CN101114035A

CN101114035A - 黑矩阵成分及其形成方法

Info

Publication number: CN101114035A
Application number: CNA2007101111800A
Authority: CN
Inventors: 泉元·上; 立圭·邹
Original assignee: Applied Materials Inc
Current assignee: Applied Materials Inc
Priority date: 2006-07-28
Filing date: 2007-06-14
Publication date: 2008-01-30

Abstract

本发明公开了一种黑矩阵成分，用于形成黑矩阵的方法，以及用于形成平板显示器的滤色片的装置。所述成分、方法和装置使用包括聚合分子的添加剂，每个聚合分子都包括极性部分和非极性部分。非极性部分具有疏墨性并在该表面暴露于活化能时朝向黑矩阵成分的表面迁移。聚合分子的极性部分相对于非极性部分具有亲墨性。本发明公开了多个其它特征。

Description

黑矩阵成分及其形成方法

本申请要求以下专利申请的优先权，并在此引入每个专利申请的全部内容作为参考：

2007年4月10日提交的序列号No.11/733,665并且发明名称为“BLACKMATRIX COMPOSITIONS AND METHODS OF FORMING THE SAME(黑矩阵成分及其形成方法)”(代理人案号No.11292)”的美国专利申请；

2006年8月23日提交的序列号No.60/823,254并且发明名称为“BLACKMATRIX COMPOSITIONS AND METHODS OF FORMING THE SAME(黑矩阵成分及其形成方法)”(代理人案号No.11292/L)”的美国专利申请；

2006年9月13日提交的序列号No.11/521,577并且发明名称为“METHODAND APPARATUS FOR MANUFACTURING A PIXEL MATRIX OF ACOLOR FILTER FOR A FLAT PANEL DISPLAY(用于制造平板显示器滤色片的像素阵列的方法和装置)”(代理人案号No.10502)”的美国专利申请；以及

2006年7月28日提交的序列号No.60/834,076并且发明名称为“METHODAND APPARATUS FOR MANUFACTURING A PIXEL MATRIX OF ACOLOR FILTER FOR A FLAT PANEL DISPLAY(用于制造平板显示器滤色片的像素阵列的方法和装置)”(代理人案号No.10502/L2)”的美国专利申请。

相关申请的交叉引用

本申请涉及以下共同转让的、共同待审的美国专利申请，在此引入每个专利申请的全部内容作为参考：

2004年11月4日提交的序列号No.60/625,550并且发明名称为“APPARATUS AND METHODS FOR FORMING COLOR FILTERS IN AFLAT PANEL DISPLAY BY USING INKJETTING(通过采用喷墨方式在平板显示器中形成滤色片的装置和方法)”的临时专利申请；

2004年12月22日提交的序列号No.11/019,967并且发明名称为“APPARATUS AND METHODS OF AN INKJE THEAD SUPPORT HAVINGAN INKJET HEAD CAPABLE OF INDEPENDENT LATERAL MOVEMENT(具有可以独立横向移动的喷墨头的喷墨头支架的装置和方法)”的美国专利申请(代理人案号No.9521-1)；

2004年12月22日提交的序列号No.11/019,929并且发明名称为“METHODS AND APPARATUS FOR INKJET PRINTING(用于喷墨打印大方法和装置)”的美国专利申请(代理人案号No.9521-2)；

2004年12月22日提交的序列号No.11/019,930并且发明名称为“METHODS AND APPARATUS FOR ALIGNING PRINT HEADS(用于定向喷墨头的方法和装置)”的美国专利申请(代理人案号No.9521-3)；

2005年7月28日提交的序列号No.60/703,146并且发明名称为“METHODS AND APPARATUS FOR SIMULTANEOUS INKJET PRINTINGAND DEFECT INSPECTION(用于同时喷墨印刷以及缺陷检测的方法和装置)”的临时专利申请(代理人案号No.9521-L02(原来为No.9521-7/L))；以及

2006年7月25日提交的序列号No.11/493,861并且发明名称为“METHODS AND APPARATUS FOR CONCURRENT INKJET PRINTINGAND DEFECT INSPECTION(用于同时喷墨印刷以及缺陷检测的方法和装置)”的美国专利申请(代理人案号No.9521-10)。

技术领域

本发明主要涉及平板显示器，更尤其涉及用于平板显示器的黑矩阵合成物，及其形成的方法。

背景技术

平板显示器产业一直试图采用喷墨打印制造显示器件，具体来说制造滤色片。有效引用喷墨打印的一个问题在于难以精确及准确地喷射墨或其它材料到基板上并同时具有高产量。在一些情形下，例如，墨滴可能不能准确地落入基板上的像素着墨孔内。需要一种方法和装置以使用高产量的喷墨打印改善所制造的滤色片的品质。

发明内容

在本发明的某些方案中，提供一种在形成平板显示器的滤色片中所用的黑矩阵成分，该黑矩阵成分包括具有聚合分子的添加剂，每个聚合分子均包括极性部分和非极性部分。非极性部分具有疏墨性(ink-phobic)并在表面暴露于活化能时向黑矩阵成分的表面迁移。聚合分子的极性部分相对于非极性部分具有亲墨性(ink-philic)。当用于形成像素电极时其产生的结果是形成具有疏墨顶表面和亲墨侧壁表面的结构。

在本发明的其它方案中，提供一种在形成平板显示器的滤色片所用的装置，该装置包括基板及在该基板上形成的黑矩阵成分的层。黑矩阵成分包括具有聚合分子的添加剂，每个聚合分子都包括极性部分和非极性部分。非极性部分具有疏墨性并在表面暴露于活化能时向黑矩阵成分的表面迁移。聚合分子的极性部分相对于非极性部分具有亲墨性。

在本发明的又一方案中，提供一种形成平板显示器的滤色片的方法。该方法包括形成包括聚合分子的黑矩阵成分，每个聚合分子都包括极性部分和非极性部分；提供基板；在基板上形成黑矩阵成分的层；以及施加活化能到基板上的黑矩阵成分。非极性部分疏墨并响应施加到黑矩阵成分的表面的活化能向黑矩阵成分的表面迁移。聚合分子的极性部分相对于非极性部分亲墨。

通过以下的具体描述、附加的权利要求书和附图，本发明的其他特征和方案将更加显而易见。

附图说明

图1为描述根据本发明的一些方案的示例性方法的流程图；

图2是根据本发明的一些方案由黑矩阵合成物涂覆的部分示例性基板的放大截面示意图；

图3是根据本发明的一些方案由黑矩阵合成物涂覆的暴露于能量的部分示例性掩模基板的放大的截面示意图；

图4是根据本发明的一些方案部分示例性黑矩阵像素着墨孔的放大的截面示意图；

图5是根据本发明的一些方案具有疏墨的顶表面和亲墨的侧壁表面的部分示例性黑矩阵像素着墨孔的放大的截面示意图；

图6是根据本发明的一些方案由墨水填充的部分黑矩阵像素着墨孔的放大的截面示意图；

图7是根据本发明的一些方案具有亲墨极性部分和疏墨的非极性部分的聚合添加剂分子的放大示意性视图；

图8是根据本发明的一些方案在应用活化能之前在黑矩阵成分中的聚合添加剂分子的放大示意性视图；

图9是根据本发明的一些方案在应用活化能之后在黑矩阵成分中的聚合添加剂分子的放大示意性视图；

图10是根据本发明的一些方案具有非极性尾部的润湿添加剂例子的结构式；

图11是根据本发明的一些方案具有非极性主体部分的润湿添加剂例子的结构式；

图12是根据本发明的一些方案硅聚合物润湿添加剂例子的结构式。

具体实施方式

平板显示器制造可使用包括印在玻璃(或其它材料)基板上的不同颜色墨水的滤色片。可使用适于直接精确喷射墨水和/或其它适宜材料到由像素矩阵(典型地称之为“黑矩阵”)限定的特定像素着墨孔中的喷墨打印机沉积墨水。在墨水沉积之前，可使用光刻或任意适宜工艺在基板上形成像素着墨孔的黑矩阵。

与液体接触的材料具有对液体吸引或者排斥的反应。材料的成分，其对应的表面化学性质，以及液体的化学性质决定与液体的交互作用。这种现象称为亲水性(例如，类似于对液态墨水的亲墨性)和疏水性(例如，类似于对液态墨水的疏墨性)。

亲水性，也称为亲水的，是展现出对水亲和力的材料特性。亲水的字面意思是“与水亲密”并且该材料容易吸收水。表面化学性质允许这些材料润湿在表面上形成液态膜或者涂层。亲水材料还具有高表面张力值并具有与水形成键合的能力。

疏水性，也称为疏水的，是相比于亲水材料对水具有相反的反应的材料特性。疏水材料(“与水疏离”)具有很小或者没有吸收水的趋势并且在它们的表面上水趋于“珠”状(即，形成离散的液滴)。疏水材料具有低表面张力值并在它们的表面化学物质中缺少与水形成键合的活性基团。

注意到一些情形下，单一材料相对于例如水基的液体可以是“亲性的”，而相对于例如油基的液体可以是“疏性的”，或者反之亦然。在此使用的词亲水性、亲墨性、疏水性以及疏墨性意指相对的术语，材料对于一些墨水可以是疏墨的，而对于其它墨水可以是亲墨的。另外，不能因为材料是疏水性的就认为该材料是疏墨的。同样，不能因为材料是亲水性的就认为该材料是亲墨的。因此，例如，材料可以同时是疏水及亲墨性的，或者同时是亲水或者疏墨的，因为例如墨水可以油基或者水基。

润湿性指对每个成分产生一个值的材料的表面性质属性。润湿是当两者接触时，流体和表面表面之间的接触状态。当液体具有高表面张力值(强内部键合)时，它将形成液滴，而具有低表面张力值的液体则会在较大区域上铺展开(与表面结合)。另一方面，如果表面具有高表面能(或者表面张力)，液滴将伸展或者润湿表面。如果表面具有低表面能，则会形成液滴。该现象是界面能最小化的结果。如果表面是高能量的，则希望由液体覆盖，原因在于该界面将降低其能量等等。材料的表面张力值可以用于通过特别的液体确定材料的润湿性。通过测量固体表面和在表面上的液滴之间接触角，可以计算固体材料的表面张力。

表面张力(或能量)指由当使两种不同材料(例如，在固体表面上的液滴)彼此接触形成界面或者边界时发生的由分子力不平衡引起的力。该力产生的原因在于对于所有材料在它们接触点发生的响应分子力的不平衡以减少它们的表面面积的趋势。该力的结果将随着不同液体和固体的系统改变，其将控制液滴和表面之间的润湿性和接触角。

对于在固体表面上的特定液滴，接触角是在固体表面和沿与固体接触点与液滴半径相切的线之间形成的角度的测量值。接触角与杨氏方程的表面张力相关，通过杨氏方程可以计算特定的液-固交互作用的行为。零度接触角导致润湿，而在零度和九十度之间的角度导致液体的铺展(由于分子引力)。大于九十度的角度表示液体趋向水珠或者远离固体表面缩减。90°或者更大的接触角一般表现表面为非湿性的，而一个小于90°的角度意味着该表面是可湿性的。对水而言，可湿性表面还可称为亲水性的而非湿性的表面可称为疏水性的。同样，对墨水而言，可湿性表面还可称为亲墨的而非湿性表面还可称为疏墨的。超疏(superphobic)表面具有大约150°的接触角，一般表现为在液滴和表面之间不接触。这种情况有时候称为“荷叶效应(Lotus effect)”。在较大面积上铺展开的属性有时候称为“润湿效应”。

由于基板和/或用于形成黑矩阵的材料的亲墨性/疏墨性的变化，沉积在像素着墨孔中的墨滴的截面轮廓(例如，分布)可能对于形成滤色片不是最佳的。在一些情形下，像素着墨孔内墨水的不均匀分布可能导致滤色片中的缺陷。

通常，黑矩阵由包括以下材料的成分形成：颜料分散添加剂、引发剂、聚合单体或者低聚物或者其结合(例如，光聚合单体、热聚合单体等)、粘合剂树脂、环氧基单体和溶剂。本发明的方法和装置提供进一步包括改善黑矩阵润湿性质的润湿添加剂的黑矩阵成分。例如，在一些实施方式中，润湿添加剂可增加黑矩阵的顶平坦表面的疏墨性，诸如每个像素着墨孔的顶部的表面，同时改变(例如，降低)由黑矩阵限定的每个像素着墨孔的侧壁表面的疏墨性(或者改变(例如，增加)亲墨性)。该黑矩阵成分可在喷墨期间降低彩色墨水的混合并改善每个像素着墨孔内墨水的分布，改善填充轮廓和滤色片的色对比度。具体地，非有意地落在像素矩阵顶表面上的墨水将落入像素着墨孔中并更佳地润湿侧壁。本发明的墨水落入像素着墨孔中并在像素着墨孔中展开的趋势降低了在分配墨水时对于打印机的准确度或精确度的要求。

在一个或多个实施方式中，润湿添加剂(wetting additive)可包括具有聚合分子的任意材料其中每个聚合分子均具有相对亲墨极性部分和相对疏墨非极性部分。例如，该材料可包括一个或多个含疏水基的单体和/或低聚物诸如氟化的丙烯酸酯单体和/或低聚物、含硅树脂基(silicone-group-contained)丙烯酸酯单体和/或低聚物、其它丙烯酸酯单体和/或低聚物、活性蜡和/或氟硅烷。聚合是在反应的单体和/或低聚物共同起化学反应以形成三维网络结构或者聚合物链的工艺。如下进一步所述，可以采用这些润湿添加剂代替例如环氧基单体，并由在黑矩阵的顶表面处浓缩添加剂分子疏墨端的固化(curing)步骤“活化(activated)”。在图案化时，可以形成具有疏墨极性像素着墨孔(顶)表面和亲墨(例如，相对于黑矩阵的顶平坦表面)像素着墨孔侧壁表面的黑矩阵。

以下参照图1至图12描述根据本发明的示例性的黑矩阵成分、形成黑矩阵成分的方法和制造黑矩阵的方法。例如，图1示出根据本发明的实施方式在基板上制造黑矩阵的方法101。参照图1，在步骤105中，可以形成包括润湿添加剂的黑矩阵成分。例如，黑矩阵成分可包括润湿添加剂诸如含疏水基的单体或低聚物(例如，氟化丙烯酸酯单体或低聚物、含硅树脂基的丙烯酸酯单体和/或低聚物、其它丙烯酸酯单体和/或低聚物等)。

黑矩阵成分可包括其它成分诸如，例如颜料分散剂、引发剂(例如，光引发剂)、聚合单体、粘合剂树脂、溶剂等。包括的颜料分散剂用于在整个黑矩阵成分分散颜料(例如，碳黑)。包括的引发剂用于帮助聚合反应(例如，光聚合反应、热聚合反应或者其它可行反应)。可包括聚合单体(或低聚物)以聚合所述成分从而形成黑矩阵。该分子的实施例包括丙烯酸酯单体/低聚物、环氧单体/低聚物等。可包括粘合剂树脂以给予黑矩阵结构、硬度和强度。该粘合剂树脂的实施例包括丙烯酸酯粘合剂。可包括溶剂以临时(例如，直到溶剂蒸发)降低成分的粘度以有助于施加成分到基板(例如，使用旋涂或狭缝式涂布(slit coating)方法)。该溶剂的实施例包括丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)或其它适宜的溶剂诸如有机溶剂。

在至少部分实施方式中，黑矩阵成分可包括按不包括溶剂的总成分的重量计约百万分之100到约百万分之10,000的浓度的润湿添加剂(包括具有亲墨极性部分和疏墨非极性部分的聚合分子)。在部分实施方式中，润湿添加剂的浓度可能优选为按照不包括溶剂的总成分的重量计在约500ppm到5,000ppm的范围内。然而，可采用不同浓度范围的润湿添加剂。另外的示例性润湿添加剂包括由位于PA的Exton的Sartomer有限公司制造的一个或多个CN4000、CN9800、CN990，由德国Dusseldorf的Degussa AG制造的TEGO^Rad 2000系列(例如2200n，2350和/或等等)，TEGO^Glide系列和/或TEGO^Flow系列等等。然而，可采用一个或多个另外的和/或不同的添加剂。

适当的润湿添加剂的选择可基于，例如，润湿添加剂的分子量、疏水基浓度、反应性等。在一些实施方式中，润湿添加剂可具有在约100Mw到约100,000Mw(重均分子量)范围内的分子量。重均分子量优选为在500Mw到10,000Mw的范围内。尽管可以采用具有较大或较小和/或不同分子量的润湿添加剂。

在步骤107中，提供基板。例如，基板可包括玻璃、三醋酸纤维素(TAC)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘乙酯(PEN)、聚氯乙烯(PVC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、环烯烃共聚合物(COP)和/或其它适宜的材料。图2是可根据方法101处理的基板201的侧部截面视图。

在步骤109中，可在基板201上形成黑矩阵成分205的层203(图2)。可采用沉浸方法、喷雾方法、旋转方法和旋涂方法或者其它适宜的方法以在基板201上形成黑矩阵成分层203。以这种方式，基板201可由黑矩阵成分205涂覆。可加热基板201以干燥黑矩阵成分205。从而，在黑矩阵成分205中的溶剂可蒸发。该后烤(post-coating)加热的方法可称之为“软烘”工艺。

在步骤111中，活化能可施加到黑矩阵成分205以聚合润湿添加剂，从而极化润湿添加剂的分子，使得分子的疏墨部分朝向活化能迁移。取决于成分205可使用任意可行的活化能源完成聚合。例如，紫外光、电子束、激光和/或灯可用做活化能源。可使用其它活化能源或结合。

在一些实施方式中，在步骤111中，可构图黑矩阵成分的层203。例如，如图3所示，掩膜301可放置在(或形成在)黑矩阵成分层203上部。其后，可使用UV或其它波长光或者能量303以通过掩膜301照射黑矩阵成分层203。能量303可曝光黑矩阵成分层203的部分305，但是不曝光黑矩阵成分层203的其它部分307。注意到在可选实施方式中，可采用负掩膜，其中可将黑矩阵成分层203的相反部分307暴露于能量303中。

当具有适当波长的光(或其它能量)冲击黑矩阵成分层203的一部分时，在黑矩阵成分层205中的引发剂可吸收光303(能量)以在暴露部分形成自由基分子。引发剂可用作聚合位于黑矩阵成分层203暴露部分中的聚合单体的聚合引发剂。因此，该黑矩阵成分层203的暴露部分可包括引起聚合单体聚合的聚合体。在该光刻曝光时，润湿添加剂的聚合单体可禁闭(lock in)。

在暴光之后，可在基板201上执行显影步骤。例如，可采用显影液以显影黑矩阵成分层203的暴露或未暴露部分，以去除该部分。例如，在暴露部分中所包括的粘合剂树脂可与显影液反应。图4是在显影之后基板201的横截面视图的实施例。

由显影部分去除产生的空间用作在形成滤色片时经由喷墨装置将墨水注入其中的像素区域或者着墨孔401，这些空间限定了黑矩阵403。

基板201可进一步固化。例如，基板201可加热或暴露于紫外光、电子束辐射、激光等。从而在层203中的黑矩阵成分可以固化及交叉耦合以在黑矩阵成分层203中形成交叉耦合树脂。如图5所示，当黑矩阵成分层203经历能量501时，润湿添加剂分子的疏墨非极性部分可上升到黑矩阵成分层203的顶表面503，在接近黑矩阵成分层203的顶表面503形成疏墨层505。该疏墨层505为相对地疏墨(例如，比包括较低浓度或者不含润湿添加剂的黑矩阵材料更加疏墨)。

以这种方式，黑矩阵403的顶表面503可以是疏墨的，而在黑矩阵中形成(例如，邻近像素区域401)的各个像素着墨孔的侧壁表面507的疏墨程度小于顶表面503，在一些实施方式中，甚至是亲墨的。从而，黑矩阵的顶表面503可在邻近的像素着墨孔之间防止漏墨，并因此，可在喷射工艺期间防止墨水颜色的混合以及有助于改善像素着墨孔的填充轮廓(例如，像素着墨孔的更加一致及完全的填充)。从而可生产改善的滤色片。例如，图6是根据本发明的实施方式基板201的像素区域401中的墨水601的截面侧视图。参照图6，在固化之后在黑矩阵403的顶表面503集中的润湿添加剂致使顶表面503疏墨，而侧壁表面507保持较小的疏墨性，甚至亲墨性。因此，墨水601可聚成珠远离黑矩阵403的顶表面503，使得墨水601不超出像素区域401铺展。

在实践中，润湿添加剂的迁移可以是在整个像素着墨孔形成工艺期间(例如，在基板上黑矩阵成分层形成期间、在软烘期间、在任意UV固化工艺期间等)发生的动态工艺。在至少一个实施方式中，软烘时间可以是在约105℃温度约1.5分钟(在空气中)。UV固化(曝光)可以是在空气中约30-60秒，最终固化可以是在空气中约10分钟。根据其它烘烤和/或固化气体环境(例如，氮气、氩气等)可以采用其它软烘、UV固化和/或最终固化时间。

图7示出根据本发明的实施方式可用作润湿添加剂的示例性分子701。参照图7，示例性分子701可包括可以是亲墨和/或反应性的第一端703。另外，示例性分子701可包括可为疏墨的第二端705。

图8示出根据本发明的实施方式在黑矩阵成分205中图7的示例性分子701的固化前(例如，在活化能应用之前)取向801。参照图8，在固化前取向801中，分子的第一和第二端703、705可大约随机定向，并且分子大致均匀分布在整个黑矩阵成分205中。

图9示出根据本发明的实施方式在黑矩阵成分205中图7的示例性分子701的固化后(例如，在应用活化能之后)取向801。参照图9，在黑矩阵材料固化期间，分子701升至黑矩阵成分205的顶表面503处，其中分子701的疏墨端705位于或邻近顶表面503(例如，暴露于活化能的表面)，以形成之前所述的疏墨层505。因此，顶表面503比黑矩阵材料内形成的任意侧壁更具有疏墨性。

现在开始参照图10至图12，描述了根据本发明适宜用作润湿添加剂的三种特别实施例的聚合分子的结构式。图10描述了具有包括疏墨的CF₂链的非极性尾部分1002的润湿添加剂分子1000实施例的结构式。极性部分1004包括双键键合到第一氧原子和以单独键键合到第二氧原子的羰基碳原子。极性部分1004是亲墨的。分子1000进一步包括也直接附接到羰基碳原子的极性部分1004的聚合部分1006。聚合部分1006包括彼此双键键合的两个碳原子。图11描述了具有非极性主体部分的示例性润湿添加剂分子1100的结构式。图12描述了示例性硅聚合物润湿添加剂分子1200的结构式。

传统的黑矩阵材料表达式可包括传统的成分诸如单体、低聚物/聚合物、光引发剂、颜料、溶剂等。落在该黑矩阵材料上的墨水通常产生在黑矩阵顶表面上小于约5度的墨水接触角。相反，本发明包含的添加剂可用于从约10到约75度改变在黑矩阵顶表面上的墨水接触角，更优选地从约25到约60度。所用的添加剂的浓度和处理条件(例如，活化/曝光时间和能量、其它成分等)可用于调整接触角至在以上范围内更明确所需的值(例如，约28度、约35度等)。

前述的描述仅仅公开了本发明的示例性实施方式。落入本发明范围内的以上所公开的装置和方法的修改对于本领域的普通技术认识将是显而易见的。例如，可以改变在黑矩阵成分中的颜料分散剂、引发剂、聚合单体、粘合剂树脂和/或溶剂的浓度。同样，在一些实施方式中，可在平板显示器的薄膜晶体管(TFT)层上直接形成黑矩阵。例如，本发明还可应用到间隔垫形成、偏光器涂覆和纳米颗粒电路形成的工艺中。

因此，虽然已经结合本发明的示例性实施方式公开本发明，但是应该理解其它实施方式可以落入如以下的权利要求书所限定的本发明的精神和范围内。

Claims

1.一种用于形成平板显示器的滤色片的黑矩阵成分，包括：

包括聚合分子的添加剂，所述每个聚合分子都包括极性部分和非极性部分，其中所述非极性部分具有疏墨性。

2.根据权利要求1所述的黑矩阵成分，其特征在于，在所述表面暴露于活化能时，所述聚合分子的所述非极性部分朝向所述黑矩阵成分的表面迁移。

3.根据权利要求1所述的黑矩阵成分，其特征在于，所述聚合分子的所述极性部分相对于所述非极性部分具有亲墨性。

4.根据权利要求1所述的黑矩阵成分，其特征在于，所述添加剂包括以下至少其中之一：氟化丙烯酸酯单体、氟化丙烯酸酯低聚物、含硅树脂基的丙烯酸酯单体、含硅树脂基的丙烯酸酯低聚物、含疏水基的丙烯酸酯单体、含疏水基的丙烯酸酯低聚物、活性蜡和氟硅烷。

5.根据权利要求1所述的黑矩阵成分，其特征在于，进一步包含以下至少其中之一：

颜料分散剂；

引发剂；

聚合单体或低聚物；

粘合剂树脂；以及

溶剂。

6.根据权利要求1所述的黑矩阵成分，其特征在于，所述黑矩阵成分包括按重量计占有不含任何溶剂的黑矩阵成分的约百万分之100到约百万分之10,000浓度范围内的添加剂。

7.根据权利要求1所述的黑矩阵成分，其特征在于，所述添加剂具有在从约100Mw到约100,000Mw重均分子量范围内的分子量。

8.一种用于形成平板显示器的滤色片的涂覆基板，包括：

基板；以及

在所述基板上形成的黑矩阵成分的层，其中所述黑矩阵成分包括聚合分子，所述每个聚合分子都包括极性部分和非极性部分，其中所述非极性部分具有疏墨性。

9.根据权利要求8所述的涂覆基板，其特征在于，在所述表面暴露于活化能的时候，所述聚合分子的非极性部分朝向所述黑矩阵成分的表面迁移。

10.根据权利要求8所述的涂覆基板，其特征在于，所述聚合分子的所述极性部分相对于所述非极性部分具有亲墨性。

11.根据权利要求8所述的涂覆基板，其特征在于，所述聚合分子包括以下至少其中之一：氟化丙烯酸酯单体、氟化丙烯酸酯低聚物、含硅树脂基的丙烯酸酯单体、含硅树脂基的丙烯酸酯低聚物、含疏水基的丙烯酸酯单体、含疏水基的丙烯酸酯低聚物、活性蜡和氟硅烷。

12.根据权利要求8所述的涂覆基板，其特征在于，所述黑矩阵成分进一步包含以下至少其中之一：

颜料分散剂；

引发剂；

聚合单体或低聚物；

粘合剂树脂；以及

溶剂。

13.根据权利要求8所述的涂覆基板，其特征在于，所述黑矩阵成分包括按重量计占有不含任何溶剂的黑矩阵成分的约百万分之100到约百万分之10，000浓度范围内的添加剂。

14.根据权利要求8所述的涂覆基板，其特征在于，所述聚合分子具有在从约100Mw到约100,000Mw重均分子量范围内的分子量。

15.一种形成平板显示器的滤色片的方法，包括：

形成包括聚合分子的黑矩阵成分，所述每个聚合分子都包括极性部分和非极性部分，其中所述非极性部分具有疏墨性；

提供基板；

在所述基板上形成所述黑矩阵成分的层；以及

施加活化能到所述基板上的所述黑矩阵成分。

16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，形成黑矩阵成分进一步包括形成黑矩阵成分，在该黑矩阵成分中所述聚合分子的所述非极性部分响应于向所述黑矩阵成分施加的活化能向所述黑矩阵聚合物的表面移动。

17.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，形成黑矩阵成分进一步包括形成黑矩阵成分，其中所述聚合分子的所述极性部分相对于所述非极性部分具有亲墨性。

18.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，形成黑矩阵成分进一步包括形成其中所述聚合分子包括以下至少其中之一的黑矩阵成分：氟化丙烯酸酯单体、氟化丙烯酸酯低聚物、含硅树脂基的丙烯酸酯单体、含硅树脂基的丙烯酸酯低聚物、含疏水基的丙烯酸酯单体、含疏水基的丙烯酸酯低聚物、活性蜡和氟硅烷。

19.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，形成黑矩阵成分进一步包括形成所述黑矩阵成分进一步以下至少其中之一的黑矩阵成分：

颜料分散剂；

引发剂；

聚合单体或低聚物；

粘合剂树脂；以及

溶剂。

20.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，形成黑矩阵成分进一步包括形成黑矩阵成分，在该黑矩阵成分中所述聚合分子呈现按重量计占有不含任何溶剂的黑矩阵成分的约百万分之100到约百万分之10,000浓度范围内。

21.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，形成黑矩阵成分进一步包括形成黑矩阵成分，在该黑矩阵成分中所述聚合分子具有在从约100Mw到约100,000Mw范围内的重均分子量。

22.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，向所述黑矩阵成分施加活化能包括向所述黑矩阵成分施加电子束辐射。

23.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，进一步包括图案化在所述黑矩阵成分中的矩阵。

24.根据权利要求23所述的方法，其特征在于，向所述黑矩阵成分施加活化能包括聚合所述黑矩阵成分，使得所述矩阵的顶表面具有疏墨性而所述矩阵的侧表面具有亲墨性。