用粒径范围95-400nm)加入硅溶胶中调均，并加入0.1g分散剂使TiO2在溶剂中充分分散。将20ml PTFE乳液缓慢地加在上述溶胶体系中并加入2mlDMF、10g聚氨酯树脂，充分混合。最后用酸调节混合乳胶至pH＝5。反应3h后在30℃的恒温陈化24h待涂膜。将预处理玻片置200℃烘箱中烘烤1h，烘烤后冷却后用1mol/L的NaOH溶液浸泡玻片30min充分去除油污。用喷枪将喷涂厚度0.5-1mm的玻片值室温放置20-30min后值烘箱100℃烘烤1h，使涂层固化。为了保证反应孔出不被喷涂上涂层，用直径相当的圆柱形石墨柱置于玻片上加样孔处进行喷涂处理，并随同玻片一起烘烤至涂层固化完成。
亲水抗菌层的制备工艺如下：
取50ml的SiO2溶液(30％)，升温至40℃后边搅拌边以1.0ml/min的速度滴加5ml的HPA(丙烯酸羟丙酯)；滴加完成后再37℃保温搅拌1h。将5g的152nm粒径的TiO2粉末(所述TiO2粉末的粒径在95-400nm之间)可用粒径范围95-400nm)加入硅溶胶中调均，并加入0.2g分散剂使TiO2在溶剂中充分分散并溶解。之后转入旋转蒸发器中，在37℃下减压反应并除去水分，反应3h后得到杂化溶胶。向杂化溶胶中加入HDDA(己二醇二丙烯酸酯)0.3g和1,1-二甲基-1-羟基苯乙酮0.04g，再加入一定量的正丙醇稀释，搅拌均匀后得到紫外光固化溶液。取适量涂料液加入反应孔中并自然流平，随后放入紫菀光固化箱中固化形成抗菌亲水涂层(1kw，365nm，3min)。
本发明中用于免疫荧光反应的玻片制备工艺制备的玻片，在结构上面，加样孔会比表面低0.5-1mm，加样孔中进行亲水抗菌的处理，而加样孔四周进行了疏水抗菌的处理，相对于现有玻片具有以下的优点：加样孔比四周表面低0.5-1mm，液体不会因为轻微的晃动而溢出；冲洗时，因加样孔略低，液体不会直接正面冲刷到抗原上；加样孔采用了亲水的处理，溶液在反应孔超亲水涂层的作用下迅速被“拉开”并分散均匀，用量少且反应均匀；加样孔四周的玻片表面有一层疏水涂层，加样的液体在接触到疏水涂层后，迅速“反弹”而不会外流，将反应的液体更好的控制在反应区域内。玻片整体进行了抗菌处理，由于TiO2的抗菌效果，免疫反应同时能够保证在反应过程中不会迅速被污染。在外部表面疏水处理，加样孔经超亲水处理又略低于外表面的情况下，反应液体可以很好的被控制在加样孔中。
本实施例还公开了一种采用如上方法制备的玻片，该玻片的加样孔处喷涂有抗菌亲水层，加样孔周围喷涂有疏水抗菌层。
上述内容，仅为本发明的较佳实施例，并非用于限制本发明的实施方案，本领域普通技术人员根据本发明的主要构思和精神，可以十分方便地进行相应的变通或修改，故本发明的保护范围应以权利要求书所要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
第一步，玻片预处理：将玻片置于烘箱中烘烤，烘烤之后冷却，然后置于碱性溶液中浸泡，除去表面油污；
第二步，喷涂疏水抗菌涂层：在玻片的加样孔的周围喷涂疏水抗菌层；
第三步，喷涂抗菌亲水层：在玻片的加样孔处喷涂抗菌亲水层。
2.如权利要求1所述的用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其特征在于，所述的第一步中烘箱的温度为180摄氏度至220摄氏度。
3.如权利要求1所述的用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其特征在于，所述的第二步中疏水抗菌层的喷涂厚度为0.5毫米至1毫米。
4.如权利要求1所述的用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其特征在于，所述的第二步与第三步之间还包括一将喷涂有疏水抗菌层的玻片置于90摄氏度至110摄氏度的恒温箱中烘烤，疏水抗菌层固化的步骤。
5.如权利要求1所述的用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其特征在于，所述的第三步之后还包括一将玻片置于紫外光固化箱固化的步骤。
6.如权利要求1所述的用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其特征在于，所述的碱性溶液为浓度为1mol/L的NaOH溶液。
7.一种采用如权利要求1至6任意一项制备的玻片，其特征在于，玻片的加样孔处喷涂有抗菌亲水层，加样孔周围喷涂有疏水抗菌层。
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