CN104282845B - 密封设备和利用其制造显示装置的方法 - Google Patents

Abstract

提供了一种通过密封剂密封第一基板和第二基板的密封设备以及一种利用该密封设备制造显示设备的方法，所述密封设备包括：工作台，支撑第一基板和第二基板，其中，密封剂沿着第一基板和第二基板的边缘置于第一基板和第二基板之间，工作台包括被限定为与密封剂相对应的凹部；以及光学头，被构造成将光照射到密封剂上，其中，第一基板和第二基板通过照射到密封剂上的光而固定在一起，从而密封被第一基板和第二基板之间的密封剂包围的空间。

Description

密封设备和利用其制造显示装置的方法

本申请要求于2013年7月9日提交的第10-2013-0080269号韩国专利申请的优先权和通过其产生的所有权益，该申请的内容通过引用全部包含于此。

技术领域

本发明的示例性实施例涉及一种密封设备和一种利用该密封设备通过将光照射到显示装置上以密封显示装置的制造显示装置的方法。

背景技术

通常，有机发光显示器包括被限定有像素区域和非像素区域的基板和设置成与基板相对以密封基板的像素区域并通过密封剂结合到基板的容器或密封基板。

包括以矩阵形式布置并连接到扫描线和数据线的多个像素的像素阵列设置在基板的像素区域中。每个像素包括具有阳极、阴极和设置在阳极和阴极之间的有机薄膜层的有机发光二极管。有机薄膜层可以包括空穴传输层、有机发射层和电子传输层。

当湿气或氧渗透到包括有机材料的有机发光二极管中时，在有机发光二级管中可能出现诸如发射效率降低或发射颜色改变的故障，有机发光二极管的通常包括金属的阴极可能被氧化或被剥落。

发明内容

本发明的示例性实施例提供了一种能够防止密封剂与基板之间结合缺陷的密封设备。

本发明的示例性实施例还提供了一种用于制造显示装置的方法，在该方法中可以通过密封剂和基板之间的稳定结合来改善显示装置的密封效果和可靠性。

根据本发明的示例性实施例，一种通过密封剂密封第一基板和第二基板的密封设备包括：工作台，支撑第一基板和第二基板，其中，密封剂沿着第一基板和第二基板的边缘置于第一基板和第二基板之间，工作台包括被限定为与密封剂相对应的凹部；以及光学头，被构造成将光照射到密封剂上，其中，第一基板和第二基板通过照射到密封剂上的光而固定在一起，从而密封被第一基板和第二基板之间的密封剂包围的空间。

在示例性实施例中，凹部可以具有内侧壁和外侧壁，多个通风口可以被限定在外侧壁中。

在示例性实施例中，凹部可以为具有开口侧的阶梯形状。

在示例性实施例中，密封剂包括与第一基板和第二基板的四个边相对应的四个部分，凹部的与密封剂的两个相对的部分相对应的一部分包括内侧壁和外侧壁，以及凹部的与密封剂的另外两个相对的部分相对应的一部分为具有开口侧的阶梯形状。

在示例性实施例中，多个通风口可以被限定在凹部的与密封剂的所述两个相对的部分相对应的部分的外侧壁中。

在示例性实施例中，所述密封设备还可以包括被构造成使光学头沿着密封剂移动的移动单元。

在示例性实施例中，所述密封设备还可以包括被构造成向光学头提供光的光学振荡器。

在示例性实施例中，所述密封设备还可以包括：掩模，设置在工作台和光学头之间，其中，掩模包括被限定在掩模中以与密封剂相对应的透射部分。

在示例性实施例中，密封剂可以包括玻璃料。

在示例性实施例中，光可以是激光或红外光。

根据本发明的另一示例性实施例，提供了一种用于制造显示装置的方法，所述方法包括：将像素阵列设置在第一基板上；将密封剂设置在第二基板的侧部分上；将第二基板设置在第一基板上；将第一基板和第二基板设置在包括被限定为与密封剂相对应的凹部的工作台上；以及在使发射光的光学头在工作台上方沿着密封剂移动的同时，通过使光照射到密封剂上将密封剂与第一基板和第二基板结合。

在示例性实施例中，像素阵列可以包括有机材料。

在示例性实施例中，光可以是激光或红外光。

在示例性实施例中，设置密封剂的步骤可以包括：沿着第二基板的边缘涂覆膏状态的玻璃料；以及通过烧结膏状态的玻璃料来去除膏糊状态的玻璃料中的湿气。

附图说明

通过参照附图详细描述本发明的示例性实施例，本发明的上述和其他特征将变得更清楚，在附图中：

图1A是示出根据本发明的显示装置的示例性实施例的平面图；

图1B是沿图1A中的线I1-I2截取的剖视图；

图2是示出根据本发明的密封设备的示例性实施例的截面图；

图3A是示出根据本发明的密封设备中的工作台的示例性实施例的平面图；

图3B是沿图3A中的线I11-I12截取的剖视图；

图4A是示出根据本发明的密封设备中的工作台的可选择的示例性实施例的平面图；

图4B是沿图4A中的线I21-I22截取的剖视图；

图5A是示出根据本发明的密封设备中的工作台的另一可选择的示例性实施例的平面图；

图5B是沿图5A中的线I31-I32截取的剖视图；

图6是示出根据本发明的密封设备中的工作台的另一可选择的示例性实施例的平面图；

图7是示出根据本发明的密封设备中的工作台的另一可选择的示例性实施例的平面图；

图8和图9是示出根据本发明的密封设备的示例性实施例的截面图；以及

图10A至图10D是示出根据本发明的利用密封设备制造显示装置的方法的示例性实施例的截面图。

具体实施方式

在下文中将参照附图更充分地描述本发明，在附图中示出了本发明的实施例。然而，该发明可以以许多不同形式来实施，并且不应被解释为限制于这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得该公开将是彻底的和完全的，并将向本领域技术人员充分传达本发明的范围。相同的标号始终表示相同的元件。

将理解的是，当元件或层被称作“在另一元件或层上”、“与另一元件或层连接”或“与另一元件或层结合”时，该元件或层可直接在另一元件或层上、直接与另一元件或层连接、直接与另一元件或层结合，或者可存在中间元件或层。相反，当元件被称作“直接在另一元件或层上”、“直接与另一元件或层连接”或“直接与另一元件或层结合”时，不存在中间元件或层。相同的标号始终表示相同的元件。如这里所用的，术语“和/或”包括相关的所列项的一个或更多个的任意组合和全部组合。

将理解的是，尽管在这里可使用术语第一、第二等来描述不同的元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应被这些术语所限制。这些术语仅用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区别开来。因此，在不脱离本发明教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可被称为第二元件、组件、区域、层或部分。

为了易于描述，在这里可使用诸如“在…之下”、“在…下方”、“下面的”、“在…上方”、“上面的”等空间相对术语以描述如附图中示出的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语意在包含除了附图中描述的方位之外的装置在使用或操作中的不同方位。例如，如果将附图中的装置翻转，则被描述为在其它元件或特征“下方”或“下面”的元件将随后位于其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在…下方”可包含“在…上方”和“在…下方”两种方位。该装置可被另外定位(旋转90度或在其它方位)并相应地解释这里使用的空间相对描述符。

这里所用的术语仅是出于描述具体的实施例的目的，而不意图来限制本发明。如这里所用的，除非上下文另外明确地指明，否则单数形式也意图包括复数形式。将进一步理解的是，术语“包含”和/或“包括”用在本说明书中时说明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组的存在或添加。

考虑到测量的问题和与特定量的测量相关的误差（即，测量系统的局限性），如这里所使用的“大约”或“近似”包括陈述的值并意味着在如本领域普通技术人员所确定的具体值的可接受的偏差范围内。例如，“大约”可以指在一个或更多个标准偏差的范围内，或者在所述值的±30%、20%、10%、5%的范围内。

除非另有定义，否则这里使用的所有术语（包括技术术语和科学术语）具有与本发明所属的领域中的普通技术人员所通常理解的意思相同的意思。将进一步理解的是，除非这里明确这样定义，否则术语（例如在通用的词典中定义的术语）应被解释为具有与相关领域的环境中它们的意思相一致的意思，而将不以理想的或过于正式的含义来解释。

在这里参照作为理想化的实施例的示意性视图的剖视图来描述实施例。这样，预计将出现例如由制造技术和/或公差引起的示出的形状的变化。因此，这里描述的实施例不应被解释为局限于这里示出的区域的特定形状，而是将包括例如由制造所造成的形状上的偏差。例如，通常示出或被描述为平坦的区域可以具有粗糙的和/或非线性的特征。此外，示出的锐角可被倒圆。因此，附图中示出的区域实质上是示意性的，它们的形状并不意图示出区域的精确形状，也不意图限制在此阐述的权利要求的范围。

除非这里另外指出或者另外与上下文明显相反，否则可以以合适的顺序来执行这里描述的所有方法。除非另外要求，否则任何和所有示例或示例性语言（例如，“诸如”）的使用仅意图更好地示出本发明并且不对本发明的范围造成限制。如这里所使用的，说明书中没有语言应被解释为表明任何非要求的元件对本发明的实施是必不可少的。

在下文中，将参照附图进一步详细描述本发明的示例性实施例。

图1A是示出根据本发明的显示装置的示例性实施例的平面图。图1B是沿图1A中的线I1-I2截取的剖视图。

参照图1A和图1B，显示装置包括设置成彼此相对的第一基板10和第二基板20、置于第一基板10和第二基板20之间的像素阵列30以及置于第一基板10和第二基板20之间的密封剂40。在这样的实施例中，密封剂40可以被构造成包围像素阵列30。

例如，第一基板10和第二基板20可以包括诸如玻璃或塑料的透明绝缘材料。

像素阵列30包括多条扫描线、多条数据线和多个像素，所述多个像素大体以矩阵形式布置并连接到扫描线和数据线。在一个示例性实施例中，例如，像素可以设置在被扫描线和数据线限定的区域中。

密封剂40结合到第一基板10和第二基板20，从而密封剂40密封像素阵列30。

图2是示出根据本发明的密封设备的示例性实施例的截面图。将参照图2和返回到图1A和图1B来描述密封设备。

参照图2，密封设备包括：工作台100，基板设置（例如，安装）在工作台上；光学头200，设置在工作台100上方；光学振荡器300，被构造成向光学头200提供光；以及移动单元400，被构造成使光学头200移动。

光学振荡器300产生诸如激光或红外光的光，光学头200可以被构造成使光聚集（例如，通过透镜）以具有预定宽度并照射聚集的光。移动单元400可以被构造成支撑光学头200并使光学头200沿预定方向（例如，彼此基本垂直的两个方向）移动。

参照图1A、1B和图2，工作台100可以具有平板形状，使得包括置于第一基板10和第二基板20之间的密封剂40的第一基板10和第二基板20有效地安装在工作台100上。工作台100在与第一基板10和第二基板20之间的密封剂40相对应的位置处具有限定在其上的凹部120。

参照图1A和图1B，密封剂40可以包括与第一基板10和第二基板20的四个边相对应的四个部分，凹部120可以被限定为与密封剂40的四个部分相对应。

图3A是示出在根据本发明的密封设备中的工作台的示例性实施例的平面图。图3B是沿图3A中的线I11-I12截取的剖视图。

参照图3A和图3B，凹部120被限定在工作台100的在与密封剂40的四个部分相对应的位置中的表面（例如，上表面）上。

例如，凹部120可以具有相对的侧壁（例如，内侧壁122和外侧壁126）和底表面124，或者可以具有V形凹槽的形状或沟渠的形状。在示例性实施例中，凹部120可以为沿工作台100的表面的边的环路形状。

图4A是示出根据本发明的密封设备中的工作台100的可选择的示例性实施例的平面图。图4B是沿图4A中的线I21-I22截取的剖视图。

图4A和图4B中示出的工作台100与图3A和图3B中示出的工作台的示例性实施例基本相同，除了限定在凹部120的外侧壁126中的多个通风口140以外。已经利用与上面用来描述图3A和图3B中示出的工作台的示例性实施例相同的标号来标记图4A和图4B中示出的相同或同样的元件，在下文中将省略对相同或同样的元件的任意重复详细的描述。

图5A是示出根据本发明的密封设备中的工作台100的另一可选择的示例性实施例的平面图。图5B是沿图5A中的线I31-I32截取的剖视图。

参照图5A和图5B，工作台100的示例性实施例具有限定在工作台100的与密封剂40的四个部分相对应的位置中的表面上的凹部120a，凹部120a具有包括开口侧的阶梯形状。在这样的实施例中，凹部120a具有包括单个侧壁（例如，内侧壁122）和底表面124的阶梯形状。

图6是示出根据本发明的密封设备中的工作台100的另一可选择的示例性实施例的平面图。

参照图6，工作台100的示例性实施例包括与密封剂40的彼此相对的两个部分相对应的第一凹部120和与密封剂40的彼此相对的另外两个部分相对应的第二凹部120a。第一凹部120具有相对的侧壁（例如，内侧壁122和外侧壁126）和底表面124。第二凹部120a具有单个侧壁（例如，内侧壁122）和底表面124，并且为包括开口侧的阶梯形状。

图7是示出根据本发明的密封设备中的工作台100的另一可选择的示例性实施例的平面图。

图7中示出的工作台100与图6中示出的工作台的示例性实施例基本相同，除了限定在凹部120的外侧壁126中的多个通风口140以外。已经利用与上面用来描述图6中示出的工作台的示例性实施例相同的标号来标记图7中示出的相同或同样的元件，在下文中将省略对相同或同样的元件的任意重复详细的描述。

在本发明的另一可选择的示例性实施例中，密封设备还可以包括设置在工作台100和光学头200之间的掩模500，如图2中所示。掩模500有效地防止像素阵列30被从光学头200提供的光损坏。在这样的实施例中，掩模500包括作为与像素阵列30相对应的部分的屏蔽部分500a和作为与密封剂40相对应的部分的透射部分500b。在这样的实施例中，屏蔽部分500a阻挡光，通过透射部分500b透射光。在发射光之前，掩模500可以被提供（例如，被设置）为邻近于工作台100。

图8和图9是示出根据本发明的密封设备的示例性实施例的截面图。

参照图8和图9，具有置于其间的密封剂40的第一基板10和第二基板20被安装在密封设备的工作台100上。当从光学振荡器300向光学头200提供光时，光学头200使光照射在密封剂40上，同时在移动单元400的作用下沿密封剂40的四个部分移动。

例如，当诸如激光或红外光的光连续地照射在密封剂40的四个部分上时，密封剂40在热的作用下熔化并结合到第一基板10和第二基板20。在这样的实施例中，由光产生的热可以通过经第一凹部120、第二凹部120a和/或通风口140流通的空气被有效地排放到工作台100的外部。

在工作台100和凹部120a具有包括开口侧的台阶形状的示例性实施例中，由光产生的热可以通过开口侧被充分有效地排放到工作台100的外部。在工作台100包括具有相对的侧壁（例如，内侧壁122和外侧壁126）的凹部120的示例性实施例中，工作台可以基本稳定地支撑设置在其上的第一基板10和第二基板20。在通风口140被限定在工作台100的凹部120的外侧壁126中的示例性实施例中，通过通风口140来显著增强空气流通。

在凹部120和120a没有设置在工作台100中的传统密封设备中，第一基板10或第二基板20的整个表面可以充分紧密地粘附到工作台100。在这样的密封设备中，当光连续地照射到密封剂40时，设置为充分靠近工作台100的基板的温度增加为比暴露在空气中的相对基板的温度高，从而密封剂40与第一基板10和第二基板20之间的结合可能因由不对称的温差导致的残余应力或热冲击而劣化。当密封剂40与第一基板10和第二基板20之间的结合劣化时，可以容易地使密封剂40分开，或者密封剂40与第一基板10和第二基板20之间的结合界面可能被损坏。因此，可能破坏显示装置的密封。

在本发明的示例性实施例中，由光产生的热通过经第一凹部120、第二凹部120a和/或通风口140流通的空气被有效地排放到工作台100的外部，从而设置为靠近于工作台100的基板（例如，第二基板20）的温度被维持为与暴露在空气中的相对基板（例如，第一基板10）的温度大体相似。因此，在这样的实施例中，不会出现不对称的温度差，或者可以使不对称的温度差有效地最小化，由此通过基本均匀的温度分布使热冲击或残余应力最小化，从而可以有效地执行密封剂40与第一基板10和第二基板20之间的结合。

在下文中，将参照图10A至图10D来描述根据本发明的利用密封设备来制造显示装置的方法的示例性实施例。

图10A至图10D是示出根据本发明的利用密封设备制造显示装置的方法的示例性实施例的截面图。

参照图10A，像素阵列30设置（例如，形成）在第一基板10上。在示例性实施例中，例如，第一基板10可以包括诸如玻璃或塑料的透明绝缘材料。

在这样的实施例中，像素阵列30包括多个像素，所述多个像素大体以矩阵形式布置并连接到设置在像素阵列30中的多条扫描线和多条数据线。在一个示例性实施例中，例如，像素可以设置在扫描线和数据线之间。每个像素可以包括有机发光二极管。有机发光二极管包括阳极、阴极和设置在阳极和阴极之间的有机薄膜层。例如，有机薄膜层包括诸如空穴传输层、有机发射层和电子传输层的有机层。

像素还可以包括被构造成控制有机发光二极管的操作的晶体管和被构造成维持信号的电容器。

参照图10B，密封剂40设置（例如，形成）在第二基板20的侧部（例如，四个侧部）上以包围像素阵列30。例如，第二基板20可以包括诸如玻璃或塑料的透明绝缘材料，例如，密封剂40可以包括玻璃料。

在一个示例性实施例中，例如，可以例如利用丝网印刷法沿第二基板20的边缘涂覆处于膏状态的玻璃料。例如，玻璃料可以包括用于降低其热膨胀系数的填充剂和有机粘合剂。在这样的实施例中，在通过烧结涂覆的玻璃料来去除湿气或有机粘合剂时可以形成密封剂40。

参照图10C，彼此相对地设置第一基板10和第二基板20。然后，第一基板10和第二基板20接合在一起，从而使密封剂40包围像素阵列30。

返回参照图8或图9，将第一基板10和第二基板20设置（例如，安装）在工作台100上，在工作台100中，凹部120和120a被限定为与密封剂40相对应。然后，通过使光学头200在工作台100上方沿着密封剂40移动使光照射到密封剂40上。

参照图10D，当如上所述沿着密封剂40连续地照射光时，密封剂40在热的作用下熔化并结合到第一基板10和第二基板20。密封剂40结合到第一基板10和第二基板20，从而有效地密封被第一基板10和第二基板20之间的密封剂40包围的空间。

在如这里所述的本发明的示例性实施例中，在工作台100中限定了与密封剂40相对应的凹部120和120a。在这样的实施例中，当由光产生的热照射到密封剂40上时，热可以通过经第一凹部120、第二凹部120a和/或通风口140流通的空气被有效地排放到工作台100的外部，从而紧密地粘附到工作台100的基板（例如，第二基板20）的温度维持为与暴露在空气中的相对基板（例如，第一基板10）的温度大体相似，并且不会出现基本不对称的温度差。因此，在这样的实施例中，通过基本均匀的温度分布使热冲击或残余应力有效地最小化，从而可以有效地执行密封剂40与第一基板10和第二基板20之间的结合。

本发明不应被解释为限制于这里阐述的示例性实施例。相反，提供示例性实施例使得本公开将是完全的和彻底的，并将向本领域技术人员充分传达本发明的构思。

尽管已经参照本发明的示例性实施例具体地示出并描述了本发明，但是本领域普通技术人员将理解的是，在不脱离如权利要求所限定的本发明的范围或精神的情况下，可以对其进行形式和细节上的各种改变。

Claims (12)

1.一种通过密封剂密封第一基板和第二基板的密封设备，所述密封设备包括：

工作台，支撑第一基板和第二基板，其中，密封剂沿着第一基板和第二基板的边缘置于第一基板和第二基板之间，工作台包括被限定为与密封剂相对应的凹部；以及

光学头，被构造成将光照射到密封剂上，

其中，凹部包括内侧壁和外侧壁，以及

多个通风口被限定在外侧壁中。

2.如权利要求1所述的密封设备，其中，

密封剂包括与第一基板和第二基板的四个边相对应的四个部分，

凹部的与密封剂的两个相对的部分相对应的一部分包括内侧壁和外侧壁，以及

凹部的与密封剂的另外两个相对的部分相对应的一部分为具有开口侧的阶梯形状。

3.如权利要求2所述的密封设备，其中，多个通风口被限定在凹部的与密封剂的所述两个相对的部分相对应的部分的外侧壁中。

4.如权利要求1所述的密封设备，所述密封设备还包括：

移动单元，被构造成使光学头沿着密封剂移动。

5.如权利要求1所述的密封设备，所述密封设备还包括：

光学振荡器，被构造成向光学头提供光。

6.如权利要求1所述的密封设备，所述密封设备还包括：

掩模，设置在工作台和光学头之间，

其中，掩模包括被限定在掩模中以与密封剂相对应的透射部分。

7.如权利要求1所述的密封设备，其中，密封剂包括玻璃料。

8.如权利要求1所述的密封设备，其中，光是激光或红外光。

9.一种用于制造显示装置的方法，所述方法包括：

将像素阵列设置在第一基板上；

将密封剂设置在第二基板的侧部分上；

将第二基板设置在第一基板上；

将第一基板和第二基板设置在包括被限定为与密封剂相对应的凹部的工作台上；以及

在使发射光的光学头在工作台上方沿着密封剂移动的同时，通过使光照射到密封剂上将密封剂与第一基板和第二基板结合，

其中，凹部包括内侧壁和外侧壁，以及

多个通风口被限定在外侧壁中。

10.如权利要求9所述的方法，其中，像素阵列包括有机材料。

11.如权利要求9所述的方法，其中，设置密封剂的步骤包括：

沿着第二基板的边缘涂覆膏状态的玻璃料；以及

通过烧结膏状态的玻璃料来去除湿气。

12.如权利要求9所述的方法，其中，光是激光或红外光。