CN104275324A - 一种去除遮罩上有机或脏污的装置 - Google Patents
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Abstract
本发明揭示一种去除遮罩上有机或脏污的装置，其包括：槽体，所述槽体用于放置金属遮罩；夹具，所述夹具固定所述金属遮罩；其特征在于，所述装置还包括：喷洒机构，所述喷洒机构连接一药液储存装置，所述喷洒机构将所述药液储存装置中的药液喷洒至所述金属遮罩对其进行清洗；所述槽体的底部设有一排液口，所述喷洒机构喷洒的药液清洗所述金属遮罩后从所述排液口流出所述槽体。
Description
技术领域
本发明涉及清洗装置领域，且特别涉及一种去除遮罩上有机或脏污的装置。
背景技术
近年来，使用有机电致发光(Electro Luminescence：以下称“有机EL”)组件的有机EL显示装置，已取代CRT及LCD的显示装置而受到嘱目，正研究开发一种具备例如用以驱动该有机EL组件的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor：以下称“TFT”)的有机EL显示装置。
有机EL组件被依序层积形成：由ITO(Indium Tin Oxide氧化铟锡)等的透明电极所形成的阳极；由MTDATA(4，4-双(3-甲基苯基苯氨基)联苯)等第1空穴输送层、TPD(4，4，4-三(3-甲基苯基苯氨基)三苯胺)等第2空穴输送层所构成的空穴输送层；包含啶酮(Quinacridone)衍生物的Bebq2(10-苯弁[h]轻基喹啉-铍络合物(10-benzo[h]quinolinol-berylliumcomplex))所形成的发光层；由Bebq2所形成的电子输送层；及由铝合金所形成的阴极的构造。
如上所述的有机EL组件通过用以驱动该有机EL组件的驱动用TFT供给电流而发光。即，从阳极所注入的空穴与从阴极所注入的电子在发光层内部再结合，激发用以形成发光层的有机分子而产生激发子(exdton)。在该激发子放射失活的过程中由发光层发光，该光会从透明的阳极经由透明的阳极及玻璃基板等绝缘性基板放出至外部而进行发光。
上述有机EL组件的各层中，用于形成空穴输送层、发光层、电子输送层的有机材料具有耐溶剂性低、不耐水分的特性。因此无法利用半导体工艺的光刻技术。因此，通过使用以例如金属薄膜所构成的金属遮罩(屏蔽)的蒸镀法，使上述有机材料选择性蒸镀在具备驱动用TFT的绝缘性基板上，以形成有机EL组件的空穴输送层、发光层、电子输送层及阴极的图案。
当蒸镀完成后，有机物将会沾附于金属遮罩的表面，因此，为了之后的使用金属遮罩需要进行清洗。目前金属遮罩的清洗机采用浸泡药剂的方式，溶解去除沾附于遮罩表面的有机物。此方式的浸泡槽内随时装有大量的药剂供浸泡金属遮罩使用，而使用此清洗方法导致药剂耗用量大，使用成本高，且浸泡槽内储存有大量的药剂，在设备安全性上有较高的风险。
发明内容
针对现有技术中的缺陷，本发明的目的是提供一种去除遮罩上有机或脏污的装置。
根据本发明的一个方面提供一种去除遮罩上有机或脏污的装置，其包括：槽体，所述槽体用于放置金属遮罩；夹具，所述夹具固定所述金属遮罩；其特征在于，所述装置还包括：喷洒机构，所述喷洒机构连接一药液储存装置，所述喷洒机构将所述药液储存装置中的的药液喷洒至所述金属遮罩对其进行清洗；所述槽体的底部设有一排液口，所述喷洒机构喷洒的药液清洗所述金属遮罩后从所述排液口流出所述槽体。
优选地，所述装置还包括第一控制机构，所述第一控制机构连接所述喷洒机构，控制所述喷洒机构清洗时沿竖直方向上下移动喷洒药液。
优选地，所述装置还包括第二控制机构，所述第二控制机构连接所述夹具，清洗时控制所述金属遮罩沿竖直方向上下移动。
优选地，所述喷洒机构包括若干喷洒直管，清洗时，所述喷洒直管位于所述金属遮罩的侧面，向所述金属遮罩的表面喷洒药液。
优选地，所述喷洒机构包括两根喷洒直管，清洗时，所述两根喷洒直管分别位于所述金属遮罩的两侧。
优选地，所述喷洒机构包括四根喷洒直管，清洗时，其中两根所述喷洒直管位于所述金属遮罩的一个侧面，另两根所述喷洒直管位于所述金属遮罩的另一个侧面。
优选地，所述喷洒直管的长度大于等于所述金属遮罩侧面的长度，其喷洒区域覆盖所述金属遮罩的整个表面。
优选地，所述喷洒直管的长度小于所述金属遮罩的长度。
优选地，所述第一控制机构还控制所述喷洒直管沿所述金属遮罩的侧面水平移动喷洒药液，使其喷洒区域覆盖所述金属遮罩的整个表面。
优选地，所述喷洒机构包括一环形管，所述金属遮罩清洗时位于所述环形管的中间。
优选地，所述喷洒机构的喷洒方向为朝向所述金属遮罩侧向下喷洒。
优选地，所述喷洒机构的喷洒方向为朝向所述金属遮罩侧向上喷洒。
优选地，所述装置还包括旋转机构，所述旋转机构与所述喷洒机构相连接，控制喷洒机构自转，以改变其喷洒角度。
优选地，所述旋转机构控制所述喷洒机构的自转的可转动角度为180度。
优选地，所述喷洒机构上包括若干喷洒孔，所述药液从所述喷洒孔洒向所述金属遮罩。
优选地，所述喷洒机构上包括若干喷洒槽，所述药液从所述喷洒槽洒向所述金属遮罩。
优选地，所述装置还包括一加热装置，对喷洒机构内的药液进行加热。
优选地，所述装置还包括一超声波发射装置，所述超声波发射装置从所述槽体外向所述金属遮罩发射超声波。
优选地，所述药液为有机溶液。
优选地，所述排液口对所述药液的排量大于所述喷洒机构对药液的喷洒量。
根据本发明的另一个方面提供一种金属遮罩上有机或脏污的去除方法，其中，去除遮罩上有机或脏污的装置包括：槽体，所述槽体用于放置金属遮罩；夹具，所述夹具固定所述金属遮罩；喷洒机构，所述喷洒机构连接一药液储存装置，所述喷洒机构将所述药液储存装置中的的药液喷洒至所述金属遮罩对其进行清洗；第一控制机构，所述第一控制机构连接所述喷洒机构，控制所述喷洒机构清洗时沿竖直方向上下移动喷洒药液。所述槽体的底部设有一排液口，所述喷洒机构喷洒的药液清洗所述金属遮罩后从所述排液口流出所述槽体。其特征在于，所述方法包括如下步骤：使用夹具固定金属遮罩，并将其置于槽体中；第一控制机构控制喷洒机构上下移动，所述喷洒机构同时将与其连接的药液储存装置中的药液喷洒至所述金属遮罩上，对所述金属遮罩进行清洗；清洗后的药液经排液口流出槽体。
根据本发明的又一个方面提供一种金属遮罩上有机或脏污的去除方法，其中，去除遮罩上有机或脏污的装置包括：槽体，所述槽体用于放置金属遮罩；夹具，所述夹具固定所述金属遮罩；喷洒机构，所述喷洒机构连接一药液储存装置，所述喷洒机构将所述药液储存装置中的的药液喷洒至所述金属遮罩对其进行清洗；第二控制机构，所述第二控制机构连接所述夹具，清洗时控制所述金属遮罩沿竖直方向上下移动。所述槽体的底部设有一排液口，所述喷洒机构喷洒的药液清洗所述金属遮罩后从所述排液口流出所述槽体。其特征在于，所述方法包括如下步骤：使用夹具固定金属遮罩，并将其置于槽体中；喷洒机构喷洒与其连接的药液储存装置中的药液；第二控制装置控制所述夹具的上下移动，通过所述夹具带动所述金属遮罩的上下移动；清洗后的药液经排液口流出槽体。
本发明通过提供一种去除遮罩上有机或脏污的装置，其使用喷洒的方式，将药剂涂布在遮罩上，使其将遮罩上的有机物溶解，达到清洁效果。此方式不需在药液槽内装满大量药液，药液耗量低且安全性更高。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1示出根据本发明的第一实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的主视图；
图2示出根据本发明的第一实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的侧视图；
图3示出根据本发明的第二实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的侧视图；
图4示出根据本发明的第三实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的侧视图；
图5示出根据本发明的第四实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的正视图；以及
图6示出根据本发明的第五实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的技术内容进行进一步地说明：
图1示出了根据本发明的第一实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的主视图。具体地，所述装置包括：槽体110、夹具140。其中，槽体110用于放置金属遮罩120，槽体110的底部设有一排液口111，排液口111将槽体110内部的液体排出。优选地，槽体110的底部呈圆锥形，排液口111位于槽体110的最低处。夹具140用于固定金属遮罩120，将金属遮罩120置入槽体110中清洗。
进一步地，所述装置还包括喷洒机构，喷洒机构连接一药液储存装置(图中未示出)，喷洒机构将药液储存装置中的药液喷洒至金属遮罩120上对其进行清洗。其中，喷洒机构喷洒的药液清洗金属遮罩120后从排液口111流出槽体110。优选地，排液口111的排量大于喷洒机构喷洒药液的喷洒量。优选地，所述药液为有机溶液。
更具体地，在一个实施例中，喷洒机构包括若干喷洒直管131，喷洒直管131位于金属遮罩120的侧面，向金属遮罩120的表面喷洒药液从而对金属遮罩120进行清洗。
图2示出了根据本发明的第一实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的侧视图。具体地，参照图2，在图2所示实施例中，喷洒机构包括两根喷洒直管131，两根喷洒直管131分别位于金属遮罩120的两侧，一根喷洒直管131对金属遮罩120的一面进行喷洒，另一根喷洒直管131对金属遮罩120的另一面进行喷洒。更具体地，喷洒直管131的长度大于等于金属遮罩120的长度，其喷洒区域覆盖金属遮罩120的整个表面。其中，喷洒直管131上设有若干喷洒孔，药液从所述喷洒孔洒向金属遮罩120，且两根喷洒直管131的喷洒方向为朝向金属遮罩120侧向下喷洒。更进一步地，在此实施例中，所述装置还包括第一控制机构(图中未示出)，所述第一控制机构控制两根喷洒直管131沿竖直方向上下移动对金属遮罩120进行喷洒。
图3示出了根据本发明的第二实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的侧视图。图3可以理解为上述图1和图2所示实施例的一个变化例。具体地，如图3所示，与上述图2所示实施例不同的是，在此实施例中，两根喷洒直管131的喷洒方向为朝向金属遮罩120侧向上喷洒。类似地，两根喷洒直管131经所述第一控制机构控制同样可以沿竖直方向上下移动对金属遮罩120进行喷洒。本领域技术人员理解，由于图1、图2所示实施例与图3所示实施例的喷洒直管131的喷洒角度不同，因此图1、图2所示实施例和图3所示实施例对金属遮罩120的喷洒区域也不同，以此实现不同的喷洒效果。这些实施例均可予以实现，此处不予赘述。
更进一步地，根据图1、图2以及图3所示实施例，本领域技术人员理解，在本发明的另一个实施例中，所述装置还包括旋转机构，所述旋转机构控制两根喷洒直管131的自转。喷洒直管131可以在竖直方向上下移动的同时进行旋转，例如两根喷洒直管131可以从上移动至槽体110底部的过程中从图2所示的喷洒方向旋转至图3所示的喷洒方向。优选地，喷洒直管131的可旋转角度为180度。通过喷洒直管131的旋转喷洒，从而使金属遮罩120的每个区域均可被喷洒到。
图4示出了根据本发明的第三实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的侧视图。图4可以理解为上述图2或图3所示实施例的一个变化例。具体地，与上述图2或图3所示实施例不同的是，喷洒机构包括四根喷洒直管131，其中，两根喷洒直管131位于金属遮罩120的一侧对金属遮罩120的一个侧面进行喷洒，另两根喷洒直管131位于金属遮罩120的另一侧对金属遮罩120的另一个侧面进行喷洒，且优选地，位于上方的喷洒直管131的喷洒方向为朝向金属遮罩120侧向下喷洒，而位于下方的喷洒直管131的喷洒方向为朝向金属遮罩120侧向上喷洒。即将上述图2以及图3所示实施相结合，所述第一控制机构可以同时控制四根喷洒直管131使其竖直方向上下移动。
进一步地，本领域技术人员理解，在图4所示的实施例中，所述装置同样可以包括旋转机构，所述旋转机构控制四根喷洒直管131的旋转，使四根喷洒直管131也可以在竖直方向上下移动的同时，调整喷洒角度，从而使金属遮罩120的清洗更为方便。
更进一步地，根据上述图1、图2、图3以及图4所示实施例，本领域技术人员理解，在一些变化例中，喷洒直管131可以固定于金属遮罩的侧面。所述装置还包括第二控制机构，所述第二控制机构与夹具140相连接，控制夹具140的竖直方向的上下移动，通过夹具140的上下移动，从而使被夹具140固定的金属遮罩120竖直方向的上下移动，达到清洗金属遮罩120的目的。这些变化例均可以予以实现，此处不予赘述。
图5示出了根据本发明的第四实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的正视图。图5可以理解为上述图1所示实施例的一个变化例。具体地，所述喷洒机构同样包括两根喷洒直管131，两根喷洒直管131分别位于金属遮罩120的两个侧面。而与上述图1所示实施例不同是，在此实施例中，喷洒槽131的长度小于金属遮罩120的长度，所述第一控制装置控制喷洒槽131竖直方向上下移动的时还可以控制其沿金属遮罩120的侧面进行水平移动，从而使喷洒区域覆盖金属遮罩120的整个表面，此处不予赘述。
图6示出了根据本发明的第五实施例的去除遮罩上有机或脏污的装置的俯视图。具体地，如图6所示，与图1所示实施例不同的是，在此实施例中，所述喷洒机构包括一喷洒环形管132。使用喷洒环形管132替代图1中的两根喷洒直管131。金属遮罩120位于喷洒环形管132的中间被喷洒环形管132包围。其中，喷洒环形管132的喷洒角度与图1相同地为朝向金属遮罩120侧向下喷洒。优选地，所述装置也包括第一控制装置(图中未示出)，所述第一控制装置可以控制喷洒环形管132沿竖直方向上下移动，对金属遮罩120进行清洗。
进一步地，在图6的一个变化例中，喷洒环形管132的喷洒方向也可以是朝向金属遮罩120侧向上喷洒。在图6的另一个变化例中，喷洒环形管132也可以固定于槽体110内，所述装置也包括所述第二控制机构，由第二控制机构控制夹具140的竖直方向的上下移动，通过夹具140的上下移动，从而使被夹具140固定的金属遮罩120竖直方向的上下移动，达到清洗金属遮罩120的目的。而在图6的又一个变化例中，所述喷洒机构也可以包括两根喷洒环形管132，金属遮罩120位于两根喷洒环形管132内，通过两根喷洒环形管132喷洒药液对金属遮罩120继续清洗。本领域技术人员理解，这些变化例均可以予以实现，此处不予赘述。
更进一步地，综合上述图1至图6所示实施例，本领域技术人员理解，在本发明的优选例中，所述喷洒机构包括若干喷洒孔。即图1至图5中的喷洒直管131以及喷洒环形管132上设有若干喷洒孔，药液通过喷洒孔喷洒至金属遮罩120上。而在本发明的一些变化例中，所述喷洒机构包括一喷洒槽，通过所述喷洒槽来替代上述喷洒孔。本领域技术人员理解，相比喷洒孔，使用喷洒槽后药液的喷洒量增大，类似水帘的喷洒效果，从而加快了金属遮罩120的清洗，这些变化例均可以予以实现，此处不予赘述。
更进一步地，结合上述图1至图6所示实施例，本领域技术人员理解，在一些变化例中了，所述装置还可以包括一加热装置，所述加热装置对喷洒机构内的药液进行加热。经过加热后的药液可以更有效地去除金属遮罩120上的有机物，以起到加快清洗的目的，这些变化例均可予以实现，此处不予赘述。
更进一步地，结合上述图1至图6所示实施例，本领域技术人员理解，在一些变化例中，所述装置还可以包括一超声波发射装置，所述超声波发射装置从槽体110外部向所述金属遮罩发射超声波。通过发射超声波也可以更为有效地去除金属遮罩120上的有机物，达到清洗的目的。这些变化例均可予以实现，此处不予赘述。
更进一步地，本领域技术人员理解，在一些变化例中，所述装置可以同时包括所述加热装置以及所述超声波发射装置，同时使用两种清洗方式可以更为快速地去除金属遮罩120上的有机物，以起到加快清洗的目的，此处不予赘述。
更为进一步地，在本发明的一个实施例中，去除金属遮罩上有机和脏污的方法为：使用夹具140固定金属遮罩120，并将其置于槽体110中，所述第一控制机构控制喷洒机构上下移动，所述喷洒机构同时将与其连接的药液储存装置中的药液喷洒至金属遮罩120上，对金属遮罩120进行清洗，清洗后的药液经排液口111流出槽体110。
更具体地，优选地，金属遮罩120被夹具140固定后，夹具140垂直将金属遮罩120放入槽体110中。
更为进一步地，在本发明的另一个实施例中，所述喷洒机构也可以固定于槽体110内。优选地，所述喷洒机构位于槽体110的上半部，以便于金属遮罩120的清洗。更具体地，在此实施例中，去除金属遮罩上有机和脏污的方法为：使用夹具140固定金属遮罩120，所述喷洒机构喷洒与其连接的药液储存装置中的药液，所述第二控制装置控制夹具140的上下移动，通过夹具140带动金属遮罩120的上下移动，从而将药液喷洒至金属遮罩上。类似地，清洗后的药液仍经排液口111流出槽体110。
更为进一步地，本领域技术人员理解，本发明提供一种去除遮罩上有机或脏污的装置。其通过喷洒的方式，将药剂涂布在遮罩上，使其将遮罩上的有机物溶解，达到清洁效果。此方式不需在药液槽内装满大量药液，药液耗量低且安全性更高。
虽然本发明已以优选实施例揭示如上，然而其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与修改。因此，本发明的保护范围当视权利要求书所界定的范围为准。
Claims (22)
1.一种去除遮罩上有机或脏污的装置，其包括：
槽体，所述槽体用于放置金属遮罩；
夹具，所述夹具固定所述金属遮罩；
其特征在于，所述装置还包括：
喷洒机构，所述喷洒机构连接一药液储存装置，所述喷洒机构将所述药液储存装置中的的药液喷洒至所述金属遮罩对其进行清洗；
所述槽体的底部设有一排液口，所述喷洒机构喷洒的药液清洗所述金属遮罩后从所述排液口流出所述槽体。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括第一控制机构，所述第一控制机构连接所述喷洒机构，控制所述喷洒机构清洗时沿竖直方向上下移动喷洒药液。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括第二控制机构，所述第二控制机构连接所述夹具，清洗时控制所述金属遮罩沿竖直方向上下移动。
4.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构包括若干喷洒直管，清洗时，所述喷洒直管位于所述金属遮罩的侧面，向所述金属遮罩的表面喷洒药液。
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构包括两根喷洒直管，清洗时，所述两根喷洒直管分别位于所述金属遮罩的两侧。
6.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构包括四根喷洒直管，清洗时，其中两根所述喷洒直管位于所述金属遮罩的一个侧面，另两根所述喷洒直管位于所述金属遮罩的另一个侧面。
7.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述喷洒直管的长度大于等于所述金属遮罩侧面的长度，其喷洒区域覆盖所述金属遮罩的整个表面。
8.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述喷洒直管的长度小于所述金属遮罩的长度。
9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述第一控制机构还控制所述喷洒直管沿所述金属遮罩的侧面水平移动喷洒药液，使其喷洒区域覆盖所述金属遮罩的整个表面。
10.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构包括一环形管，所述金属遮罩清洗时位于所述环形管的中间。
11.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构的喷洒方向为朝向所述金属遮罩侧向下喷洒。
12.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构的喷洒方向为朝向所述金属遮罩侧向上喷洒。
13.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述装置还包括旋转机构，所述旋转机构与所述喷洒机构相连接，控制喷洒机构自转，以改变其喷洒角度。
14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述旋转机构控制所述喷洒机构的自转的可转动角度为180度。
15.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构上包括若干喷洒孔，所述药液从所述喷洒孔洒向所述金属遮罩。
16.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构上包括若干喷洒槽，所述药液从所述喷洒槽洒向所述金属遮罩。
17.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括一加热装置，对喷洒机构内的药液进行加热。
18.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括一超声波发射装置，所述超声波发射装置从所述槽体外向所述金属遮罩发射超声波。
19.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述药液为有机溶液。
20.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述排液口对所述药液的排量大于所述喷洒机构对药液的喷洒量。
21.一种金属遮罩上有机或脏污的去除方法，其中，去除遮罩上有机或脏污的装置包括：
槽体，所述槽体用于放置金属遮罩；
夹具，所述夹具固定所述金属遮罩；
喷洒机构，所述喷洒机构连接一药液储存装置，所述喷洒机构将所述药液储存装置中的的药液喷洒至所述金属遮罩对其进行清洗；
第一控制机构，所述第一控制机构连接所述喷洒机构，控制所述喷洒机构清洗时沿竖直方向上下移动喷洒药液。
所述槽体的底部设有一排液口，所述喷洒机构喷洒的药液清洗所述金属遮罩后从所述排液口流出所述槽体。
其特征在于，所述方法包括如下步骤：
使用夹具固定金属遮罩，并将其置于槽体中；
第一控制机构控制喷洒机构上下移动，所述喷洒机构同时将与其连接的药液储存装置中的药液喷洒至所述金属遮罩上，对所述金属遮罩进行清洗；
清洗后的药液经排液口流出槽体。
22.一种金属遮罩上有机或脏污的去除方法，其中，去除遮罩上有机或脏污的装置包括：
槽体，所述槽体用于放置金属遮罩；
夹具，所述夹具固定所述金属遮罩；
喷洒机构，所述喷洒机构连接一药液储存装置，所述喷洒机构将所述药液储存装置中的的药液喷洒至所述金属遮罩对其进行清洗；
第二控制机构，所述第二控制机构连接所述夹具，清洗时控制所述金属遮罩沿竖直方向上下移动。
所述槽体的底部设有一排液口，所述喷洒机构喷洒的药液清洗所述金属遮罩后从所述排液口流出所述槽体。
其特征在于，所述方法包括如下步骤：
使用夹具固定金属遮罩，并将其置于槽体中；
喷洒机构喷洒与其连接的药液储存装置中的药液；
第二控制装置控制所述夹具的上下移动，通过所述夹具带动所述金属遮罩的上下移动；
清洗后的药液经排液口流出槽体。
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