CN104267575B - 光掩模储放装置 - Google Patents
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Abstract
本发明是有关于一种光掩模储放装置，包括有底座和上盖。此光掩模储放装置包括有聚醚醚酮材料。一锁扣组件用以耦接底座和上盖。光掩模固定组件设置于上盖上，而光掩模支撑组件则设置于底座上，用以避免光掩模震动。此光掩模储放装置设计有通气孔结构使气体以360度的方式被喷入由底座与上盖所构成的光掩模置放空间。在通气孔结构中另有额外设计的粒子过滤器来防止微粒进入光掩模盒内，一密封衬垫设计于底座底板以提升底座与上盖密合时的气密性。本发明所提出的光掩模储放装置，藉以在运送、储放过程中能更有效的保护例如光掩模、基材或晶圆等对象。
Description
本申请为分案申请，其母案申请的申请号为200810130539.3，申请日为2008年7月7日，发明名称为“光掩模储放装置”。
技术领域
本发明涉及一种储放及/或运送装置，特别是涉及一种有关于光掩模的储放及/或运送装置。
背景技术
光掩模用以在微影制程(Photolithography Process)中将特定的电路设计图案透过制程步骤使其成像于一基板(例如半导体晶圆)上，以形成一集成电路的特征。一般光掩模包括有一透明基材，其具有一客户所设计或要求的特定电路图案于透明基材上，因而光线可通过透明基材的特定电路图案，以提供特定电路图案成像于基板(例如半导体晶圆)上。通常光掩模在制程过程中常需进行储放、运送或其它处理，不适当的储放和运送可能导致光掩模损坏，例如：错误地处理、粉尘、污染物、边缘擦伤或其它缺陷原因。再者，一般光掩模的容器例如因零件过多而难以制造、清洁及使用。零件过多的光掩模容器更可能导致零件因长久使用而松脱进而间接造成生产机台故障的情形，而可能因此影响制程的周期时间。
又，随着集成电路制程的光掩模线宽的缩小及分辨率增强技术(ResolutionEnhancement Techniques；RETs)的复杂度的增加，光掩模的缺陷或污染物可能造成制程上的严重影响，例如：良率下降、制程周期时间的影响或制程可靠度降低。
有鉴于上述现有的光掩模储放装置存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型的光掩模储放装置，能够改进一般现有的光掩模储放装置，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计,并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的主要目的在于，克服现有的光掩模储放装置存在的缺陷，而提供一种新型的光掩模储放装置，所要解决的技术问题是使其藉以在运送、储放过程中能更有效的保护例如光掩模、基材或晶圆等对象，非常适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种光掩模储放装置，其至少包括：一上盖组件和一底座组件，具有聚醚醚酮材料；至少一光掩模固定组件，耦接于该上盖组件；至少一通气孔结构，形成于该底座组件中，其中至少一通气孔结构用以允许一气体来通过，并以360度的方向来进入该光掩模储放装置的内部空间；以及
一密封衬垫，设置于该底座组件上。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的光掩模储放装置，其中该上盖组件和该底座组件利用一导电材料来形成内垫。
前述的光掩模储放装置，其中该密封衬垫具有一CS-105材料或成份。
前述的光掩模储放装置，其中该通气孔结构包括有一粒子过滤器。
前述的光掩模储放装置，其还至少包括：一固定组件，包括一螺丝和一垫圈，其中该螺丝具有一特定的螺纹长度，其至少大于5mm，且其中该固定组件用以耦接于该上盖组件。
前述的光掩模储放装置，其还至少包括：一光掩模支撑部，设置于该底座组件上，其中该光掩模支撑部包括有聚醚醚酮材料。
前述的光掩模储放装置，其中该密封衬垫提供一接口于该底座组件和该上盖组件之间，以耦接该底座组件和上盖组件，该密封衬垫具有一沟槽，该上盖组件更包括一上盖金属内垫，该上盖金属内垫具有一凸部，当该底座组件和该上盖组件相互耦接时，该上盖金属内垫的该凸部对位于该密封衬垫的该沟槽。
本发明的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种装置，其至少包括：一上盖；一底板，耦接于该上盖；一光掩模支撑部，设置于该底板上，用以支撑一光掩模；一通气孔洞，设置于该底板上；以及一过滤器，设置于该通气孔洞上。
前述的装置，其还至少包括：一上充气阀件和一下充气阀件，邻接于该过滤器，并设置于该通气孔洞上，其中该上充气阀件和该下充气阀件包括有聚醚醚酮材料。
本发明的目的及解决其技术问题另外还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种光掩模储放装置，其至少包括：一上盖，包括有聚醚醚酮材料；一底板，耦接于该上盖，其中该底板包括有聚醚醚酮材料；以及一用以固定和支撑一光掩模的组件设置于该上盖和该底板的其中至少一者上。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种光掩模储放装置，用以供一光掩模来进行储放及/或运送，其至少包括：一上盖组件和一底座组件。该底座组件与该上盖组件相互耦合，以形成一光掩模储放空间来容置该光掩模。该上盖组件至少包括：一壳体，具有聚醚醚酮材料；一上盖金属内垫，设置于该壳体上，该上盖金属内垫设有一凸部；以及一光掩模固定组件，具有聚醚醚酮材料，并耦接该上盖金属内垫，用以提供该光掩模在垂直方向上的震动阻尼。该光掩模固定组件至少包括：一光掩模固定部，具有聚醚醚酮材料，并用以接触于该光掩模；以及一支撑肋，具有聚醚醚酮材料，并耦接于该光掩模固定部，用以增加每一该光掩模固定组件的强度。该底座组件至少包括：一底板结构，具有聚醚醚酮材料；一底座金属压板，设置于该底板结构上，并与该上盖金属内垫结合而构成一密闭的金属屏蔽空间；一密封衬垫，设置于该底板结构上，其中该密封衬垫包括有非结晶聚合物PET和PEDT/PSSH，该密封衬垫提供一接口于该底座组件和该上盖组件之间，以耦接该底座组件和上盖组件，该密封衬垫具有一沟槽，当该底座组件和该上盖组件相互耦接时，该上盖金属内垫的该凸部对位于该密封衬垫的该沟槽，而确保该光掩模储放空间的密闭性；以及至少一通气孔结构，形成于该底座组件中，其中至少一通气孔结构用以允许一气体来通过，并以360度的方向来进入该光掩模储放装置的内部空间。
前述的光掩模储放装置，其中每一该些通气孔结构至少包括：一通气开口，设置于该底板结构上，藉以注入一气体；一上充气阀件和一下充气阀件，具有聚醚醚酮材料，并位于该通气开口上，其中该上充气阀件和该下充气阀件至少包括有一孔洞结构，藉以使该气体通过该上充气阀件和该下充气阀件；一粒子过滤器，设置于该上充气阀件和该下充气阀件之间；一通气孔座，设置于该上充气阀件、该下充气阀件及该粒子过滤器上，其中该通气孔座具有一气流出气导引孔，藉以释放该气体至该光掩模储放空间内，并提供进气角度为360度的气流。
前述的光掩模储放装置，其中该上盖组件还至少包括：一堆置凸部，用以供一自动化物料搬运系统来进行夹取与支撑该光掩模储放装置，及/或用以堆栈多个光掩模储放装置。
前述的光掩模储放装置，其中该上盖金属内垫利用多个上盖内垫压板来耦接于该壳体上。
前述的光掩模储放装置，其中每一该些上盖内垫压板还至少包括：
一固定组件，包括一螺丝和一垫圈，其中该螺丝具有一特定的螺纹长度，其至少大于5mm，且其中该固定组件用以耦接该上盖金属内垫和该壳体。
前述的光掩模储放装置，其还至少包括：一光掩模支撑部，设置于该底座组件上，其中该光掩模支撑部包括有聚醚醚酮材料。
前述的光掩模储放装置，其中该底板结构还至少包括：多个凹面单元，其中当该上盖组件耦接于该底座组件的该底板结构时，该些凹面单元为多个锁扣装置扣合的位置。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种光掩模储放装置，用以供一光掩模来进行储放及/或运送，其至少包括：一上盖组件和一底座组件。该底座组件与该上盖组件相互耦合，以形成一光掩模储放空间来容置该光掩模。该上盖组件至少包括：一壳体，具有聚醚醚酮材料；一上盖金属内垫，设置于该壳体上，该上盖金属内垫设有一凸部；以及一光掩模固定组件，具有聚醚醚酮材料，并耦接该上盖金属内垫，用以接触于该光掩模并提供该光掩模在垂直方向上的震动阻尼。该底座组件至少包括：一底板结构，具有聚醚醚酮材料；一底座金属压板，设置于该底板结构上，并与该上盖金属内垫结合而构成一密闭的金属屏蔽空间；一密封衬垫，设置于该底板结构上，其中该密封衬垫包括有非结晶聚合物PET和PEDT/PSSH，该密封衬垫提供一接口于该底座组件和该上盖组件之间，以耦接该底座组件和上盖组件，该密封衬垫具有一沟槽，当该底座组件和该上盖组件相互耦接时，该上盖金属内垫的该凸部对位于该密封衬垫的该沟槽，而确保该光掩模储放空间的密闭性；以及至少一通气孔结构，每一该至少一通气孔结构至少包括：一通气开口，设置于该底板结构上，藉以注入一气体；一上充气阀件和一下充气阀件，具有聚醚醚酮材料，并位于该通气开口上，其中该充气阀件和该下充气阀件至少包括有一孔洞结构，藉以使该气体通过该上充气阀件和该下充气阀件；以及一通气孔座，设置于该上充气阀件、该下充气阀件及该粒子过滤器上，其中该通气孔座具有一气流出气导引孔，藉以释放该气体至该光掩模储放空间内，并提供进气角度为360度的气流。
前述的光掩模储放装置，其中该该光掩模固定组件至少包括：一光掩模固定部，具有聚醚醚酮材料，并用以接触于该光掩模；以及一支撑肋，具有聚醚醚酮材料，并耦接于该光掩模固定部，用以增加每一该光掩模固定组件的强度。
前述的光掩模储放装置，其中该通气孔结构包括有一粒子过滤器，设置于该上充气阀件和该下充气阀件之间。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上可知,为达到上述目的，本发明提供了一种光掩模储放装置,可包括有上盖组件、底座组件、至少一光掩模固定组件、至少一光掩模支撑组件、至少一通气孔结构及密封衬垫。上盖组件和底座组件包括有聚醚醚酮材料，光掩模固定组件耦接于上盖金属内垫再以上盖内垫压板与固定组件(螺丝)固定于上盖，藉此用以固定光掩模，而光掩模支撑组件固定于底座底板上，用以支撑光掩模，通气孔结构形成于底座组件中，其中通气孔结构用以允许气体通过，并以360度的进气方式让气体被喷入密闭的光掩模盒内，密封衬垫设置于底座组件上，用以增加上盖与底座密合时的气密性。
又，根据本发明的实施例，本发明的装置可包括有上盖、底座、光掩模固定与支撑部(光掩模固定组件于上盖，光掩模支撑组件于底座)及粒子过滤器。底座藉由锁扣装置而耦接于上盖，光掩模固定部设置于上盖上，用以固定一光掩模，光掩模支撑部设置于底板上，用以支持一光掩模，通气孔洞设置于底板上，粒子过滤器设置于通气孔洞内。
又，根据本发明的实施例，本发明的光掩模储放装置可包括有上盖、底座及用以支撑与固定一光掩模的组件。上盖包括有聚醚醚酮材料，底座藉由锁扣装置而耦接于上盖，其中底座包括有聚醚醚酮材料，光掩模支撑组件设置于底座而光掩模固定组件设置于上盖，其目的为固定光掩模防止因震动而遭受损害。
聚醚醚酮材料的材料特性为低化学成分析出性与抗摩擦性。因此，大量使用聚醚醚酮材料的本发明可具有低化学析出性、抗摩擦性、材料强度高、有避免因使用过久而产生材料脆化及/或避免微粒产生等优点。且具有设计简单与零件减量的特点，可减少过多的零件因使用过久而松脱间接导致机台故障。
借由上述技术方案，本发明光掩模储放装置具有下述优点及有益效果：在运送、储放过程中能更有效的保护例如光掩模、基材或晶圆等对象，可提供例如低化学析出性、抗摩擦性、容易设计、零件数量少、拆装容易、高强度、改善净化气流进气效果、避免重击及/或避免微粒。
综上所述，本发明一种光掩模储放装置,包括有底座和上盖。此光掩模储放装置包括有聚醚醚酮材料。一锁扣组件用以耦接底座和上盖。光掩模固定组件设置于上盖上，而光掩模支撑组件则设置于底座上，用以避免光掩模震动。此光掩模储放装置设计有通气孔结构使气体以360度的方式被喷入由底座与上盖所构成的光掩模置放空间。在通气孔结构中另有额外设计的粒子过滤器来防止微粒进入光掩模盒内，一密封衬垫设计于底座底板以提升底座与上盖密合时的气密性本发明具有上述诸多优点及实用价值，其不论在装置、设备结构或功能上皆有较大改进，在技术上有显著的进步，并产生了好用及实用的效果，且较现有的光掩模储放装置具有增进的突出功效，从而更加适于实用，并具有产业的广泛利用价值，诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1绘示依照本发明的一实施例的光掩模储放装置的上盖组件的外观结构图；
图2绘示依照本发明的一实施例的光掩模储放装置的上盖组件的底部的外观结构图；
图3绘示依照本发明的一实施例的光掩模储放装置的底座组件的外观结构图；
图4绘示依照本发明的一实施例的光掩模储放装置的底座组件的的底部外观结构图；
图5a及图5b绘示依照本发明的一实施例的光掩模储放装置的光掩模固定组件不同角度的外观结构图；
图6绘示依照本发明的一实施例的具有通气孔的光掩模储放装置及充气阀件组(含粒子过滤器及/或微粒滤膜)的分解结构图；
图7绘示依照本发明的一实施例的光掩模储放装置的通气孔的剖面图；
图8绘示依照本发明的一实施例的光掩模储放装置的气流扩散方式的示意图；
图9a绘示依照本发明的一实施例的光掩模储放装置的上盖组件的剖面图；
图9b绘示依照本发明的一实施例的光掩模储放装置的底座组件耦接时的剖面图。
10：上盖组件
15：壳体
20：握把
30：堆置凸部
40：端部
40b：上盖内垫压板
50：固定组件
60：上盖金属内垫
60a：凸部
70：光掩模固定组件
300：底座组件
310：底板结构、底板
320：底座金属压板
330：密封衬垫
330a：沟槽
340：光掩模支撑部
350：通气孔座
350a：气流出气导引孔
410：凹面单元
420：通气开口
500：光掩模固定组件
510：铆钉
520：光掩模固定部
530：支撑肋
600：通气孔结构
610：上充气阀件
610a：孔洞结构
620：下充气阀件
630：粒子过滤器
810：气流
900：光掩模储放装置
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的光掩模储放装置，其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
本发明的不同实施例将详述如下，以实施本发明的不同的技术特征，可理解的是，以下所述的特定实施例的单元和配置用以简化本发明，其仅为范例而不限制本发明的范围。此外，在不同实施例的叙述中可能使用相同的标号，以简化说明。再者，在实施例中所述的第一特征形成于第二特征上，其可表示第一特征与第二特征相互接触。然而，在一些实施例中，第一特征与第二特征之间可具有其它特征，例如第一特征与第二特征并未相互接触。此外，例如上/下、顶/底及垂直/水平等字汇用以方便叙述和提供相对关，而未限制其绝对方向。
一种光掩模储放装置揭露于本实施例中，光掩模储放装置可为一容器或支持器，用以在制程前后或使用过程中运送、储放或保护光掩模。举例来说，储放装置可保护光掩模免于粉尘、污染物、人为触摸、表面摩擦及/或其不同原因的损伤。在此所述的光掩模储放装置可供单一光掩模或多个光掩模来进行储放及/或运送。
光掩模可具有光掩模图案，用于微影(Photolithography)制程中，光掩模包括有基材，其可为一透明基材，例如以熔炼石英(SiO2)或石英(相对没有缺陷)、氟化钙(CalciumFluoride)或其它适合材料。此光掩模可包括二元式光掩模(Binary Mask)、无铬膜相位移光掩模(Chrome-less PSM)、衰减性相位偏移光掩模(Attenuated PSM)及/或其它光掩模技术。在一实施例中，一薄膜材料形成于此基材上，且包括有铬或其材料，例如：Au、MoSi、CrN、Mo、Nb2O5、Ti、Ta、MoO3、MoN、Cr2O3、TiN、ZrN、TiO2、TaN、Ta2O5、NbN、Si3N4、ZrN、Al2O3N、Al2O3R或其任意组合。此光掩模可应用于一半导体制程中，例如TFT-LCD制程或其它已知可应用相关微影制程技术，来提供集成电路的图案的任何产品生产程序。
请参照图1和图2，其绘示一光掩模储放装置的上盖组件10。上盖组件10可为光掩模储放装置的一上盖或覆盖组件，上盖组件10可耦合于一底座组件(例如以下图3和图4所述的底座组件300)来提供一光掩模储放空间，其由上盖组件10与底座组件300所形成和定义，以容置光掩模。上盖组件10包括有壳体15、握把20及堆置凸部30。握把20和堆置凸部30可用以人工徒手运送此光掩模储放装置时使用，及/或用以当多个光掩模储放装置堆栈时相互定位而避免滑动，上盖组件10耦合于光掩模储放装置的底座组件300上，其说明和图示可例如参照于图9。在一实施例中，堆置凸部30另外可供一自动化物料搬运系统(AutomatedMaterial Handling System；AMHS)来进行夹取与支撑整体光掩模储放装置，以进行自动搬运，及/或用以堆栈多个光掩模储放装置。壳体15包括有一端部40，端部40的一或更多表面可耦合于光掩模储放装置的底座组件(例如底座组件300)。在一实施例中，上盖组件10(含壳体15、堆置凸部30与端部40)以一体成型方式来形成，例如射出成型。在一实施例中，壳体15和堆置凸部30模铸(例如射出成型)成一体。
壳体15(例如侧面、顶面及/或端部40)本体包括有热塑性高分子材料，此热塑性高分子材料可具有聚酮(Polyketone)成份。在一实施例中，壳体15本体包括有聚醚醚酮(PEEK)材料(或成份)。PEEK材料可提供高耐温性、耐磨损性、耐腐蚀性、耐火、耐烟熏、耐水解及/或可抵抗其它可能对光掩模造成影响的环境因素的特性。具有PEEK材料的壳体15亦可提供绝缘性、耐重强度、尺寸稳定性及/或其它优点。此PEEK材料可具有高纯度成份，PEEK材料相较于传统材料更具有低化学析出性(Low Chemical Outgassing)。举例来说，具有PEEK材料的组件的化学析出量为2.15μg/g，而一般材料(YM710或PMMA)的化学析出量为117μg/g。在一实施例中，上盖组件10(含壳体15的侧面、顶面及端部40与堆置凸部30)由PEEK材料所形成。在一实施例中，壳体15或部份以PEEK材料来射出成型。
上盖金属内垫60(或防护物)设置于壳体15上，以保护光掩模免于静电放电(ESD)情况。此上盖金属内垫60可包括有任何材料，例如合金及/或其它适合导体材料，虽然在此叙述为金属垫，其亦可由其它材料(导体材料)来避免ESD，其材料与用途同于图3所述的底座金属压板320。光掩模固定组件70可耦接上盖金属内垫60，一或更多光掩模固定组件70设置于上盖组件10中。在一实施例中，四个光掩模固定组件70耦接于上盖金属内垫60再连同上盖金属内垫60设置于壳体15上。光掩模固定组件70可耦接于上盖金属内垫60，并利用任何适合的方式来固定于上盖组件10上。在一实施例中，光掩模固定组件70以铆钉来耦接于上盖金属内垫60上，而上盖金属内垫60可利用四个上盖内垫压板40b与固定组件50来耦接于壳体15上。光掩模固定组件70可固定光掩模，并稳固光掩模，以避免晃动。尤其光掩模固定组件70可提供光掩模在垂直方向上的震动阻尼(例如可避免光掩模的震动幅度过大)，光掩模固定组件70的说明更详述于以下图5。
上盖内垫压板40b包括有一固定组件50，在一实施例中，固定组件50设有螺丝。在一实施例中，固定组件50设有螺丝和垫圈。垫圈及/或螺丝可为金属材质。固定组件50可耦接上盖组件10的一或更多组件，例如上盖金属内垫60和壳体15，在一实施例中，固定组件50需达一特定的螺纹长度(例如螺纹的长度至少大于5mm)。固定组件50具有避免上盖内垫压板组件40b因长久使用或组装不良而松动的优点。松动组件可能造成困扰，例如可能影响制程工具(例如扫描仪)在制程中的运作。固定组件50在上盖组件10的位置仅用以举例说明，而不限于其它实施例。此外，上盖组件10可设有一固定组件50或多个固定组件50。
请参照图3和图4，其绘示光掩模储放装置的底座组件300的透视图。在一实施例中，底座组件300可用以与图1和图2所述的上盖组件10相互结合而形成一光掩模储放装置。上盖组件10与底座组件300可相互耦合，以形成一光掩模储放空间来容置光掩模。底座组件300包括有一底板结构310、底座金属压板320、密封衬垫330、光掩模支撑部340及多个通气孔座350。此些通气孔座350详述于以下图6、图7及图8。此些通气孔座350的数量和位置仅以举例说明，然不限于此，此些通气孔座350亦可设置于光掩模储放装置的其它单元上，例如图1所述的上盖组件10。
在一实施例中，底板结构310本体包括有PEEK材料。在一实施例中，光掩模支撑部340本体包括有PEEK材料。PEEK材料可提供高耐温性、耐磨损性、耐腐蚀性、耐火、耐烟熏、耐水解及/或可抵抗其它可能对光掩模造成影响的环境因素的特性。PEEK材料亦可提供绝缘性、耐重强度、尺寸稳定性及/或其它优点。PEEK材料相较于传统材料更具有低化学析出性。
底座金属压板320(或防护物)设置于底板结构310上，以保护光掩模免于静电放电(ESD)情况。此底座金属压板320可包括有任何材料，例如合金及/或其它适合导体材料，底座金属压板320其材料与用途实质相似于图2所述的上盖金属内垫60，当上盖组件10与底座组件300相结合时，上盖组件10与底座组件300构成一密闭空间，同时，底座金属压板320与上盖金属内垫60亦结合而构成一密闭的金属屏蔽空间，以有效且全面的防止光掩模ESD发生。
在一实施例中，光掩模支撑部340本体包括有PEEK材料，其可利用任何方式来耦接于底座金属压板320及/或底板结构310。光掩模支撑部340可在光掩模储放装置的底座组件300进行储放及/或运送时支撑光掩模。光掩模可放置于光掩模支撑部340上，光掩模的表面或边缘直接接触于光掩模支撑部340。在一实施例中，具有PEEK材料的光掩模支撑部340相较于传统材料(例如YM710)可提供低化学析出性和较佳的抗摩擦性。抗摩擦性可减少光掩模与光掩模支撑部340之间的摩擦，并可减少因光掩模及/或光掩模支撑部340的磨损所产生的粒子。
在一实施例中，密封衬垫330包括有非结晶聚合物PET(Amorphous PolyEthyleneTerephthalate)和PEDT/PSSH。在一实施例中，密封衬垫330约包括有99.5％的非结晶聚合物PET和0.5％的PEDT/PSSH，此组合成份可参照为材料或成份CS-105。密封衬垫330的化学和物理性质可包括有熔点约为摄氏86度、不溶于水、比重约为1.34g/cm3、无臭、干净、相对稳定及/或可制成薄膜。密封衬垫330的材料相较于传统材料可提供低化学析出性。举例来说，材料或成份CS-105的密封衬垫330的化学析出量约为6.58μg/g，而传统材料(例如海绵及/或泡棉)的化学析出量约为640μg/g。
请参照图4，其绘示一实施例说明的底板结构310的底侧。此底板结构310包括有通气开口420，其相对位置在于图3所述的通气孔座350。通气开口420的位置和数量仅用以举例说明，然不限于本实施例的叙述。底板结构310更包括有多个凹面单元410。当上盖组件(例如图1和图2所述的上盖组件10)耦接于底座组件的底板结构310时，凹面单元410为锁扣装置扣合的位置，藉由锁扣固定与凹面单元410的特殊设计可提升光掩模储放装置的密封效果。
请参照图5a和图5b，其绘示一实施例说明的光掩模固定组件500。光掩模固定组件500可设置于光掩模储放装置中，以减少光掩模在储放和运送时的移动量(例如震动)。光掩模固定组件500可实质地相似于图2所述的光掩模固定组件70(其例如位于光掩模储放装置的上盖组件)，光掩模固定组件500可位于光掩模储放装置的任何位置，用以支撑及/或固定容置于光掩模储放装置内的光掩模(例如减少光掩模所受的震动)。
光掩模固定组件500可利用铆钉510来固定于光掩模储放装置的一单元上，光掩模固定组件500可例如利用铆钉来耦接于光掩模储放装置的上盖组件的图2所述的上盖金属内垫60，以铆钉固定的目的在于减少组件松脱的机会进而损害容置于光掩模储放装置内的光掩模，然不限于此，其它固定方式亦可使用。在一实施例中，光掩模固定组件500例如利用铆钉510来耦接上盖组件的金属内衬垫(图2所述的例如上盖金属内垫60)。光掩模固定组件500包括有光掩模固定部520，光掩模固定部520可接触于光掩模，以减轻光掩模所受的震动。光掩模固定部520耦接于一支撑肋530，支撑肋530的材料相同于光掩模固定部520。在一实施例中，支撑肋530和光掩模固定部520一体成型。在一实施例中，支撑肋530和光掩模固定部520共模形成。支撑肋530可增加光掩模固定组件的强度。举例来说，经由拉伸测试可知，具有支撑肋的光掩模固定组件可承受9.0公斤重的拉力，而未具有支撑肋的光掩模固定组件可承受4.6公斤重的拉力。因此，支撑肋530可避免光掩模固定部520在受到轻微撞击下断裂而损害容置于光掩模储放装置内的光掩模。
请参照图6、图7及图8，其绘示一实施例说明光掩模储放装置的通气孔结构600。通气孔结构600可用以提供气体(例如氮气、洁净且干燥的空气(CDA)、超洁净且干燥的空气(XCDA)及/或其它适合的气体)通过并且进入光掩模储放装置。举例来说，通气孔结构600可用以由外部气源来提供气体至光掩模储放装置内的光掩模储放空间，以净化此光掩模储放空间。此由外界气源进气至光掩模储放空间的设计与步骤可减少污染物，并移除掉落光掩模上的粒子。在一实施例中，所提供的气体为氮气(N2)，然不限于此，其它气体亦可使用。通气孔结构600包括有在底板上的通气孔座350和通气开口420，其绘示于图3和图4。
上充气阀件610和下充气阀件620(亦可为固定组件或过滤器固定组件)位于通气开口420上，在一实施例中，上充气阀件610和下充气阀件620可包括有PEEK，上充气阀件610和下充气阀件620可包括有孔洞结构，例如孔洞结构610a，藉以使气体通过充气阀件。孔洞结构仅用以举例说明，然不限于此。一粒子过滤器630设置于上充气阀件610和下充气阀件620之间，在一实施例中，此粒子过滤器为一粒子混合纤维滤膜，然不限于此，其它可达到相同效果的粒子过滤装置亦可使用，粒子过滤器630可用以过滤粒子，以避免粒子进入光掩模储放空间内。粒子过滤器630所过滤的粒子包括由光掩模储放装置所析出的粒子、环境粒子、因光掩模储放装置的组件摩擦所造成的粒子、气体所带有的粒子及/或其它来源所造成的粒子。
底座金属压板320的通气孔座350设置于上充气阀件610、下充气阀件620及粒子过滤器630上。通气孔座350相似于图3所述的通气孔座350，通气孔座350可经由气流出气导引孔350a来释放气体至光掩模储放空间内，并且提供进气角度约360度的气流。举例来说，在一实施例中，氮气由底板结构310的通气开口420来注入，氮气流经由上充气阀件610及下充气阀件620所固定住的微粒滤膜630并藉此过滤掉可能进入且污染容置于光掩模储放装置内光掩模的所有微粒，被过滤后的氮气由通气孔座350排出，特别由通气孔座350的气流出气导引孔350a以360度的方向来排出。在一实施例中，氮气的气流810以约360度方向来流进光掩模储放空间内(例如经由通气孔结构600)。以约360度方向来放射的气体可提升气体在光掩模储放空间内的净化效果，其可避免旧式特定角度的充气方式在光掩模储放空间内形成死角，而导致有部分空间无法完全净化，而减低充气净化效果。
请参照图9，其绘示一光掩模储放装置900的上盖组件和底座组件之间的耦接面。光掩模储放装置900包括具有上盖组件10的壳体15和上盖金属内垫60，其实质相似于图1和图2所述。光掩模储放装置900更包括有底座组件300的底板结构310、底座金属压板320及密封衬垫330，其实质相似于图3和图4所述。上盖金属内垫60设有凸部60a，密封衬垫330设有沟槽330a。上盖组件10和底座组件300相互耦接，藉以使凸部60a对位于沟槽330a，因而上盖组件10和底座组件300之间的耦接方式可避免上盖组件10和底座组件300之间的移动(例如滑动)而且确保光掩模储放空间的密闭性。
因此，本实施例所提供的改善的光掩模储放装置(例如容器)可用以储放或运送光掩模。在一实施例中，光掩模储放装置本体包括有PEEK材料。举例来说，一上盖组件(例如上盖)和一底座组件(例如底板)及其内光掩模支撑单元可以由PEEK材料所制成。上盖组件和底座组件可相互耦接，以形成一空间来放置光掩模。固定及/或锁扣组件(例如螺丝)可用以耦接次组件(例如壳体和上盖金属内垫)于上盖组件上，或可耦接上盖组件和底座组件成光掩模储放装置。在一实施例中，固定组件包括有垫圈。一或多个光掩模固定组件可固定于光掩模储放装置的上盖，光掩模固定组件可用以稳定光掩模来免于垂直震动或移动。光掩模可设置于光掩模储放装置的底座支撑单元上，以进行储存及/或搬运。底座支撑单元设置于底板上。在一实施例中，底座支撑单元以PEEK材料所制成。
一或多个通气孔可设置于底座组件(底板)上，一粒子过滤器可设置于通气孔上，以过滤进入气体。一底座密封衬垫可设置于底板上，藉以当底座和上盖耦接时提供密封效果。在一实施例中，底座密封衬垫可为材料或成分CS-105及/或其它可达相似目的与效果的任何材料与成份。
本实施例所改善的光掩模储放装置可提供例如低化学析出性、抗摩擦性、容易设计、零件数量少、拆装容易、高强度、改善净化气流进气效果、避免重击及/或避免微粒等优点。
PEEK材料的使用可减少光掩模暴露于高微粒环境(污染物)的情形，一般材料(例如PEEK以外的软性材料)容易因长久的使用后而碰撞、摩擦出微小的粒子，如此高的微粒产生率所产生的微粒一旦在光掩模储放装置进行充气时被连带吹入光掩模储放装置内部空间时，则此微粒有机会附着或掉落于光掩模表面，此行为模式将会提高整合式光掩模检测系统(Integrated Reticle Inspection System；IRIS)的失败率和昂贵的晶圆重制情形。举例来说，若光掩模上的污染物(析出物及/或掉落的微粒)阻碍或改变光线，而扭曲基材上的图案(例如无法将光掩模上的客户重要电路设计图或装置成功且完整的成型于晶圆上，或者，光掩模上的污染物在原本独立的图形上成像，因而使形成于晶圆上的电路设计图造成短路进而使产品功能失效)，则需对晶圆进行重制。IRIS设备可作为一光掩模表面检测设备，其可发出检测光线或雷射至光掩模(玻璃基材和薄膜表面)上，并藉由测量反射的检测光线或雷射来提供微粒尺寸。使用强度更高的材料(PEEK)所制成的光掩模储放装置更可以延长光掩模储放装置的使用寿命。
上述已概述其特征于多个实施例中，藉以使熟悉此制程方法者及/或有机会使用此方式进行产品生产者可更加明了本发明的叙述。任何熟习此生产方式与概念者可由本发明的揭露轻易了解，实质上与此实施例所叙述的具有相同功能或结果的制程、机械、制造技术、标的组成、手段、方法及步骤皆可对应运用于本发明中。熟习此技术者亦可明了在不脱离本发明后附的申请专利范围的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。举例来说，藉由本发明的光掩模储放装置的揭露，亦可用以作为例如基材或晶圆的储放及/或搬运装置。
Claims (9)
1.一种光掩模储放装置，用以供一光掩模来进行储放及/或运送，其特征在于该光掩模储放装置至少包括：
一上盖组件，该上盖组件至少包括：
一壳体，包括一端部，并具有聚醚醚酮材料；
一上盖金属内垫，设置于该壳体上，该上盖金属内垫设有一凸部；以及
一光掩模固定组件，具有聚醚醚酮材料，并耦接该上盖金属内垫，用以提供该光掩模在垂直方向上的震动阻尼，该光掩模固定组件至少包括：
一光掩模固定部，具有聚醚醚酮材料，并用以接触于该光掩模；
以及
一支撑肋，具有聚醚醚酮材料，耦接于该光掩模固定部，并与该光掩模固定部一体成型，用以增加每一该光掩模固定组件的强度；
一底座组件，与该壳体的该端部的一或更多表面相互耦合，以形成一光掩模储放空间来容置该光掩模，该底座组件至少包括：
一底板结构，具有聚醚醚酮材料，以提供绝缘性；
一底座金属压板，设置于该底板结构上，并与该上盖金属内垫结合而构成一密闭的金属屏蔽空间，以保护该光掩模免于静电放电；以及
一密封衬垫，设置于该底板结构上，其中该密封衬垫包括有99.5％的非结晶聚合物PET和0.5％的PEDT/PSSH，以提供低化学析出性，该密封衬垫提供一接口于该底座组件和该上盖组件之间，以耦接该底座组件和
上盖组件，该密封衬垫具有一沟槽，当该底座组件和该上盖组件相互耦接时，该上盖金属内垫的该凸部对位于该密封衬垫的该沟槽，而确保该光掩模储放空间的密闭性；以及
至少一通气孔结构，形成于该底座组件中，包括设置于该底板结构上的一通气开口，其中至少一通气孔结构用以允许一气体来通过该通气开口，并以360度的方向来进入该光掩模储放装置的内部空间。
2.如权利要求1所述的光掩模储放装置，其特征在于其中每一该些通气孔结构至少包括：
一上充气阀件和一下充气阀件，具有聚醚醚酮材料，并位于该通气开口上，其中该上充气阀件和该下充气阀件至少包括有一孔洞结构，藉以使该气体通过该上充气阀件和该下充气阀件；
一粒子过滤器，设置于该上充气阀件和该下充气阀件之间；
一通气孔座，设置于该上充气阀件、该下充气阀件及该粒子过滤器上，其中该通气孔座具有一气流出气导引孔，藉以释放该气体至该光掩模储放空间内，并提供进气角度为360度的气流。
3.如权利要求1所述的光掩模储放装置，其特征在于该上盖组件还至少包括：一堆置凸部，用以供一自动化物料搬运系统来进行夹取与支撑该光掩模储放装置，及/或用以堆栈多个光掩模储放装置。
4.如权利要求1所述的光掩模储放装置，其特征在于该上盖金属内垫利用多个上盖内垫压板来耦接于该壳体上。
5.如权利要求4所述的光掩模储放装置，其特征在于每一该些上盖内垫压板还至少包括：
一固定组件，包括一螺丝和一垫圈，其中该螺丝具有一特定的螺纹长度，其至少大于5mm，且其中该固定组件用以耦接该上盖金属内垫和该壳体。
6.如权利要求1所述的光掩模储放装置，其特征在于其还至少包括：
一光掩模支撑部，设置于该底座组件上，其中该光掩模支撑部包括有聚醚醚酮材料。
7.如权利要求1所述的光掩模储放装置，其特征在于该底板结构还至少包括：多个凹面单元，其中当该上盖组件耦接于该底座组件的该底板结构时，该些凹面单元为多个锁扣装置扣合的位置。
8.一种光掩模储放装置，用以供一光掩模来进行储放及/或运送，其特征在于该光掩模储放装置至少包括：
一上盖组件，该上盖组件至少包括：
一壳体，包括一端部，并具有聚醚醚酮材料；
一上盖金属内垫，设置于该壳体上，该上盖金属内垫设有一凸部；以及
一光掩模固定组件，具有聚醚醚酮材料，设置于该壳体上，并耦接该上盖金属内垫，用以接触于该光掩模并提供该光掩模在垂直方向上的震动阻尼；
一底座组件，与该壳体的该端部的一或更多表面相互耦合，以形成一光掩模储放空间来容置该光掩模，该底座组件至少包括：
一底板结构，具有聚醚醚酮材料，以提供绝缘性；
一底座金属压板，设置于该底板结构上，并与该上盖金属内垫结合而构成一密闭的金属屏蔽空间，以保护该光掩模免于静电放电；
一密封衬垫，设置于该底板结构上，其中该密封衬垫包括有99.5％的非结晶聚合物PET和0.5％的PEDT/PSSH，以提供低化学析出性，该密封衬垫提供一接口于该底座组件和该上盖组件之间，以耦接该底座组件和
上盖组件，该密封衬垫具有一沟槽，当该底座组件和该上盖组件相互耦接时，该上盖金属内垫的该凸部对位于该密封衬垫的该沟槽，而确保该光掩模储放空间的密闭性；以及
至少一通气孔结构，每一该至少一通气孔结构至少包括：
一通气开口，设置于该底板结构上，藉以注入一气体；
一上充气阀件和一下充气阀件，具有聚醚醚酮材料，并位于该通气开口上，其中该上充气阀件和该下充气阀件至少包括有一孔洞结构，藉以使该气体通过该上充气阀件和该下充气阀件；
一粒子过滤器，设置于该上充气阀件和该下充气阀件之间，用以过滤粒子；以及
一通气孔座，设置于该上充气阀件、该下充气阀件及该粒子过滤器上，其中该通气孔座具有一气流出气导引孔，藉以释放该气体至该光掩模储放空间内，并提供进气角度为360度的气流。
9.如权利要求8所述的光掩模储放装置，其特征在于其中该光掩模固定组件至少包括：
一光掩模固定部，具有聚醚醚酮材料，并用以接触于该光掩模；以及
一支撑肋，具有聚醚醚酮材料，并耦接于该光掩模固定部，用以增加每一该光掩模固定组件的强度。
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