CN104508554A - 感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、有机el显示装置及液晶显示装置 - Google Patents

感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、有机el显示装置及液晶显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种感光度、保存稳定性、及耐热透明性优异的感光性树脂组合物。所述感光性树脂组合物包括：(A)含有满足下述(1)及下述(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分，(1)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物，(2)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物、及具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物；(B)由式(I)所表示的化合物；以及(C)溶剂。

Description

感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、有机EL显示装置及液晶显示装置
技术领域
本发明涉及一种感光性树脂组合物(以下，有时仅称为“本发明的组合物”)。另外，本发明涉及一种使用上述感光性树脂组合物的硬化膜的制造方法、使感光性组合物硬化而成的硬化膜、使用上述硬化膜的各种图像显示装置。
更详细而言，本发明涉及一种适合于形成液晶显示装置、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示装置、集成电路元件、固体摄影元件等的电子零件的平坦化膜、保护膜或层间绝缘膜的感光性树脂组合物、及使用其的硬化膜的制造方法。
背景技术
在有机EL显示装置或液晶显示装置等中设置有形成有图案的层间绝缘膜。就用以获得所需的图案形状的步骤数少、且可获得充分的平坦性等而言，在该层间绝缘膜的形成中广泛使用感光性树脂组合物。作为感光性树脂组合物，已知有例如专利文献1中所记载的感光性树脂组合物。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2012-42836号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明人对专利文献1进行研究的结果，可知专利文献1中所具体揭示的酸产生剂的感光度低、或保存稳定性欠佳、或热处理后的透明性(耐热透明性)欠佳。本发明人对该点进行研究的结果，可知专利文献1中所具体揭示的酸产生剂为具有杂环结构与吸电子基的肟磺酸酯，该结构对上述效果造成影响。即，可知专利文献1中所记载的肟磺酸酯虽然可通过提高吸电子基的吸电子性来进一步提升感光度，但提升了感光度的肟磺酸酯的保存稳定性下降。相反地，若为提升了保存稳定性的肟磺酸酯，则感光度欠佳。另外，也可知因专利文献1中所记载的肟磺酸酯而导致透明性欠佳。
本发明是以解决上述课题为目的的发明，其目的在于提供一种维持高感光度、且保存稳定性及耐热透明性也优异的感光性树脂组合物。
进而，本发明的目的在于提供一种使用此种感光性树脂组合物的硬化膜的形成方法、硬化膜、有机EL显示装置及液晶显示装置。
解决问题的技术手段
本发明人进行努力研究的结果，发现通过使用特定的结构作为杂环结构，并将吸电子基设为C(＝O)R1，而可解决上述课题。
具体而言，通过以下的解决手段<1>，优选为通过解决手段<2>～解决手段<15>来解决上述课题。
<1>一种感光性树脂组合物，其包括：(A)含有满足下述(1)及下述(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分，
(1)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物，
(2)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物、及具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物；
(B)由下述通式(I)所表示的化合物；以及
(C)溶剂；
[化1]
通式(I)
(通式(I)中，R1表示烷基或芳基，R2表示烷基、芳基、或杂芳基。R3～R6分别表示氢原子、烷基、芳基、卤素原子。其中，R3与R4、R4与R5或R5与R6可键结而形成脂环或芳香环。X表示-O-或-S-)。
<2>根据<1>所述的感光性树脂组合物，其中R1为碳数3～10的烷基或碳数6～12的芳基。
<3>根据<1>或<2>所述的感光性树脂组合物，其中R1为具有分支结构的烷基、环状的烷基、或苯基。
<4>根据<1>至<3>中任一项所述的感光性树脂组合物，其中(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元为含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元。
<5>根据<1>至<4>中任一项所述的感光性树脂组合物，其中(a2)含有交联性基的构成单元选自含有环氧基和/或氧杂环丁基的构成单元、含有乙烯性不饱和基的构成单元、以及含有由-NH-CH2-O-R(R为碳数1～20的烷基)所表示的基的构成单元。
<6>根据<1>至<5>中任一项所述的感光性树脂组合物，其中由上述通式(I)所表示的化合物选自下述化合物：
[化2]
<7>一种硬化膜的制造方法，其包括：
(1)将根据<1>至<6>中任一项所述的感光性树脂组合物涂布于基板上的步骤；
(2)自所涂布的感光性树脂组合物中去除溶剂的步骤；
(3)利用光化射线对去除了溶剂的感光性树脂组合物进行曝光的步骤；
(4)利用水性显影液对经曝光的感光性树脂组合物进行显影的步骤；以及
(5)对经显影的感光性树脂组合物进行热硬化的后烘烤步骤。
<8>根据<7>所述的硬化膜的制造方法，其中在上述显影步骤后、上述后烘烤步骤前，包括对经显影的感光性树脂组合物进行全面曝光的步骤。
<9>一种硬化膜，其由根据<7>或<8>所述的方法而形成。
<10>根据<9>所述的硬化膜，其为层间绝缘膜。
<11>一种有机EL显示装置或液晶显示装置，其包括根据<9>或<10>所述的硬化膜。
<12>一种化合物，其由下述通式(I)表示：
[化3]
通式(I)
(通式(I)中，R1表示烷基或芳基，R2表示烷基、芳基、或杂芳基。R3～R6分别表示氢原子、烷基、芳基、卤素原子。其中，R3与R4、R4与R5或R5与R6可键结而形成脂环或芳香环。X表示-O-或-S-)。
<13>根据<12>所述的化合物，其中R1为碳数3～10的烷基或碳数6～12的芳基。
<14>根据<12>或<13>所述的化合物，其中R1为具有分支结构的烷基、环状的烷基、或苯基。
<15>根据<12>所述的化合物，其中由下述通式(I)所表示的化合物为下述B-1～下述B-29的任一种化合物：
[化4]
进而，还通过下述手段来解决上述课题。
<16>一种组合物，其是上述任一项所述的感光性树脂组合物，且相对于总固体成分100质量份，含有(A)聚合物成分50质量份～99.9质量份、(B)由通式(I)所表示的化合物0.1质量份～10质量份。
发明的效果
根据本发明，可提供一种感光度、及保存稳定性优异的感光性树脂组合物。
附图说明
图1表示液晶显示装置的一例的构成概念图。表示液晶显示装置中的有源矩阵基板的示意剖面图，且具有作为层间绝缘膜的硬化膜17。
图2表示有机EL显示装置的一例的构成概念图。表示底部发光型的有机EL显示装置中的基板的示意剖面图，且具有平坦化膜4。
具体实施方式
以下，对本发明的内容进行详细说明。以下所记载的构成要件的说明有时基于本发明的具有代表性的实施方式来进行，但本发明并不限定于此种实施方式。再者，在本申请说明书中，“～”是以包含其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含义来使用。
再者，在本说明书中的基(原子团)的表述中，未记载经取代及未经取代的表述包含不具有取代基的基(原子团)，并且也包含具有取代基的基(原子团)。例如，所谓“烷基”，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，也包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。
本发明的感光性树脂组合物(以下，有时称为“本发明的组合物”)优选为用作正型感光性树脂组合物。
本发明的感光性树脂组合物的特征在于包括：(A)含有满足下述(1)及下述(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分，
(1)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物，
(2)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物、及具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物；
(B)由下述通式(I)所表示的化合物
[化5]
通式(I)
(通式(I)中，R1表示烷基或芳基，R2表示烷基、芳基、或杂芳基。R3～R6分别表示氢原子、烷基、芳基、卤素原子。其中，R3与R4、R4与R5或R5与R6可键结而形成脂环或芳香环。X表示-O-或-S-)；以及
(C)溶剂。
根据本发明，可提供一种感光度、及保存稳定性优异的感光性树脂组合物。进而，还可提升耐热透明性。
以下，对本发明的组合物进行详细说明。
<(A)聚合物成分>
本发明的组合物包含如下聚合物的至少一种作为聚合物成分：(1)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物，以及(2)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物、及具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物。进而，还可含有这些聚合物以外的聚合物。本发明中的(A)聚合物成分(以下，有时称为“(A)成分”)只要未特别说明，则是指除上述(1)和/或(2)以外，包含视需要而添加的其他聚合物的聚合物成分。
<<构成单元(a1)>>
成分A至少具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元。通过(A)成分具有构成单元(a1)，可制成感光度极高的感光性树脂组合物。
本发明中的“酸基由酸分解性基保护的基”可使用作为酸基及酸分解性基所公知的基，并无特别限定。作为具体的酸基，可优选地列举羧基、及酚性羟基。另外，作为酸分解性基，可使用比较容易因酸而分解的基(例如由后述的式(A1)所表示的基的酯结构、四氢吡喃酯基、或四氢呋喃酯基等缩醛系官能基)、或比较难以因酸而分解的基(例如第三丁酯基等三级烷基、碳酸第三丁酯基等碳酸三级烷基酯基)。
(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元优选为含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元、或含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元。
以下，依次对含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)、及含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元(a1-2)分别进行说明。
<<<(a1-1)含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元>>>
上述含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)是具有含有羧基的构成单元的羧基由以下将详细说明的酸分解性基保护的保护羧基的构成单元。
作为可用于上述含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)的上述含有羧基的构成单元，可无特别限制地使用公知的构成单元。例如可列举：源自不饱和一元羧酸、不饱和二羧酸、不饱和三羧酸等分子中具有至少1个羧基的不饱和羧酸等的构成单元(a1-1-1)，或同时具有乙烯性不饱和基与源自酸酐的结构的构成单元(a1-1-2)。
以下，依次对可用作上述含有羧基的构成单元的(a1-1-1)源自分子中具有至少1个羧基的不饱和羧酸等的构成单元、及(a1-1-2)同时具有乙烯性不饱和基与源自酸酐的结构的构成单元分别进行说明。
<<<<(a1-1-1)源自分子中具有至少1个羧基的不饱和羧酸等的构成单元>>>>
作为上述源自分子中具有至少1个羧基的不饱和羧酸等的构成单元(a1-1-1)，可使用如以下所列举的不饱和羧酸作为本发明中所使用的不饱和羧酸。即，作为不饱和一元羧酸，例如可列举：丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-氯丙烯酸、桂皮酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-丁二酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸等。另外，作为不饱和二羧酸，例如可列举：顺丁烯二酸、反丁烯二酸、衣康酸、柠康酸、中康酸等。另外，用于获得含有羧基的构成单元的不饱和多元羧酸也可为其酸酐。具体而言，可列举顺丁烯二酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐等。另外，不饱和多元羧酸也可为多元羧酸的单(2-甲基丙烯酰氧基烷基)酯，例如可列举：丁二酸单(2-丙烯酰氧基乙基)酯、丁二酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2-丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)酯等。进而，不饱和多元羧酸也可为其两末端二羧基聚合物的单(甲基)丙烯酸酯，例如可列举ω-羧基聚己内酯单丙烯酸酯、ω-羧基聚己内酯单甲基丙烯酸酯等。另外，作为不饱和羧酸，也可使用丙烯酸-2-羧基乙酯、甲基丙烯酸-2-羧基乙酯、顺丁烯二酸单烷基酯、反丁烯二酸单烷基酯、4-羧基苯乙烯等。
其中，就显影性的观点而言，为了形成上述源自分子中具有至少1个羧基的不饱和羧酸等的构成单元(a1-1-1)，优选为使用丙烯酸、甲基丙烯酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-丁二酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸、或不饱和多元羧酸的酐等，更优选为使用丙烯酸、甲基丙烯酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸。
上述源自分子中具有至少1个羧基的不饱和羧酸等的构成单元(a1-1-1)可单独包含1种，也可包含2种以上。
<<<<(a1-1-2)同时具有乙烯性不饱和基与源自酸酐的结构的构成单元>>>>
同时具有乙烯性不饱和基与源自酸酐的结构的构成单元(a1-1-2)优选为源自使含有乙烯性不饱和基的构成单元中所存在的羟基与酸酐进行反应而获得的单体的单元。
作为上述酸酐，可使用公知的酸酐，具体而言，可列举：顺丁烯二酸酐、丁二酸酐、衣康酸酐、邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、氯菌酸酐等二元酸酐；偏苯三甲酸酐、均苯四甲酸酐、二苯甲酮四羧酸酐、联苯四羧酸酐等酸酐。这些酸酐之中，就显影性的观点而言，优选为邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、或丁二酸酐。
就显影性的观点而言，上述酸酐对于羟基的反应率优选为10摩尔％～100摩尔％，更优选为30摩尔％～100摩尔％。
<<<<可用于构成单元(a1-1)的酸分解性基>>>>
作为可用于上述含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)的上述酸分解性基，可使用上述酸分解性基。
这些酸分解性基之中，就感光性树脂组合物的基本物性，特别是感光度或图案形状、接触孔的形成性、感光性树脂组合物的保存稳定性的观点而言，优选为羧基为由缩醛的形式保护的保护羧基。进而，酸分解性基之中，就感光度的观点而言，更优选为羧基为由以下述通式(a1-10)所表示的缩醛的形式保护的保护羧基。再者，在羧基为由以下述通式(a1-10)所表示的缩醛的形式保护的保护羧基的情况下，保护羧基的整体变成-(C＝O)-O-CR101R102(OR103)的结构。
通式(a1-10)
[化6]
(式(a1-10)中，R101及R102分别独立地表示氢原子或烷基，其中，排除R101与R102均为氢原子的情况。R103表示烷基。R101或R102与R103可连结而形成环状醚)。
上述通式(a1-10)中，R101～R103分别独立地表示氢原子或烷基，上述烷基可为直链状、支链状、环状的任一种。此处，不存在R101及R102均表示氢原子的情况，R101及R102的至少一个表示烷基。
在上述通式(a1-10)中，当R101、R102及R103表示烷基时，上述烷基可为直链状、支链状或环状的任一种。
作为上述直链状或支链状的烷基，优选为碳数1～12，更优选为碳数1～6，进而更优选为碳数1～4。具体而言，可列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、新戊基、正己基、2，3-二甲基-2-丁基(thexyl)、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基等。
作为上述环状烷基，优选为碳数3～12，更优选为碳数4～8，进而更优选为碳数4～6。作为上述环状烷基，例如可列举：环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、降冰片基、异冰片基等。
上述烷基也可具有取代基，作为取代基，可例示卤素原子、芳基、烷氧基。当具有卤素原子作为取代基时，R101、R102、R103成为卤代烷基，当具有芳基作为取代基时，R101、R102、R103成为芳烷基。
作为上述卤素原子，可例示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，这些卤素原子之中，优选为氟原子或氯原子。
另外，作为上述芳基，优选为碳数6～20的芳基，更优选为碳数6～12的芳基，具体而言，可例示苯基、α-甲基苯基、萘基等，作为由芳基取代的烷基整体，即芳烷基，可例示苄基、α-甲基苄基、苯乙基、萘基甲基等。
作为上述烷氧基，优选为碳数1～6的烷氧基，更优选为碳数1～4的烷氧基，进而更优选为甲氧基或乙氧基。
另外，当上述烷基为环烷基时，上述环烷基可具有碳数1～10的直链状或支链状的烷基作为取代基，当烷基为直链状或支链状的烷基时，可具有碳数3～12的环烷基作为取代基。
这些取代基也可由上述取代基进一步取代。
上述通式(a1-10)中，当R101、R102及R103表示芳基时，上述芳基优选为碳数6～12，更优选为碳数6～10。上述芳基可具有取代基，作为上述取代基，可优选地例示碳数1～6的烷基。作为芳基，例如可例示苯基、甲苯基、枯烯基、1-萘基等。
另外，R101、R102及R103可相互键结，并与这些所键结的碳原子一同形成环。作为R101与R102、R101与R103或R102与R103键结时的环结构，例如可列举：环丁基、环戊基、环己基、环庚基、四氢呋喃基、金刚烷基及四氢吡喃基等。
再者，上述通式(a1-10)中，优选为R101及R102的任一个为氢原子或甲基。
用于形成含有由上述通式(a1-10)所表示的保护羧基的构成单元的自由基聚合性单体可使用市售的自由基聚合性单体，也可使用通过公知的方法所合成的自由基聚合性单体。例如，可通过日本专利特开2011-221494号公报的段落号0037～段落号0040中所记载的合成方法等来合成。
上述含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)的第一种优选的形态为由下述通式所表示的构成单元。
[化7]
(式中，R1及R2分别表示氢原子、烷基或芳基，至少R1及R2的任一个为烷基或芳基，R3表示烷基或芳基，R1或R2与R3可连结而形成环状醚，R4表示氢原子或甲基，X表示单键或亚芳基)。
当R1及R2为烷基时，优选为碳数1～10的烷基。当R1及R2为芳基时，优选为苯基。R1及R2分别优选为氢原子或碳数1～4的烷基。
R3表示烷基或芳基，优选为碳数1～10的烷基，更优选为1～6的烷基。
X表示单键或亚芳基，优选为单键。
上述含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)的第二种优选的形态为下述通式的结构单元。
[化8]
(式中，R121表示氢原子或碳数1～4的烷基，L1表示羰基或亚苯基，R122～R128分别表示氢原子或碳数1～4的烷基)。
R121优选为氢原子或甲基。
L1优选为羰基。
R122～R128优选为氢原子。
作为上述含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)的优选的具体例，可例示下述的构成单元。再者，R表示氢原子或甲基。
[化9]
<<<(a1-2)含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元>>>
上述含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元(a1-2)是含有酚性羟基的构成单元具有以下将详细说明的由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元。
<<<<(a1-2-1)含有酚性羟基的构成单元>>>>
作为上述含有酚性羟基的构成单元，可列举羟基苯乙烯系构成单元或酚醛清漆系的树脂中的构成单元，这些构成单元之中，就感光度的观点而言，优选为源自羟基苯乙烯、或α-甲基羟基苯乙烯的构成单元。另外，作为含有酚性羟基的构成单元，就感光度的观点而言，由下述通式(a1-20)所表示的构成单元也优选。
通式(a1-20)
[化10]
(通式(a1-20)中，R220表示氢原子或甲基，R221表示单键或二价的连结基，R222表示卤素原子或碳数1～5的直链或支链状的烷基，a表示1～5的整数，b表示0～4的整数，a+b为5以下。再者，当存在2个以上的R222时，这些R222相互可不同，也可相同)。
上述通式(a1-20)中，R220表示氢原子或甲基，优选为甲基。
另外，R221表示单键或二价的连结基。当R221为单键时，可提升感光度，进而可提升硬化膜的透明性，故优选。作为R221的二价的连结基，可例示亚烷基，作为R221为亚烷基的具体例，可列举：亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚异丙基、亚正丁基、亚异丁基、亚第三丁基、亚戊基、亚异戊基、亚新戊基、亚己基等。其中，R221优选为单键、亚甲基、亚乙基。另外，上述二价的连结基可具有取代基，作为取代基，可列举卤素原子、羟基、烷氧基等。另外，a表示1～5的整数，但就本发明的效果的观点、或容易制造这一点而言，优选为a为1或2，更优选为a为1。
另外，当将与R221进行键结的碳原子作为基准(1位)时，苯环中的羟基的键结位置优选为键结于4位上。
R222为卤素原子或者碳数1～5的直链或支链状的烷基。具体而言，可列举：氟原子、氯原子、溴原子、甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、第三丁基、戊基、异戊基、新戊基等。其中，就容易制造这一点而言，优选为氯原子、溴原子、甲基或乙基。
另外，b表示0或1～4的整数。
<<<<可用于构成单元(a1-2)的酸分解性基>>>>
作为可用于上述含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元(a1-2)的上述酸分解性基，与可用于上述含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)的上述酸分解性基同样地，可使用公知的酸分解性基，并无特别限定。酸分解性基之中，就感光性树脂组合物的基本物性，特别是感光度或图案形状、感光性树脂组合物的保存稳定性、接触孔的形成性的观点而言，优选为含有由缩醛保护的保护酚性羟基的构成单元。进而，酸分解性基之中，就感光度的观点而言，更优选为酚性羟基为由以上述通式(a1-10)所表示的缩醛的形式保护的保护酚性羟基。再者，在酚性羟基为由以上述通式(a1-10)所表示的缩醛的形式保护的保护酚性羟基的情况下，保护酚性羟基的整体变成-Ar-O-CR101R102(OR103)的结构。再者，Ar表示亚芳基。
酚性羟基的缩醛酯结构的优选例可例示R101＝R102＝R103＝甲基、或R101＝R102＝甲基且R103＝苄基的组合。
另外，作为用于形成含有酚性羟基由缩醛的形式保护的保护酚性羟基的构成单元的自由基聚合性单体，例如可列举日本专利特开2011-215590号公报的段落号0042中所记载的自由基聚合性单体等。
这些自由基聚合性单体之中，就透明性的观点而言，优选为甲基丙烯酸4-羟基苯酯的1-烷氧基烷基保护体、甲基丙烯酸4-羟基苯酯的四氢吡喃基保护体。
作为酚性羟基的缩醛保护基的具体例，可列举1-烷氧基烷基，例如可列举1-乙氧基乙基、1-甲氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-异丁氧基乙基、1-(2-氯乙氧基)乙基、1-(2-乙基己氧基)乙基、1-正丙氧基乙基、1-环己氧基乙基、1-(2-环己基乙氧基)乙基、1-苄氧基乙基等，这些基可单独使用、或将2种以上组合使用。
用于形成上述含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元(a1-2)的自由基聚合性单体可使用市售的自由基聚合性单体，也可使用通过公知的方法所合成的自由基聚合性单体。例如，可通过在酸催化剂的存在下使含有酚性羟基的化合物与乙烯基醚进行反应来合成。上述合成也可事先使含有酚性羟基的单体与其他单体进行共聚，然后在酸催化剂的存在下与乙烯基醚进行反应。
作为上述含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元(a1-2)的优选的具体例，可例示下述的构成单元，但本发明并不限定于这些构成单元。
[化11]
[化12]
[化13]
<<<构成单元(a1)的优选的形态>>>
当含有上述构成单元(a1)的聚合物实质上不含构成单元(a2)时，在含有该构成单元(a1)的聚合物中，构成单元(a1)优选为20摩尔％～100摩尔％，更优选为30摩尔％～90摩尔％。
当含有上述构成单元(a1)的聚合物含有下述构成单元(a2)时，就感光度的观点而言，在含有该构成单元(a1)与构成单元(a2)的聚合物中，单构成单元(a1)优选为3摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％。另外，尤其在可用于上述构成单元(a1)的上述酸分解性基为含有羧基由缩醛的形式保护的保护羧基的构成单元的情况下，优选为20摩尔％～50摩尔％。
与上述含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元(a1-2)相比，上述含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)具有显影快这一特征。因此，在欲快速显影的情况下，优选为含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)。相反地，在欲使显影变慢的情况下，优选为使用含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元(a1-2)。
与上述含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元(a1-2)相比，上述含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)具有显影快这一特征。因此，在欲快速显影的情况下，优选为含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元(a1-1)。相反地，在欲使显影变慢的情况下，优选为使用含有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的构成单元(a1-2)。
<<(a2)含有交联性基的构成单元>>
(A)成分具有含有交联性基的构成单元(a2)。上述交联性基只要是通过加热处理而产生硬化反应的基，则并无特别限定。作为优选的含有交联性基的构成单元的形态，可列举含有选自由环氧基、氧杂环丁基、由-NH-CH2-O-R(R为碳数1～20的烷基)所表示的基、及乙烯性不饱和基所组成的群组中的至少1个的构成单元，优选为选自环氧基、氧杂环丁基、及由-NH-CH2-O-R(R为碳数1～20的烷基)所表示的基中的至少1种。其中，本发明的感光性树脂组合物优选为上述(A)成分包含含有环氧基及氧杂环丁基中的至少1个的构成单元。更详细而言，可列举以下的。
<<<(a2-1)具有环氧基和/或氧杂环丁基的构成单元>>>
上述(A)聚合物优选为含有具有环氧基和/或氧杂环丁基的构成单元(构成单元(a2-1))。上述3元环的环状醚基也被称为环氧基，4元环的环状醚基也被称为氧杂环丁基。
上述具有环氧基和/或氧杂环丁基的构成单元(a2-1)只要1个构成单元中具有至少1个环氧基或氧杂环丁基即可，可具有1个以上的环氧基及1个以上的氧杂环丁基、2个以上的环氧基、或2个以上的氧杂环丁基，并无特别限定，但优选为具有合计为1个～3个的环氧基和/或氧杂环丁基，更优选为具有合计为1个或2个的环氧基和/或氧杂环丁基，进而更优选为具有1个环氧基或氧杂环丁基。
作为用于形成具有环氧基的构成单元的自由基聚合性单体的具体例，例如可列举丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-3，4-环氧基丁酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧基丁酯、丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、α-乙基丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚、对乙烯基苄基缩水甘油醚、日本专利第4168443号公报的段落号0031～段落号0035中所记载的含有脂环式环氧基骨架的化合物等，其内容可被编入至本申请说明书中。
作为用于形成具有氧杂环丁基的构成单元的自由基聚合性单体的具体例，例如可列举日本专利特开2001-330953号公报的段落号0011～段落号0016中所记载的具有氧杂环丁基的(甲基)丙烯酸酯等，其内容可被编入至本申请说明书中。
作为用于形成上述具有环氧基和/或氧杂环丁基的构成单元(a2-1)的自由基聚合性单体的具体例，优选为含有甲基丙烯酸酯结构的单体、含有丙烯酸酯结构的单体。
这些之中，优选为甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯、及甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯。这些构成单元可单独使用1种、或将2种以上组合使用。
作为上述具有环氧基和/或氧杂环丁基的构成单元(a2-1)的优选的具体例，可例示下述的构成单元。再者，R表示氢原子或甲基。
[化14]
<<<(a2-2)具有乙烯性不饱和基的构成单元>>>
作为上述含有交联性基的构成单元(a2)的1种，可列举具有乙烯性不饱和基的构成单元(a2-2)(以下，也称为“构成单元(a2-2)”)。作为上述具有乙烯性不饱和基的构成单元(a2-2)，优选为侧链上具有乙烯性不饱和基的构成单元，更优选为末端具有乙烯性不饱和基、且具有碳数3～16的侧链的构成单元，进而更优选为具有由下述通式(a2-2-1)所表示的侧链的构成单元。
通式(a2-2-1)
[化15]
(通式(a2-2-1)中，R301表示碳数1～13的二价的连结基，R302表示氢原子或甲基，*表示与含有交联基的构成单元(a2)的主链连结的部位)。
R301为碳数1～13的二价的连结基，包含烯基、环烯基、亚芳基或将这些组合而成的基，也可含有酯键、醚键、酰胺键、氨基甲酸酯键等键。另外，二价的连结基可在任意的位置上具有羟基、羧基等取代基。作为R301的具体例，可列举下述的二价的连结基。
[化16]
由上述通式(a2-2-1)所表示的侧链之中，优选为包含由上述R301所表示的二价的连结基的脂肪族的侧链。
关于其他(a2-2)具有乙烯性不饱和基的构成单元，可参考日本专利特开2011-215580号公报的段落号0072～段落号0090的记载，其内容可被编入至本申请说明书中。
<<<(a2-3)具有由-NH-CH2-O-R(R为碳数1～20的烷基)所表示的基的构成单元>>>
本发明中所使用的聚合物也优选为具有由-NH-CH2-O-R(R为碳数1～20的烷基)所表示的基的构成单元(a2-3)。通过含有构成单元(a2-3)，可利用缓和的加热处理产生硬化反应，而可获得各种特性优异的硬化膜。此处，R优选为碳数1～9的烷基，更优选为碳数1～4的烷基。另外，烷基可为直链、分支或环状的烷基的任一种，但优选为直链或分支的烷基。构成单元(a2)更优选为具有由下述通式(a2-30)所表示的基的构成单元。
通式(a2-30)
[化17]
(通式(a2-30)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳数1～20的烷基)。
R2优选为碳数1～9的烷基，更优选为碳数1～4的烷基。另外，烷基可为直链、分支或环状的烷基的任一种，但优选为直链或分支的烷基。
作为R2的具体例，可列举：甲基、乙基、正丁基、异丁基、环己基、及正己基。其中，优选为异丁基、正丁基、甲基。
<<<构成单元(a2)的优选的形态>>>
当含有上述构成单元(a2)的聚合物实质上不含构成单元(a1)时，在含有该构成单元(a2)的聚合物中，构成单元(a2)优选为5摩尔％～90摩尔％，更优选为20摩尔％～80摩尔％。
当含有上述构成单元(a2)的聚合物含有上述构成单元(a1)时，就耐化学品性的观点而言，在含有该构成单元(a1)与构成单元(a2)的聚合物中，单构成单元(a2)优选为3摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％。
进而，在本发明中，不论何种形态，在(A)成分的所有构成单元中，优选为含有3摩尔％～70摩尔％的构成单元(a2)，更优选为含有10摩尔％～60摩尔％的构成单元(a2)。
若为上述数值的范围内，则由感光性树脂组合物所获得的硬化膜的透明性及耐化学品性变得良好。
<<(a3)其他构成单元>>
在本发明中，(A)成分除上述构成单元(a1)和/或构成单元(a2)以外，还可具有这些以外的其他构成单元(a3)。上述聚合物成分(1)和/或聚合物成分(2)可含有这些构成单元。另外，除上述聚合物成分(1)或聚合物成分(2)以外，还可具有实质上不含(a1)及(a2)而含有其他构成单元(a3)的聚合物成分。当除上述聚合物成分(1)或聚合物成分(2)以外，包含实质上不含(a1)及(a2)而含有其他构成单元(a3)的聚合物成分时，在所有聚合物成分中，该聚合物成分的调配量优选为60质量％以下，更优选为40质量％以下，进而更优选为20质量％以下。
作为成为其他构成单元(a3)的单体，并无特别限制，例如可列举：苯乙烯类、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸环状烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、双环不饱和化合物类、顺丁烯二酰亚胺化合物类、不饱和芳香族化合物、共轭二烯系化合物、不饱和一元羧酸、不饱和二羧酸、不饱和二羧酸酐、其他不饱和化合物。另外，如后述那样，还可具有含有酸基的构成单元。成为其他构成单元(a3)的单体可单独使用、或将2种以上组合使用。
以下，列举本发明的聚合物成分的优选的实施形态，但本发明不限定于这些实施形态。
(第1实施形态)
聚合物成分(1)进而具有1种或2种以上的其他构成单元(a3)的形态。
(第2实施形态)
聚合物成分(2)的具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物进而具有1种或2种以上的其他构成单元(a3)的形态。
(第3实施形态)
聚合物成分(2)的具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物进而具有1种或2种以上的其他构成单元(a3)的形态。
(第4实施形态)
在上述第1实施形态～第3实施形态的任一实施形态中，包含至少含有酸基的构成单元作为其他构成单元(a3)的形态。
(第5实施形态)
除上述聚合物成分(1)或聚合物成分(2)以外，进而具有实质上不含(a1)及(a2)而含有其他构成单元(a3)的聚合物的形态。
(第6实施形态)
包含上述第1实施形态～第5实施形态的2种以上的组合的形态。
(第7实施形态)
至少包含聚合物成分(2)的形态。尤其，在上述上述第1实施形态～第6实施形态中，至少包含聚合物成分(2)的形态。
具体而言，构成单元(a3)可列举由以下化合物形成的构成单元：苯乙烯、第三丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、羟基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、氯苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯、乙烯基苯甲酸乙酯、4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、丙烯腈、乙二醇单乙酰乙酸酯单(甲基)丙烯酸酯等。除此以外，可列举日本专利特开2004-264623号公报的段落号0021～段落号0024中所记载的化合物。
另外，作为其他构成单元(a3)，就电特性的观点而言，优选为苯乙烯类、具有脂环式骨架的基。具体而言，可列举：苯乙烯、第三丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、羟基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异莰酯、(甲基)丙烯酸苄酯等。
进而，作为其他构成单元(a3)，就密接性的观点而言，优选为(甲基)丙烯酸烷基酯。具体而言，可列举(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯等，更优选为(甲基)丙烯酸甲酯。构成聚合物(A)的构成单元中，上述构成单元(a3)的含有率优选为60摩尔％以下，更优选为50摩尔％以下，进而更优选为40摩尔％以下。作为下限值，可为0摩尔％，但例如可设为1摩尔％以上，进而可设为5摩尔％以上。若为上述数值的范围内，则由感光性树脂组合物所获得的硬化膜的各种特性变得良好。
作为其他构成单元(a3)，优选为含有酸基。通过含有酸基，容易溶解于碱性的显影液中，本发明的效果得以更有效地发挥。本发明中的酸基是指pKa小于7的质子解离性基。通常，使用可形成酸基的单体作为含有酸基的构成单元，而将酸基导入至聚合物中。通过在聚合物中包含此种含有酸基的构成单元，而存在容易溶解于碱性的显影液中的倾向。
作为本发明中所使用的酸基，可例示源自羧酸基的酸基、源自磺酰胺基的酸基、源自膦酸基的酸基、源自磺酸基的酸基、源自酚性羟基的酸基、磺酰胺基、磺酰基酰亚胺基等，优选为源自羧酸基的酸基和/或源自酚性羟基的酸基。
本发明中所使用的含有酸基的构成单元更优选为源自苯乙烯的构成单元、或源自乙烯基化合物的构成单元、源自(甲基)丙烯酸和/或其酯的构成单元。
在本发明中，就感光度的观点，特别优选为含有具有羧基的构成单元、或具有酚性羟基的构成单元。
含有酸基的构成单元优选为所有聚合物成分的构成单元的1摩尔％～80摩尔％，更优选为1摩尔％～50摩尔％，进而更优选为5摩尔％～40摩尔％，尤其优选为5摩尔％～30摩尔％，特别优选为5摩尔％～20摩尔％。
在本发明中，除上述聚合物成分(1)或聚合物成分(2)以外，还可包含实质上不含(a1)及(a2)而含有其他构成单元(a3)的聚合物。
作为此种聚合物，优选为侧链上具有羧基的树脂。例如可列举如日本专利特开昭59-44615号、日本专利特公昭54-34327号、日本专利特公昭58-12577号、日本专利特公昭54-25957号、日本专利特开昭59-53836号、日本专利特开昭59-71048号的各公报中所记载那样的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、顺丁烯二酸共聚物、部分酯化顺丁烯二酸共聚物等、以及侧链上具有羧基的酸性纤维素衍生物、在具有羟基的聚合物中加成酸酐而成的等，进而还可列举侧链上具有(甲基)丙烯酰基的高分子聚合物作为优选的聚合物。
例如可列举：(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯/(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、日本专利特开平7-140654号公报中所记载的(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。
除此以外，还可使用日本专利特开平7-207211号公报、日本专利特开平8-259876号公报、日本专利特开平10-300922号公报、日本专利特开平11-140144号公报、日本专利特开平11-174224号公报、日本专利特开2000-56118号公报、日本专利特开2003-233179号公报、日本专利特开2009-52020号公报等中所记载的公知的高分子化合物，其内容可被编入至本申请说明书中。
这些聚合物可仅含有1种，也可含有2种以上。
作为这些聚合物，也可使用市售的SMA 1000P、SMA 2000P、SMA 3000P、SMA 1440F、SMA 17352P、SMA 2625P、SMA 3840F(以上，沙多玛(Sartomer)公司制造)，阿鲁丰(ARUFON)UC-3000、阿鲁丰(ARUFON)UC-3510、阿鲁丰(ARUFON)UC-3900、阿鲁丰(ARUFON)UC-3910、阿鲁丰(ARUFON)UC-3920、阿鲁丰(ARUFON)UC-3080(以上，东亚合成(股份)制造)，庄臣(Joncryl)690、庄臣(Joncryl)678、庄臣(Joncryl)67、庄臣(Joncryl)586(以上，巴斯夫(BASF)制造)等。
<<(A)聚合物的分子量>>
(A)聚合物的分子量以聚苯乙烯换算重量平均分子量计，优选为1,000～200,000，更优选为2,000～50,000的范围。若为上述数值的范围内，则各种特性良好。数量平均分子量与重量平均分子量的比(分散度)优选为1.0～5.0，更优选为1.5～3.5。
<<(A)聚合物的制造方法>>
另外，关于(A)成分的合成法，也已知有各种方法，若列举一例，则可通过利用自由基聚合引发剂，使至少含有用于形成由上述(a1)及上述(a3)所表示的构成单元的自由基聚合性单体的自由基聚合性单体混合物在有机溶剂中进行聚合来合成。另外，还可通过所谓的高分子反应来合成。
相对于总固体成分100质量份，本发明的感光性树脂组合物优选为以50质量份～99.9质量份的比例含有(A)成分，更优选为以70质量份～98质量份的比例含有(A)成分。
<(B)由通式(I)所表示的化合物>
本发明的感光性树脂组合物含有(B)由通式(I)所表示的化合物，(B)由通式(I)所表示的化合物作为光酸产生剂发挥功能。
[化18]
通式(I)
(通式(I)中，R1表示烷基或芳基，R2表示烷基、芳基、或杂芳基。R3～R6分别表示氢原子、烷基、芳基、卤素原子。其中，R3与R4、R4与R5或R5与R6可键结而形成脂环或芳香环。X表示-O-或-S-)。
R1表示烷基或芳基。烷基优选为具有分支结构的烷基或环状结构的烷基。
烷基的碳数优选为3～10。尤其当烷基具有分支结构时，优选为碳数3～6的烷基，当烷基具有环状结构时，优选为碳数5～7的烷基。
作为烷基，例如可列举丙基、异丙基、正丁基、第二丁基、异丁基、第三丁基、戊基、异戊基、新戊基、1，1-二甲基丙基、己基、2-乙基己基、环己基、环戊基、辛基等，优选为异丙基、第三丁基、新戊基、环己基。
芳基的碳数优选为6～12，更优选为6～8，进而更优选为6～7。作为上述芳基，可列举苯基、萘基等，优选为苯基。
R1表示的烷基及芳基可具有取代基。作为取代基，例如可列举：卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子，碘原子)，直链、分支或环状的烷基(例如甲基、乙基、丙基等)，烯基，炔基，芳基，酰基，烷氧基羰基，芳氧基羰基，氨甲酰基，氰基，羧基，羟基，烷氧基，芳氧基，烷硫基，芳硫基，杂环氧基，酰氧基，氨基，硝基，肼基，杂环基等。另外，也可由这些基进一步取代。优选为卤素原子、甲基。
关于本发明的感光性树脂组合物，就透明性的观点而言，R1优选为烷基，就使保存稳定性与感光度并存的观点而言，R1优选为碳数3～6的具有分支结构的烷基、碳数5～7的环状结构的烷基、或苯基，更优选为碳数3～6的具有分支结构的烷基、或碳数5～7的环状结构的烷基。通过采用此种体积大的基(特别是体积大的烷基)作为R1，而可进一步提升透明性。
体积大的取代基之中，优选为异丙基、第三丁基、新戊基、环己基，更优选为第三丁基、环己基。
R2表示烷基、芳基、或杂芳基。作为R2表示的烷基，优选为碳数1～10的直链、分支或环状的烷基。作为上述烷基，例如可列举甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、第三丁基、戊基、新戊基、己基、环己基等，优选为甲基。
作为芳基，优选为碳数6～10的芳基。作为上述芳基，可列举苯基、萘基、对甲苯甲酰基(对甲基苯基)等，优选为苯基、对甲苯甲酰基。
作为杂芳基，例如可列举：吡咯基、吲哚基、咔唑基、呋喃基、噻吩基等。
R2表示的烷基、芳基、及杂芳基可具有取代基。作为取代基，其含义与R1表示的烷基及芳基可具有的取代基相同。
R2优选为烷基或芳基，更优选为芳基，进而更优选为苯基。作为苯基的取代基，优选为甲基。
R3～R6分别表示氢原子、烷基、芳基、或卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)。作为R3～R6表示的烷基，其含义与R2表示的烷基相同，优选的范围也相同。另外，作为R3～R6表示的芳基，其含义与R1表示的芳基相同，优选的范围也相同。
R3～R6之中，R3与R4、R4与R5、或R5与R6可键结而形成环，作为环，优选为形成脂环或芳香环，更优选为苯环。
R3～R6优选为氢原子、烷基、卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子)，或者R3与R4、R4与R5、或R5与R6键结而构成苯环，更优选为氢原子、甲基、氟原子、氯原子、溴原子或者R3与R4、R4与R5或R5与R6键结而构成苯环。
R3～R6的优选的形态如下所述。
(形态1)至少1个为氢原子，优选为至少2个为氢原子。
(形态2)烷基、芳基、或卤素原子的数量的合计为3个以下。优选为1个以下。
(形态3)R3与R4、R4与R5、或R5与R6键结而构成苯环。
(形态4)满足上述形态1与形态2的形态、和/或满足上述形态1与形态3的形态。
X表示-O-或-S-。
作为上述通式(I)的具体例，可列举如下的化合物，但在本发明中并不特别限定于此。再者，例示化合物中，Ts表示甲苯磺酰基(对甲苯磺酰基)，Me表示甲基，Bu表示正丁基，Ph表示苯基。
[化19]
在本发明的感光性树脂组合物中，相对于感光性树脂组合物中的所有树脂成分(优选为总固体成分，更优选为聚合物的合计)100质量份，优选为使用(B)由通式(I)所表示的化合物0.1质量份～10质量份，更优选为使用(B)由通式(I)所表示的化合物0.5质量份～5质量份。也可并用2种以上。
在本发明中，也可组合其他酸产生剂。
<(C)溶剂>
本发明的感光性树脂组合物含有(C)溶剂。本发明的感光性树脂组合物优选为作为使本发明的必需成分、及后述的任意的成分溶解于(C)溶剂中而成的溶液来制备。
作为本发明的感光性树脂组合物中所使用的(C)溶剂，可使用公知的溶剂，可例示：乙二醇单烷基醚类、乙二醇二烷基醚类、乙二醇单烷基醚乙酸酯类、丙二醇单烷基醚类、丙二醇二烷基醚类、丙二醇单烷基醚乙酸酯类、二乙二醇二烷基醚类、二乙二醇单烷基醚乙酸酯类、二丙二醇单烷基醚类、二丙二醇二烷基醚类、二丙二醇单烷基醚乙酸酯类、酯类、酮类、酰胺类、内酯类等。另外，作为本发明的感光性树脂组合物中所使用的(D)溶剂的具体例，也可列举日本专利特开2011-221494号公报的段落号0174～段落号0178中所记载的溶剂，其内容可被编入至本申请说明书中。
另外，视需要还可向这些溶剂中进一步添加苄基乙醚、二己醚、乙二醇单苯醚乙酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄醇、茴香醚、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、顺丁烯二酸二乙酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯等溶剂。这些溶剂可单独使用1种、或将2种以上混合使用。可用于本发明的溶剂优选为单独使用1种、或并用2种，更优选为并用2种，进而更优选为并用丙二醇单烷基醚乙酸酯类或二烷基醚类、二乙酸酯类与二乙二醇二烷基醚类，或者酯类与丁二醇烷基醚乙酸酯类。
另外，作为成分C，优选为沸点为130℃以上、未满160℃的溶剂，沸点为160℃以上的溶剂，或这些的混合物。
作为沸点为130℃以上、未满160℃的溶剂，可例示：丙二醇单甲醚乙酸酯(沸点为146℃)、丙二醇单乙醚乙酸酯(沸点为158℃)、丙二醇甲基-正丁醚(沸点为155℃)、丙二醇甲基-正丙醚(沸点为131℃)。
作为沸点为160℃以上的溶剂，可例示：3-乙氧基丙酸乙酯(沸点为170℃)、二乙二醇甲基乙基醚(沸点为176℃)、丙二醇单甲醚丙酸酯(沸点为160℃)、二丙二醇甲醚乙酸酯(沸点为213℃)、3-甲氧基丁醚乙酸酯(沸点为171℃)、二乙二醇二乙醚(沸点为189℃)、二乙二醇二甲醚(沸点为162℃)、丙二醇二乙酸酯(沸点为190℃)、二乙二醇单乙醚乙酸酯(沸点为220℃)、二丙二醇二甲醚(沸点为175℃)、1，3-丁二醇二乙酸酯(沸点为232℃)。
相对于感光性树脂组合物中的所有树脂成分100质量份，本发明的感光性树脂组合物中的(C)溶剂的含量优选为50质量份～95质量份，更优选为60质量份～90质量份。
<其他成分>
在本发明的感光性树脂组合物中，除上述成分以外，视需要可优选地添加(D)烷氧基硅烷化合物、(E)交联剂、(F)增感剂、(G)碱性化合物、(H)表面活性剂、(I)抗氧化剂。进而，在本发明的感光性树脂组合物中，可添加酸增殖剂、显影促进剂、塑化剂、热自由基产生剂、热酸产生剂、紫外线吸收剂、增粘剂、及有机或无机的防沉淀剂等公知的添加剂。
(D)烷氧基硅烷化合物
本发明的感光性树脂组合物的特征在于含有(D)烷氧基硅烷化合物(也称为“(D)成分”)。若使用烷氧基硅烷化合物，则可提升由本发明的感光性树脂组合物所形成的膜与基板的密接性、或可调整由本发明的感光性树脂组合物所形成的膜的性质。作为烷氧基硅烷化合物，优选为二烷氧基硅烷化合物或三烷氧基硅烷化合物，更优选为三烷氧基硅烷化合物。烷氧基硅烷化合物所具有的烷氧基的碳数优选为1～5。
可用于本发明的感光性树脂组合物的(D)烷氧基硅烷化合物优选为提升成为基材的无机物(例如硅、氧化硅、氮化硅等硅化合物，金、铜、钼、钛、铝等金属)与绝缘膜的密接性的化合物。具体而言，公知的硅烷偶合剂等也有效。
作为硅烷偶合剂，例如可列举：γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基烷基二烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基烷基二烷氧基硅烷、γ-氯丙基三烷氧基硅烷、γ-巯基丙基三烷氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷。这些之中，更优选为γ-缩水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷或γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷，进而优选为γ-缩水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷，进而更优选为3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷。这些硅烷偶合剂可单独使用1种、或将2种以上组合使用。
另外，也可优选地采用下述的化合物。
[化20]
[化21]
上述中，Ph为苯基。
本发明的感光性树脂组合物中的(D)烷氧基硅烷化合物并不特别限定于这些化合物，可使用公知的化合物。
相对于感光性组合物中的总固体成分100质量份，本发明的感光性树脂组合物中的(D)烷氧基硅烷化合物的含量优选为0.1质量份～30质量份，更优选为0.5质量份～20质量份。
(E)交联剂
视需要，本发明的感光性树脂组合物优选为含有交联剂。通过添加交联剂，可使由本发明的感光性树脂组合物所获得的硬化膜变成更牢固的膜。
作为交联剂，只要是因热而产生交联反应的，则并无限制。(A成分除外)。例如可添加以下所述的分子内具有2个以上的环氧基或氧杂环丁基的化合物、含有烷氧基甲基的交联剂、或具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物、封闭型异氰酸酯化合物等。
相对于感光性树脂组合物的总固体成分100质量份，本发明的感光性树脂组合物中的交联剂的添加量优选为0.01质量份～50质量份，更优选为0.1质量份～30质量份，进而更优选为0.5质量份～20质量份。通过在该范围内进行添加，可获得机械强度及耐溶剂性优异的硬化膜。交联剂也可并用多种，在此情况下，将所有交联剂加以合计来计算含量。
<分子内具有2个以上的环氧基或氧杂环丁基的化合物>
作为分子内具有2个以上的环氧基的化合物的具体例，可列举：双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、脂肪族环氧树脂等。
这些化合物可作为市售品而获得。例如可列举：JER157S70、JER157S65(三菱化学控股(Mitsubishi Chemical Holdings)(股份)制造)等，日本专利特开2011-221494号公报的段落号0189中所记载的市售品等。
除此以外，还可列举：艾迪科树脂(ADEKA RESIN)EP-4000S、艾迪科树脂(ADEKARESIN)EP-4003S、艾迪科树脂(ADEKA RESIN)EP-4010S、艾迪科树脂(ADEKA RESIN)EP-4011S(以上，艾迪科(ADEKA)(股份)制造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上，艾迪科(股份)制造)，代那科(Denacol)EX-611、EX-612、EX-614、EX-614B、EX-622、EX-512、EX-521、EX-411、EX-421、EX-313、EX-314、EX-321、EX-211、EX-212、EX-810、EX-811、EX-850、EX-851、EX-821、EX-830、EX-832、EX-841、EX-911、EX-941、EX-920、EX-931、EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L、DLC-201、DLC-203、DLC-204、DLC-205、DLC-206、DLC-301、DLC-402(以上，长濑化成(Nagase chemteX)(股份)制造)，YH-300、YH-301、YH-302、YH-315、YH-324、YH-325(以上，新日铁化学制造)，赛罗西德(Celloxide)2021P、2081、3000，EHPE 3150、艾波利得(Epolead)GT400，赛璐比纳斯(Celvenus)B0134、B0177(大赛璐(Daicel)(股份))等。
这些化合物可单独使用1种、或将2种以上组合使用。
这些化合物之中，可更优选地列举双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂及脂肪族环氧树脂、脂肪族环氧树脂，可特别优选地列举双酚A型环氧树脂。
作为分子内具有2个以上的氧杂环丁基的化合物的具体例，可使用亚龙氧杂环丁烷(ARON OXETANE)OXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上，东亚合成(股份)制造)。
另外，含有氧杂环丁基的化合物优选为单独使用、或与含有环氧基的化合物混合使用。
另外，作为其他交联剂，还可优选地使用日本专利特开2012-8223号公报的段落号0107～段落号0108中所记载的含有烷氧基甲基的交联剂、及具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物等，其内容可被编入至本申请说明书中。作为含有烷氧基甲基的交联剂，优选为烷氧基甲基化甘脲。
<封闭型异氰酸酯化合物>
在本发明的感光性树脂组合物中，也可优选地采用封闭型异氰酸酯系化合物作为交联剂。封闭型异氰酸酯化合物只要是具有封闭型异氰酸酯基的化合物，则并无特别限制，但就硬化性的观点而言，优选为1分子内具有2个以上的封闭型异氰酸酯基的化合物。
再者，本发明中的封闭型异氰酸酯基是指可因热而生成异氰酸酯基的基，例如，可优选地例示使封闭剂与异氰酸酯基进行反应来保护异氰酸酯基的基。另外，上述封闭型异氰酸酯基优选为可因90℃～250℃的热而生成异氰酸酯基的基。
另外，作为封闭型异氰酸酯化合物，其骨架并无特别限定，只要是1分子中具有2个异氰酸酯基的化合物，则可为任何化合物，可为脂肪族、脂环族或芳香族的聚异氰酸酯，例如可适宜地使用：2，4-甲苯二异氰酸酯、2，6-甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1，6-六亚甲基二异氰酸酯、1，3-三亚甲基二异氰酸酯、1，4-四亚甲基二异氰酸酯、2，2，4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、2，4，4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、1，9-九亚甲基二异氰酸酯、1，10-十亚甲基二异氰酸酯、1，4-环己烷二异氰酸酯、2，2′-二乙醚二异氰酸酯、二苯基甲烷-4，4′-二异氰酸酯、邻二甲苯二异氰酸酯、间二甲苯二异氰酸酯、对二甲苯二异氰酸酯、亚甲基双(环己基异氰酸酯)、环己烷-1，3-二亚甲基二异氰酸酯、环己烷-1，4-二亚甲基二异氰酸酯、1，5-萘二异氰酸酯、对苯二异氰酸酯、3，3′-亚甲基二甲苯-4，4′-二异氰酸酯、4，4′-二苯醚二异氰酸酯、四氯亚苯基二异氰酸酯、降冰片烷二异氰酸酯、氢化1，3-亚二甲苯基二异氰酸酯、氢化1，4-亚二甲苯基二异氰酸酯等异氰酸酯化合物及自这些化合物衍生出的预聚物型的骨架的化合物。这些之中，特别优选为甲苯二异氰酸酯(Tolylene Diisocyanate，TDI)或二苯基甲烷二异氰酸酯(Diphenyl MethaneDiisocyanate，MDI)、六亚甲基二异氰酸酯(Hexamethylene Diisocyanate，HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(Isophorone Diisocyanate，IPDI)。
作为本发明的感光性树脂组合物中的封闭型异氰酸酯化合物的母结构，可列举：缩二脲型、异氰脲酸酯型、加合物型、二官能预聚物型等。
作为形成上述封闭型异氰酸酯化合物的封闭结构的封闭剂，可列举：肟化合物、内酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亚甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑系化合物、酰亚胺系化合物等。这些之中，特别优选为选自肟化合物、内酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亚甲基化合物、吡唑化合物中的封闭剂。
作为上述肟化合物，可列举肟、及酮肟，具体而言，可例示：丙酮肟、甲醛肟、环己烷肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟、二苯甲酮肟、丙酮肟等。
作为上述内酰胺化合物，可例示：ε-己内酰胺、γ-丁内酰胺等。
作为上述酚化合物，可例示：苯酚、萘酚、甲酚、二甲酚、卤素取代苯酚等。
作为上述醇化合物，可例示：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、环己醇、乙二醇单烷基醚、丙二醇单烷基醚、乳酸烷基酯等。
作为上述胺化合物，可列举一级胺及二级胺，可为芳香族胺、脂肪族胺、脂环族胺的任一种，可例示：苯胺、二苯基胺、乙烯亚胺、聚乙烯亚胺等。
作为上述活性亚甲基化合物，可例示：丙二酸二乙酯、丙二酸二甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸甲酯等。
作为上述吡唑化合物，可例示：吡唑、甲基吡唑、二甲基吡唑等。
作为上述硫醇化合物，可例示：烷基硫醇、芳基硫醇等。
可用于本发明的感光性树脂组合物的封闭型异氰酸酯化合物可作为市售品而获得，例如可优选地使用：克罗耐德AP斯特布(Coronate AP Stable)M、克罗耐德(Coronate)2503、2515、2507、2513、2555、米利奥耐德(Millionate)MS-50(以上，日本聚氨酯工业(NipponPolyurethane Industry)(股份)制造)，塔克耐德(Takenate)B-830、B-815N、B-820NSU、B-842N、B-846N、B-870N、B-874N、B-882N(以上，三井化学(股份)制造)，多耐德(Duranate)17B-60PX、17B-60P、TPA-B80X、TPA-B80E、MF-B60X、MF-B60B、MF-K60X、MF-K60B、E402-B80B、SBN-70D、SBB-70P、K6000(以上，旭化成化学(Asahi Kasei Chemicals)(股份)制造)，德士模都(Desmodur)BL1100、BL1265MPA/X、BL3575/1、BL3272MPA、BL3370MPA、BL3475BA/SN、BL5375MPA、VPLS2078/2、BL4265SN、PL340、PL350、苏米都(Sumidur)BL3175(以上，住化拜尔聚氨脂(股份)制造)等。
(F)增感剂
本发明的感光性树脂组合物优选为在与(B)光酸产生剂的组合中含有增感剂，以促进光酸产生剂的分解。增感剂吸收光化射线或放射线而成为电子激发状态。成为电子激发状态的增感剂与光酸产生剂接触，而产生电子移动、能量移动、发热等作用。由此，光酸产生剂产生化学变化而分解，并生成酸。作为优选的增感剂的例子，可列举属于以下的化合物类、且在350nm～450nm的波长区域的任意波长中具有吸收波长的化合物。
多核芳香族类(例如芘、苝、三亚苯、蒽、9，10-二丁氧基蒽、9，10-二乙氧基蒽、3，7-二甲氧基蒽、9，10-二丙氧基蒽)、二苯并哌喃(xanthene)类(例如荧光素(fluorescein)、曙红、赤藓红(erythrosine)、罗丹明B(Rhodamine B)、孟加拉玫瑰红(Rose Bengal))、氧杂蒽酮类(例如氧杂蒽酮、硫杂蒽酮、二甲基硫杂蒽酮、二乙基硫杂蒽酮)、花青类(例如硫杂羰花青、氧杂羰花青)、部花青类(例如部花青、羰部花青)、若丹菁类、氧杂菁类、噻嗪类(例如噻咛、亚甲蓝、甲苯胺蓝)、吖啶类(例如吖啶橙、氯黄素、吖啶黄素)、吖啶酮类(例如吖啶酮、10-丁基-2-氯吖啶酮、10-丁基吖啶酮)、蒽醌类(例如蒽醌)、方酸内鎓盐类(例如方酸内鎓盐)、苯乙烯基类、碱性苯乙烯基类(例如2-[2-[4-(二甲氨基)苯基]乙烯基]苯并噁唑)、香豆素类(例如7-二乙氨基4-甲基香豆素、7-羟基4-甲基香豆素、2，3，6，7-四氢-9-甲基-1H，5H，11H[1]苯并吡哺并[6，7，8-ij]喹嗪-11-酮)。
这些增感剂之中，优选为多核芳香族类、吖啶酮类、苯乙烯基类、碱性苯乙烯基类、香豆素类，更优选为多核芳香族类。多核芳香族类之中，最优选为蒽衍生物。
相对于感光性树脂组合物的光酸产生剂100质量份，本发明的感光性树脂组合物中的增感剂的添加量优选为0质量份～1000质量份，更优选为10质量份～500质量份，进而更优选为50质量份～200质量份。
也可并用2种以上。
(G)碱性化合物
本发明的感光性树脂组合物也可含有(G)碱性化合物。作为(G)碱性化合物，可自化学增幅抗蚀剂中所使用的碱性化合物中任意地选择来使用。例如可列举：脂肪族胺、芳香族胺、杂环式胺、氢氧化四级铵、羧酸的四级铵盐等。作为这些的具体例，可列举日本专利特开2011-221494号公报的段落号0204～段落号0207中所记载的化合物，其内容可被编入至本申请说明书中。另外，也可使用N-环己基-N′-[2-(4-吗啉基)乙基]硫脲等硫脲类。
可用于本发明的碱性化合物可单独使用1种，也可并用2种以上。
当含有其他碱性化合物时，相对于感光性树脂组合物中的总固体成分100质量份，本发明的感光性树脂组合物中的(G)其他碱性化合物的含量优选为0.001质量份～3质量份，更优选为0.005质量份～1质量份。
(H)表面活性剂
本发明的感光性树脂组合物也可含有(H)表面活性剂。作为(H)表面活性剂，可使用阴离子系、阳离子系、非离子系、或两性的任一种，但优选的表面活性剂为非离子系表面活性剂。
作为非离子系表面活性剂的例子，可列举：聚氧乙烯高级烷基醚类、聚氧乙烯高级烷基苯基醚类、聚氧乙烯二醇的高级脂肪酸二酯类、硅酮系、氟系表面活性剂。另外，可列举以下商品名：KP(信越化学工业(股份)制造)，珀利弗洛(Polyflow)(共荣社化学(股份)制造)，艾福拓(Eftop)(三菱材料电子化成(JEMCO)公司制造)，美佳法(Megafac)(迪爱生(DIC)(股份)制造)，弗拉德(Fluorad)(住友3M(股份)制造)，阿萨佳(AsahiGuard)、沙福隆(Surflon)(旭硝子(股份)制造)，波利佛斯(PolyFox)(欧诺法(OMNOVA)公司制造)，SH-8400(东丽道康宁硅酮(Dow Corning Toray Silicone))等各系列。
另外，作为表面活性剂，可列举如下的共聚物作为优选例，该共聚物含有由下述通式(H-1)所表示的构成单元A及构成单元B，且将四氢呋喃(Tetrahydrofuran，THF)作为溶剂时的由凝胶渗透色谱法所测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)为1,000以上、10,000以下。
通式(H-1)
[化22]
(式(H-1)中，R401及R403分别表示氢原子或甲基，R402表示碳数1以上、4以下的直链亚烷基，R404表示氢原子或碳数1以上、4以下的烷基，L表示碳数3以上、6以下的亚烷基，p及q为表示聚合比的质量百分率，p表示10质量％以上、80质量％以下的数值，q表示20质量％以上、90质量％以下的数值，r表示1以上、18以下的整数，s表示1以上、10以下的整数)。
上述L优选为由下述通式(H-2)所表示的分支亚烷基。通式(H-2)中的R405表示碳数1以上、4以下的烷基，就相容性与对于被涂布面的润湿性的观点而言，优选为碳数1以上、3以下的烷基，更优选为碳数2或3的烷基。p与q的和(p+q)优选为p+q＝100，即为100质量％。
通式(H-2)
[化23]
上述共聚物的重量平均分子量(Mw)更优选为1,500以上、5,000以下。
这些表面活性剂可单独使用1种、或将2种以上混合使用。
相对于感光性树脂组合物中的总固体成分100质量份，本发明的感光性树脂组合物中的(H)表面活性剂的添加量优选为10质量份以下，更优选为0.001质量份～10质量份，进而更优选为0.01质量份～3质量份。
(I)抗氧化剂
本发明的感光性树脂组合物也可含有抗氧化剂。可含有公知的抗氧化剂作为抗氧化剂。通过添加抗氧化剂，具有如下的优点：可防止硬化膜的着色、或可减少由分解所引起的膜厚减少，另外，耐热透明性优异。
作为此种抗氧化剂，例如可列举：磷系抗氧化剂、酰胺类、酰肼类、受阻胺系抗氧化剂、硫系抗氧化剂、酚系抗氧化剂、抗坏血酸类、硫酸锌、糖类、亚硝酸盐、亚硫酸盐、硫代硫酸盐、羟胺衍生物等。这些抗氧化剂之中，就硬化膜的着色、膜厚减少的观点而言，特别优选为酚系抗氧化剂、酰胺系抗氧化剂、酰肼系抗氧化剂、硫系抗氧化剂。这些抗氧化剂可单独使用1种，也可将2种以上混合使用。
作为酚系抗氧化剂的市售品，例如可列举：艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-15、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-18、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-20、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-23、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-30、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-37、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-40、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-50、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-51、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-70、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-80、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-330、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-412S、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-503、艾迪科斯塔波(Adekastab)A-611、艾迪科斯塔波(Adekastab)A-612、艾迪科斯塔波(Adekastab)A-613、艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-4C、艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-8、艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-8W、艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-24G、艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-36、艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-36Z、艾迪科斯塔波(Adekastab)HP-10、艾迪科斯塔波(Adekastab)2112、艾迪科斯塔波(Adekastab)260、艾迪科斯塔波(Adekastab)522A、艾迪科斯塔波(Adekastab)1178、艾迪科斯塔波(Adekastab)1500、艾迪科斯塔波(Adekastab)C、艾迪科斯塔波(Adekastab)135A、艾迪科斯塔波(Adekastab)3010、艾迪科斯塔波(Adekastab)TPP、艾迪科斯塔波(Adekastab)CDA-1、艾迪科斯塔波(Adekastab)CDA-6、艾迪科斯塔波(Adekastab)ZS-27、艾迪科斯塔波(Adekastab)ZS-90、艾迪科斯塔波(Adekastab)ZS-91(以上，艾迪科(股份)制造)，易加乐斯(Irganox)245FF、易加乐斯(Irganox)1010FF、易加乐斯(Irganox)1010、易加乐斯(Irganox)MD1024、易加乐斯(Irganox)1035FF、易加乐斯(Irganox)1035、易加乐斯(Irganox)1098、易加乐斯(Irganox)1330、易加乐斯(Irganox)1520L、易加乐斯(Irganox)3114、易加乐斯(Irganox)1726、易加佛斯(Irgafos)168、易加摩德(Irgamod)295(巴斯夫(股份)制造)等。其中，可适宜地使用艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-80、易加乐斯(Irganox)1726、易加乐斯(Irganox)1035、易加乐斯(Irganox)1098。
相对于感光性树脂组合物的总固体成分，抗氧化剂的含量优选为0.1质量％～10质量％，更优选为0.2质量％～5质量％，特别优选为0.5质量％～4质量％。通过设为该范围内，所形成的膜可获得充分的透明性、且图案形成时的感光度也变得良好。
另外，还可将《高分子添加剂的新进展(日刊工业新闻社(股份))》中所记载的各种紫外线吸收剂、或金属钝化剂等作为抗氧化剂以外的添加剂，添加至本发明的感光性树脂组合物中。
[酸增殖剂]
为了提升感光度，本发明的感光性树脂组合物可使用酸增殖剂。
可用于本发明的酸增殖剂是可通过酸催化剂反应而进一步产生酸并使反应系统内的酸浓度上升的化合物，且为在不存在酸的状态下稳定地存在的化合物。此种化合物通过1次反应而增加1种以上的酸，故伴随反应的进展，反应加速地进行，但所产生的酸本身会诱发自分解，因此此处所产生的酸的强度以酸解离常数、pKa计，优选为3以下，特别优选为2以下。
作为酸增殖剂的具体例，可列举：日本专利特开平10-1508号公报的段落号0203～段落号0223、日本专利特开平10-282642号公报的段落号0016～段落号0055、及日本专利特表平9-512498号公报第39页第12行～第47页第2行中所记载的化合物，其内容可被编入至本申请说明书中。
作为可用于本发明的酸增殖剂，可列举因自酸产生剂所产生的酸而分解，并产生二氯乙酸、三氯乙酸、甲磺酸、苯磺酸、三氟甲磺酸、苯基膦酸等pKa为3以下的酸的化合物。
具体而言，可列举以下化合物等。
[化24]
就曝光部与未曝光部的溶解对比度的观点而言，相对于光酸产生剂100重量份，将酸增殖剂在感光性树脂组合物中的含量优选为设为10重量份～1,000重量份，更优选为设为20重量份～500重量份。
[显影促进剂]
本发明的感光性树脂组合物可含有显影促进剂。
作为显影促进剂，可参考日本专利特开2012-042837号公报的段落号0171～段落号0172的记载，其内容可被编入至本申清说明书中。
显影促进剂可单独使用1种，也可并用2种以上。
就感光度与残膜率的观点而言，相对于感光性组合物的总固体成分100质量份，本发明的感光性树脂组合物中的显影促进剂的添加量优选为0质量份～30质量份，更优选为0.1质量份～20质量份，最优选为0.5质量份～10质量份。
另外，还可使用日本专利特开2012-8223号公报的段落号0120～段落号0121中所记载的热自由基产生剂、WO2011/136074A1中所记载的含氮化合物及热酸产生剂作为其他添加剂，其内容可被编入至本申请说明书中。
<感光性树脂组合物的制备方法>
以规定的比例且以任意的方法将各成分混合，然后进行搅拌溶解来制备感光性树脂组合物。例如，也可在事先使成分分别溶解于溶剂中而制成溶液后，将这些溶液以规定的比例混合来制备树脂组合物。如以上那样制备的组合物溶液也可在使用孔径为0.2μm的过滤器等进行过滤后，供于使用。
[硬化膜的制造方法]
其次，对本发明的硬化膜的制造方法进行说明。
本发明的硬化膜的制造方法优选为包括以下的(1)～(5)的步骤。
(1)将本发明的感光性树脂组合物涂布于基板上的步骤；
(2)自所涂布的感光性树脂组合物中去除溶剂的步骤；
(3)利用光化射线对去除了溶剂的感光性树脂组合物进行曝光的步骤；
(4)利用水性显影液对经曝光的感光性树脂组合物进行显影的步骤；
(5)对经显影的感光性树脂组合物进行热硬化的后烘烤步骤。
以下依次对各步骤进行说明。
在(1)的涂布步骤中，优选为将本发明的感光性树脂组合物涂布于基板上而制成含有溶剂的湿润膜。优选为在将感光性树树脂组合物涂布于基板上前进行碱清洗或等离子体清洗等基板的清洗，更优选为在基板清洗后进而利用六甲基二硅氮烷对基板表面进行处理。通过进行该处理，而存在感光性树脂组合物对于基板的密接性提升的倾向。作为利用六甲基二硅氮烷对基板表面进行处理的方法，并无特别限定，例如可列举事先使基板曝露于六甲基二硅氮烷蒸气中的方法等。
作为上述基板，可列举无机基板、树脂、树脂复合材料等。
作为无机基板，例如可列举：玻璃，石英，硅酮，氮化硅，以及在如这些般的基板上蒸镀钼、钛、铝、铜等而成的复合基板。
作为树脂，可列举包含以下树脂的基板：聚对苯二甲酸丁二酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚芳酯、烯丙基二甘醇碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚苯并唑、聚苯硫醚、聚环烯烃、降冰片烯树脂、聚氯三氟乙烯等氟树脂、液晶聚合物、丙烯酸树脂、环氧树脂、硅酮树脂、离子聚合物树脂、氰酸酯树脂、交联反丁烯二酸二酯、环状聚烯烃、芳香族醚、顺丁烯二酰亚胺-烯烃、纤维素、环硫化合物等合成树脂。
这些基板直接以上述形态使用的情况少，通常根据最终制品的形态，例如形成有如薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)元件那样的多层层叠构造。
朝基板上的涂布方法并无特别限定，例如可使用：狭缝涂布法、喷雾法、辊涂法、旋转涂布法、流延涂布法、狭缝及旋转(slit and spin)法等方法。进而，也可应用如日本专利特开2009-145395号公报中所记载的所谓的预湿(prewet)法。
进行了涂布时的湿膜厚并无特别限定，能够以对应于用途的膜厚进行涂布，但通常在0.5μm～10μm的范围内使用。
在(2)的溶剂去除步骤中，通过减压(真空)和/或加热而自所涂布的上述膜中去除溶剂，从而在基板上形成干燥涂膜。溶剂去除步骤的加热条件优选为在70℃～130℃下加热30秒～300秒左右。当温度与时间为上述范围时，存在图案的密接性更良好、且残渣也可进一步减少的倾向。
在(3)的曝光步骤中，隔着具有规定的图案的掩模对设置有涂膜的基板照射光化射线。在该步骤中，光酸产生剂分解并产生酸。涂膜成分中所含有的酸分解性基因所产生的酸的催化剂作用而水解，从而生成羧基或酚性羟基。
作为利用光化射线的曝光光源，可使用低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、发光二极管(Light Emitting Diode，LED)光源、准分子激光产生装置等，可优选地使用g射线(436nm)、i射线(365nm)、h射线(405nm)等具有波长300nm以上、450nm以下的波长的光化射线。另外，视需要也可通过如长波长截止滤波器、短波长截止滤波器、带通滤波器那样的分光滤波器来调整照射光。
作为曝光装置，可使用镜面投影对准曝光器(mirror projection aligner)，步进机，扫描器，近接、接触、微透镜阵列、激光曝光等各种方式的曝光机。
在生成有酸催化剂的区域中，为了加快上述水解反应，可进行曝光后加热处理：曝光后烘烤(Post Exposure Bake)(以下，也称为“PEB”)。通过PEB，可促进来自酸分解性基的羧基或酚性羟基的生成。进行PEB时的温度优选为30℃以上、130℃以下，更优选为40℃以上、110℃以下，特别优选为50℃以上、100℃以下。
但是，本发明中的酸分解性基由于酸分解的活化能低，容易因由曝光所产生的源自酸产生剂的酸而分解，并产生羧基或酚性羟基，因此并非一定要进行PEB，也可通过显影而形成正像。
在(4)的显影步骤中，使用碱性显影液对具有已游离的羧基或酚性羟基的聚合物进行显影。将包含具有容易溶解于碱性显影液中的羧基或酚性羟基的树脂组合物的曝光部区域去除，由此形成正像。
优选为在显影步骤中所使用的显影液中含有碱性化合物。作为碱性化合物，例如可使用：氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属氢氧化物类；碳酸钠、碳酸钾等碱金属碳酸盐类；重碳酸钠、重碳酸钾等碱金属重碳酸盐类；氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化胆碱等氢氧化铵类；硅酸钠、偏硅酸钠等的水溶液。另外，也可将向上述碱类的水溶液中添加适量的甲醇或乙醇等水溶性有机溶剂或表面活性剂而成的水溶液用作显影液。
作为优选的显影液，可列举：氢氧化四乙基铵的0.4％水溶液、0.5％水溶液、0.7％水溶液、2.38％水溶液。
显影液的pH优选为10.0～14.0。
显影时间优选为30秒～500秒，另外，显影的方法可为覆液(puddle)法、浸渍法等任一种方法。显影后，通常可进行30秒～300秒的流水清洗，而形成所期望的图案。
在显影后，也可进行淋洗步骤。在淋洗步骤中，利用纯水等清洗显影后的基板，由此将所附着的显影液去除，并将显影残渣去除。淋洗方法可使用公知的方法。例如可列举喷淋淋洗或浸渍淋洗等。
在(5)的后烘烤步骤中，通过对所获得的正像进行加热，可使酸分解性基进行热分解而生成羧基或酚性羟基，并与交联性基、交联剂等进行交联，由此形成硬化膜。该加热优选为使用加热板或烘箱等加热装置，在规定的温度，例如180℃～250℃下，以规定的时间，例如若为加热板上，则进行5分钟～90分钟的加热处理，若为烘箱，则进行30分钟～120分钟的加热处理。通过使此种交联反应进行，而可形成耐热性、硬度等更优异的保护膜或层间绝缘膜。另外，当进行加热处理时，也可在氮气环境下进行，由此进一步提升透明性。
也可在后烘烤前、以比较低的温度进行烘烤后进行后烘烤(中间烘烤步骤的追加)。当进行中间烘烤时，优选为在90℃～150℃下加热1分钟～60分钟后，在200℃以上的高温下进行后烘烤。另外，也可将中间烘烤、后烘烤分成3个阶段以上的多阶段来进行加热。通过此种中间烘烤、后烘烤的设计，可调整图案的锥角。所述加热可使用加热板、烘箱、红外线加热器等公知的加热方法。
再者，可在后烘烤之前，利用光化射线对形成有图案的基板进行全面再曝光(后曝光)，然后进行后烘烤，由此自存在于未曝光部分中的光酸产生剂产生酸，并使其作为促进交联步骤的催化剂发挥功能，从而可促进膜的硬化反应。作为包含后曝光步骤时的优选的曝光量，优选为100mJ/cm2～3,000mJ/cm2，特别优选为100mJ/cm2～500mJ/cm2。
进而，自本发明的感光性树脂组合物所获得的硬化膜也可用作干式蚀刻抗蚀剂(dryetching resist)。当将通过后烘烤步骤进行热硬化而获得的硬化膜用作干式蚀刻抗蚀剂时，可进行灰化、等离子体蚀刻、臭氧蚀刻等干式蚀刻处理作为蚀刻处理。
[硬化膜]
本发明的硬化膜是使本发明的感光性树脂组合物硬化而获得的硬化膜。
本发明的硬化膜可适宜地用作层间绝缘膜。另外，本发明的硬化膜优选为通过本发明的硬化膜的形成方法所获得的硬化膜。
根据本发明的感光性树脂组合物，可获得绝缘性优异、在高温下进行烘烤时也具有高透明性的层间绝缘膜。使用本发明的感光性树脂组合物而成的层间绝缘膜具有高透明性，且硬化膜物性优异，因此对于有机EL显示装置或液晶显示装置的用途有用。
[液晶显示装置]
本发明的液晶显示装置的特征在于具备本发明的硬化膜。
作为本发明的液晶显示装置，除具有使用上述本发明的感光性树脂组合物所形成的平坦化膜或层间绝缘膜以外，并无特别限制，可列举采用各种构造的公知的液晶显示装置。
例如，作为本发明的液晶显示装置所具备的TFT(Thin-Film Transistor)的具体例，可列举：非晶硅-TFT、低温多晶硅-TFT、氧化物半导体TFT等。本发明的硬化膜由于电特性优异，因此可与这些TFT组合后优选地使用。
另外，作为本发明的液晶显示装置可采用的液晶驱动方式，可列举：扭转向列(TwistedNematic，TN)方式、垂直取向(Vertical Alignment，VA)方式、面内切换(In-Plane Switching，IPS)方式、边缘场切换(FringeField Switching，FFS)方式、光学补偿弯曲(Optically CompensatedBend，OCB)方式等。
在面板构成中，即便是彩色滤光片阵列(Color Filter on Array，COA)方式的液晶显示装置，也可使用本发明的硬化膜，例如可用作日本专利特开2005-284291号公报的有机绝缘膜(115)、或日本专利特开2005-346054号公报的有机绝缘膜(212)。
另外，作为本发明的液晶显示装置可采用的液晶取向膜的具体的取向方式，可列举摩擦取向法、光取向方等。另外，也可通过日本专利特开2003-149647号公报或日本专利特开2011-257734号公报中所记载的聚合物稳定取向(Polymer Sustained Alignment，PSA)技术而得到聚合物取向支持。
另外，本发明的感光性树脂组合物及本发明的硬化膜并不限定于上述用途，可用于各种用途。例如，除平坦化膜或层间绝缘膜以外，还可适宜地用于彩色滤光片的保护膜、或用以将液晶显示装置中的液晶层的厚度保持为固定的间隔片、或固体摄影元件中设置于彩色滤光片上的微透镜等。
图1是表示有源矩阵方式的液晶显示装置10的一例的概念剖面图。该彩色液晶显示装置10为背面具有背光单元12的液晶面板，液晶面板配置有与配置在贴附有偏光膜的2片玻璃基板14、玻璃基板15之间的所有像素相对应的TFT16的元件。在形成于玻璃基板上的各元件中，通过形成于硬化膜17中的接触孔18而配线有形成像素电极的ITO透明电极19。在ITO透明电极19上设置有液晶20的层、及配置有黑色矩阵的RGB彩色滤光片22。
作为背光源的光源，并无特别限定，可使用公知的光源。例如可列举：白色LED、蓝色·红色·绿色等的多色LED、荧光灯(冷阴极管)、有机EL等。
另外，液晶显示装置也可制成3D(立体视)型的装置、或触摸屏型的装置。进而，也可设定成可挠型，并可用作日本专利特开2011-145686号公报的第2相间绝缘膜(48)、或日本专利特开2009-258758号公报的相间绝缘膜(520)。
[有机EL显示装置]
本发明的有机EL显示装置的特征在于具备本发明的硬化膜。
作为本发明的有机EL显示装置，除具有使用上述本发明的感光性树脂组合物所形成的平坦化膜或层间绝缘膜以外，并无特别限制，可列举采用各种构造的公知的各种有机EL显示装置或液晶显示装置。
例如，作为本发明的有机EL显示装置所具备的TFT(Thin-Film Transistor)的具体例，可列举：非晶硅-TFT、低温多晶硅-TFT、氧化物半导体TFT等。本发明的硬化膜由于电特性优异，因此可与这些TFT组合后优选地使用。
图2是有机EL显示装置的一例的构成概念图。表示底部发光型的有机EL显示装置中的基板的示意剖面图，且具有平坦化膜4。
在玻璃基板6上形成底栅极型的TFT1，并在覆盖该TFT1的状态下形成包含Si3N4的绝缘膜3。在绝缘膜3上形成此处省略了图示的接触孔后，经由该接触孔而在绝缘膜3上形成连接于TFT1的配线2(高度为1.0μm)。配线2是用以将TFT1间、或将其后的步骤中形成的有机EL元件与TFT1加以连接的线。
进而，为了使由配线2的形成所产生的凹凸平坦化，在埋入由配线2所产生的凹凸的状态下，在绝缘膜3上形成平坦化层4。
在平坦化膜4上形成底部发光型的有机EL元件。即，使包含ITO的第一电极5经由接触孔7连接于配线2而形成在平坦化膜4上。另外，第一电极5相当于有机EL元件的阳极。
形成覆盖第一电极5的周缘的形状的绝缘膜8，通过设置该绝缘膜8，可防止第一电极5与其后的步骤中所形成的第二电极之间的短路。
进而，虽然图2中未图示，但隔着所期望的图案掩模而依次进行蒸镀来设置空穴传输层、有机发光层、电子传输层，继而，在基板上方的整个面上形成包含A1的第二电极，然后通过使用紫外线硬化型环氧树脂与密封用玻璃板进行贴合来密封，而获得在各有机EL元件上连接用以对其进行驱动的TFT1而成的有源矩阵型的有机EL显示装置。
本发明的感光性树脂组合物由于硬化性及硬化膜特性优异，因此将使用本发明的感光性树脂组合物所形成的抗蚀剂图案制成隔离壁来作为微机电系统(Micro Electro MechanicalSystem，MEMS)用元件的构造构件、或作为机械驱动零件的一部分加以组装后使用。作为此种MEMS用元件，例如可列举：表面声波滤波器(Surface Acoustic Wave Filter，SAW滤波器)、体声波滤波器(Bulk Acoustic Wave Filter，BAW滤波器)、陀螺仪传感器(gyro sensor)、显示器用微快门、图像传感器、电子纸、喷墨头、生物芯片、密封剂等零件。更具体的例子在日本专利特表2007-522531号公报、日本专利特开2008-250200号公报、日本专利特开2009-263544号公报等中有例示。
本发明的感光性树脂组合物由于平坦性或透明性优异，因此也可用于形成例如日本专利特开2011-107476号公报的图2中所记载的堆积层(bank layer)(16)及平坦化膜(57)、日本专利特开2010-9793号公报的图4(a)中所记载的隔离壁(12)及平坦化膜(102)、日本专利特开2010-27591号公报的图10中所记载的堆积层(221)及第3层间绝缘膜(216b)、日本专利特开2009-128577号公报的图4(a)中所记载的第2层间绝缘膜(125)及第3层间绝缘膜(126)、日本专利特开2010-182638号公报的图3中所记载的平坦化膜(12)及像素分离绝缘膜(14)等。
实施例
以下，列举实施例来更具体地说明本发明。只要不脱离本发明的主旨，则以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理程序等可适宜变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。再者，只要事先无特别说明，则“份”、“％”为质量基准。
在以下的合成例中，以下的符号分别表示以下的化合物。
V-65：2，2′-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)(和光纯药工业制造)
V-601：二甲基2，2′-偶氮双(丙酸2-甲酯)(和光纯药工业制造)
MAEVE：甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯
MATHF：甲基丙烯酸四氢-2H-呋喃-2-基酯
MATHP：甲基丙烯酸四氢-2H-吡喃-2-基酯
CHOEMA：甲基丙烯酸环己氧基乙酯
P-Ph-1：4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯的1-乙氧基乙醚
StOEVE：4-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯
GMA：甲基丙烯酸缩水甘油酯
OXE-30：甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯(大阪有机化学工业(股份)制造)
IBMAA：异丁氧基甲基丙烯酰胺(东京化成制造)
MMAA：甲氧基甲基丙烯酰胺(三菱人造丝子公司(MRC UNITEC)公司制造)
M100：甲基丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯(大赛璐化学工业(股份)制造)
MMA：甲基丙烯酸甲酯
MAA：甲基丙烯酸
Ph-1：4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯
HEMA：甲基丙烯酸2-羟基乙酯
DCPMA：甲基丙烯酸二环戊酯
St：苯乙烯
THFFMA：甲基丙烯酸四氢糠酯
PHS：对羟基苯乙烯
EDM：二乙二醇乙基甲基醚(东邦化学工业制造，哈伊索(Hisolve)EDM)
PGMEA：丙二醇单甲醚乙酸酯
<聚合物A-1的合成>
向乙基乙烯基醚144.2份(2摩尔当量)中添加吩噻嗪0.5份，在反应系统中一面冷却至10℃以下一面滴加甲基丙烯酸86.1份(1摩尔当量)后，在室温(25℃)下搅拌4小时。添加对甲苯磺酸吡啶鎓5.0份后，在室温下搅拌2小时，然后在室温下放置一夜。向反应液中添加碳酸氢钠5份及硫酸钠5份，在室温下搅拌1小时，将不溶物过滤后在40℃以下进行减压浓缩，对残渣的黄色油状物进行减压蒸馏，而获得作为无色油状物的沸点(bp.)43℃～45℃/7mmHg馏分的甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯(MAEVE)134.0份。
在氮气气流下，将所获得的甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯(63.28份(0.4摩尔当量))、GMA(42.65份(0.3摩尔当量))、MAA(8.61份(0.1摩尔当量))、HEMA(26.03份(0.2摩尔当量))及EDM(110.8份)的混合溶液加热至70℃。一面搅拌该混合溶液，一面历时2.5小时滴加自由基聚合引发剂V-65(商品名，和光纯药工业(股份)制造，4份)及EDM(100.0份)的混合溶液。滴加结束后，在70℃下进行4小时反应，由此获得聚合物A-1的EDM溶液(固体成分浓度：40％)。
所获得的聚合物A-1的通过凝胶渗透色谱法(Gel Permeation Chromatography，GPC)所测定的重量平均分子量为15,000。
<CHOEMA的合成>
以与上述聚合物A-1的合成中的MAEVE的合成法相同的方法进行CHOEMA的合成。
<MATHF的合成>
先将甲基丙烯酸(86g，1mol)冷却至15℃，然后添加樟脑磺酸(4.6g，0.02mol)。向该溶液中滴加2-二氢呋喃(71g，1mol，1.0当量)。搅拌1小时后，添加饱和碳酸氢钠(500mL)，并利用乙酸乙酯(500mL)进行提取，利用硫酸镁进行干燥后，将不溶物过滤，然后在40℃以下进行减压浓缩，对残渣的黄色油状物进行减压蒸馏，而获得作为无色油状物的沸点(bp.)54℃～56℃/3.5mmHg馏分的甲基丙烯酸四氢-2H-呋喃-2-基酯(MATHF)125g(产率为80％)。
<Ph-1的合成>
在搅拌下，向4-羟基苯甲酸(3-羟丙基)酯23g的乙腈100ml溶液中添加N-甲基吡咯烷酮20ml，进而添加甲基丙烯酰氯16g。一面在35℃下搅拌8小时一面进行反应后，将反应混合物倒出至冰水中，对所析出的结晶进行滤取，并自乙酸乙酯/正己烷进行再结晶，而获得4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯(Ph-1)。
<P-Ph-1的合成>
P-Ph-1是通过利用1-乙氧基乙醚保护Ph-1而获得。
<其他聚合物的合成>
除将所使用的各单体及其使用量变更成下述表中所记载的以外，以与聚合物A-1的合成相同的方式合成其他共聚物。
[表1]
<B-1的合成>
将邻氨基硫酚(和光纯药制造)5.0g与三甲基乙酰基乙腈(东京化成制造)5.0g混合，然后在120℃下搅拌2小时。放置冷却后，利用硅胶管柱色谱法对粗产物进行精制，而获得5.7g的中间物B-1A。
将THF(3mL)与B-1A(5.6g)混合，在冰浴冷却下滴加2M盐酸/THF溶液24mL，继而滴加亚硝酸异戊酯(和光纯药制造)(3.4g)，升温至室温为止后搅拌2小时。向所获得的反应混合物中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用水对有机层进行清洗后，利用硫酸镁进行干燥，然后进行过滤、浓缩而获得中间物粗B-1B。
将中间物粗B-1B与丙酮(20mL)混合，在冰浴冷却下添加三乙胺(和光纯药制造)(4.9g)、对甲苯磺酰氯(东京化成制造)(5.9g)后，升温至室温为止，然后搅拌1小时。向所获得的反应混合液中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用硫酸镁对有机相进行干燥后，进行过滤、浓缩而获得粗B-1。利用甲醇将粗B-1再浆料化(reslurry)后，进行过滤、干燥而获得B-1(6.0g)。
再者，B-1的1H-NMR光谱(300MHz，CDCl3)为δ＝8.1-8.0(m，1H)，7.9(d，2H)，7.9-7.8(m，1H)，7.6-7.5(m，2H)，7.4(d，2H)，2.4(s，3H)，1.4(s，9H)。
<B-2的合成>
除将B-1的合成中的三甲基乙酰基乙腈变更成苯甲酰基乙腈(东京化成制造)以外，以与B-1相同的方式合成B-2。
再者，B-2的1H-NMR光谱(300MHz，CDCl3)为δ＝8.0(m，1H)，7.9-7.8(m，5H)，7.7-7.6(m，1H)，7.5-7.4(m，4H)，7.4(d，2H)，2.4(s，3H)。
<B-3～B-5、B-13～B-15的合成>
仿照B-1的合成，根据常规方法来合成。
<B-6的合成>
将2-氨基苯酚(东京化成制造)3.0g与4，4-二甲基-3-氧代戊酸甲酯(和光纯药制造)8.7g混合，添加对甲苯磺酸一水合物(和光纯药制造)0.5g后在氮气环境下以120℃加热2小时。放置冷却后，利用硅胶管柱色谱法对粗产物进行精制，而获得4.4g的中间物B-6A。
将B-6A(2.0g)与对二甲苯(10mL)混合，添加对甲苯磺酸一水合物(和光纯药制造)0.3g后在140℃下加热6小时。放置冷却后，向反应混合液中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用硫酸镁对有机相进行干燥后，进行过滤、浓缩而获得粗B-6B。
将THF(1.5mL)与所有粗B-6B混合，在冰浴冷却下滴加2M盐酸/THF溶液8.5mL，继而滴加亚硝酸异戊酯(和光纯药制造)(1.2g)，升温至室温为止后搅拌2小时。向所获得的反应混合物中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用水对有机层进行清洗后，利用硫酸镁进行干燥，然后进行过滤、浓缩而获得中间物粗B-6C。
将中间物粗B-6C(1.0g)与丙酮(10mL)混合，在冰浴冷却下添加三乙胺(和光纯药制造)(0.74g)、对甲苯磺酰氯(东京化成制造)(1.0g)后，升温至室温为止，然后搅拌1小时。向所获得的反应混合液中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用硫酸镁对有机相进行干燥后，进行过滤、浓缩而获得粗B-6。利用甲醇将粗B-6再浆料化后，进行过滤、干燥而获得B-6(1.0g)。
再者，B-6的1H-NMR光谱(300MHz，CDCl3)为δ＝8.0-7.9(m，2H)，7.8-7.7(m，1H)，7.7-7.6(m，1H)，7.5-7.4(m，1H)，7.4-7.3(m，3H)，2.4(s，3H)，1.3(s，9H)。
<B-7的合成>
除将B-1的合成中的邻氨基硫酚变更成2-氨基-4-氯苯硫醇(东京化成制造)以外，以与B-1相同的方式合成B-7。
<B-8的合成>
除将B-6的合成中的2-氨基苯酚变更成2-氨基-1-萘酚盐酸盐(东京化成制造)以外，以与B-6相同的方式合成B-8。
<B-9的合成>
使1-氨基-2-萘酚盐酸盐(东京化成制造)4.0g悬浮于N-甲基吡咯烷酮(和光纯药精)16g中，添加碳酸氢钠(和光纯药制造)3.4g后，滴加4，4-二甲基-3-氧代戊酸甲酯(和光纯药制造)4.9g，然后在氮气环境下以120℃加热2小时。放置冷却后，向反应混合液中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用硫酸镁对有机相进行干燥后，进行过滤、浓缩而获得粗B-9A。利用硅胶管柱色谱法对粗B-9A进行精制，而获得1.7g的中间物B-9A。
将B-9A(1.7g)与对二甲苯(6mL)混合，添加对甲苯磺酸一水合物(和光纯药制造)0.23g后在140℃下加热2小时。放置冷却后，向反应混合液中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用硫酸镁对有机相进行干燥后，进行过滤、浓缩而获得粗B-9B。
将THF(2mL)与所有粗B-9B混合，在冰浴冷却下滴加2M盐酸/THF溶液6.0mL，继而滴加亚硝酸异戊酯(和光纯药制造)(0.84g)，升温至室温为止后搅拌2小时。向所获得的反应混合物中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用水对有机层进行清洗后，利用硫酸镁进行干燥，然后进行过滤、浓缩而获得中间物粗B-9C。
将所有中间物粗B-9C与丙酮(10mL)混合，在冰浴冷却下添加三乙胺(和光纯药制造)(1.2g)、对甲苯磺酰氯(东京化成制造)(1.4g)后，升温至室温为止，然后搅拌1小时。向所获得的反应混合液中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用硫酸镁对有机相进行干燥后，进行过滤、浓缩而获得粗B-9。利用冷甲醇将粗B-9再浆料化后，进行过滤、干燥而获得B-9(1.2g)。
再者，B-9的1H-NMR光谱(300MHz，CDCl3)为δ＝8.5-8.4(m，1H)，8.0-7.9(m，4H)，7.7-7.6(m，2H)，7.6-7.5(m，1H)，7.4(d，2H)，2.4(s，3H)，1.4(s，9H)。
<B-10～B-12的合成>
仿照B-6的合成，根据常规方法来合成。
<B-16的合成>
除将B-1的合成中的对甲苯磺酰氯变更成2-噻吩磺酰氯(东京化成制造)以外，以与B-1相同的方式合成B-16。
<B-17、B-20、B-21的合成>
仿照B-6的合成，根据常规方法来合成。
<B-18、B-22、B-25的合成>
仿照B-1的合成，根据常规方法来合成。
<B-23的合成>
使1-(1-萘基)-2-硫脲(和光纯药制造)5.0g悬浮于乙酸100mL中，分步添加苄基三甲基三溴化铵(东京化成制造)9.6g后，在室温下搅拌8小时。在冰浴中，将反应混合液滴加至饱和碳酸氢钠水溶液(1.6L)中，利用乙酸乙酯(300mL)进行分液，利用硫酸镁对有机相进行干燥后，进行过滤、浓缩而获得粗B-23A(4.9g)。
将所获得的粗B-23A(4.9g)添加至乙二醇(50mL)中，添加氢氧化钠(12.2g)的50％水溶液后，在氮气环境下进行48小时加热回流。放置冷却后，一面进行冰浴冷却一面将反应混合液添加至乙酸(40mL)与水(120mL)的混合液中，并利用二乙醚(150mL)进行分液。利用硫酸镁对有机相进行干燥后，进行过滤、浓缩而获得粗B-23B。
将所获得的所有粗B-23B与三甲基乙酰基乙腈(东京化成制造)混合，在140℃下搅拌6小时。放置冷却后，利用硅胶管柱色谱法对粗产物进行精制，而获得2.1g的中间物B-23C。
将THF(3mL)与B-23C(2.0g)混合，在冰浴冷却下滴加2M盐酸/THF溶液7.1mL，继而滴加亚硝酸异戊酯(和光纯药制造)(1.0g)，升温至室温为止后搅拌2小时。向所获得的反应混合物中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用水对有机层进行清洗后，利用硫酸镁进行干燥，然后进行过滤、浓缩而获得中间物粗B-23D。
将中间物粗B-23D与丙酮(10mL)混合，在冰浴冷却下添加三乙胺(和光纯药制造)(1.1g)、对甲苯磺酰氯(东京化成制造)(1.35g)后，升温至室温为止，然后搅拌1小时。向所获得的反应混合液中添加水、乙酸乙酯来进行分液，利用硫酸镁对有机相进行干燥后，进行过滤、浓缩而获得粗B-23。利用冷甲醇将粗B-23再浆料化后，进行过滤、干燥而获得B-23(1.7g)。
再者，B-23的1H-NMR光谱(300MHz，CDCl3)为δ＝8.7-8.6(m，1H)，8.0-7.9(m，3H)，7.9-7.8(m，2H)，7.7-7.65(m，1H)，7.65-7.6(m，1H)，7.4(d，2H)，2.4(s，3H)，1.4(s，9H)。
<B-19的合成>
仿照B-23的合成，根据常规方法来合成。
<B-24的合成>
除将B-6的合成中的2-氨基苯酚变更成3-氨基-2-萘酚(东京化成制造)以外，以与B-6相同的方式合成B-24。
<B-26的合成>
除将B-6的合成中的2-氨基苯酚变更成6-氨基-2，4-二氯-3-甲基苯酚(和光纯药制造)以外，以与B-6相同的方式合成B-26。
<B-27的合成>
除将B-6的合成中的2-氨基苯酚变更成2-氨基-4-苯基苯酚(东京化成制造)以外，以与B-6相同的方式合成B-27。
<B-28的合成>
除将B-9的合成中的4，4-二甲基-3-氧代戊酸甲酯变更成4-甲基-3-氧代戊酸甲酯(东京化成制造)以外，以与B-9相同的方式合成B-28。
<B-29的合成>
除将B-6的合成中的4，4-二甲基-3-氧代戊酸甲酯变更成苯甲酰基乙酸乙酯(东京化成制造)以外，以与B-9相同的方式合成B-29。
[实施例1]
以成为下述组成B的方式将各成分溶解混合，利用口径为0.2μm的聚四氟乙烯制过滤器进行过滤，而获得实施例47的感光性树脂组合物。再者，感光性树脂组合物的溶液是以除溶剂(C)以外的成分的浓度(称为固体成分浓度)变成20质量％的方式，使用表3或表4中所示的溶剂(C)来调整。
<组成B>
[实施例2～实施例46及比较例1～比较例3]
除将实施例1中所使用的各化合物变更成下述表中所记载的化合物以外，以与实施例1相同的添加量进行溶解混合，而制成实施例2～实施例46及比较例1～比较例3的感光性树脂组合物。再者，表中有比率的记载的表示与实施例1相同的添加量时，以表中的比率来添加。
[实施例47]
以成为下述组成B的方式将各成分溶解混合，利用口径为0.2μm的聚四氟乙烯制过滤器进行过滤，而获得实施例47的感光性树脂组合物。再者，感光性树脂组合物的溶液是以除溶剂(C)以外的成分的浓度(称为固体成分浓度)变成20质量％的方式，使用表3或表4中所示的溶剂(C)来调整。
<组成B>
[实施例47～实施例96及比较例4～比较例6]
除将实施例47中所使用的各化合物变更成下述表中所记载的化合物以外，以与实施例47相同的添加量进行溶解混合，而制成实施例47～实施例94及比较例4～比较例6的感光性树脂组合物。再者，表中有比率的记载的表示与实施例47相同的添加量时，以表中的比率来添加。另外，关于碱性化合物、表面活性剂及抗氧化剂，有调配量的记载的表示自实施例47的添加量变更调配量来添加。
表示下述实施例及比较例中所使用的各化合物的略号的详细情况如下所述。
A-21：阿鲁丰(ARUFON)UC-3920(东亚合成(股份)制造)
A-22：庄臣(Joncryl)67(巴斯夫制造)
B′-28：日本专利特开2012-42836号公报记载的b-8化合物
B′-29：日本专利特开2012-42836号公报记载的b-12化合物
B′-30：日本专利特开2012-42836号公报记载的b-1化合物
C-1：PGMEA(丙二醇单甲醚乙酸酯)
C-2：EDM(二乙二醇乙基甲基醚(东邦化学工业制造，哈伊索(Hisolve)EDM))
C-3：1，3-丁二醇二乙酸酯(大赛璐(股份)制造)
D-1：KBM-403(商品名，3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷，下述所示的结构，信越化学工业(股份)制造)
D-2：KBE-846(信越化学工业(股份)制造)
D-3：KBM-3103(信越化学工业(股份)制造)
E-1：JER157S65(商品名，苯酚酚醛清漆型环氧树脂，三菱化学控股(股份)制造)
E-2：代那科(Denacol)DLC-402(长濑化成(股份)制造)
E-3：代那科(Denacol)EX-321L(长濑化成(股份)制造)
E-4：赛罗西德(Celloxide)2021P(大赛璐(股份))
E-5：塔克耐德(Takenate)B-870N(三井化学(股份)制造)
E-6：德士模都(Desmodur)BL4265SN(住化拜尔聚氨脂(股份)制造)
E-7：德士模都(Desmodur)VPLS2078/2(住化拜尔聚氨脂(股份)制造)
E-8：多耐德(Duranate)17B-60P(旭化成化学(股份)制造)
E-9：JER828(三菱化学控股(股份)制造)
E-10：JER1007(三菱化学控股(股份)制造)
F-1：DBA(商品名，9，10-二丁氧基蒽，川崎化成工业制造)
F-2：NBCA(商品名，10-丁基吖啶酮，黑金化成制造)
G-1：1，5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯
G-2：三苯基咪唑
G-3：由下述结构式所表示的碱性化合物
H-1：由下述结构式所表示的含全氟烷基的非离子性表面活性剂
H-2：硅酮系表面活性剂SH-8400(东丽·道康宁硅酮)
I-1：易加乐斯(IRGANOX)1035(巴斯夫制造)
I-2：易加乐斯(IRGANOX)1098(巴斯夫制造)
I-3：AO-60(艾迪科(股份)制造)
[化25]
[化26]
[化27]
[化28]
[化29]
<感光度的评价>
将各感光性树脂组合物狭缝涂布于玻璃基板(康宁(Corning)1737，0.7mm厚(康宁(Corning)公司制造))上后，在加热板上以90℃/120秒进行预烘烤而使溶剂挥发，从而形成膜厚为3.0μm的感光性树脂组合物层。
继而，利用佳能(Canon)(股份)制造的MPA 5500CF(高压水银灯)，隔着规定的掩模对所获得的感光性树脂组合物层进行曝光。然后，利用碱性显影液(0.4wt％(重量百分比)的氢氧化四甲基铵水溶液)，以23℃/60秒对曝光后的感光性组合物层进行显影后，利用超纯水淋洗20秒。
将通过这些操作而以1：1对10μm的线与空间(Line and Space)进行解析时的最佳i射线曝光量(Eopt)设为感光度。
1：未满20mJ/cm2
2：20mJ/cm2以上、未满60mJ/cm2
3：60mJ/cm2以上、未满100mJ/cm2
4：100mJ/cm2以上
<液体保存稳定性的评价>
利用E型粘度计(东机产业(股份)制造)测定刚制备后的感光性树脂组合物的粘度(初始粘度)、及在30℃下保管2周后的感光性树脂组合物的粘度(经时粘度)。
作为相对评价，评价基准是将经时粘度相对于初始粘度(100％)变化15％以上的情况设为“4”，将经时粘度相对于初始粘度(100％)变化10％以上、未满15％的情况设为“3”，将粘度的变化为5％以上、未满10％的情况设为“2”，将粘度的变化未满5％的情况设为“1”。
<耐热透明性的评价>
将各感光性树脂组合物狭缝涂布于玻璃基板(康宁(Corning)1737，0.7mm厚(康宁公司制造))上后，在加热板上以90℃/120秒进行加热，由此去除溶剂，从而形成膜厚为3.0μm的感光性树脂组合物层。
利用佳能(股份)制造的PLA-501F曝光机(超高压水银灯)，以累计照射量变成300mJ/cm2(照度：20mW/cm2，i射线)的方式对所获得的感光性树脂组合物层进行曝光，其后，在烘箱中以230℃对该基板进行1小时加热而获得硬化膜。
使用分光光度计“150-20型双光束(日立制作所(股份)制造)”，在400nm～800nm的范围的波长下测定具有该硬化膜的玻璃基板的光线透过率。
再者，评价基准如下所述。
1：96％以上
2：94％以上、未满96％
3：92％以上、未满94％
4：未满92％
根据上述表可知，使用由通式(I)所表示的化合物作为光酸产生剂的感光性树脂组合物的感光度、保存稳定性、及耐热透明性的任一个均优异。另一方面，未使用由通式(I)所表示的化合物作为光酸产生剂的比较例的感光度、保存稳定性、及耐热透明性的任一个比实施例差。
另外，可知当相当于由通式(I)所表示的化合物的R1的部分为具有分支结构的烷基、具有环状结构的烷基或苯基时，感光度、保存稳定性及耐热透明性进一步综合性地提升。
<实施例97>
实施例97是在实施例1中，将曝光机自佳能(股份)制造的MPA 5500CF(高压水银灯)变更成尼康(Nikon)(股份)制造的FX-803M(gh-Line步进机)，除此以外，同样地进行。感光度的评价为与实施例1相同的水平。
<实施例98>
实施例98是在实施例1中，将曝光机自佳能(股份)制造的MPA 5500CF(高压水银灯)变更成355nm激光曝光机，并进行355nm激光曝光，除此以外，同样地进行。此处，作为355nm激光曝光机，使用V科技(V-Technology)股份有限公司制造的“AEGIS”(波长为355nm，脉冲宽度为6nsec)，曝光量是使用奥菲尔(OPHIR)公司制造的“PE10B-V2”来测定。
感光度的评价为与实施例1相同的水平。
<实施例99>
在日本专利第3321003号公报的图1中所记载的有源矩阵型液晶显示装置中，以如下方式形成硬化膜17作为层间绝缘膜，而获得实施例99的液晶显示装置。即，使用实施例85的感光性树脂组合物，形成硬化膜17作为层间绝缘膜。
对所获得的液晶显示装置施加驱动电压的结果，可知其为显示良好的显示特性、且可靠性高的液晶显示装置。
<实施例100>
仅变更以下的涂布工艺，而获得与实施例99相同的液晶显示装置。即，通过狭缝涂布法来涂布实施例85的感光性树脂组合物后，在加热板上以90℃/120秒进行加热，由此去除溶剂，而形成膜厚为3.0μm的感光性树脂组合物层。所获得的涂膜为平坦且无不均的良好的面状。另外，作为液晶显示装置的性能也与实施例99同样良好。
<实施例101>
实施例101是在实施例1中，将曝光机自佳能(股份)制造的MPA 5500CF(高压水银灯)变更成紫外线(Ultraviolet，UV)-LED光源曝光机，除此以外，同样地进行。感光度的评价为与实施例1相同的水平。
如上所述，可知实施例的感光性树脂组合物不论基板、曝光机如何，所形成的图案的形状均优异。
<实施例102>
仅变更以下的涂布工艺，而获得与实施例99相同的液晶显示装置。即，通过狭缝及旋转法来涂布实施例85的感光性树脂组合物后，在加热板上以90℃/120秒进行加热，由此去除溶剂，而形成膜厚为3.0μm的感光性树脂组合物层。所获得的涂膜为平坦且无不均的良好的面状。另外，作为液晶显示装置的性能也与实施例99同样良好。
<实施例103>
通过以下的方法来制作使用薄膜晶体管(TFT)的有机EL显示装置(参照图2)。
在玻璃基板6上形成底栅极型的TFT1，并在覆盖该TFT1的状态下形成包含Si3N4的绝缘膜3。继而，在该绝缘膜3上形成此处省略了图示的接触孔后，经由该接触孔而在绝缘膜3上形成连接于TFT1的配线2(高度为1.0μm)。该配线2是用以将TFT1间、或将其后的步骤中形成的有机EL元件与TFT1加以连接的线。
进而，为了使由配线2的形成所产生的凹凸平坦化，在埋入由配线2所产生的凹凸的状态下，朝绝缘膜3上形成平坦化膜4。朝绝缘膜3上的平坦化膜4的形成是将实施例85的感光性树脂组合物旋涂于基板上，在加热板上进行预烘烤(90℃/120秒)后，使用高压水银灯自掩模上照射45mJ/cm2(照度为20mW/cm2)的i射线(365nm)，然后利用碱性水溶液进行显影而形成图案，并在230℃下进行30分钟的加热处理。
涂布感光性树脂组合物时的涂布性良好，在曝光、显影、煅烧后所获得的硬化膜中，未看到皱褶或裂痕的产生。进而，配线2的平均阶差为500nm，所制作的平坦化膜4的膜厚为2,000nm。
继而，在所获得的平坦化膜4上形成底部发光型的有机EL元件。首先，使包含ITO的第一电极5经由接触孔7连接于配线2而形成在平坦化膜4上。其后，涂布抗蚀剂，并进行预烘烤，隔着所期望的图案的掩模进行曝光，然后进行显影。将该抗蚀剂图案作为掩模，通过使用ITO蚀刻剂的湿式蚀刻来进行图案加工。其后，在50℃下，使用抗蚀剂剥离液(去除剂100(Remover 100)，安智电子材料(AZ Electronic Materials)公司制造)将上述抗蚀剂图案剥离。以上述方式获得的第一电极5相当于有机EL元件的阳极。
继而，形成覆盖第一电极5的周缘的形状的绝缘膜8。将实施例85的感光性树脂组合物用于绝缘膜8，以与上述相同的方法形成绝缘膜8。通过设置该绝缘膜8，可防止第一电极5与其后的步骤中所形成的第二电极之间的短路。
进而，在真空蒸镀装置内，隔着所期望的图案掩模而依次进行蒸镀来设置空穴传输层、有机发光层、电子传输层。继而，在基板上方的整个面上形成包含A1的第二电极。自蒸镀机中取出所获得的上述基板，通过使用密封用玻璃板与紫外线硬化型环氧树脂进行贴合来密封。
如以上那样，获得在各有机EL元件上连接用以对其进行驱动的TFT1而成的有源矩阵型的有机EL显示装置。经由驱动电路而施加电压的结果，可知其为显现良好的显示特性、且可靠性高的有机EL显示装置。
[符号的说明]
1：TFT(薄膜晶体管)
2：配线
3：绝缘膜
4：平坦化膜
5：第一电极
6：玻璃基板
7：接触孔
8：绝缘膜
10：液晶显示装置
12：背光单元
14、15：玻璃基板
16：TFT
17：硬化膜
18：接触孔
19：ITO透明电极
20：液晶
22：彩色滤光片

Claims (15)

1.一种感光性树脂组合物，包括：(A)含有满足下述(1)及(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分，
(1)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物，
(2)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物、及具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物；
(B)由下述通式(I)所表示的化合物；以及
(C)溶剂；
[化1]
(通式(I)中，R1表示烷基或芳基，R2表示烷基、芳基、或杂芳基；R3～R6分别表示氢原子、烷基、芳基、卤素原子；其中，R3与R4、R4与R5或R5与R6可键结而形成脂环或芳香环；X表示-O-或-S-)。
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中R1为碳数3～10的烷基或碳数6～12的芳基。
3.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其中R1为具有分支结构的烷基、环状的烷基、或苯基。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光性树脂组合物，其中(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元为含有由酸分解性基保护的保护羧基的构成单元。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中(a2)含有交联性基的构成单元是选自含有环氧基和/或氧杂环丁基的构成单元、含有乙烯性不饱和基的构成单元、以及含有由-NH-CH2-O-R(R为碳数1～20的烷基)所表示的基的构成单元。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的感光性树脂组合物，其中由所述通式(I)所表示的化合物选自下述化合物：
[化2]
7.一种硬化膜的制造方法，其包括：
(1)将根据权利要求1至6中任一项所述的感光性树脂组合物涂布于基板上的步骤；
(2)自所涂布的感光性树脂组合物中去除溶剂的步骤；
(3)利用光化射线对去除了溶剂的感光性树脂组合物进行曝光的步骤；
(4)利用水性显影液对经曝光的感光性树脂组合物进行显影的步骤；以及
(5)对经显影的感光性树脂组合物进行热硬化的后烘烤步骤。
8.根据权利要求7所述的硬化膜的制造方法，其中在所述显影步骤后、所述后烘烤步骤前，包括对经显影的感光性树脂组合物进行全面曝光的步骤。
9.一种硬化膜，其由根据权利要求7或8所述的方法而形成。
10.根据权利要求9所述的硬化膜，其为层间绝缘膜。
11.一种有机电致发光显示装置或液晶显示装置，包括根据权利要求9或10所述的硬化膜。
12.一种化合物，其由下述通式(I)表示：
[化3]
(通式(I)中，R1表示烷基或芳基，R2表示烷基、芳基、或杂芳基；R3～R6分别表示氢原子、烷基、芳基、卤素原子；其中，R3与R4、R4与R5或R5与R6可键结而形成脂环或芳香环；X表示-O-或-S-)。
13.根据权利要求12所述的化合物，其中R1为碳数3～10的烷基或碳数6～12的芳基。
14.根据权利要求12或13所述的化合物，其中R1为具有分支结构的烷基、环状的烷基、或苯基。
15.根据权利要求12项所述的化合物，其中由下述通式(I)所表示的化合物为下述B-1～B-29的任一种化合物：
[化4]
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