CN104330959B - 光刻胶剥离液制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光刻胶剥离液制备方法，其特征在于其特征在于它是在配料罐中加入甲苯或二甲苯为溶剂，向其中通入苯酚，混合；将乳化剂用水稀释，然后其中加入络合剂，混合均匀后，过滤后，加入至配料罐中，混合后，过滤，得成品；其中：乳化剂为OP‑10与TX‑100按0.5‑2:1混合而成，乳化剂的加入质量为苯酚的0.1‑0.6%；络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:0.5‑2的质量比混合而成，络合剂的加入质量为乳化剂的3‑8%。本发明光刻胶剥离液制备方法生产出的光刻胶剥离液具有油溶性好水溶性好，不会侵蚀铝银材质的优点。
Description
技术领域
本发明涉及一种光刻胶剥离液制备方法。
背景技术
液晶面板和触摸屏等制造过程中，还需要通过多次图形掩膜照射曝光及蚀刻等工序在硅晶圆或玻璃基片上形成多层精密的微电路，形成微电路之后，进一步用光刻胶剥离液将涂覆在微电路保护区域上作为掩膜的光刻胶除去。在电容式触摸屏生产中，采用真空镀膜方式在玻璃基板上溅镀上底层ITO 镀层之后，需要采用旋涂方式在ITO 玻璃基板上多次制作光刻胶层、曝光显影及脱模工序；液晶显示装置的彩色滤光片制造过程中，利用旋转涂布、狭缝涂布或狭缝与旋转涂布等方法涂布光刻胶的过程中，不可避免地将光刻胶涂布于基板边缘或背面，这些多余的光刻胶会造成设备污染，从而增加了清洗设备的生产成本，因此必须用光刻胶剥离液去除多余光刻胶。
传统的国内生产的光刻胶剥离液一般由两种方式：
1、邻二氯苯剥离液，其优点是邻二氯苯具有较好的水溶性以及油溶性，但是其缺陷是它不能对金属化后进行剥离，对于蒸铝、蒸银剥离时，氯会对铝和银材质造成侵蚀，使得产品发黑变质。
2、苯酚剥离液，剥离容易，但是由于苯酚存在油溶性好水溶性差的缺陷，不便剥离后的后续清洗。
发明内容
本发明的目的在于克服上述不足，提供一种生产出的光刻胶剥离液剥离性好，同时具有良好的油溶性和水溶性，不会侵蚀铝银材质的光刻胶剥离液制备方法。
本发明的目的是这样实现的：
一种光刻胶剥离液制备方法，它是在配料罐中加入甲苯或二甲苯为溶剂，向其中通入苯酚，混合；
将乳化剂用水稀释，然后其中加入络合剂，混合均匀后，过滤后，加入至配料罐中，混合后，过滤，得成品；
其中：
乳化剂为OP-10与TX-100按0.5-2:1混合而成，乳化剂的加入质量为苯酚的0.1-0.6%；
络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:0.5-2的质量比混合而成，络合剂的加入质量为乳化剂的3-8% 。
进一步的，所述乳化剂为OP-10与TX-100按2:1混合而成。
进一步的，所述乳化剂的加入质量为苯酚的0.2%。
进一步的，所述络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:1的质量比混合而成。
进一步的，所述络合剂的加入质量为乳化剂的5% 。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明光刻胶剥离液制备方法，通过两种乳化剂的配比，能采用较少的乳化剂达到极好的乳化效果，但是仍会引进有害的金属离子，通过络合剂配比加入，能以极小的量去除乳化剂中的金属离子，同时，微量的络合剂进入混合管中，能进一步去除光刻胶剥离液的金属离子，使得生产出的光刻胶剥离液，剥离效果好，不会侵蚀铝、银基材，没有发黑、变质现象产生。同时，剥离后，用水清洗极易去除，无残留。
具体实施方式
实施例1：
本发明涉及的一种光刻胶剥离液制备方法，在配料罐中加入甲苯或二甲苯为溶剂，向其中通入苯酚，混合；
将乳化剂用水稀释，然后其中加入络合剂，混合均匀后，过滤，将过滤后的乳化剂和络合剂的混合溶液加入至配料罐中，充分混合后，过滤，得成品。
其中：
乳化剂为OP-10与TX-100按2:1混合而成，乳化剂的加入量为苯酚的0.2%。
络合剂为二乙烯三胺五乙酸（DTPA）与羟乙基乙烯二胺三乙酸(HEDTA)按1:1的混合而成，络合剂的加入量为乳化剂的5% 。
制得的成品用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
用于银基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
实施例2：
本发明涉及的一种光刻胶剥离液制备方法，在配料罐中加入甲苯或二甲苯为溶剂，向其中通入苯酚，混合；
将乳化剂用水稀释，然后其中加入络合剂，混合均匀后，过滤，将过滤后的乳化剂和络合剂的混合溶液加入至配料罐中，充分混合后，过滤，得成品。
其中：
乳化剂为OP-10与TX-100按1:1混合而成，乳化剂的加入量为苯酚的0.1%。
络合剂为二乙烯三胺五乙酸（DTPA）与羟乙基乙烯二胺三乙酸(HEDTA)按1:1的混合而成，络合剂的加入量为乳化剂的5% 。
制得的成品用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
用于银基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
实施例3：
本实施例与实施例1的区别在于：
乳化剂为OP-10与TX-100按1:2混合而成，乳化剂的加入量为苯酚的0.6%。
制得的成品用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
用于银基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
实施例4：
本实施例与实施例1的区别在于：
络合剂为二乙烯三胺五乙酸（DTPA）与羟乙基乙烯二胺三乙酸(HEDTA)按1:2的混合而成，络合剂的加入量为乳化剂的5% 。
制得的成品用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
用于银基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
实施例5：
本实施例与实施例1的区别在于：
络合剂为二乙烯三胺五乙酸（DTPA）与羟乙基乙烯二胺三乙酸(HEDTA)按2:1的混合而成，络合剂的加入量为乳化剂的8% 。
制得的成品用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
用于银基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。剥离后，用水清洗，极易去除，无残留。
对比例1：
本对比例与实施例1的区别在于：
乳化剂为OP-10，加入量为苯酚的0.2%。
制得的剥离液用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。但是，剥离后，用水难以清洗，表面残留较多。
用于银基材光刻胶剥离，剥离后，用水难以清洗，表面残留较多。
对比例2：
本对比例与实施例1的区别在于：
乳化剂为TX-100，加入量为苯酚的0.1%。
制得的剥离液用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。但是，剥离后，用水难以清洗，表面残留较多。
用于银基材光刻胶剥离，剥离后，用水难以清洗，表面残留较多。
对比例3：
本对比例与实施例1的区别在于：
乳化剂为TX-100，加入量为苯酚的5%，不使用络合剂。
制得的剥离液用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。但是，剥离后，用水容易，但金属离子残留杂质较多。
对比例4：
本对比例与实施例1的区别在于：
络合剂为二乙烯三胺五乙酸。
制得的剥离液用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。但是，剥离后，用水容易，但金属离子残留杂质较多。
对比例5：
本对比例与实施例1的区别在于：
络合剂为羟乙基乙烯二胺三乙酸。
制得的剥离液用于铝基材光刻胶剥离，剥离效果好，不会侵蚀铝基材，没有发黑、变质现象产生。但是，剥离后，用水容易，但金属离子残留杂质较多。
Claims (6)
1.一种光刻胶剥离液制备方法，它是在配料罐中加入甲苯或二甲苯为溶剂，向其中通入苯酚，混合；其特征在于，它还包括：
将乳化剂用水稀释，然后其中加入络合剂，混合均匀后，过滤后，加入至配料罐中，混合后，过滤，得成品；
其中：
乳化剂为OP-10与TX-100按0.5-2:1混合而成，乳化剂的加入质量为苯酚的0.1-0.6%；
络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:0.5-2的质量比混合而成，络合剂的加入质量为乳化剂的3-8% 。
2.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液制备方法，其特征在于：所述乳化剂为OP-10与TX-100按2:1混合而成。
3.根据权利要求1或2所述的光刻胶剥离液制备方法，其特征在于：所述乳化剂的加入质量为苯酚的0.2%。
4.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液制备方法，其特征在于：所述络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:1的质量比混合而成。
5.根据权利要求1或2或4所述的光刻胶剥离液制备方法，其特征在于：所述络合剂的加入质量为乳化剂的5% 。
6.根据权利要求3所述的光刻胶剥离液制备方法，其特征在于：所述络合剂的加入质量为乳化剂的5% 。
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