CN104485156B - 折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏。其中，该折射率匹配膜包括：基材；硬化层，形成于基材的一侧侧面上；防粘连硬化层，形成于基材的另一侧侧面上；第一折射率匹配层，形成于防粘连硬化层上，第一折射率匹配层为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。本发明通过在防粘连硬化层上形成分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的第一折射率匹配层，从而有效降低了折射率匹配膜的雾度，并提高了折射率匹配膜和ITO层的接着性，且该折射率匹配膜具有较好的透光性、硬度和耐磨性。该折射率匹配膜能够使溅镀过程少镀膜一层，从而有效提高生产效率，且该折射率匹配膜的制作成本低且有很好的加工性。
Description
技术领域
本发明涉及硬化膜技术领域，具体而言，涉及一种折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏。
背景技术
目前，市场上用于触摸屏的基材主要有双面硬化膜和折射率匹配膜(IM膜)。其中，双面硬化膜和折射率匹配膜均能满足现有触摸屏的基本需求。然而，当采用双面硬化膜作为触摸屏的基材时，下游镀膜厂家需在其中的一面镀三层膜(高折射率层、低折射率层和导电膜层)，且镀膜时无法提速，生产效率极低。同时，终端客户只能采用油墨网印工艺对双面硬化膜进行蚀刻，从而限制了客户所采用的制成工艺。
现有IM膜主要包括IM膜(1+1结构)和IM膜(1+3结构)。其中，IM膜(1+1结构)的雾度达到1.2％以上，作为ITO膜用时需在高折HC面溅镀三层材料(高折层，低折层及ITO层)，且溅镀时无法提速、生产效率低、成本高且IM膜的挺性一般，影响终端客户蚀刻效率。IM膜(1+3结构)作为ITO膜用时需在高折HC面溅镀二层材料(低折层及ITO层)，溅镀时虽可以提速，使其生产效率较高；但其制造成本高、雾度高、良率低，严重影响经济效益。针对上述问题，目前还没有有效的解决方法。
发明内容
本发明旨在提供一种折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏，以降低折射率匹配膜的雾度，并提高折射率匹配膜和ITO层的接着性。
为此，本发明提供了一种折射率匹配膜，该折射率匹配膜包括：基材；硬化层，形成于基材的一侧侧面上；防粘连硬化层，形成于基材的另一侧侧面上；第一折射率匹配层，形成于防粘连硬化层上，第一折射率匹配层为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。
进一步地，金属氧化物的粒径为20～40nm。
进一步地，金属氧化物选自二氧化锆、三氧化二铝、氧化锌和氧化锑中的任一种或多种。
进一步地，第一折射率匹配层的折射率为1.6～1.75，第一折射率匹配层的厚度为70～100nm。
进一步地，防粘连硬化层为包含粒径为60～90nm的二氧化硅的涂层。
进一步地，二氧化硅的粒径为70～80nm。
进一步地，防粘连硬化层的折射率为1.5～1.52，防粘连硬化层的厚度为2～2.5μm。
进一步地，基材包括聚酯膜层以及形成于聚酯膜层的两侧侧面预涂层。
进一步地，聚酯膜层的厚度为50～125μm，位于聚酯膜层的一侧侧面上的预涂层的厚度为60～120nm，硬化层的厚度为4～4.5μm。
进一步地，聚酯膜层的折射率为1.63～1.65，预涂层的折射率为1.575～1.58，硬化层的折射率为1.5～1.52。
同时，本发明还提供了一种折射率匹配膜的制作方法，该制作方法包括以下步骤：形成基材；在基材的一侧侧面上形成硬化层；在基材的另一侧侧面上形成防粘连硬化层；在防粘连硬化层上形成第一折射率匹配层，第一折射率匹配层为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。
进一步地，形成第一折射率匹配层的步骤包括：将含有金属氧化物的高折射率硬化液和有机溶剂混合形成混合溶剂；将混合溶剂涂布到防粘连硬化层上；对混合溶剂依次进行干燥和紫外照射后形成第一折射率匹配层。
进一步地，高折射率硬化液包括90～95wt％的丙烯酸酯、3～5wt％的金属氧化物和2～4wt％的光聚合引发剂，混合溶剂中金属氧化物的含量为20～40wt％。
同时，本发明还提供了一种触摸屏，该触摸屏包括：本发明提供的折射率匹配膜；第二折射率匹配层，形成于折射率匹配膜中的第一折射率匹配层上，且第二折射率匹配层的折射率小于第一折射率匹配层的折射率；以及透明导电层，形成于第二折射率匹配层上。
进一步地，第二折射率匹配层为SiO2层，透明导电层为ITO层。
本发明的技术效果：本发明通过在防粘连硬化层上形成分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的第一折射率匹配层，从而有效降低了折射率匹配膜的雾度，并提高了折射率匹配膜和ITO层的接着性，且该折射率匹配膜具有较好的透光性、硬度和耐磨性。与现有IM膜(1+1结构)和双面硬化膜相比，本发明提供的折射率匹配膜能够使溅镀过程少镀膜一层，从而有效提高生产效率，且该折射率匹配膜的制作成本低且有很好的加工性，所以具有很大的经济效益和市场空间。
附图说明
构成本发明的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1示出了本申请实施方式所提供的折射率匹配膜的剖面结构示意图；
图2示出了本申请实施方式所提供的折射率匹配膜的制作方法的流程示意图；以及
图3示出了本申请实施方式所提供的触摸屏的剖面结构示意图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
由背景技术可知，现有折射率匹配膜具有雾度高、与ITO层的接着性差的缺点。本发明的发明人针对上述问题进行研究，提出了一种折射率匹配膜。如图1所示，该折射率匹配膜包括：基材10；硬化层20，形成于基材10的一侧侧面上；防粘连硬化层30，形成于基材10的另一侧侧面上；第一折射率匹配层40，形成于防粘连硬化层30上，且第一折射率匹配层40为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。
本发明通过在防粘连硬化层30上形成分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的第一折射率匹配层40，从而有效降低了折射率匹配膜的雾度，并提高了折射率匹配膜和ITO层的接着性，且该折射率匹配膜具有较好的透光性、硬度和耐磨性。与现有IM膜(1+1结构)和双面硬化膜相比，本发明提供的折射率匹配膜能够使溅镀过程少镀膜一层，从而有效提高生产效率，且该折射率匹配膜的制作成本低且有很好的加工性，所以具有很大的经济效益和市场空间。
下面将更详细地描述根据本发明提供的折射率匹配膜的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员。
上述折射率匹配膜中，第一折射率匹配层40中的金属氧化物的粒径可以根据实际需求进行设定。为了进一步降低折射率匹配膜的雾度，优选地，金属氧化物的粒径为20～40nm。金属氧化物可以采用本领域中常见的材料，优选地，金属氧化物选自二氧化锆、三氧化二铝、氧化锌和氧化锑中的任一种或多种。当然，金属氧化物的类型并不限于上述优选实施方式。
同时，第一折射率匹配层40的折射率和厚度也可以根据实际需求进行设定。优选地，第一折射率匹配层的折射率为1.6～1.75，第一折射率匹配层的厚度为70～100nm。此时，所形成折射率匹配膜的雾度得以进一步降低。
上述折射率匹配膜中，防粘连硬化层可以为任何用于防止粘连的硬化涂层。优选地，防粘连硬化层为包含粒径为60～90nm的二氧化硅的涂层。其中，二氧化硅的粒径可以根据实际需求进行设定，例如二氧化硅的粒径为70～80nm。同时，防粘连硬化层的折射率和厚度也可以根据实际需求进行设定。在一种优选的实施方式中，防粘连硬化层的折射率为1.5～1.52，防粘连硬化层的厚度为2～2.5μm。
上述折射率匹配膜中，基材10可以包括聚酯膜层11以及形成于聚酯膜层11的两侧侧面预涂层12。其中，聚酯膜层11为聚酯类树脂，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂。预涂层12可以为粘合剂，例如由热熔胶或有机高分子低温树脂组成。硬化层20可以为由四乙氧基硅烷等反应性硅化合物和活性能量线固化树脂混合而成的硬涂层用涂液进行紫外线固化而得的固化物。活性能量线固化树脂可以为(甲基)丙烯酸酯等。
本领域的技术人员可以根据实际需求设定上述基材10的厚度和折射率。优选地，聚酯膜层的厚度为50～125μm，位于聚酯膜层的一侧侧面上的预涂层的厚度为60～120nm，硬化层的厚度为4～4.5μm，聚酯膜层的折射率为1.63～1.65，预涂层的折射率为1.575～1.58，硬化层的折射率为1.5～1.52。
同时，本发明还提供了一种折射率匹配膜的制作方法。如图2所示，该制作方法包括以下步骤：形成基材；在基材的一侧侧面上形成硬化层；在基材的另一侧侧面上形成防粘连硬化层；在防粘连硬化层上形成第一折射率匹配层，第一折射率匹配层为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。
上述制作方法中，由于在防粘连硬化层上形成分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的第一折射率匹配层，从而有效降低了折射率匹配膜的雾度，并提高了折射率匹配膜和ITO层的接着性，且该折射率匹配膜具有较好的透光性、硬度和耐磨性。与现有IM膜(1+1结构)和双面硬化膜相比，本发明提供的折射率匹配膜能够使溅镀过程少镀膜一层，从而有效提高生产效率，且该折射率匹配膜的制作成本低且有很好的加工性，所以具有很大的经济效益和市场空间。同时，该折射率匹配膜能够用油墨网印、激光及黄光三种工艺蚀刻加工，既保证了材料的挺性，又保证了收卷时抗粘黏的效果。
下面将更详细地描述根据本发明提供的折射率匹配膜的制作方法示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员。
首先，形成基材10。基材10可以包括聚酯膜层11以及形成于聚酯膜层11的两侧侧面预涂层12。其中，聚酯膜层11为聚酯类树脂，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂。预涂层12可以为粘合剂，例如由热熔胶或有机高分子低温树脂组成。形成预涂层12的工艺可以为旋涂等，其具体工艺参数可以参照现有技术。
然后，在基材10的一侧侧面上形成硬化层20。硬化层20可以为由四乙氧基硅烷等反应性硅化合物和活性能量线固化树脂混合而成的硬涂层用涂液进行紫外线固化而得的固化物。活性能量线固化树脂可以为(甲基)丙烯酸酯等。将硬涂层用涂液涂布在基材10的工艺可以为旋涂或喷涂等。
接下来，在基材10的另一侧侧面上形成防粘连硬化层30。优选地，防粘连硬化层为包含粒径为60～90nm的二氧化硅的涂层。其中，二氧化硅的粒径可以根据实际需求进行设定，例如二氧化硅的粒径为70～80nm。同时，防粘连硬化层的折射率和厚度也可以根据实际需求进行设定。在一种优选的实施方式中，防粘连硬化层的折射率为1.5～1.52，防粘连硬化层的厚度为2～2.5μm。
上述防粘连硬化层30可以通过以下步骤制备得到：将含有二氧化硅的防粘连硬化液和有机溶剂混合形成混合溶剂；将混合溶剂涂布到基材10的另一侧侧面上；对混合溶剂依次进行干燥和紫外照射后形成第一折射率匹配层。其中，有机溶剂选自选用二丁醚、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酰乙酸甲酯和乙酰乙酸甲酯中的一种或多种。而且，混合溶剂的固含量为：20％-40％，优选30％。上述干燥和紫外照射的工艺条件可以参照现有技术，在此不再赘述。
最后，在防粘连硬化层30上形成第一折射率匹配层40，且第一折射率匹配层为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。在一种优选的实施方式中，形成第一折射率匹配层的步骤包括：将含有金属氧化物的高折射率硬化液和有机溶剂混合形成混合溶剂；将混合溶剂涂布到防粘连硬化层上；对混合溶剂依次进行干燥和紫外照射后形成第一折射率匹配层。
优选地，上述高折射率硬化液包括90～95wt％的丙烯酸酯、3～5wt％的金属氧化物和2～4wt％的光聚合引发剂，混合溶剂中金属氧化物的含量为20～40wt％。上述有机溶剂可以选自二丁醚、甲基异丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸甲酯中的一种或多种。
上述第一折射率匹配层40中的金属氧化物的粒径可以根据实际需求进行设定。为了进一步降低折射率匹配膜的雾度，优选地，金属氧化物的粒径为20～40nm。金属氧化物可以采用本领域中常见的材料，优选地，金属氧化物选自二氧化锆、三氧化二铝、氧化锌和氧化锑中的任一种或多种。当然，金属氧化物的类型并不限于上述优选实施方式。第一折射率匹配层40的折射率和厚度也可以根据实际需求进行设定。优选地，第一折射率匹配层的折射率为1.6～1.75，第一折射率匹配层的厚度为70～100nm。此时，所形成折射率匹配膜的雾度得以进一步降低。
同时，本发明还提供了一种触摸屏。如图3所示，该触摸屏包括：本申请提供的折射率匹配膜；第二折射率匹配层50，形成于折射率匹配膜中的第一折射率匹配层40上，且第二折射率匹配层50的折射率小于第一折射率匹配层40的折射率；以及透明导电层60形成于第二折射率匹配层50上。
上述第二折射率匹配层50是通过以下步骤得到：将平均粒径为10～100nm的无机微粒和活性能量线固化树脂混合得到涂液，采用该涂液进行涂布、固化。无机微粒可以为胶体氧化物、中空氧化硅微粒等。活性能量线固化性树脂可以为具有(甲基)丙烯酰基的多官能团单体、低聚物及聚合物。优选地，第二折射率匹配层50为SiO2层。
上述透明导电层60可以为本领域中常见的导电薄膜，优选地，透明导电层60为ITO层。形成透明导电层60的工艺可以为蒸镀法、溅镀法、离子电镀法、电镀法及化学气相沉积法，其工艺为本领域现有技术，在此不再赘述。
下面将结合实施例进一步说明本发明提供的折射率匹配膜。
实施例1
本实施例提供了一种折射率匹配膜。该折射率匹配膜包括基材，形成于基材的一侧侧面上的硬化层，形成于基材的另一侧侧面上的防粘连硬化层，形成于防粘连硬化层上的第一折射率匹配层，且基材包括聚酯膜层以及形成于聚酯膜层的两侧侧面预涂层。
其中，聚酯膜层的厚度为125μm，折射率为1.65；预涂层由酚醛树脂组成，其厚度为60nm，折射率为1.575；硬化层由四乙氧基硅烷和(甲基)丙烯酸酯固化形成，其厚度为4.5μm，折射率为1.52；防粘连硬化层由含有粒径为60nm的二氧化硅的混合溶剂固化形成，其厚度为2μm，折射率为1.50；第一折射率匹配层由粒径为10nm的氧化锆和(甲基)丙烯酰基的多官能单体固化形成，其厚度为70nm，折射率为1.6。
在本实施例提供的折射率匹配膜中的第一折射率匹配层上镀厚度为10nm的SiO2层，再在SiO2层镀厚度为22nm的ITO层，形成基体膜层。
测试结果：该折射率匹配膜的整体雾度为0.22％，镀完SiO2、ITO层后，沸水浴30minITO层不脱膜(百格：5B)；耐酸碱性能优异：15g/L NaOH 55℃/10min ITO层不脱膜(百格：5B)、1mol/L HCl/5min ITO层不脱膜(百格：5B)，电阻达150Ω；反射率＜10％；冷热冲击各240h百格均合格5B。
实施例2
本实施例提供了一种折射率匹配膜。该折射率匹配膜包括基材，形成于基材的一侧侧面上的硬化层，形成于基材的另一侧侧面上的防粘连硬化层，形成于防粘连硬化层上的第一折射率匹配层，且基材包括聚酯膜层以及形成于聚酯膜层的两侧侧面预涂层。
其中，聚酯膜层的厚度为50μm，折射率为1.63；预涂层由酚醛树脂组成，其厚度为120nm，折射率为1.58；硬化层由四乙氧基硅烷和(甲基)丙烯酸酯固化形成，其厚度为4μm，折射率为1.5；防粘连硬化层由由含有粒径为90nm的二氧化硅的混合溶剂固化形成，其厚度为2.5μm，折射率为1.52；第一折射率匹配层由粒径为50nm的三氧化二铝和(甲基)丙烯酰基的多官能单体固化形成，其厚度为100nm，折射率为1.75。
在本实施例提供的折射率匹配膜中的第一折射率匹配层上镀厚度为5nm的SiO2层，再在SiO2层镀厚度为22nm的ITO层，形成基体膜层。
测试结果：折射率匹配膜的整体雾度为0.25％，镀完SiO2、ITO层后，沸水浴30minITO层不脱膜(百格：5B)；耐酸碱性能优异：15g/L NaOH 55℃/10min ITO层不脱膜(百格：5B)、1mol/L HCl/5min ITO层不脱膜(百格：5B)，电阻达150Ω；反射率＜10％，透过率＞90％特性；冷热冲击各240h百格均合格5B。
实施例3
本实施例提供了一种折射率匹配膜。该折射率匹配膜包括基材，形成于基材的一侧侧面上的硬化层，形成于基材的另一侧侧面上的防粘连硬化层，形成于防粘连硬化层上的第一折射率匹配层，且基材包括聚酯膜层以及形成于聚酯膜层的两侧侧面预涂层。
其中，聚酯膜层的厚度为100μm，折射率为1.64；预涂层由酚醛树脂组成，其厚度为100nm，折射率为1.578；硬化层由四乙氧基硅烷和(甲基)丙烯酸酯固化形成，其厚度为4.3μm，折射率为1.51；防粘连硬化层由有粒径为70nm的二氧化硅的混合溶剂固化形成，其厚度为2.2μm，折射率为1.51；第一折射率匹配层由粒径为40nm的氧化锌和(甲基)丙烯酰基的多官能单体固化形成，其厚度为95nm，折射率为1.66。
在本实施例提供的折射率匹配膜中的第一折射率匹配层上镀厚度为5nm的SiO2层，再在SiO2层镀厚度为22nm的ITO层，形成基体膜层。
测试结果：该折射率匹配膜的整体雾度为0.23％，镀完SiO2、ITO层后，沸水浴30min ITO层不脱膜(百格：5B)；耐酸碱性能优异：15g/L NaOH 55℃/10min ITO层不脱膜(百格：5B)、1mol/L HCl/5min ITO层不脱膜(百格：5B)，电阻达150Ω；反射率＜10％，透过率＞90％特性；冷热冲击各240h百格均合格5B。
对比例1
本对比例提供了一种折射率匹配膜。该折射率匹配膜包括基材，形成于基材的一侧侧面上的硬化层，形成于基材的另一侧侧面上的第一折射率匹配层，且基材包括聚酯膜层以及形成于聚酯膜层的两侧侧面预涂层。
其中，聚酯膜层的厚度为125μm，折射率为1.65；预涂层由酚醛树脂组成，其厚度为100nm，折射率为1.575；硬化层由四乙氧基硅烷和(甲基)丙烯酸酯固化形成，其厚度为4.3μm，折射率为1.52；第一折射率匹配层由粒径为130nm的氧化锆和(甲基)丙烯酰基的多官能单体固化形成，其厚度为95nm，折射率为1.66。
在本实施例提供的折射率匹配膜中的第一折射率匹配层上镀厚度为5nm的SiO2层，再在SiO2层镀厚度为22nm的ITO层，形成基体膜层。
测试结果：该折射率匹配膜的整体雾度为0.43％，镀完SiO2、ITO层后，沸水浴30min ITO层发生部分脱膜；15g/L NaOH 55℃/10min ITO层发生部分脱膜、1mol/L HCl/5min ITO层发生部分脱膜；电阻达210Ω；反射率为190％，透过率为81％；冷热冲击各240h百格不合格。
从以上实施例可以看出，本发明上述的实例实现了如下技术效果：本发明通过在防粘连硬化层上形成分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的第一折射率匹配层，从而有效降低了折射率匹配膜的雾度，并提高了折射率匹配膜和ITO层的接着性，且该折射率匹配膜具有较好的透光性、硬度和耐磨性。与现有IM膜(1+1结构)和双面硬化膜相比，本发明提供的折射率匹配膜能够使溅镀过程少镀膜一层，从而有效提高生产效率，且该折射率匹配膜的制作成本低且有很好的加工性，所以具有很大的经济效益和市场空间。
以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (13)
1.一种折射率匹配膜，其特征在于，所述折射率匹配膜包括：
基材(10)；
硬化层(20)，形成于所述基材(10)的一侧侧面上；
防粘连硬化层(30)，形成于所述基材(10)的另一侧侧面上；
第一折射率匹配层(40)，形成于所述防粘连硬化层(30)上，所述第一折射率匹配层(40)为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层，其中，
所述第一折射率匹配层(40)的折射率为1.6～1.75，所述第一折射率匹配层的厚度为70～100nm，
所述金属氧化物选自二氧化锆、三氧化二铝、氧化锌和氧化锑中的任一种或多种。
2.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物的粒径为20～40nm。
3.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述防粘连硬化层(30)为包含粒径为60～90nm的二氧化硅的涂层。
4.根据权利要求3所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述二氧化硅的粒径为70～80nm。
5.根据权利要求3所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述防粘连硬化层(30)的折射率为1.5～1.52，所述防粘连硬化层(30)的厚度为2～2.5μm。
6.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述基材(10)包括聚酯膜层(11)以及形成于所述聚酯膜层(11)的两侧侧面的预涂层(12)。
7.根据权利要求6所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述聚酯膜层(11)的厚度为50～125μm，位于所述聚酯膜层(11)的一侧侧面上的所述预涂层(12)的厚度为60～120nm，所述硬化层(20)的厚度为4～4.5μm。
8.根据权利要求6所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述聚酯膜层(11)的折射率为1.63～1.65，所述预涂层(12)的折射率为1.575～1.58，所述硬化层(20)的折射率为1.5～1.52。
9.一种折射率匹配膜的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括以下步骤：
形成基材(10)；
在所述基材(10)的一侧侧面上形成硬化层(20)；
在所述基材(10)的另一侧侧面上形成防粘连硬化层(30)；
在所述防粘连硬化层(30)上形成第一折射率匹配层(40)，所述第一折射率匹配层(40)为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层，所述金属氧化物选自二氧化锆、三氧化二铝、氧化锌和氧化锑中的任一种或多种。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，形成所述第一折射率匹配层(40)的步骤包括：
将含有所述金属氧化物的高折射率硬化液和有机溶剂混合形成混合溶剂；
将所述混合溶剂涂布到所述防粘连硬化层(30)上；
对所述混合溶剂依次进行干燥和紫外照射后形成所述第一折射率匹配层(40)。
11.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述高折射率硬化液包括90～95wt％的丙烯酸酯、3～5wt％的所述金属氧化物和2～4wt％的光聚合引发剂，所述混合溶剂中所述金属氧化物的含量为20～40wt％。
12.一种触摸屏，其特征在于，所述触摸屏包括：
权利要求1至8中任一项所述的折射率匹配膜；
第二折射率匹配层(50)，形成于所述折射率匹配膜中的第一折射率匹配层(40)上，且所述第二折射率匹配层(50)的折射率小于所述第一折射率匹配层(40)的折射率；以及
透明导电层(60)，形成于所述第二折射率匹配层(50)上。
13.根据权利要求12所述的触摸屏，其特征在于，所述第二折射率匹配层(50)为SiO2层，所述透明导电层(60)为ITO层。
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