CN104451537A - 用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法及其结构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法及其结构。掩膜板本体设有开口区域,该方法包括如下步骤:对掩膜板本体的表面镀锌,形成锌层;对掩膜板本体的表面镀铬,形成铬层。该结构包括掩膜板本体、掩膜板本体的表面依次镀覆有锌层和铬层。在掩膜板本体的表面镀有锌层,锌层的厚度的范围较大,可以用来减小开口区域的宽度,使得该掩膜板符合高像素密度的要求,镀有铬层的厚度较小,对于开口区域宽度的影响几乎可以忽略,但是铬层具有较强的硬度,在进行蒸镀时,使得该掩膜板不会发生形变。
Description
技术领域
本发明涉及有机发光器件的蒸镀工艺,特别是涉及一种用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法以及结构。
背景技术
有源矩阵有机发光二极体面板(Active Matrix Organic Light Emitting Diode,AMOLED)器件的制造工艺分为:基板工序、蒸镀工序和封装工序。基板工序是在玻璃上面生成薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT),可以沉积硅材料和金属材料。为了利用通过基板工序而形成的TFT来点亮面板,必须在TFT基板上进行有机物的蒸镀工序,有机物的蒸镀工序是利用掩膜板作为掩膜将已汽化的有机物蒸镀在TFT基板上。目前使用的掩膜板为条形的掩膜板,这种掩膜板中间是比较长的开口区域,汽化的有机物透过该开口区域蒸镀到TFT基板上。
一般说来,传统的蚀刻方式下由于精度影响导致掩膜板的开口区域无法做小,而随着AMOLED对高分辨率的要求不断提高,亦对像素蒸镀密度的提高提出了更高的要求。由于有机发光材料的掩膜板制作工艺限制,所蒸镀出来的发光层最小面积会受到限制,即会影响到显示屏的像素密度。
传统采用电铸的方式来制造具有较小开口的掩膜板,在固定模具上电镀一层掩膜板,然后整体剥离,由于模具精度较高,所以此方式可以做到高像素密度的要求,但是此工艺会导致掩膜板整体强度不足,变形严重,从而导致在蒸镀过程中,蒸镀区域的部分位置偏位严重。
发明内容
基于此,有必要提供一种开口符合高像素密度要求的、并且具有较高强度的掩膜板的制造方法以及结构。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案如下:
一种用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法,所述掩膜板本体设有开口区域,该方法包括如下步骤:对所述掩膜板本体的表面镀锌,形成锌层;对所述掩膜板本体的表面镀铬,形成铬层。
在其中一个实施例中,还包括步骤:对所述掩膜板本体的表面补镀镍。
在其中一个实施例中,还包括步骤:对所述掩膜板本体清洁。
在其中一个实施例中,所述锌层的厚度为4至10微米。
在其中一个实施例中,所述铬层的厚度为0.2至0.3微米。
一种用于蒸镀工艺的掩膜板的结构,包括设有开口区域的掩膜板本体,所述掩膜板本体的表面依次镀覆有锌层和铬层。
在其中一个实施例中,所述掩膜板本体的表面还镀覆镍。
在其中一个实施例中,所述锌层的厚度为4至10微米。
在其中一个实施例中,所述铬层的厚度为0.2至0.3微米。
上述用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法,在掩膜板本体的表面镀有锌层,锌层的厚度的范围较大,可以用来减小开口区域的宽度,使得该掩膜板符合高像素密度的要求,镀有铬层的厚度较小,对于开口区域宽度的影响几乎可以忽略,但是铬层具有较强的硬度,在进行蒸镀时,使得该掩膜板不会发生形变。
上述用于蒸镀工艺的掩膜板的结构,在掩膜板本体的表面依次镀有锌层和铬层,锌层用来减小开口区域的宽度,铬层用来增强掩膜板的强度,使该掩膜板在进行蒸镀时,符合高像素密度要求并且不会发生形变。
附图说明
图1为用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法的流程图;
图2为用于蒸镀工艺的掩膜板的结构的示意图。
具体实施方式
请参考图1,图1为用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法流程图。该方法包括以下步骤:
S01:对掩膜板本体清洁。
在本步骤中提供的掩膜板本体设有开口区域,该掩膜板本体在蒸镀工艺时,作为掩膜,已经汽化的有机物透过开口区域蒸镀在TFT基板上。但是传统的掩膜板本体的开口区域宽度较大,并不能够符合AMOLED对高像素密度的要求。为了符合AMOLED对高像素密度的要求,需要将该掩膜板本体的开口区域的宽度变小。在进行该操作时,先要对掩膜板本体进行清洁。
可以将掩膜板本体置于去离子水中,然后对其进行超声波清洗,将附着在掩膜板本体上的异物清洗下来,然后对该掩膜板本体烘干,保持掩膜板本体的清洁度。
掩膜板本体还可能附着有油污,还可以利用化学除油的方法去除掩膜板本体上的油污。将掩膜板本体置于热碱溶液中,利用热碱溶液对油脂的皂化和乳化作用,将掩膜板本体表面的油污去除。在本实施方式中,碱性溶液包括两部分:一部分是碱性物质,如氢氧化钠、碳酸钠等;另一部分是硅酸钠、乳化剂等表面活性物质。然后,再将该掩膜板本体烘干,保持掩膜板本体的清洁度。
S02:对掩膜板本体的表面镀锌,形成锌层。
在本步骤中,将清洁过后的掩膜板本体放置在电解液中,该掩膜板本体作为阴极,而锌作为阳极,在该掩膜板本体的表面镀锌,以使该掩膜板本体的开口区域的宽度变小。在本实施方式中,采用锌,因为锌是相对便宜而又易镀覆的一种金属,并且其形成的镀层厚度相对选择范围较宽,可以使得掩膜板本体的开口区域的宽度的选择范围也较宽。利用锌层将开口区域的宽度减小,以符合AMOLED对高像素密度的要求。锌层的厚度可以通过电流密度以及电镀时间来控制,在本实施方式中,锌层的厚度为4至10微米。但是,锌的表面硬度为60至140维氏硬度(Vickers Hardness,HV),其硬度还是较小,在进行蒸镀工艺时,该掩膜板还是比较容易变形,从而影响蒸镀区域的位置。
S03:对掩膜板本体的表面镀铬,形成铬层。
在本步骤中,将上述步骤得到的掩膜板放置在电解液中,该掩膜板作为阴极,而阳极为铬,在该掩膜板的表面镀铬,以形成铬层,由于镀铬工艺的本身因素,铬层的厚度选择范围相对比较小。在本实施方式中,通过控制电流密度以及电镀时间,使得铬层的厚度为0.2至0.3微米,这样的厚度对开口区域的宽度的影响是可以忽略的。但是铬层的表面硬度可以达到750至1000HV,这样的硬度足以应付蒸镀工艺中对掩膜板的硬度的要求,使该掩膜板不易发生形变,从而在进行蒸镀工艺时,不会影响蒸镀区域的位置。
S04:对掩膜板本体的本体表面补镀镍。
在上述步骤中形成的锌层和铬层,在电镀过程中,掩膜板的表面难免会有不平整的地方,利用镍对该不平整的地方进行补镀,以使得该掩膜板具有平整的表面,对蒸镀区域的影响降低到最小。在本步骤中,将所需补镀的位置浸入电解液中,将其作为阴极,而镍作为阳极,进行补镀。控制电镀的电流密度以及电镀时间,使得该掩膜板具有平整的表面。因为镀镍的厚度选择范围比较宽广,可以适应于不同形状及厚度的需补镀位置,可以使得掩膜板表面具有良好的平整度。并且,镍的硬度可以达到500至800HV,比较适合于补镀技术,以适应蒸镀工艺时掩膜板所需的硬度。
经过上述步骤得到的掩膜板,开口区域的宽度较小,符合AMOLED对高像素密度的要求,并且其强度足以适应蒸镀工艺,使得掩膜板在蒸镀工序中,不会发生形变。
请参考图2,图2为在此披露了用于蒸镀工艺的掩膜板的结构,该掩膜板100包括掩膜板本体110以及依次镀覆在掩膜板本体110表面的锌层120、铬层130等,图2中披露只是掩膜板本体110、锌层120、铬层130以及开口区域140的示意图,并不意味着它们之间的大小关系就如图2所示,这一点本领域的普通技术人员应当知晓。掩膜板本体110设有开口区域140,由于该开口区域140的宽度较宽不符合AMOLED对高像素密度的要求,所以在掩膜板本体110表面镀覆锌层120,锌层120的厚度选择范围比较宽广,在本实施方式中,其厚度在4至10微米之间。但是,锌层120的硬度为60至140HV,其硬度不足以使得掩膜板100不发生形变。所以在锌层120外再镀覆一层铬层130,在本实施方式中,铬层130的厚度为0.2至0.3微米,其硬度为750至1000HV。由于在电镀过程中形成的锌层120和铬层130的表面难免会有不平整的地方,利用镍(图未示)进行补镀,以使得掩膜板100具有平整的表面,对蒸镀区域的影响降低到最小。并且镍电镀时的厚度选择范围比较宽广,可以适应于不同形状及厚度的需补镀位置,使得掩膜板100具有平整的表面;而且,其硬度可以达到500至800HV,比较适合于补镀技术,以适应蒸镀工艺时掩膜板所需的硬度。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (9)
1.一种用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法,所述掩膜板本体设有开口区域,其特征在于,包括如下步骤:
对所述掩膜板本体的表面镀锌,形成锌层;
对所述掩膜板本体的表面镀铬,形成铬层。
2.根据权利要求1所述的用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法,其特征在于,还包括步骤:对所述掩膜板本体的表面补镀镍。
3.根据权利要求1所述的用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法,其特征在于,还包括步骤:对所述掩膜板本体清洁。
4.根据权利要求1所述的用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法,其特征在于,所述锌层的厚度为4至10微米。
5.根据权利要求1所述的用于蒸镀工艺的掩膜板的制造方法,其特征在于,所述铬层的厚度为0.2至0.3微米。
6.一种用于蒸镀工艺的掩膜板的结构,包括设有开口区域的掩膜板本体,其特征在于,所述掩膜板本体的表面依次镀覆有锌层和铬层。
7.根据权利要求6所述的用于蒸镀工艺的掩膜板的结构,其特征在于,所述掩膜板本体的表面还镀覆镍。
8.根据权利要求6所述的用于蒸镀工艺的掩膜板的结构,其特征在于,所述锌层的厚度为4至10微米。
9.根据权利要求6所述的用于蒸镀工艺的掩膜板的结构,其特征在于,所述铬层的厚度为0.2至0.3微米。
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