CN104423088A - 一种彩膜基板的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板的制备方法，该方法包括：在基板上沉积光阻层，经过曝光、显影，将光阻层形成图形并紫外固化；或者，在基板上形成保护层，所述保护层材料为光固化型材料，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射；或者，在基板上分别沉积黑矩阵光阻、红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻，并分别经过曝光、显影，形成对应的图形并紫外固化。本发明可抑制BM的线宽变宽，适应高分辨率显示屏对BM窄线宽的要求，且可缩短固化时间，提高生产效率。

Description

一种彩膜基板的制备方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板的制备方法。
背景技术
目前，彩膜（CF）基板的制作过程中，黑矩阵（BM）、红、绿、蓝（R、G、B）亚像素以及柱形隔垫物（PS）的制作都是在显影之后，采用热固化的后固化方式进行的。高分辨率的显示屏要求具有较小的BM线宽，BM是采用光阻胶经旋涂、曝光、显影后制备的，制备所得的BM结构如图1所示，所述BM1整体呈现为倒梯形结构，上硬下软。进行热固化的后固化工艺时，由于光阻胶（PR），也就是光刻胶受热软化而向下流，会导致BM1的线宽变宽，如图2所示，无法满足高分辨率显示屏的要求。而且，热固化时间较长，生产效率低。
为了解决所述BM线宽变宽的问题，现有的背曝光技术可在一定程度上加强BM下部PR的固化，将显影后形成的倒梯形结构进行保持，但经过热烘烤之后仍会变形，导致BM线宽变宽，因此不能很好的解决BM线宽变宽的问题。
发明内容
有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种彩膜基板的制备方法，可抑制BM的线宽变宽，且可缩短固化时间。
为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：
本发明提供了一种彩膜基板的制备方法，该方法包括：
在基板上涂覆光阻胶形成光阻层，经过曝光、显影，将光阻层形成图形并紫外固化。
其中，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为黑矩阵光阻层，形成黑矩阵图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
其中，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为红色光阻层，形成红色亚像素的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
其中，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为绿色光阻层，形成绿色亚像素的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
其中，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为蓝色光阻层，形成蓝色亚像素的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
其中，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为柱形隔垫物的光阻层，形成柱形隔垫物的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
上述方案中，所述紫外固化在传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机中进行。
优选的，采用所述传送带式紫外光固化机对所述基板进行紫外固化时，传送带的传送速度、固化时间以及紫外光固化段的长度之间满足如下关系：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
优选的，所述烤箱式紫外光固化机设置为多层结构，每层之间各设置至少一个紫外光源。
优选的，所述光阻胶中添加有对紫外光的i线敏感的感光剂。
优选的，所述光阻胶中还添加有对紫外光的h线或g线敏感的感光剂。
本发明还提供了一种彩膜基板的制备方法，该方法包括：
在基板上涂覆光固化型材料形成保护层，并紫外固化。
其中，所述紫外固化具体包括：
分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
优选的，所述紫外固化过程在传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机中进行。
优选的，采用所述传送带式紫外光固化机对所述基板进行紫外固化时，传送带的传送速度、固化时间以及紫外光固化段的长度之间满足如下关系：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
优选的，所述烤箱式紫外光固化机设置为多层结构，每层之间各设置至少一个紫外光源。
优选的，所述光固化型材料中添加有对紫外光的i线敏感的感光剂。
优选的，所述光固化型材料中还添加有对紫外光的h线或g线敏感的感光剂。
本发明还提供了一种彩膜基板的制备方法，该方法包括：
在基板上涂覆黑矩阵光阻胶形成黑矩阵光阻层，经过曝光、显影，形成黑矩阵图形并紫外固化；
在基板上涂覆红色光阻胶形成红色光阻层，经过曝光、显影，形成红色亚像素图形并紫外固化；
在基板上涂覆绿色光阻胶形成绿色光阻层，经过曝光、显影，形成绿色亚像素图形并紫外固化；
在基板上涂覆蓝色光阻胶形成蓝色光阻层，经过曝光、显影，形成蓝色亚像素图形并紫外固化。
优选的，该方法还包括：
在基板上涂覆光固化型材料形成保护层，并紫外固化。
优选的，该方法还包括：
在基板上涂覆柱形隔垫物光阻胶形成柱形隔垫物的光阻层，经过曝光、显影，形成柱形隔垫物图形并紫外固化。
优选的，该方法还包括：
对形成有黑矩阵、红、绿、蓝亚像素、保护层以及柱形隔垫物的基板进行退火。
其中，所述紫外固化具体为：
分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
优选的，所述紫外固化在传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机中进行。
优选的，采用所述传送带式紫外光固化机对所述基板进行紫外固化时，传送带的传送速度、固化时间以及紫外光固化段的长度之间满足如下关系：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
优选的，所述烤箱式紫外光固化机设置为多层结构，每层之间各设置至少一个紫外光源。
优选的，所述黑矩阵光阻胶、红色光阻胶、绿色光阻胶、蓝色光阻胶、光固化型材料、或柱形隔垫物光阻胶中添加有对紫外光的i线敏感的感光剂。
优选的，所述黑矩阵光阻胶、红色光阻胶、绿色光阻胶、或蓝色光阻胶、光固化型材料、或柱形隔垫物光阻胶中还添加有对紫外光的h线或g线敏感的感光剂。
本发明提供的彩膜基板的制备方法，在基板上形成黑矩阵，红、绿、蓝亚像素以及柱形隔垫物的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。由于本发明的紫外光固化的方式不会造成PR软化塌下，BM的倒梯形结构得以保持，可抑制BM的线宽变大，因此适应高分辨率显示屏对BM窄线宽的要求，也可提高开口率。
本发明通过将后固化工艺所采用的热固化方式更改为紫外光固化方法，既缩短了光刻工序进行的时间，又有效保证CF基板在进行制作时不被各种挥发物所污染，可更好的保证CF基板的品质。
附图说明
图1为BM经过显影刻蚀后、且在后固化之前的剖面结构示意图；
图2为BM经过热固化的后固化工艺后的剖面结构示意图；
图3为本发明实施例一的传送带式紫外光固化机的结构示意图；
图4为本发明实施例一紫外光对基板进行照射的局部结构示意图；
图5为本发明实施例二的烤箱式紫外光固化机的结构示意图；
图6为本发明实施例BM经过紫外光固化工艺后的剖面结构示意图。
附图标记说明：
1BM；2基板；3红外加热单元；4紫外光；5传送装置；6紫外光源；7传送带式紫外光固化机；8烤箱式紫外光固化机。
具体实施方式
紫外光固化技术由于其快速及无污染的特点，固化后成膜性能优良，已广泛应用于涂料、半导体等行业。本发明则将传统的后固化工艺由热固化方法更改为紫外光固化的方法，BM及RGB亚像素等的制作过程采用紫外光固化方法可以使各自的线宽更加均匀，且可抑制BM的线宽变大，可有效减小由于线宽不均匀引发的漏光及混色现象，提高分辨率。
下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步详细说明。
本发明实施例提供一种彩膜基板的制备方法，该方法包括：在基板上涂覆光阻胶形成光阻层，经过曝光、显影，将光阻层形成图形并紫外固化。
其中，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为黑矩阵光阻层，形成黑矩阵图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射；或者，
所述光阻层为红色光阻层，形成红色亚像素的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射；或者，
所述光阻层为绿色光阻层，形成绿色亚像素的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射；或者，
所述光阻层为蓝色光阻层，形成蓝色亚像素的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射；或者，
所述光阻层为柱形隔垫物的光阻层，形成柱形隔垫物的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
优选的，所述紫外固化过程可在传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机中进行。关于传送带式紫外光固化机与烤箱式紫外光固化机的结构及使用参见后续具体实施例的详细描述。
其中，采用所述传送带式紫外光固化机对所述基板进行紫外固化时，传送带的传送速度、固化时间以及紫外光固化段的长度之间满足如下关系：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
优选的，所述烤箱式紫外光固化机设置为多层结构，每层之间各设置至少一个紫外光源。
上述方案中，所述形成所述光阻层的光阻胶中添加有对紫外光的i线敏感的感光剂，所述i线对应波长为λ=365nm，还添加有对紫外光的h线，对应波长为λ=405nm、或g线，对应波长为λ=436nm敏感的感光剂。
本实施例的紫外光固化的方式不会造成PR软化塌下，BM的倒梯形结构得以保持，可抑制BM的线宽变大，因此适应高分辨率显示屏对BM窄线宽的要求，且可缩短固化时间。
本发明还提供了另一种彩膜基板的制备方法，该方法包括：
在基板上涂覆光固化型材料形成保护层，并紫外固化。
所述紫外固化具体包括：分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
其中，所述紫外固化可在紫外光固化机中进行，如在传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机中进行。关于传送带式紫外光固化机与烤箱式紫外光固化机的结构及使用参见后续具体实施例的详细描述。
其中，采用所述传送带式紫外光固化机对所述基板进行紫外固化时，传送带的传送速度、固化时间以及紫外光固化段的长度之间满足如下关系：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
优选的，所述烤箱式紫外光固化机设置为多层结构，每层之间各设置至少一个紫外光源。
优选的，所述所使用的光固化型材料中添加有对紫外光的i线敏感的感光剂，还添加有对紫外光的h线或g线敏感的感光剂。
本实施例的紫外光固化的方式不会造成PR软化塌下，BM的倒梯形结构得以保持，可抑制BM的线宽变大，因此适应高分辨率显示屏对BM窄线宽的要求，且可缩短固化时间。
本发明实施例还提供了另一种彩膜基板的制备方法包括：
在基板上涂覆黑矩阵光阻胶形成黑矩阵光阻层，经过曝光、显影，形成黑矩阵图形并紫外固化；
在基板上涂覆红色光阻胶形成红色光阻层，经过曝光、显影，形成红色亚像素图形并紫外固化；
在基板上涂覆绿色光阻胶形成绿色光阻层，经过曝光、显影，形成绿色亚像素图形并紫外固化；
在基板上涂覆蓝色光阻胶形成蓝色光阻层，经过曝光、显影，形成蓝色亚像素图形并紫外固化。
上述方法中还包括：在基板上涂覆光固化型材料形成保护层，并紫外固化。
上述方法中还包括：在基板上涂覆柱形隔垫物光阻胶形成柱形隔垫物的光阻层，经过曝光、显影，形成柱形隔垫物图形并紫外固化。
上述方法中还包括：对形成有黑矩阵、红、绿、蓝亚像素、保护层以及柱形隔垫物的基板进行退火。
上述方法中，所述紫外固化具体为：分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
优选的，所述紫外固化过程可在传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机中进行。关于传送带式紫外光固化机与烤箱式紫外光固化机的结构及使用参见后续具体实施例的详细描述。
其中，采用所述传送带式紫外光固化机对所述基板进行紫外固化时，传送带的传送速度、固化时间以及紫外光固化段的长度之间满足如下关系：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
优选的，所述烤箱式紫外光固化机设置为多层结构，每层之间各设置至少一个紫外光源。
优选的，所述所使用的黑矩阵光阻胶、红色光阻胶、绿色光阻胶、蓝色光阻胶、光固化型材料、或柱形隔垫物光阻胶中添加有对紫外光的i线敏感的感光剂。
优选的，所述黑矩阵光阻胶、红色光阻胶、绿色光阻胶、或蓝色光阻胶、光固化型材料、或柱形隔垫物光阻胶中还添加有对紫外光的h线或g线敏感的感光剂。
具体的，所述彩膜基板的制备过程如下：
步骤一、在基板上形成一层BM光阻胶，并经构图工艺形成BM的图形，之后从所述形成有BM的基板正反两面对所述基板进行紫外光照射，完成BM的固化过程，所述固化过程可在紫外光固化机中进行，如传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机，具体见后续具体实施例的描述；
其中，所述基板正反两面均受到紫外光照射，可以抑制单面紫外光照射时光阻胶对紫外光的光阻效应，增加了紫外光照射到光阻胶内部的能量，确保紫外光固化后的彩膜基板具有与传统热固化后的彩膜基板具有相当的物理化学性能。
步骤二、在基板上继续沉积R、G、B亚像素的光阻胶，并经构图工艺形成对应的R、G、B亚像素的图形，之后分别从基板正反两面对所述基板进行紫外光照射，完成R、G、B亚像素的固化过程；
该方法还包括：步骤三、在基板上继续沉积柱形隔垫物的光阻胶，并经曝光、显影等构图工艺形成柱形隔垫物的图形，之后分别从基板正反两面对所述基板进行紫外光照射，完成柱形隔垫物的固化过程。
优选的，在所述步骤二和步骤三之间，该方法还包括：在基板上涂覆光固化型材料形成保护层（OC）之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
具体的，在对形成有R、G、B亚像素的基板进行紫外光固化后，通过基板清洗、光固化型材料的涂布、以及软烘的工艺形成保护层，之后分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
需要说明的是，现有的OC制作工艺既有光固化方法，又有热固化方法，这主要取决于所使用的保护层的材料。所述材料分为两类：一类为热固性OC胶，其所用的引发剂为热敏性引发剂，对紫外光不敏感，不能采用光固化方法；另一类为光固化型OC胶，其所用的引发剂为光敏性引发剂，光敏性引发剂既可采用光固化也可采用热固化，光固化型OC胶主要为光固化方式OC工艺所设计，一般光固化型OC胶不采用热固化方式。传统TFT-LCD中彩膜基板中OC的制作基本采用热固化方式，但由于目前已成功研制出光固化型的OC胶，因此，只要引入紫外光固化机及光固化型OC胶后，彩膜基板中的OC固化过程便可以采用所述紫外光固化方法。
优选的，该方法还包括：对形成有黑矩阵，红、绿、蓝亚像素、保护层以及柱形隔垫物的基板进行退火，以消除保证R、G、B亚像素、PS的内部热应力，保证其正常形貌；此外，还可以对光刻胶进行彻底的固化，提高光刻胶的耐高温性能。
本实施例的紫外光固化的方式不会造成PR软化塌下，BM的倒梯形结构得以保持，可抑制BM的线宽变大，因此适应高分辨率显示屏对BM窄线宽的要求，且可缩短固化时间。
下面结合具体实施例再对本发明的方法进行详细描述。
实施例一：利用传送带式紫外光固化机进行紫外光固化
该实施例以DONGWOO FINE-CHEM所生产的一种BM光阻胶，型号为BK-410为例，说明本发明采用紫外光固化的实施方法及原理。涂布完光阻胶后的基板经过减压真空干燥及热盘软烘之后经过现有的曝光机，曝光机经过对位以后所发出的紫外光短时间照射到基板正面，负性光阻胶中的光敏性引发剂由于紫外光的作用而发生分解产生活化的自由基，引发光阻胶交联反应后不被显影液所溶解掉，形成我们所需要的图形。曝光过程由于时间短暂（一般5～6s）及光阻胶对光的阻挡作用，光阻胶中的光敏性引发剂，尤其是接近基板处的不会被完全消耗掉，剩下的光阻胶光敏性引发剂为显影之后的后固化过程提供活性自由基，保证后固化过程的进行。大部分光阻胶光敏性引发剂既可以在紫外光的照射下发生分解，也可以在热的作用下发生分解，因此后固化工序既可以采用热固化工艺，又可以采用紫外光固化工艺。
此法所述紫外光固化方法优选一种如图3所示的传送带式紫外光固化机7，基板2进入紫外光固化机后，入口单元有红外加热单元3，兼具对基板2进行预热和对膜面进行平坦化的作用，经过红外预热的基板2再经过正反两面均带有紫外光4照射的传送装置5便可以进行紫外光固化。所述紫外光对基板2进行照射的局部结构示意图如图4所示。传送装置5可以控制传送速度及传送速度的均一性。通过控制该紫外光固化机的传送速度可以控制紫外光固化的时间，从而控制固化程度。基板2在传送过程中正反两面均受到紫外光源6发出的紫外光的照射，可以抑制单面紫外光照射时光阻胶对紫外光的光阻效应，增加了紫外光照射到光阻胶内部的能量，确保紫外光固化后的彩膜基板具有与传统热固化后的彩膜基板具有相当的物理化学性能。
彩膜基板采用紫外光全曝光方式进行固化，固化的时间根据固化效果进行调整，与现在的曝光机曝光能量选择方法相同，应根据对膜层物理化学性能的要求决定固化程度，再根据紫外光固化机紫外光源的照度确定所需要的固化时间，该固化时间再转换为紫外光固化机传送带的传送速度，即：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
其中，所述紫外光固化段长度为紫外光照射区域的长度，具体对应传送式紫外光固化机中紫外光照射区的传送带的长度。
实施例二：利用烤箱式紫外光固化机进行紫外光固化
本实施例中采用与实施例一相同的BM光阻胶，彩膜基板中BM的显影刻蚀及其之前的工艺与实施例一相同，显影之后仍采用紫外光全曝光。此法选择一种如图5所示的与现有烘烤炉相似的烤箱式紫外光固化机8，该固化机设置多层结构，为保证紫外光照射的均一性，在每层之间各设置至少一个紫外光源6，分别对基板的正反两面进行紫外光照射。由于紫外光全曝光方法快速清洁，固化时间短，因此在满足生产节奏前提下不需要太多的段数。图5以四层结构为例，示意烤箱式紫外光固化机的结构与固化方法。
实施例三：使用改进的光阻胶进行紫外光固化
本实施例采用与实施例一相同的BM光阻胶。进行紫外光固化的固化设备可选择传送带式紫外光固化机或烤箱式紫外光固化机。该实施例为提高固化效果，对光阻胶进行引发剂成分的改进。目前彩膜曝光机基本采用紫外光的i线，对应波长为λ=365nm，因此PR中的光敏性引发剂也为对i线敏感的感光剂，为了采用显影之后紫外光全曝光，在PR中除了添加对i线敏感的感光剂以外，再引入对紫外光其余波段，如h线，对应波长为λ=405nm、或g线，对应波长为λ=436nm敏感的感光剂，其中，所述对i线敏感的感光剂可选用2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮，所述对h线敏感的感光剂可选用硫杂蒽酮，所述对g线敏感的感光剂可选用芘茂铁盐，此法可确保在曝光机曝光之后有足够的光敏性引发剂进行紫外光全曝光固化。
本发明还提供了一种彩膜基板的制备方法，其中，所述彩膜基板的后固化方法采用上文所述的紫外光固化方法。
图6为本发明实施例BM经过紫外光固化工艺后的剖面结构示意图，由于紫外光固化的方式不会造成PR软化塌下，BM的倒梯形结构得以保持，可抑制BM的线宽变大，因此适应高分辨率显示屏对BM窄线宽的要求，也可提高开口率。
彩膜基板制作过程中的软烘之后的曝光过程就是使用紫外光使PR发生交联反应达到固化的目的，因此本发明通过将后固化工艺所采用的热固化方式更改为紫外光固化方法，既缩短了光刻工序进行的时间，又有效保证CF基板在进行时不被各种挥发物所污染，可更好的保证CF基板的品质。采用紫外光固化方法不会破坏BM在显影之后形成的倒梯形结构，使得倒梯形结构得到保持，抑制了BM线宽的变宽，更利于BM窄线宽的制作。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。

Claims (28)

1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，该方法包括：
在基板上涂覆光阻胶形成光阻层，经过曝光、显影，将光阻层形成图形并紫外固化。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为黑矩阵光阻层，形成黑矩阵图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为红色光阻层，形成红色亚像素的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为绿色光阻层，形成绿色亚像素的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为蓝色光阻层，形成蓝色亚像素的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将光阻层形成图形并紫外固化，具体包括：
所述光阻层为柱形隔垫物的光阻层，形成柱形隔垫物的图形之后，分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
7.如权利要求1-6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述紫外固化在传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机中进行。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，采用所述传送带式紫外光固化机对所述基板进行紫外固化时，传送带的传送速度、固化时间以及紫外光固化段的长度之间满足如下关系：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述烤箱式紫外光固化机设置为多层结构，每层之间各设置至少一个紫外光源。
10.如权利要求1-6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述光阻胶中添加有对紫外光的i线敏感的感光剂。
11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述光阻胶中还添加有对紫外光的h线或g线敏感的感光剂。
12.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，该方法包括：
在基板上涂覆光固化型材料形成保护层，并紫外固化。
13.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于，所述紫外固化具体包括：
分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
14.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于，所述紫外固化过程在传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机中进行。
15.如权利要求14所述的制备方法，其特征在于，采用所述传送带式紫外光固化机对所述基板进行紫外固化时，传送带的传送速度、固化时间以及紫外光固化段的长度之间满足如下关系：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
16.如权利要求14所述的制备方法，其特征在于，所述烤箱式紫外光固化机设置为多层结构，每层之间各设置至少一个紫外光源。
17.如权利要求12-16中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述光固化型材料中添加有对紫外光的i线敏感的感光剂。
18.如权利要求17所述的制备方法，其特征在于，所述光固化型材料中还添加有对紫外光的h线或g线敏感的感光剂。
19.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，该方法包括：
在基板上涂覆黑矩阵光阻胶形成黑矩阵光阻层，经过曝光、显影，形成黑矩阵图形并紫外固化；
在基板上涂覆红色光阻胶形成红色光阻层，经过曝光、显影，形成红色亚像素图形并紫外固化；
在基板上涂覆绿色光阻胶形成绿色光阻层，经过曝光、显影，形成绿色亚像素图形并紫外固化；
在基板上涂覆蓝色光阻胶形成蓝色光阻层，经过曝光、显影，形成蓝色亚像素图形并紫外固化。
20.根据权利要求19所述的制备方法，其特征在于，该方法还包括：
在基板上涂覆光固化型材料形成保护层，并紫外固化。
21.根据权利要求20所述的制备方法，其特征在于，该方法还包括：
在基板上涂覆柱形隔垫物光阻胶形成柱形隔垫物的光阻层，经过曝光、显影，形成柱形隔垫物图形并紫外固化。
22.根据权利要求21所述的制备方法，其特征在于，该方法还包括：
对形成有黑矩阵、红、绿、蓝亚像素、保护层以及柱形隔垫物的基板进行退火。
23.根据权利要求19、20或21所述的制备方法，其特征在于，所述紫外固化具体为：
分别从所述基板的正反两面对所述基板进行紫外光照射。
24.根据权利要求19、20或21所述的制备方法，其特征在于，所述紫外固化在传送带式紫外光固化机、或烤箱式紫外光固化机中进行。
25.根据权利要求24所述的制备方法，其特征在于，采用所述传送带式紫外光固化机对所述基板进行紫外固化时，传送带的传送速度、固化时间以及紫外光固化段的长度之间满足如下关系：
传送速度=紫外光固化段长度/固化时间。
26.根据权利要求24所述的制备方法，其特征在于，所述烤箱式紫外光固化机设置为多层结构，每层之间各设置至少一个紫外光源。
27.根据权利要求21所述的制备方法，其特征在于，所述黑矩阵光阻胶、红色光阻胶、绿色光阻胶、蓝色光阻胶、光固化型材料、或柱形隔垫物光阻胶中添加有对紫外光的i线敏感的感光剂。
28.根据权利要求27所述的制备方法，其特征在于，所述黑矩阵光阻胶、红色光阻胶、绿色光阻胶、或蓝色光阻胶、光固化型材料、或柱形隔垫物光阻胶中还添加有对紫外光的h线或g线敏感的感光剂。
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