CN104507783B

CN104507783B - 无肩公差环

Info

Publication number: CN104507783B
Application number: CN201380041117.8A
Authority: CN
Inventors: A·桑迪; L.皮克林
Original assignee: Saint Gobain Performance Plastics Rencol Ltd
Current assignee: Saint Gobain Performance Plastics Rencol Ltd
Priority date: 2012-08-23
Filing date: 2013-08-23
Publication date: 2017-01-18
Anticipated expiration: 2033-08-23
Also published as: EP2888150B1; EP2888150A2; MY172546A; KR20150039830A; CN104507783A; US8911154B2; US20140056549A1; WO2014029883A3; JP6154466B2; JP2015527544A; WO2014029883A2; KR101689632B1; PL2888150T3

Abstract

一种公差环可包括大致呈圆柱形的本体，该本体可包括限定顶部和底部的侧壁。该侧壁可包括上部未成形带圈和与该上部未成形带圈相对的下部未成形带圈。多个无肩波状结构可从位于该上部未成形带圈与该下部未成形带圈之间的该侧壁径向地伸出。每一个无肩波状结构可仅连接于该上部未成形带圈与该下部未成形带圈。该公差环的侧壁可还包括多个未成形区段和沿该本体的整个轴向长度延伸的间隙。每一个未成形区段均可定位在一对相邻的无肩波状结构之间。此外，该间隙可在该本体中形成裂口。

Description

无肩公差环

技术领域

本公开涉及公差环，尤其涉及用于诸如齿轮齿条式转向系统之类的转向系统的公差环。

背景技术

本公开涉及公差环组件，其中，公差环在组件的元件之间提供干涉配合，在该组件中，第一元件具有定位在第二元件的圆柱形孔中的圆柱形部分。特别地，本公开涉及具有公差环的组件，该公差环在诸如轴承之类的圆柱形部件与用于该轴承的壳体之间提供干涉配合。

改良的工程技术已导致对于机器元件的较高精度的需要，从而提高了制造成本。在将压配合、花键、销钉或键槽用于在诸如滑轮、飞轮、转子、或传动轴之类的应用中传递扭矩或者防止诸如定子、主框架、下部框架、及压缩机壳体之类的元件之间产生相对运动的情况下需要非常紧密的公差。

公差环可用于在需要传递扭矩的元件之间提供干涉配合。公差环提供了一种在可以不被机加工成精确尺寸的元件之间提供干涉配合的有效方法。公差环具有多个其它可能的优点，例如对元件之间的不同的线性膨胀系数进行补偿，从而允许实现快速的设备组装和耐用性。

公差环主要包括弹性材料条带，例如诸如弹簧钢之类的金属的条带，该条带的两端被聚集在一起以形成环。一条突起从该环径向向外延伸，或者朝向该环的中心径向向内延伸。通常，突起是形成物，可能地为规则的形成物，例如褶皱、脊或波状部。

当将该环定位在例如轴承与该轴承定位在其中的壳体中的孔之间的环形空间中时，突起被压缩。每一个突起均起到弹簧的作用并且向该轴承和该孔的表面上施加径向力，从而在该轴承与该壳体之间提供干涉配合。在该轴承保持被牢固地安装在该壳体内的同时，滑动轴可自由轴向移动穿过该轴承。

尽管公差环通常包括弹性材料条带，该弹性材料条带被弯曲以允许通过叠置该条带的两端而容易地形成环，但是公差环可还被制成为环形带圈。下文中所使用的术语“公差环”包括这两种类型的公差环。

因此，该工业仍需要公差环的改进，尤其是安装在转向组件内的公差环的改进。

附图说明

通过参照附图进行说明，本公开可得到更好地理解，并且其多个特征和优点对于本领域技术人员而言变得明显。

图1包括根据一种实施例的转向组件的局部视图。

图2包括根据一种实施例的公差环的透视图。

图3包括根据一种实施例的公差环的平面图。

图4包括根据一种实施例的公差环的端部的局部平面图。

图5包括用于根据一种实施例的公差环的波状结构的平面图。

图6包括表示用于根据一种实施例的公差环的比较测试数据的曲线图。

图7包括表示用于根据一种实施例的公差环的比较测试数据的另一曲线图。

相同的附图标记在不同视图中的使用表示相似或相同的对象。

具体实施方式

下列说明涉及公差环，并且尤其涉及可安装在转向组件内处于用于滑动轴的轴承与壳体之间的公差环。在一方面中，公差环可围绕轴承装配并且该轴承/公差环组件可被按压到壳体中。可随后将轴装配到该轴承中。该公差环可将该轴承在壳体内保持固定，并且该轴可相对于该壳体和位于该壳体内的轴承滑动。该公差环可还提供偏压力以便将固定于该轴上的转向齿条保持与固定于转向轴的小齿轮处于接合中。

最初参照图1，转向组件的一部分被示出并且总体以100表示。该转向组件100可包括齿条组件102和与该齿条组件102接合的小齿轮组件104，如在下文中更为详细地描述的那样。

该齿条组件102可包括大致呈圆柱形的壳体110。至少一个齿条轴轴承112可安装在该壳体110内。公差环114可围绕该齿条轴轴承112安装在齿条轴轴承112与壳体110之间，以便在齿条轴轴承112与壳体110之间提供干涉配合。该齿条轴轴承112可形成在偏置孔116内，并且齿条轴118可安装穿过该齿条轴轴承112的偏置孔116。该齿条轴118的一端可联接至齿条传动装置120，或者与其一体地形成，并且该齿条轴118的另一端可连接至拉杆组件、转向关节组件、轮组件、或另一转向部件(未示出)。

如所示，该小齿轮组件104可包括转向轴130。该转向轴130的一端可包括小齿轮传动装置132，并且该转向轴130的另一端可直接或间接地联接至方向盘(未示出)。该转向轴130可定位在从转向器箱(未示出)延伸的大致呈圆柱形的壳体(未示出)内。

在具体方面中，该小齿轮传动装置132可与该齿条传动装置120接合。随着驾驶员旋转方向盘(未示出)，该转向轴130和该小齿轮传动装置132可旋转。随着该小齿轮传动装置132旋转，该齿条传动装置120可相对于旋转中的小齿轮传动装置132线性地移动。该齿条传动装置120可使齿条轴118在壳体110内线性地移动。具体来说，该齿条轴118可在位于壳体110内的齿条轴承112内线性地滑动。该齿条轴承112在壳体110内连同该公差环114的径向移位可沿箭头140的方向提供偏压力。该偏压力可将该齿条传动装置120保持与小齿轮传动装置132相接合。

现在参照图2至图5，示例性的公差环被示出并且总体以200表示。图2至图5中所绘制的公差环200可用在上述转向组件100中。此外，可贯穿该转向组件100使用相似或不同的公差环。

如在图2至图5中所绘制的那样，该公差环200可包括大致呈圆柱形的本体202，该本体202具有大致呈圆柱形的侧壁204。该侧壁204可包括顶部206和底部208。此外，该侧壁204可包括第一端210和第二端212。此外，间隙214可形成在该侧壁204的第一端210与第二端212之间。该间隙214可延伸完全穿过该侧壁204，以便在侧壁204与公差环200中形成裂口(split)。如在图2中所示，该公差环200可包括中心216。

公差环200的侧壁204可包括处于该侧壁204的顶部206的附近或与其相邻的上部未成形带圈220。该侧壁204可还包括在与该上部未成形带圈220相对的该侧壁204的底部208的附近或与其相邻的下部未成形带圈222。未成形区段224可沿该侧壁204的长度在未成形带圈220、222之间轴向地延伸并从未成形带圈220、222延伸。

如在图2至图5中所示，该公差环200可包括形成在该侧壁204中的多个无肩波状结构230。波状结构230可从该侧壁204远离该公差环200的中心径向向外伸出或者朝向该中心径向向内伸出。

每一个无肩波状结构230均可仅连接至上部未成形带圈220和下部未成形带圈222，使得无肩波状结构230的侧部是开放的并且不包括将波状结构230连接至该侧壁204、例如连接至邻近于波状结构230的未成形区段224的肩部。如所示，每一个未成形区段224均定位在相邻的波状结构230之间，并且每一个波状结构230均定位在相邻的未成形区段224之间，使得波状结构230与未成形区段224围绕该侧壁204的圆周交替。

如所绘制的那样，该公差环200可包括一排或一条波状结构。在其它方面中，该公差环20可包括两排或两条波状结构；三排或三条波状结构；等。此外，在每一排中的波状结构的总数量N_WS可≥3，例如≥4、≥5、≥6、≥7、≥8、或≥9。此外，N_WS≤30、≤25、≤20、或≤15。N_WS可处于位于上述N_WS数值中的任一个之间且包括该任一个在内的范围内。

如在图4中所示，每一个波状结构230均可包括波状本体240、位于该波状本体240的第一侧上的第一波状切口242和位于该波状本体的与第一波状切口相对的第二侧上的第二波状切口244。每一个波状本体240均可包括在上部未成形带圈220与下部未成形带圈222之间延伸的大致呈弓形的结构。

在具体方面中，每一个切口242、244均可从上部未成形带圈220延伸至下部未成形带圈222。在另一方面中，每一个切口242、244均可至少部分延伸到上部未成形带圈220中并且至少部分延伸到下部未成形带圈220中。

具体来说，该上部未成形带圈220和该下部未成形带圈222可包括第一高度H_UB1和第二高度H_UB2，该第一高度H_UB1在与波状本体240的第一界面与侧壁204的最近端206、208之间测量而得，而该第二高度H_UB2在与切口240、242的第二界面与侧壁204的最近端206、208之间测量而得。H_UB2可≤H_UB1，例如≤99％H_UB1、≤98％H_UB1、≤97％H_UB1、≤96％H_UB1、或≤95％H_UB1。此外，H_UB2可≥75％H_UB1、H_UB2≥80％H_UB1、H_UB2≥85％H_UB1、或H_UB2≥90％H_UB1。此外，H_UB2可处于位于H_UB1数值的任一百分比之间并包括该任一百分比在内的范围内。

如在图5中最佳描绘的那样，每一个波状本体240可包括大致呈矩形的覆盖区域(footprint)250，该覆盖区域250表示波状本体240的在形成波状切口242、244之前的外部周界或形状。该覆盖区域250被未成形带圈220、222和邻近的未成形区段224所环绕。该覆盖区域250可具有覆盖区域高度H_WBF和覆盖区域宽度W_WBF。

每一个切口242、244均可包括高度H_CO。H_CO可≥H_WBF，例如≥101％H_WBF、≥102％H_WBF、≥103％H_WBF、≥104％H_WBF、或≥105％H_WBF。H_CO可还≤125％H_WBF，例如≤120％H_WBF、≤115％H_WBF、或≤110％H_WBF。此外，H_CO可处于位于H_WBF数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

切口242、244可包括总切口宽度W_OCO，该总切口宽度W_OCO在第一切口242的最外侧竖向边缘260与第二切口244的最外侧竖向边缘262之间测量而得。W_OCO可≥W_WBF，例如≥101％W_WBF、≥102％W_WBF、≥103％W_WBF、≥104％W_WBF、或≥105％W_WBF。此外，其中，W_OCO≤150％W_WBF，例如≤145％W_WBF、≤140％W_WBF、≤135％W_WBF、≤130％W_WBF、或≤125％W_WBF。此外，W_OCO可处于位于W_WBF数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

在具体方面中，如在图5中所示，每一个波状本体均包括基本宽度W_WBB和峰值宽度W_WBP，该基本宽度W_WBB在每一个波状本体240与上部未成形带圈220或下部未成形带圈222的界面处测量而得，该峰值宽度W_WBP在每一个波状本体240的波峰处测量而得。W_WBP可≤W_WBB，例如≤75％W_WBB、≤70％W_WBB、≤65％W_WBB、≤60％W_WBB、≤55％W_WBB、或≤50％W_WBB。在另一方面中，W_WBP可≥25％W_WBB，例如≥30％W_WBB、≥35％W_WBB、或≥40％W_WBB。此外，W_WBP可处于位于W_WBB数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

该波状本体240的覆盖区域250可包括面积A_FP，该面积A_FP等于H_WBFx W_WBF。该第一切口242和第二切口244合起来可包括总切口面积A_TCO，该总切口面积A_TCO等于在每一个波状结构230处从未成形区段224和波状本体240移除的材料的表面积。A_TCO可≤A_FP，例如≤80％A_FP、≤75％A_FP、≤70％A_FP、≤65％A_FP、或≤60％A_FP。在另一方面中，A_TCO可≥25％A_FP、≥30％A_FP、≥35％A_FP、≥40％A_FP、≥45％A_FP、或≥50％A_FP。此外，A_TCO可处于位于A_FP数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

在另一方面中，A_TCO包括与该波状本体覆盖区域重叠的区域A_OFP以及与一个或多个未成形区段、上部未成形带圈、下部未成形带圈、或其组合重叠的区域A_OU。A_OU可≤A_OFP，例如≤45％A_OFP、≤40％A_OFP、≤35％A_OFP、≤30％A_OFP、或≤25％A_OFP。此外，A_OU可≥1％A_OFP，例如≥2％A_OFP、≥3％A_OFP、≥4％A_OFP、或≥5％A_OFP。A_OU可处于位于A_OFP数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

在再一方面中，A_OU可≤A_TCO，例如≤30％A_TCO、≤25％A_TCO、≤20％A_TCO、或≤15％A_TCO。此外，A_OU可≥1％A_TCO，例如≥2％A_TCO、≥3％A_TCO、≥4％A_TCO、或≥5％A_TCO。A_OU可处于位于A_TCO数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

在另一方面中，A_OFP可≥70％A_TCO，例如≥75％A_TCO、≥80％A_TCO、或≥85％A_TCO。此外，A_OFP≤A_TCO，例如≤99％A_TCO、≤98％A_TCO、≤97％A_TCO、≤96％A_TCO、或≤95％A_TCO。A_OFP可处于位于A_TCO数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

图5表明每一个切口242、244均可包括内部弓形边缘270、272，该内部弓形边缘270、272邻近于波状本体240并形成该波状本体240的第一侧向边缘和第二侧向边缘。每一个弓形边缘270、272均可包括弧长L_AE，且L_AE可≥H_WBF，例如≥101％H_WBF、≥102％H_WBF、≥103％H_WBF、≥104％H_WBF、或≥105％H_WBF。在另一方面中，L_AE可≤200％H_WBF，例如≤175％H_WBF、≤150％H_WBF、≤145％H_WBF、≤140％H_WBF、≤135％H_WBF、≤130％H_WBF、或≤125％H_WBF。L_AE可同样处于位于H_WBF数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

在另一方面中，每一个未成形区段224均可包括高度H_US，该高度H_US与H_WBF大致相等。波状结构240的每一个侧向边缘均可包括高度H_E，该高度H_E与H_CO大致相等。在该方面中，H_E可≥60％H_US，例如≥65％H_US、≥70％H_US、≥75％H_US、≥80％H_US、≥85％H_US、≥90％H_US、≥95％H_US、≥96％H_US、≥97％H_US、≥98％H_US、≥99％H_US、或≥100％H_US。此外，H_E可≤125％H_US，例如≤120％H_US、≤115％H_US、≤110％H_US、≤105％H_US、≤104％H_US、≤103％H_US、≤102％H_US、或≤101％H_US。H_E可同样处于位于H_US数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

在具体方面中，每一个波状结构230或其波状本体240均可包括刚度S_SWS。S_SWS可≤由与波状结构230相同的材料形成的且包括肩部的具有相同尺寸且以相同的方式成形的波状结构的刚度S_WS。S_SWS可≤25％S_WS，例如≤20％S_WS、≤15％S_WS、或≤10％S_WS。此外，S_SWS可≥1％S_WS、≥2％S_WS、≥3％S_WS、≥4％S_WS、或≥5％S_WS。S_SWS可同样处于位于S_WS数值的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。因此，波状结构的可作为移除该波状结构的肩部的全部或一部分的结果而导致的刚度的减少量R_S可≥75％，例如≥80％、≥85％、或≥90％。R_S可还≤99％，例如≤98％、≤97％、≤96％、或≤95％。

在具体方面中，多个波状结构230中的每一个均可包括深度D_WS，该深度D_WS从该侧壁204的外表面至每一个波状结构230的波峰(即，波状本体240的波峰)测量而得。此外，该公差环200可包括基于波状结构230的波峰的外径O_D。D_WS可≤5％O_D，例如≤4％O_D、≤3％O_D、≤2％O_D、或≤1％V。D_WS可≥0.1％O_D，例如≥0.2％O_D、≥0.3％O_D、≥0.4％O_D、或≥0.5％O_D。此外，D_WS可处于位于O_D数值中的任一百分比之间且包括该任一百分比在内的范围内。

该公差环200可用在包括外部部件和内部部件的组件中，该外部部件具有形成在该外部部件内的孔，该内部部件放置在该孔内。该外部部件可以是形成有孔的壳体并且该内部部件可以是齿条轴轴承。此外，该公差环200可安装在该内部部件与该外部部件之间。

如在上文中更为详细地所述，该公差环200可包括大致呈圆柱形的本体，该本体具有限定顶部和底部的侧壁。该侧壁可包括上部未成形带圈和与该上部未成形带圈相对的下部未成形带圈。多个无肩波状结构可从位于该上部未成形带圈与该下部未成形带圈之间的侧壁径向地伸出。此外，该侧壁可包括多个未成形区段，并且每一个未成形区段均可定位在一对相邻的无肩波状结构之间。该侧壁可还包括沿该公差环的长度轴向地延伸的间隙。

每一个无肩波状结构均可仅连接至上部未成形带圈和下部未成形带圈。在另一方面中，每一个无肩波状结构均可包括第一侧向边缘和第二侧向边缘，该第一侧向边缘由沿该波状结构的第一侧延伸的第一切口形成，该第二侧向边缘由沿该波状结构的与该第一侧相对的第二侧延伸的第二切口形成。该波状结构的边缘可包括可至少部分沿相邻的未成形区段的高度延伸的高度。

在本文中所述实施例中的每一个中，波状结构和部件接合结构可围绕该公差环的侧壁的圆周均匀地间隔开。然而，这些结构可以是交错开的，使得它们逐渐靠近或逐渐远离开。此外，这些结构可被分组并且这些组可围绕该公差环的侧壁的圆周均匀地间隔开。

此外，在其它方面中，根据具体应用，单个公差环可包括向内伸出的波状结构和向外伸出的波状结构的任一组合。

在具体方面中，本文中所述的公差环200可由金属、金属合金、或其组合制成。该金属可包括黑色金属。此外，该金属可包括钢。该钢可包括不锈钢，例如奥氏体不锈钢。此外，该钢可包括含有铬、镍、或其组合的不锈钢。例如，该钢可以是X10CrNi18-8 1.4310不锈钢。此外，该公差环可包括维氏角锥硬度VPN，其可≥350，例如≥375、≥400、≥425、或≥450。VPN可还≤500、≤475、或≤450。VPN可还处于位于本文中所述的VPN数值中的任一个之间且包括该任一个在内的范围内。在另一方面中，可对该公差环进行处理以提高其抗腐蚀性。特别地，该公差环可以是钝化的。例如，该公差环可被根据ASTM标准A967进行钝化。

在另一方面中，可形成该公差环200的原材料可具有厚度T，并且T可≥0.1mm，例如≥0.2mm、≥0.3mm、≥0.4mm、≥0.5mm、或≥0.6mm。在另一方面中，T可≤1.0mm、≤0.9mm、或≤0.8mm。此外，T可处于位于上文中公开的T的数值中的任一个之间且包括该任一个在内的范围内。

图6和图7描绘了测试的结果。如所示，未形成肩部的波状结构的刚度基本上低于形成肩部的波状结构的刚度。

具体来说，在工具分离约0.75mm的情况下，第一比较波状部的平均标准力FW_0.4为约1300N并且第二比较波状部的平均标准力FW_0.3为约1000N。第一测试波状部的平均标准力FW_0.4为约125N并且第二测试波状部的平均标准力FW_0.3为约125N。

在工具分离约1.15mm的情况下，第一比较波状部的平均标准力FW_0.4为约1800N并且第二比较波状部的平均标准力FW_0.3为约1300N。第一测试波状部的平均标准力FW_0.4为约115N并且第二测试波状部的平均标准力FW_0.3为约115N。

可将根据本文中公开的一个或多个方面制造的公差环围绕诸如轴承之类的内部部件装配。可将壳体放置在该内部部件和该公差环上。该公差环上的波状结构的刚度可在该内部部件与该壳体之间形成干涉配合。因此，该公差环可与该内部部件和该壳体充分接合，并且该公差环可防止该内部部件相对于该公差环和该壳体旋转和平移。

在具体方面中，根据本文中所述的一个或多个方面的公差环及其诸如波状本体和波状切口之类的具体特征可利用冲压/冲孔操作形成。由片料(sheet stock)构成的扁平件可被放置在一对模具之间，所述模具具有根据所需特征成形的特征，以便被冲压和冲孔成该片料(例如，本文中所述的多种波状结构形状和部件接合结构形状)。在冲压之后，冲压后的片料可被切割成条带，并且可将条带卷成具有大致呈圆柱形形状的公差环。

本领域技术人员可认识到可利用具有本文中所述的特性中的一个或多个的公差环的其它应用。

上文中公开的主题将被视为是说明性的，且非限制性的，并且所附权利要求旨在涵盖落入到本发明的真实范围内的所有的这种改变、增加、和其它实施方式。由此，在法律所允许的最大程度下，本发明的范围将由下列权利要求及其等效方案的最为广泛的容许解释来确定，并且不应受到前述详细说明的约束或限制。

此外，在前述详细说明中，出于精简本公开的目的，多种特征均可被集合在一起或者在单个实施例中进行描述。本公开并不被解释成反映下列意图：所要求保护的实施例要求比在每一项权利要求中所明确表述的特征更多的特征。相反，如下列权利要求所反映的那样，创造性的主题可涉及比所公开的实施例中的任一种的所有特征少的特征。由此，下列权利要求被结合到该详细说明中，每一项权利要求各自限定单独要求保护的主题。

Claims

1.一种公差环，包括：

大致呈圆柱形的本体，所述本体具有限定顶部和底部的侧壁，其中，所述侧壁包括：

上部未成形带圈；

与所述上部未成形带圈相对的下部未成形带圈；

多个无肩波状结构，所述多个无肩波状结构从位于所述上部未成形带圈与所述下部未成形带圈之间的所述侧壁径向地伸出，其中，每一个无肩波状结构都仅连接至所述上部未成形带圈和所述下部未成形带圈；

多个未成形区段，其中，每一个未成形区段都定位在一对相邻的无肩波状结构之间；和

沿所述本体的整个轴向长度延伸的间隙，其中，所述间隙在所述本体中形成裂口。

2.一种公差环，包括：

上部未成形带圈；

与所述上部未成形带圈相对的下部未成形带圈；

多个未成形区段，所述多个未成形区段在所述上部未成形带圈与所述下部未成形带圈之间延伸；

多个波状结构，所述多个波状结构从位于相邻的未成形区段之间的所述侧壁径向地伸出，其中，每一个波状结构都包括第一侧向边缘和第二侧向边缘，所述第一侧向边缘由沿所述波状结构的第一侧延伸的第一切口形成，所述第二侧向边缘由沿所述波状结构的与所述第一侧相对的第二侧延伸的第二切口形成，其中，每一个边缘都具有高度H_E，并且每一个未成形区段都具有高度H_US，并且H_E≥60％H_US；和沿所述本体的整个轴向长度延伸的间隙，其中，所述间隙在所述本体中形成裂口。

3.一种组件，包括：

外部部件，所述外部部件包括处于所述外部部件内的孔；

放置在所述孔内的内部部件；和

公差环，所述公差环安装在所述内部部件与所述外部部件之间，所述公差环包括：

上部未成形带圈；

与所述上部未成形带圈相对的下部未成形带圈；

多个未成形区段，其中，每一个未成形区段都定位在一对相邻的无肩波状结构之间并定位在所述上部未成形带圈与所述下部未成形带圈之间；和

4.一种转向组件，包括：

形成孔的壳体；

安装在所述壳体的所述孔内的齿条轴轴承；和

公差环，所述公差环安装在所述齿条轴轴承与所述壳体的所述孔之间，所述公差环包括：

上部未成形带圈；

与所述上部未成形带圈相对的下部未成形带圈；

5.根据权利要求2所述的公差环，其中，H_E≥65％H_US。

6.根据权利要求5所述的公差环，其中，H_E≤125％H_US。

7.根据权利要求1和2中的任一项所述的公差环，其中，每一个波状结构都从所述侧壁径向向外延伸。

8.根据权利要求1和2中的任一项所述的公差环，其中，每一个波状结构都从所述侧壁径向向内延伸。

9.根据权利要求1和2中的任一项所述的公差环，其中，每一个波状结构都包括从所述上部未成形带圈延伸至所述下部未成形带圈的弧。

10.根据权利要求1和2中的任一项所述的公差环，其中，每一个波状结构都包括波状本体、位于所述波状本体的第一侧上的第一波状切口和位于所述波状本体的与所述第一波状切口相对的第二侧上的第二波状切口。

11.根据权利要求10所述的公差环，其中，每一个波状本体都包括在所述上部未成形带圈与所述下部未成形带圈之间延伸的弧。

12.根据权利要求11所述的公差环，其中，每一个切口都从所述上部未成形带圈延伸至所述下部未成形带圈。

13.根据权利要求11所述的公差环，其中，每一个切口都至少部分地延伸到所述上部未成形带圈中并且至少部分地延伸到所述下部未成形带圈中。

14.根据权利要求13所述的公差环，其中，所述上部未成形带圈和所述下部未成形带圈包括第一高度H_UB1和第二高度H_UB2，所述第一高度H_UB1在与波状本体的第一界面与所述侧壁的最近端之间测量而得，所述第二高度H_UB2在与切口的第二界面与所述侧壁的最近端之间测量而得，并且H_UB2≤H_UB1。

15.根据权利要求14所述的公差环，其中，H_UB2≥75％H_UB1。

16.根据权利要求10所述的公差环，其中，每一个波状本体都包括具有高度H_WBF的覆盖区域，并且其中，每一个切口都包括高度H_CO，并且其中，H_CO≥H_WBF。

17.根据权利要求16所述的公差环，其中，H_CO≤125％H_WBF。

18.根据权利要求10所述的公差环，其中，每一个波状本体都包括覆盖区域宽度W_WBF，并且所述第一波状切口和所述第二波状切口包括总切口宽度W_OCO，所述总切口宽度W_OCO在所述第一波状切口的最外侧竖向边缘与所述第二波状切口的最外侧竖向边缘之间测量而得，并且其中，W_OCO≥W_WBF。

19.根据权利要求18所述的公差环，其中，W_OCO≤150％W_WBF。

20.根据权利要求10所述的公差环，其中，每一个波状本体都包括基本宽度W_WBB和峰值宽度W_WBP，所述基本宽度W_WBB在每一个波状本体与所述上部未成形带圈或所述下部未成形带圈的界面处测量而得，所述峰值宽度W_WBP在每一个波状本体的波峰处测量而得，并且其中，W_WBP≤W_WBB。

21.根据权利要求20所述的公差环，其中，W_WBP≥25％W_WBB。

22.根据权利要求10所述的公差环，其中，所述波状本体包括具有面积A_FP的覆盖区域，并且所述第一波状切口和所述第二波状切口包括总切口面积A_TCO，并且其中，A_TCO≤A_FP。

23.根据权利要求22所述的公差环，其中，A_TCO≥25％A_FP。

24.根据权利要求22所述的公差环，其中，A_TCO包括与所述波状本体覆盖区域重叠的区域A_OFP以及与一个或多个未成形区段、所述上部未成形带圈、所述下部未成形带圈、或其组合重叠的区域A_OU，并且A_OU≤A_OFP。

25.根据权利要求24所述的公差环，其中，A_OU≥1％A_OFP。

26.根据权利要求24所述的公差环，其中，A_OU≤A_TCO。

27.根据权利要求26所述的公差环，其中，A_OU≥1％A_TCO。

28.根据权利要求24所述的公差环，其中，A_OFP≥70％A_TCO。

29.根据权利要求28所述的公差环，其中，A_OFP≤A_TCO。

30.根据权利要求10所述的公差环，其中，每一个切口都包括邻近于所述波状本体的内部弓形边缘，其中，每一个弓形边缘都包括弧长L_AE，并且每一个波状本体都包括具有高度H_WBF的覆盖区域，并且其中，L_AE≥H_WBF。

31.根据权利要求30所述的公差环，其中，L_AE≤200％H_WBF。

32.根据权利要求1和2中的任一项所述的公差环，其中，每一个波状结构都包括刚度S_SWS，并且S_SWS≤形成有肩部的相同波状结构的刚度S_WS。

33.根据权利要求32所述的公差环，其中，S_SWS≥1％S_WS。