CN104404450B - 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 - Google Patents
用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104404450B CN104404450B CN201410593595.6A CN201410593595A CN104404450B CN 104404450 B CN104404450 B CN 104404450B CN 201410593595 A CN201410593595 A CN 201410593595A CN 104404450 B CN104404450 B CN 104404450B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- body part
- crucible
- oled material
- base portion
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 230000005484 gravity Effects 0.000 abstract description 6
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/60—Forming conductive regions or layers, e.g. electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/82—Cathodes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明提供一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，包括本体部(1)及连接于所述本体部(1)的上盖部(2)，所述上盖部(2)的顶端中心设有一出气孔(21)，所述本体部(1)的内表面具有锥度，且所述本体部(1)靠近上盖部(2)一侧的内径大于本体部(1)远离上盖部(2)一侧的内径。本发明通过将坩埚的内壁设计成具有一定的锥度，使OLED材料升华后，剩余的OLED材料在重力作用下下沉，继续保持与坩埚内壁的充分接触，从而使其受热更充分，同时保证蒸镀速率的稳定。
Description
技术领域
本发明涉及OLED制程领域，尤其涉及一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚。
背景技术
OLED是一种极具发展前景的平板显示技术，它具有十分优异的显示性能，具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性，被誉为“梦幻显示器”。再加上其生产设备投资远小于TFT-LCD，得到了各大显示器厂家的青睐，已成为显示技术领域中第三代显示器件的主力军。目前OLED已处于大规模量产的前夜，随着研究的进一步深入，新技术的不断涌现，OLED显示器件必将有一个突破性的发展。
OLED有机材料的薄膜制备有两种工艺路线。对于高分子OLED材料，采用溶液成膜方式，这种工艺目前还处于试验室研究阶段。对于小分子OLED材料，目前普遍采用真空热蒸镀的成膜方式，这种工艺路线被平板显示行业的大多数工厂采用，比如三星、LG等。真空热蒸镀技术是在低于5x 10-5Pa的真空环境下，通过加热的方式将材料由固态变为蒸气状态，高速运动的气态分子到达玻璃基板并在基板上沉积固化，再变回为OLED材料的固体薄膜。对于熔融型材料，其受热后，会由固态变为液态，最后变为气态分子，这类型材料对于坩埚内部的形状并没有太高的要求，因为液态物质会到处流动，可以保持与坩埚内壁的充分接触。而对于升华型材料，其受热后，会直接由固态转化为气态分子。而现有用于OLED材料蒸镀的坩埚如图1所示，包括本体部100、连接于本体部100的上盖部200、及设于上盖部200中心的出气孔210，并且用于容纳OLED材料300的本体部100的内壁为圆柱状，由于固态物质缺乏流动性，所以在材料受热升华的过程中极有可能发生如图2所示的情况，OLED材料受热后，与坩埚内壁接触的OLED材料首先升华，变成气态分子跑掉，剩下的固态OLED材料无法流动，从而剩余的OLED材料无法与坩埚内壁充分接触，导致升华的速率不稳。如果设备运行在速率固定模式下，为保持升华速率，设备会不断加热以提高温度，这样极有可能超过OLED材料的裂解温度，导致OLED材料变质。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，通过将坩埚的内壁设计成具有一定的锥度，使OLED材料升华后，剩余的固态OLED材料在重力作用下下沉，继续保持与坩埚内壁的充分接触，从而使其受热更充分，同时保证蒸镀速率的稳定。
为实现上述目的，本发明提供一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，包括本体部及连接于所述本体部的上盖部，所述上盖部的顶端中心设有一出气孔，所述本体部的内表面具有锥度，且所述本体部靠近上盖部一侧的内径大于本体部远离上盖部一侧的内径。
所述本体部的内表面与竖直方向的夹角为0～65度。
所述本体部的内表面与竖直方向的夹角优选为5～25度。
所述坩埚的材料为不锈钢、钛或铝。
所述坩埚内壁的表面粗糙度为Ra.0～Ra.15。
所述上盖部包括一基部及连接于所述基部的出气部，所述出气孔设于出气部的中心；所述基部的外表面呈圆柱状，所述出气部的外表面呈圆台状，所述本体部的外表面呈圆柱状。
所述基部的外径大于本体部的外径，所述本体部的外径大于出气部的外径。
所述出气部靠近基部一侧的外径大于出气部远离基部一侧的外径。
所述基部的内径大于本体部的内径，所述本体部的内径大于出气孔的直径。
所述出气孔靠近基部一侧的直径大于出气孔远离基部一侧的直径。
所述升华型OLED材料为用于成膜OLED有机层的有机材料或用于成膜OLED金属阴极及LiF等无机材料。
本发明的有益效果：本发明提供的用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，通过将坩埚的内壁设计成具有一定的锥度，使OLED材料升华后，剩余的固态OLED材料在重力作用下下沉，继续保持与坩埚内壁的充分接触，从而使其受热更充分，同时保证蒸镀速率的稳定。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图1为一种现有用于OLED材料蒸镀的坩埚的剖面示意图；
图2为使用如图1所示的坩埚进行蒸镀的示意图；
图3为本发明用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚的剖面示意图；
图4为使用如图3所示的坩埚进行蒸镀的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图3，本发明提供一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，包括本体部1及连接于所述本体部1的上盖部2，所述上盖部2的顶端中心设有一出气孔21，所述本体部1的内表面具有锥度，且所述本体部1靠近上盖部2一侧的内径大于本体部1远离上盖部2一侧的内径。本发明中针对固态的升华型OLED材料，将坩埚的内壁设计成具有一定的锥度，以保证OLED材料升华后，剩余的固态OLED材料在重力作用下会下沉，继续保持与坩埚内壁的充分接触。
如图3所示，所述本体部1的内表面与竖直方向的夹角θ控制在0～65度之间，优选的，所述夹角为5～25度。
所述坩埚的材料可以为不锈钢、钛或铝等其他金属材料。
所述坩埚内壁的表面粗糙度为Ra.0～Ra.15，以增大内表面与材料的接触面积，从而使OLED材料3受热均匀，保证蒸镀速率的稳定。
进一步的，如图3所示，所述上盖部2包括一基部22及连接于所述基部22的出气部23，所述出气孔21设于出气部23的中心；所述基部22的外表面呈圆柱状，所述出气部23的外表面呈圆台状，所述本体部1的外表面呈圆柱状。
基部22的内侧下端边缘与本体部1的外侧上端边缘连接。所述基部22的外径大于本体部1的外径，所述本体部1的外径大于出气部23的外径。所述出气部23靠近基部22一侧的外径大于出气部23远离基部22一侧的外径。所述基部22的内径大于本体部1的内径，所述本体部1的内径大于出气孔21的直径。所述出气孔21靠近基部22一侧的直径大于出气孔21远离基部22一侧的直径。
所述升华型OLED材料可以是用于成膜OLED有机层的有机材料或用于成膜OLED金属阴极及LiF等无机材料。
请参阅图4，当使用本发明的用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚进行蒸镀制程时，容纳于本体部1处的OLED材料3受热后，其与坩埚内表面相接处位置的OLED材料31首先受热升华，并由出气孔21挥发出去，而由于坩埚内壁倾斜角θ的设置，剩余的OLED材料在重力作用下会下沉，继续保持与坩埚内壁的充分接触，从而使其受热更充分，同时保证蒸镀速率的稳定。
值得一提的是，该坩埚可应用于OLED材料的真空热蒸镀，包括有机材料、金属阴极以及LiF等无机材料，同时也可以应用于其他真空热蒸镀领域。
综上所述，本发明提供一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，通过将坩埚的内壁设计成具有一定的锥度，使OLED材料升华后，剩余的固态OLED材料在重力作用下下沉，继续保持与坩埚内壁的充分接触，从而使其受热更充分，同时保证蒸镀速率的稳定。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (6)
1.一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，包括本体部(1)及连接于所述本体部(1)的上盖部(2)，所述上盖部(2)的顶端中心设有一出气孔(21)，其特征在于，所述本体部(1)的内侧面具有锥度，且所述本体部(1)靠近上盖部(2)一侧的内径大于本体部(1)远离上盖部(2)一侧的内径；所述本体部(1)的内底面为平面；随着靠近所述内底面，所述本体部(1)的内径呈线性减小；
所述坩埚内壁的表面粗糙度为Ra.0～Ra.15；
所述本体部(1)的内侧面与竖直方向的夹角为5～25度；
所述上盖部(2)包括一基部(22)及连接于所述基部(22)的出气部(23)，所述出气孔(21)设于出气部(23)的中心；所述基部(22)的外表面呈圆柱状，所述出气部(23)的外表面呈圆台状，所述本体部(1)的外表面呈圆柱状；
所述升华型OLED材料为用于成膜OLED有机层的有机材料或用于成膜OLED金属阴极及LiF无机材料。
2.如权利要求1所述的用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，其特征在于，所述坩埚的材料为不锈钢、钛或铝。
3.如权利要求1所述的用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，其特征在于，所述基部(22)的外径大于本体部(1)的外径，所述本体部(1)的外径大于出气部(23)的外径。
4.如权利要求3所述的用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，其特征在于，所述出气部(23)靠近基部(22)一侧的外径大于出气部(23)远离基部(22)一侧的外径。
5.如权利要求4所述的用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，其特征在于，所述基部(22)的内径大于本体部(1)的内径，所述本体部(1)的内径大于出气孔(21)的直径。
6.如权利要求5所述的用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，其特征在于，所述出气孔(21)靠近基部(22)一侧的直径大于出气孔(21)远离基部(22)一侧的直径。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410593595.6A CN104404450B (zh) | 2014-10-28 | 2014-10-28 | 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 |
| US14/422,687 US20160260934A1 (en) | 2014-10-28 | 2015-02-06 | Crucible for evapration of sublimate oled material |
| PCT/CN2015/072348 WO2016065767A1 (zh) | 2014-10-28 | 2015-02-06 | 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410593595.6A CN104404450B (zh) | 2014-10-28 | 2014-10-28 | 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104404450A CN104404450A (zh) | 2015-03-11 |
| CN104404450B true CN104404450B (zh) | 2018-06-01 |
Family
ID=52642112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201410593595.6A Active CN104404450B (zh) | 2014-10-28 | 2014-10-28 | 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20160260934A1 (zh) |
| CN (1) | CN104404450B (zh) |
| WO (1) | WO2016065767A1 (zh) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104404450B (zh) * | 2014-10-28 | 2018-06-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 |
| SG10201608496UA (en) * | 2016-10-11 | 2018-05-30 | Au Optronics Corp | Crucible |
| CN109234682A (zh) * | 2017-07-10 | 2019-01-18 | 合肥欣奕华智能机器有限公司 | 一种线性蒸发源及真空蒸镀装置 |
| CN107254663A (zh) * | 2017-07-13 | 2017-10-17 | 安徽省宁国市海伟电子有限公司 | 一种抗氧化型真空镀膜装置 |
| CN107177830A (zh) * | 2017-07-13 | 2017-09-19 | 安徽省宁国市海伟电子有限公司 | 全铝型金属化薄膜及其真空镀膜装置 |
| CN110191976B (zh) * | 2017-07-18 | 2021-12-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸发坩埚和蒸发设备 |
| CN107686968A (zh) * | 2017-08-14 | 2018-02-13 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀坩埚及蒸镀系统 |
| CN109722633B (zh) * | 2017-10-31 | 2021-07-06 | 上海和辉光电股份有限公司 | 一种坩埚及蒸镀装置 |
| CN110359014A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-10-22 | 惠科股份有限公司 | 一种蒸镀设备和坩埚装置 |
| CN111020491B (zh) * | 2019-12-30 | 2021-11-05 | 厦门天马微电子有限公司 | 蒸镀装置和蒸镀设备 |
| KR20220016344A (ko) * | 2020-07-30 | 2022-02-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 도가니 장치 및 이를 포함하는 증착 장치 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3039550B2 (ja) * | 1988-08-11 | 2000-05-08 | 日本電気株式会社 | カラーテレビジョン信号処理回路 |
| US5157240A (en) * | 1989-09-13 | 1992-10-20 | Chow Loren A | Deposition heaters |
| US5253266A (en) * | 1992-07-20 | 1993-10-12 | Intevac, Inc. | MBE effusion source with asymmetrical heaters |
| SG149680A1 (en) * | 2001-12-12 | 2009-02-27 | Semiconductor Energy Lab | Film formation apparatus and film formation method and cleaning method |
| KR100592304B1 (ko) * | 2004-11-05 | 2006-06-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 가열 용기와 이를 구비한 증착 장치 |
| JP5798452B2 (ja) * | 2011-11-16 | 2015-10-21 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 蒸発源 |
| DE102011122591A1 (de) * | 2011-12-30 | 2013-07-04 | Dr. Eberl Mbe-Komponenten Gmbh | Vorrichtung zum Verdampfen eines Verdampfungsguts |
| DE102012022619B3 (de) * | 2012-11-19 | 2014-03-06 | Createc Fischer & Co. Gmbh | Verdampferzelle, Beschichtungsvorrichtung und Verfahren zur Verdampfung eines Verdampfungsmaterials |
| KR20140073764A (ko) * | 2012-12-07 | 2014-06-17 | 주식회사 선익시스템 | 증발원용 도가니 |
| CN104078626B (zh) * | 2014-07-22 | 2016-07-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 用于oled材料蒸镀的加热装置 |
| CN104404450B (zh) * | 2014-10-28 | 2018-06-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 |
-
2014
- 2014-10-28 CN CN201410593595.6A patent/CN104404450B/zh active Active
-
2015
- 2015-02-06 WO PCT/CN2015/072348 patent/WO2016065767A1/zh active Application Filing
- 2015-02-06 US US14/422,687 patent/US20160260934A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN104404450A (zh) | 2015-03-11 |
| US20160260934A1 (en) | 2016-09-08 |
| WO2016065767A1 (zh) | 2016-05-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104404450B (zh) | 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 | |
| CN105648404B (zh) | 蒸镀坩埚 | |
| CN104078626B (zh) | 用于oled材料蒸镀的加热装置 | |
| CN104593729B (zh) | 防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚 | |
| CN103993266B (zh) | 真空蒸镀设备 | |
| CN106868457B (zh) | 一种蒸镀组件及蒸镀设备 | |
| US20160230272A1 (en) | Evaporation source heating device | |
| CN109355628A (zh) | 蒸镀坩埚 | |
| WO2018214515A1 (zh) | 用于蒸镀装置的载板及其蒸镀装置 | |
| CN104694883A (zh) | 一种坩埚 | |
| CN106191785B (zh) | 坩埚、蒸镀装置及蒸镀系统 | |
| CN105543784B (zh) | 一种蒸镀系统 | |
| CN104805409A (zh) | 采用磁控溅射-掩模辅助沉积制备Ag纳米线阵列电极的方法 | |
| CN209292463U (zh) | 一种石墨坩埚的保护容器 | |
| CN207749178U (zh) | 一种oled蒸镀坩埚 | |
| KR102144790B1 (ko) | 리니어 증착유닛 및 이를 포함하는 리니어 증착장치 | |
| CN104060227A (zh) | 蒸发源及蒸镀装置 | |
| CN203411600U (zh) | 一种线性蒸发源 | |
| CN103290365A (zh) | 一种线性蒸发源 | |
| CN205501401U (zh) | 新型镀膜容器 | |
| KR20150101897A (ko) | Oled 증착기 소스 | |
| CN104762596A (zh) | 一种真空镀膜装置 | |
| CN204779760U (zh) | 一种用于高氯砷生产的真空升华装置 | |
| KR101499019B1 (ko) | Oled 증착기 소스 | |
| KR102258506B1 (ko) | 고주파 유도가열 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |