CN104267495A - 驱动微反射镜的方法和装置 - Google Patents

驱动微反射镜的方法和装置 Download PDF

Info

Publication number
CN104267495A
CN104267495A CN201410453043.5A CN201410453043A CN104267495A CN 104267495 A CN104267495 A CN 104267495A CN 201410453043 A CN201410453043 A CN 201410453043A CN 104267495 A CN104267495 A CN 104267495A
Authority
CN
China
Prior art keywords
micro
reflector
inclination
driver
angle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201410453043.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104267495B (zh
Inventor
简.霍恩
克里斯琴.肯普特
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Publication of CN104267495A publication Critical patent/CN104267495A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104267495B publication Critical patent/CN104267495B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/70116Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/0841Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting element being moved or deformed by electrostatic means
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0037Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration with diffracting elements
    • G02B27/0043Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration with diffracting elements in projection exposure systems, e.g. microlithographic systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/72Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/702Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70525Controlling normal operating mode, e.g. matching different apparatus, remote control or prediction of failure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)

Abstract

微光刻投射曝光设备的照明系统(10)中的微反射镜阵列(22)的微反射镜(24),可关于两个倾斜轴(x、y)通过各倾斜角度(αx、αy)倾斜。微反射镜(24)被分配三个驱动器(E1、E2、E3),所述三个驱动器可以通过控制信号(U1、U2、U3)被分别驱动,从而使得微反射镜(24)关于所述两个倾斜轴(x、y)倾斜。规定两个控制变量(SGx、SGy),其每个被分配给一个倾斜轴(x、y)且其两者被分配给未被干扰的倾斜角度(αx、αy)。对于两个控制变量(SGx、SGy)的任何希望的组合,根据两个控制变量(SGx、SGy),选择三个驱动器中的一个驱动器(E1)并将其控制信号(U1)设为常数值,具体地0。确定控制信号(U1、U2、U3),使得当控制信号(U1、U2、U3)被施加到其它两个驱动器(E2、E3)时,微反射镜(24)根据两个控制变量(SGx、SGy)采用未被干扰倾斜角度(αx、αy)。

Description

驱动微反射镜的方法和装置
本申请是申请日为2009年10月6日且发明名称为“驱动微反射镜的方法和装置”的中国专利申请No.200980139821.0的分案申请。
技术领域
本发明涉及用于驱动微反射镜的方法和装置,所述微反射镜用于微光刻投射曝光设备的照明系统中,从而影响投射光的照明角度分布。
背景技术
最近已设想对微光刻投射曝光设备的照明系统使用包括多个可单独驱动的微反射镜的所谓的多反射镜阵列(MMAs,也称为微反射镜阵列或微反射镜矩阵),从而使照明系统的投射光的单独的子光束(sub-beam)朝不同方向分离。借助于微反射镜,例如,投射光的各个子光束可因此被指引到照明系统的光瞳表面的不同位置。由于照明系统的光瞳表面中的强度分布关键性地影响投射光的照明角度分布,因此照明角度分布由于微反射镜的可单独驱动性而可被规定得更加灵活。尤其对于在光瞳表面中照明环形区域或多极的所谓非传统的照明设置,MMAs的使用能够使照明角度分布适应于各个情况,且尤其适应于要被投射的掩模,而例如不需要替换衍射光学元件。
诸如半导体技术已知的,这样的MMAs通常通过光刻方法被制造为微机电系统(MEMS)。典型的结构尺寸有时为几微米。这样的系统的已知示例例如为,其微反射镜可关于两端位置之间的轴被数字化倾斜MMAs。这样的数字MMAs通常用于显示图像或影像的数字投影仪中。
然而为了在微光刻投射曝光设备的照明系统中使用,MMAs的微反射镜应该能够准连续地采用工作角度范围内的每个倾斜角度。具体地,微反射镜应该关于两个倾斜轴为可倾斜的。因此,例如存在已知的微反射镜,该微反射镜的反射镜表面以通用悬挂的方式被安装,且可借助于驱动器关于两个倾斜轴被倾斜。驱动器例如可被构造为静电或电磁驱动器。在已知的具有静电驱动器的布置中,具有两个倾斜轴的微反射镜被安装在四个控制电极之上并且在其背侧具有配位电极或反射镜电极。当电压被施加到控制电极与配位电极之间时,在它们之间由于静电吸引产生引力作用。依据被驱动的电极,每个倾斜轴被分配两个相对的控制电极,且微反射镜可朝一个方向或其它方向倾斜。通过关于两个倾斜轴倾斜的各种组合,反射镜可倾斜进入工作角度范围内的任何位置。
为了驱动单独的驱动器,每个驱动器需要其自己的电压或电流供应线以及与之连接的驱动电路。为了减小费用以及实现MMAs中的微反射镜的最大的高排列密度,US 2003/0189389因此提出一种采用三个驱动器的系统。然而由于当采用三个驱动器时单独的驱动器的驱动不再独立地按单个倾斜轴动作,采用一种方法,通过该方法可从关于两个倾斜轴倾斜的两个控制变量确定驱动器的三个控制信号。在此方法中,通过采用线性方程系统,从两个控制变量计算得到三个控制信号。方程系统的解集被各种限制条件限制。例如,此转换的一个要求在于两个控制变量分别引起关于彼此独立的相关倾斜轴的倾斜。另一限制条件在于由三个驱动器施加到微反射镜上的总力要保持为常数。
由于微光刻投射曝光设备的照明系统中的微反射镜的使用对反射镜对准的准确性提出非常多的需要,因此,在此系统中,为驱动器提供可变的控制信号的信号放大器,诸如高压输出级,也必须在信号稳定性以及可重复性方面满足最严格的要求。
发明内容
因此,本发明的目的是提供用于驱动微反射镜的方法和装置,借助于该方法和装置用于驱动微反射镜的驱动器的费用可被进一步降低。
关于方法,根据本发明通过提供微反射镜阵列实现此目的,微反射镜阵列布置于微光刻透射曝光设备的照明系统中且包括微反射镜。微反射镜可关于两个倾斜轴通过各倾斜角度倾斜。微反射镜此外被分配有三个驱动器,该三个驱动器可通过控制信号被分别驱动,从而使得微反射镜关于两个倾斜轴倾斜。两个控制变量随后被规定,每个被分配给一个倾斜轴且其两者被分配给未被干扰倾斜角度。接着,对于两个控制变量的任何希望的组合,根据两个控制变量,三个驱动器中的一个被选择且其控制信号被设为常数值,具体地为0。控制信号随后被确定,使得当控制信号被施加到其它两个驱动器时,微反射镜根据两个控制变量采用未被干扰倾斜角度。最后,控制信号被施加到驱动器。
因此,根据本发明,对于可通过三个驱动器关于两个倾斜轴倾斜的微反射镜,选择将被分配给关于倾斜轴的倾斜角度的两个控制变量转换成三个控制信号,使得在每种情况下驱动器中的一个接收设为0或至少设为常数的控制信号。这样,为了驱动特定的倾斜角度组合,分别仅需要两个信号放大器,该两个信号放大器产生对应改变的控制信号并将它们施加到其它两个驱动器。其控制信号被设为常数(具体地被设为0)的驱动器例如通过简单的多路电路可被设为预定值。此预定值通过信号放大器可被选择为对微反射镜阵列的微反射镜的所有组均相等,使得对于每个单独的微反射镜总共需要小于三个的信号放大器。
控制变量被优选线性分配为未被干扰倾斜角度,这是因为经由三个驱动器的微反射镜的驱动通过这样的分配就在先步骤而言(例如控制和调节算法)更加简单。
其控制信号被设为常数值(具体地被设为0)的驱动器可被选择,通过将具有方向的二维控制变量向量分配给两个控制变量,该两个控制变量被分配到关于两个倾斜轴的未被干扰的倾斜角度。有效倾斜向量被进一步分配给每个单独的驱动器,且随后驱动器被选择,该驱动器的有效倾斜向量的方向与控制变量向量的方向不直接相邻。这使得可以将二维控制变量向量表示为两个直接相邻的有效倾斜向量的线性组合。不直接相邻的并且具有与控制变量向量相反的分量的有效倾斜向量因此从线性组合被去除。不直接相邻的有效倾斜向量的方向也旨在包括其中控制变量向量和有效倾斜向量相符且驱动器的控制信号均因此被设为0的情况。
驱动器的前述有效倾斜向量在此情况下由控制变量获得,该控制变量被分配给当仅此驱动器被驱动时微反射镜采用的未被干扰的倾斜角度。有效倾斜向量因此表示每个单独的驱动器影响微反射镜的倾斜的方式,即,如何烈地影响以及在哪个方向上影响。
替代由设计数据确定有效倾斜向量,通过测量确定有效倾斜向量是有利的。制造微反射镜以及各分配的驱动器时的制造公差将由此被考虑。
在前述方法中,控制变量向量以及有效倾斜向量的方向优选根据下式确定:
θ = arctan ( SG y SG x )
其中SGx and SGy为分配给关于各个倾斜轴的未被干扰的倾斜角度的控制变量,且θ表示各个向量与方向y所成的角度,方向y与两个倾斜轴中的一个一致。
具体地,三个驱动器可以任意希望的方式被布置,且例如在静电驱动器的情况下,以任何希望的方式成形,只要它们的有效倾斜向量可利用正的线性组合产生所有给定的控制变量向量,即,只要每个控制变量向量可通过有效倾斜向量的正倍数被表示。然而,对于最佳的力分布,将驱动器以三重对称方式布置是有利的。
前述情况的结果是第一驱动器的有效倾斜向量的方向与方向y在排列角度内一致,第二驱动器的有效倾斜向量与第一驱动器的有效倾斜向量本质上成120°的角度,且第三驱动器的有效倾斜向量与第二驱动器的有效倾斜向量本质上成120°的角度。控制变量向量的角度θ确定之后,第三驱动器(E3)随后被选择第一驱动器(E1)随后被选择且第二驱动器(E2)随后被选择
为了能够更加准确地调节微反射镜的倾斜角度,有利的是,在本方法的确定变量的步骤中,通过控制算法、调节算法或组合的控制和调节算法,由设置点倾斜角度确定两个控制变量。
在此情况下,为此目的规定目标倾斜角度以及确定包括一系列的设置点倾斜角度的轨迹是进一步有利的。此轨迹表示实际倾斜角度向目标倾斜角度的转变,微反射镜瞬时通过实际倾斜角度倾斜。
优选地,当确定设置点倾斜角度时考虑校准数据。这样,上级系统不需要修正反射镜的可能的错误设置。
用于确定两个控制变量的调节算法在此情况下可被配置,使得两个控制变量通过调节算法被规定或由此被修正,调节算法接收调节差异。调节差异由监控系统测得的设置点倾斜角度以及实际倾斜角度的负反馈被确定,通过微反射镜瞬时通过实际倾斜角度倾斜。这样的调节算法可以补偿影响瞬时倾斜角度的干扰。
提供控制算法也可以是有利的,两个控制变量通过该控制算法被规定,通过借助于预测控制算法将两个控制变量分配给设置点倾斜角度,该预测控制算法采用反向系统动力学模型。
在本方法的选择其控制信号被设为0的驱动器且确定其它两个控制信号的步骤中,此外优选包括从分配表对给定控制变量确定控制信号的选项。这样,不需要从计算法则确定控制信号。然而,为了从分配表确定中间值或为了获得用于确定控制信号的连续函数,可有利地采用插值法,具体地双线性插值法或双三次插值法。
两个控制变量与三个控制信号之间的分配表在此情况下被编译,使得通过将各控制信号施加到驱动器,测量因此导致的倾斜角度并随后将两个控制变量线性分配给导致的倾斜角度,从而在参数化阶段编译分配表。在此情况下,当控制信号被施加时,一个控制信号已经分别保持为常数,具体地0。
在用于确定控制信号的另一有利的选项中,对于给定控制变量,控制信号借助于使用参数向量的计算法则的被确定。由于在此选项中排除了插值法,因此其可导致被更准确确定的控制信号。
可以从设计数据确定采用的参数向量。然而优选地,通过从倾斜角度与三个驱动器的控制信号之间的至少3个分配的估算,参数向量在参数化阶段被确定。通过将各控制信号施加到驱动器并且测量由此导致的倾斜角度,确定这些至少六个配置。
本发明的另一方面提供一种用于驱动微反射镜的方法,其中微反射镜阵列被初始地提供,微反射镜阵列被布置在微光刻透射曝光设备的照明系统中并且包括微反射镜,微反射镜可关于两个倾斜轴通过各倾斜角度倾斜。微反射镜被分配三个驱动器,三个驱动器可通过控制信号被分别驱动从而使得微反射镜关于两个倾斜轴倾斜。在第二步中,通过激活和测量微反射镜的多个倾斜角度以及存储为此施加到三个驱动器的控制信号,从而编译倾斜角度与三个驱动器的控制信号之间的分配表。随后规定两个控制变量,每个控制变量被分配给一个倾斜轴,且两个控制变量均被线性分配给未被干扰的倾斜角度。根据在先步骤中的分配,通过将两个控制变量线性分配给分配表的倾斜角度,并且从分配表读出分配给这些倾斜角度的控制信号,从而随后确定导致微反射镜倾斜通过未被干扰的倾斜角度的控制信号。最后,控制信号被施加到驱动器。此以上描述的方法的优点在于,由于分配表的编译,不必须进一步考虑控制信号、控制变量和倾斜角度之间的关系,且此方法配置因此非常简单。特别地,则不会发生由于简化模型假设引起的误差。在与分配表有关的此方法中也可采用插值法,具体地双线性插值法或双三次插值法。
替代使用编译分配表的上述方法,本发明的另一方面提供一种用于驱动微反射镜的方法,其中微反射镜阵列被初始地设置,微反射镜阵列被布置在微光刻透射曝光设备的照明系统中并且包括微反射镜,微反射镜可关于两个倾斜轴通过各倾斜角度倾斜。微反射镜被分配三个驱动器,三个驱动器通过控制信号可被分别驱动,从而关于两个倾斜轴倾斜微反射镜。接着,通过激活和测量微反射镜的各种倾斜角度以及为此施加到三个驱动器的控制信号,确定倾斜角度与三个驱动器的控制信号之间的至少3个分配。随后从在先步骤中获得的配置关系估算参数向量。随后规定两个控制变量,每个控制变量被分配给一个倾斜轴。借助于使用估算的参数向量的计算法则,则对给定控制变量确定控制信号。最后,控制信号被施加到驱动器。
在使用参数向量的上述方法中,由于参数向量以多于3种分配关系被多重确定,其例如通过最小二乘估算器被估算,从而减小初始由于测量不准确性引起的错误。
上述每种方法优选对微反射镜操作,该微反射镜可分别采用至少三个关于倾斜轴不同的倾斜角度。则使得用投射光可照明光瞳表面的至少九个不同位置。根据另一选择,微反射镜可准连续地采用在它的工作角度范围内的所有的角度。
就装置而言,上述方法借助于用于驱动包含在微反射镜阵列中微反射镜的驱动电子装置被执行,微反射镜阵列布置在微光刻透射曝光设备的照明系统中。微反射镜具有两个倾斜轴且三个驱动器被分配到该微反射镜。三个驱动器通过控制信号可被分别驱动,从而使得微反射镜关于两个倾斜轴倾斜。驱动电子装置包括具有控制变量的输入的转换器,该控制变量被分配给关于两个倾斜轴的未被干扰的倾斜角度。驱动电子装置进一步包括两个信号放大器以及切换单元,信号放大器可由转换器控制,控制信号通过切换单元可被施加到三个驱动器。根据施加到转换器输入的控制变量,三个驱动器中的一个驱动器的控制信号借助于转换器以及切换单元可被设为常数值,具体地0。另外两个控制信号可借助于转换器、切换单元以及两个信号放大器被施加到驱动器,使得微反射镜采用分配给控制变量的关于两个倾斜轴的未被干扰的倾斜角度。
为了甚至更准确地关于两个倾斜轴调节倾斜角度,转换器的控制变量的输入优选连接到控制系统、调节系统或组合的控制和调节系统,通过控制系统、调节系统或组合的控制和调节系统,控制变量可由设置点倾斜角度被确定。
转换器包括用于分配表的存储器是进一步有利的,从分配表,根据施加到转换器的输入的控制变量,可确定三个驱动器的控制信号。有利的,可提供允许控制信号的插值(具体地双线性插值或双三次插值)的装置。
转换器的另一有利实施例包括计算单元,通过该计算单元,借助于使用参数向量的计算法则,根据施加到转换器的输入的控制变量,可计算三个驱动器的控制信号。
根据本发明的另一方面,用于驱动包含在微反射镜阵列中的微反射镜的驱动电子装置包括具有控制变量的输入的转换器,微反射镜阵列布置在微光刻透射曝光设备的照明系统中并且包括微反射镜,微反射镜具有两个倾斜轴且微反射镜被分配三个驱动器,三个驱动器可被控制信号分别驱动,从而使微反射镜关于两个倾斜轴倾斜。控制变量被分配给关于两个倾斜轴的未被干扰的倾斜角度。驱动电子装置进一步包括信号放大器,其可通过转换器被控制且被直接或间接连接到驱动器。这样,控制信号可被施加到驱动器。转换器现包括用于分配表的存储器,从分配表,根据施加到转化器的输入的控制变量,可确定三个驱动器的控制信号。在此又一次地,可有利地提供允许控制信号的插值(具体地双线性插值或双三次插值)的装置。
根据本发明的另一方面,用于驱动包含在微反射镜阵列中的微反射镜的驱动电子装置包括具有控制变量的输入的转换器,微反射镜阵列布置在微光刻透射曝光设备的照明系统中,微反射镜具有两个倾斜轴且微反射镜被分配三个驱动器,三个驱动器可被控制信号分别驱动,从而使微反射镜关于两个倾斜轴倾斜。控制变量被分配给关于两个倾斜轴的未被干扰的倾斜角度。驱动电子装置进一步包括信号放大器,其可通过转换器被控制且被直接或间接地连接到驱动器。这样,控制信号可被施加到驱动器。转换器现包括计算单元,通过计算单元借助于使用可在参数化阶段被估算的参数向量的计算法则,根据施加到转换器的输入的控制变量,可计算三个驱动器的控制信号。
以上驱动电子装置优选与微反射镜结合以形成微反射镜系统,微反射镜包含在微反射镜阵列中,微反射镜阵列布置在微光刻透射曝光设备的照明系统中。这样,微反射镜具有两个倾斜轴以及被分配到微反射镜的三个驱动器,从而使微反射镜关于两个倾斜轴倾斜。
此外,本发明提供一种方法,用于转换微光刻投射曝光装置的照明系统中的照明设置,包括下面的步骤:
a)提供微反射镜阵列,其被布置在照明系统中且包括M个微反射镜,其中每个微反射镜可关于两个倾斜轴通过各倾斜角度倾斜;
b)驱动k=1,2,...,M个单独的微透镜,从而从第一照明设置转换到第二照明设置,其中对于每个k=1,2,...,M,两个照明设置之间的转换在少于50毫秒的时间段内被完成。
由于微反射镜影响照明系统的照明设置,因此尽管微反射镜阵列中微反射镜的通常较高的数量M,此方法可实现在不同的照明设置之间非常快的转换。其倾斜角度必须被改变从而从一个照明设置转换到另一个照明设置的单独的微反射镜的数量k取决于两个照明设置之间的差异。微反射镜的数量k以及微反射镜的旧的倾斜角度以及新的倾斜角度将通过较高水平的算法被确定,其为了转换照明设置,试图仅对必要多的微反射镜改变倾斜角度。然而,本发明也包括在50毫秒内改变所有M个微反射镜的倾斜角度。
优选地,这种快速转换照明设置的方法通过采用根据上述方法中的一个方法驱动单独的微反射镜来实现。由于上述方法允许减小必须的信号放大器以及对应的驱动电子装置的数量,信号路径被缩短,导致微反射镜倾斜角度的非常快的转换。采用根据这些方法的合适的设置,驱动电子装置要转送的信号的数量也可被减小,导致照明设置的转换进一步加快。
根据本发明的另一方面,提供了微光刻曝光设备的照明系统,其包括微反射镜阵列器,微反射镜阵列器包括M个微反射镜,其中每个微反射镜可关于两个倾斜轴通过各倾斜角度倾斜。该系统还可包括用于驱动单独的微反射镜的驱动电子装置,通过驱动k=1,2,...,M个单独的微反射镜,驱动电子装置能够转换照明设置,从第一照明设置转换到第二照明设置,从而对每个k=1,2,...,M在小于50毫秒的时间段内完成两个照明设置之间的转换。这种具有照明设置的快速转换的照明系统提供较高的通过量。
优选的,这种照明系统采用上述驱动电子装置作为驱动电子装置。
优选的,这种照明系统中的可倾斜的微反射镜的数量M大于1000,优选大于4000,从而可能以较高分辨率提供不同照明设置。
附图说明
图1显示通过具有多反射镜阵列的微光刻投射曝光设备的照明系统的简化的子午截面图;
图2显示多反射镜阵列的简化透视图,其中单独的微反射镜具有正方形的外部轮廓;
图3显示具有圆形外部轮廓的多反射镜阵列以及用于驱动它的驱动电子装置的简化透视图;
图4显示示意图,其示出驱动器的取向和效果与微反射镜的倾斜之间的关系;
图5显示根据现有技术已知的装置施加到驱动器的控制信号图(顶)以及由此导致的微反射镜上的力作用(底);
图6显示采用根据用于驱动微反射镜的本发明的方法,施加到驱动器的控制信号图(顶)以及由此导致的微反射镜上的力作用(底);
图7显示用于驱动微反射镜的控制和调节算法的示意图。
具体实施方式
图1显示微光刻投射曝光设备的照明系统10的高度简化的子午截面。照明系统10被用于适当地照明带有要被成像的光刻结构的掩模12。通常,希望以投射光最大均匀地照明掩模12,使得掩模12上的结构可被尽可能均匀地转移到涂敷有抗蚀剂的晶片上。除照到掩模点的总强度之外,关键性影响微光刻投射曝光设备的成像系统的另一因素是投射光的照明角度分布。照明角度分布旨在表示照到掩模点的光的总强度在光照到掩模点的不同入射角度之间的分布。具体地,希望照明角度分布适应于要被照明的结构类型,从而实现最大最优的成像。
为此,照明系统10在其光束路径中包括多个光学元件,该多个光学元件在图1中大多仅以高度简化的方式表示或未示出。通过激光器14或另外的光源产生的投射光初始地由第一光学部件16展开并通过平面反射镜18引导到微透镜阵列20上。平面反射镜18主要用于使照明系统10的外型尺寸保持得小。
沿光束路径往下,投射光照到将在后面参考图2描述的所谓的多反射镜阵列22。多反射镜阵列22包括多个微反射镜24,微反射镜24可通过驱动工具26(优选单独地)被倾斜。上游微透镜阵列20将投射光的单独的子光束会聚到微反射镜24上。
借助于驱动仪器26,单独的微反射镜24可被倾斜使得投射光的子光束经由第二光学部件28在可自由选择的位置穿过光瞳表面30。布置在此光瞳表面30附近的蝇眼积分器32在光瞳表面30中产生多个二次光源,多个二次光源经由第三光学部件34均匀地照明中间场平面35,可调节的光阑元件37布置于中间场平面35中。第三光学部件34在光瞳表面30中的角度与中间场平面35中的位置之间产生分配。中间场平面中的位置通过物镜36被成像到掩模12布置于其中的掩模平面。光瞳表面30中的强度分布因此不仅在中间场平面35中而且在掩模平面中确定照明角度分布。
通过多反射镜阵列22的单独的微反射镜24的不同的倾斜,不同的照明角度分布可因此被非常灵活地设置。通过适当驱动微反射镜24,照明角度分布甚至可在曝光期间被修改。
图2显示多反射镜阵列22的简化透视图,其中单独的微反射镜24是平的且具有正方形轮廓。为了将通过光束路径上游的微透镜阵列20产生的入射子光束引导到光瞳表面30中的任何希望的位置,每个微反射镜24关于两个倾斜轴x和y被倾斜地安装。关于轴x、y倾斜本身可通过驱动器控制,且如果可能每个微反射镜24应该被分配其自己的一组驱动器使得微反射镜24可被单独驱动。因此,具有相关驱动器的每个微反射镜24因此形成在多反射镜阵列22之上重复的反射镜单元38。
多反射镜阵列22中的反射镜单元38的数量越多,在光瞳表面30中的强度分布可分辨得更精细。可设想具有几千个关于两个倾斜轴x、y可倾斜的微反射镜24的多反射镜阵列22。这种多反射镜阵列22可例如以MEMS技术被制造。
图3显示镜单元38的实施例的高度示意性的透视图,其中,不同于图2所示的实施例,微反射镜24具有圆形轮廓。驱动电子装置由39表示,驱动电子装置为驱动仪器26的一部分且此微反射镜24通过驱动电子装置39可被驱动。
反射镜单元38的主要构件是具有平面反射镜支架的微反射镜24,该微反射镜24的反射镜表面40载有反射所用投射光(例如具有193nm波长的VUV光)的涂层。反射镜表面40可被分配一表面法线42,照到微反射镜24的投射光的入射角和出射角可相对于表面法线42被定义。在曲面反射镜表面40的情况下,为此目的平均表面法线42可被定义。
微反射镜24通过通用的悬挂(未示出)被关于图3中的虚线表示的两个倾斜轴x、y可倾斜安装。允许两个旋转自由度的通用的悬挂通过用于支撑它的回弹固态关节在微反射镜24上施加回复力矩,并且因此将其保持在稳定的中心位置。
例如通过气相沉积金属层产生的反射镜电极44被施加到微反射镜24的背侧。被构造为顶角为120°的圆盘片段的第一控制电极E1、第二控制电极E2以及第三控制电极E3被施加成与此反射镜电极44相对,且因此与反射镜单元38的基板上的整个微反射镜24相对。对于多个反射镜阵列22的每个反射镜单元38,三个控制电极E1、E2和E3以及反射镜电极44的线脚从MEMS单元被送出并连接到相关的驱动电子装置39。
通过在反射镜电极44与控制电极E1、E2和E3之间施加各电压U1、U2和U3,反射镜电极44由于静电吸引被单独的控制电极E1、E2和E3牵引。两个电极之间的此吸引力通过通用的悬挂被转换为微反射镜24关于两个倾斜轴x和y的倾斜。控制电极E1、E2和E3因此用作使微反射镜24倾斜的驱动器。
通过各电压U1、U2和U3的相互作用以及由通用悬挂的固态关节建立的回复力矩实质控制各个倾斜角度。由于微反射镜24在此旨在非常小,因此在此实施例中可忽略作用到微反射镜24上的其它力,例如重力。然而,由于诸如壳体振动、气流或热效应的效应引起的力可对微反射镜24的真实设置具有相当大的影响。
为了实现反射镜单元38的可能的最简单的驱动,在本实施例中,控制变量SGx和SGy被传送到驱动电子装置,该控制变量SGx和SGy分配(优选线性地分配)到希望的关于倾斜轴x和y未被干扰的倾斜角度αx和αy。为了将这些控制变量SGx和SGy转换成电压U1、U2和U3,驱动电子装置39包括转换器46、多路器(multiplexer)48以及两个可控的高压输出级50和52形式的两个信号放大器。转换器46接收两个输入线上的两个控制变量SGx和SGy,通过存储器45和/或计算单元47确定施加到控制电极E1、E2和E3的三个电压U1、U2和U3的值。根据控制变量SGx和SGy,根据下面借助于图4至6解释的方法,一个控制电极E1、E2或E3被分别选择,例如第一控制电极E1,且其相对反射镜电极44的电压U1通过多路器48被设置为0,即,其被置于与反射镜电极44相同的电势。经由从转换器46引导到高压输出级50和52的两个控制线,转换器46随后将其它两个电压U2和U3设置到引起微反射镜24的希望倾斜的值。接收这些两个电压U2和U3并进而由转换器46驱动的多路器48将选择的控制电极E1设置为0并且将相关的电压U2和U3施加到其它两个控制电极E2或E3
这样,在每种情况下仅需要两个信号放大器来驱动三个驱动器,从而实现微反射镜24关于两个倾斜轴x、y的希望的倾斜。由于多反射镜阵列22中的多个反射镜单元38,这大大减小了用于驱动微反射镜24的硬件费用。
如果在另一实施例中,例如采用电磁驱动器替代静电控制电极E1、E2或E3,则由各电压U1、U2和U3在此形成的控制信号例如可通过替代高压输出级50和52的恒定的电流源被产生。具体地,由转换器46规定的信号也可以纯粹的数字形式被传送到所用的信号放大器,在具有集成的功率输出级的数字-模拟转换器的情况下如此也是可能的。
如果所用的驱动器需要特定的交互信号,则不将所选的驱动器的控制信号设置为0,而是也可通过多路器48施加在多反射镜阵列22的多个反射镜单元38上为常数的控制信号。这样,在此情况下,每个反射镜单元38所需的信号放大器的数量在多反射镜阵列22上平均也被减小。
下面将借助于图4至6描述计算方法,施加到反射镜单元38的驱动器的三个控制信号通过该计算方法可被确定。
该方法的起点是两个控制变量SGx和SGy,两个控制变量SGx和SGy例如从控制和调节算法的输出传送到转换器46并且被分配给希望的角度,即,关于各个倾斜轴x、y的微反射镜24的未被干扰的倾斜角度αx和αy。因此对于给定的控制变量SGx和SGy,该方法必须能够尽可能精确地确定电压U1、U2和U3,电压U1、U2和U3使得微反射镜24倾斜为对应的未被干扰倾斜角度αx和αy
对于在静电驱动器的情况下的第一近似,控制电极E1、E2和E3作用到微反射镜24上的扭矩可被设定为与各个电压U1、U2和U3的平方成比例,。由通用的悬挂的固态关节引起的回复力矩与微反射镜24的倾斜大致成比例,只要运动发生在固态关节的弹性范围内,该回复力矩与这些扭矩平衡。回复力矩的比例常数(也被称为转动弹簧常数)可以被设置为在倾斜轴x和y的方向上不同。因此借助于这些旋转弹簧常数,可以用公式表示下面的未被干扰的倾斜角度αx和αy对施加的电压U1、U2和U3的依赖关系的简单模型,在此为了更简单的公式符号,这些旋转弹簧常数通过它们的倒数值被表示为cx和cy
α x α y = c x e 1 x c y e 1 y · U 1 2 + c x e 2 x c y e 2 y · U 2 2 + c x e 3 x c y e 3 y · U 3 2 - - - ( 1 )
这里,e1=(e1x,e1y)T,e2=(e2x,e2y)T和e3=(e3x,e3y)T是倾斜轴x、y的坐标系统中的比例因子,其通过乘以电压的平方U1 2、U2 2和U3 2给出由单独的控制电极E1、E2和E3引起的扭矩。因此这些比例因子例如也被控制电极E1、E2和E3以及反射镜电极44的不同取向或构造影响,此外也被它们制造期间的制造公差影响。分别旋转经过120°的向量对这里假设的情况可被设为e1、e2和e3,向量的长度对应于电极的力作用,其中控制电极E1、E2和E3理想地以三重对称性定位并且相等。
通过结合系数和重新布置,方程(1)可被重新写得更简单:
α x α y = P 1 x p 2 x p 3 x p 1 y p 2 y p 3 y · U 1 2 U 2 2 U 3 2 = : T U 1 2 U 2 2 U 3 2 - - - ( 2 )
可从设计数据或通过测量方法获得矩阵T的项目,其表示反射镜单元38的模型参数p1x、p1y、p2x、p2y、p3x、p3y。这种测量方法的示例将在下面更详细地解释。
如果由于例如电极形式的不同实施例,不存在扭矩对于各电压U1、U2和U3的二次依赖关系,则在以上的模型中具有电压的平方的向量可在任何时候被任意函数fi(Ui)替代。
方程系统(2)具有无穷多个解,为了简化通过要求电压U1、U2和U3大于或等于0,这些解可被部分地限制,这是因为两个电极之间的静电吸引效应不依赖所用电压的极性,且高压输出级50、52因此可对仅具有一个极性的电压范围被构造。
如果电压U1、U2和U3现被设为等于0,则方程系统(2)变成有唯一解,这是因为现仅存在两个要确定的未知量。然而,对于关于两个倾斜轴x和y的微反射镜24的特定倾斜,不能将任何电压U1、U2或U3设为0。由于此原因,在第一步中需要选择其电压U1、U2或U3可被设为0的控制电极E1、E2和E3
如具体可从图4中所见,控制变量SGx和SGy横跨控制变量空间,其被分配给关于倾斜轴x和y未被干扰的倾斜角度αx和αy的空间。原则上,此分配或坐标变换可以任何方式产生,控制变量SGx和SGy优选被彼此独立地并线性地分配给它们的各倾斜角度。在本实施例中,设定控制变量SGx和SGy与未被干扰倾斜角度αx、αy之间为相同的分配。两个空间的坐标轴因此彼此对应,如图4所示。在控制变量空间中,控制变量SGx和SGy的各种组合现在可被描绘为不同的控制变量向量SGV。
此外,如图4所示,通过控制电极E1、E2和E3以及分配给它们的有效倾斜向量w1、w2和w3,控制电极E1、E2和E3对于微反射镜24的影响也可在此控制变量空间中被考虑。控制电极E1、E2和E3的各有效倾斜向量w1、w2和w3在此情况下由分配给那些未被干扰的倾斜角度αx和αy的控制变量SGx和SGy给出,当仅此控制电极E1、E2或E3被以标准电压的形式驱动时,微反射镜24采用该未被干扰的倾斜角度αx和αy
除了乘以标准电压以及在控制变量空间中表示之外,有效倾斜向量w1、w2和w3因此对应于所述项目,或更精确而言矩阵T的列,其表示方程(2)中的反射镜单元38的模型参数p1x、p1y、p2x、p2y、p3x、p3y。在具有以三重对称性布置的控制电极E1、E2和E3的实施例中,因此考虑第一控制电极E1与倾斜轴y之间的例如由于制造公差引起的排列角度
如果被干扰的倾斜角度αx和αy的希望组合或更精确而言分配给它们的控制变量SGx和SGy现被描绘为图4中的控制变量向量SGV,则这也可由控制电极E1、E2和E3的有效倾斜向量w1、w2和w3的线性组合表示。
根据现有技术,如图5所示方程(2)的方程系统已经在前被解,附加的限制条件是作用到反射镜元件24上的总力Fz保持为常数。这意味着对于每个控制变量向量SGV,U1 2+U2 2+U3 2的和应该是相等的值。这对于给定控制变量向量SGV的关于图4中的图的原点的一个周转,其对应于在具有给定顶角的锥面上移动微反射镜24的表面法线42,在图5的上部给出例如U1(连续的)、U2(短线的)以及U3(点线的)电压分布。
然而在本实施例中,保持微反射镜24上的总力Fz为常数的限制条件被省略,且替代地,三个控制电极E1、E2或E3中的一个被选择且它的电压U1、U2或U3被设为0。不可否认,这不能排除微反射镜24将在与倾斜轴垂直的方向上执行反射镜的偏移运动。然而这样的偏移运动对光学功能一般不是有害的,这是因为在平面微反射镜24的情况下的偏移运动不影响投射光在其中被偏转的方向。
为此,确定关于三个控制电极E1、E2和E3的有效倾斜向量w1、w2和w3的控制变量向量SGV的取向。在此情况下,方程
θ = arctan ( SG y SG x ) - - - ( 3 )
可被用以确定角度θ,当考虑各个象限时。
如果角度θ在角度范围内,即,控制变量向量SGV位于第一控制电极E1的有效倾斜向量w1与第二控制电极E2的有效倾斜向量w2之间,则第三控制电极E3的控制信号,即,U3被设为0,且控制变量向量SGV被生成为有效倾斜向量w1和w2的线性组合。为了解线性方程系统,这里给出:
α x α y = P 1 x p 2 x p 3 x p 1 y p 2 y p 3 y · U 1 2 U 2 2 0 = p 1 x p 2 x p 1 y p 2 y · U 1 2 U 2 2 = T ′ U 1 2 U 2 2 - - - ( 4 )
当正解被选择用于开方根时,此方程可被唯一的求解。通过
U 1 U 2 = + T ′ - 1 α x α y - - - ( 5 )
方程(5)中的开方被理解为逐分量的开方。
如果角度θ在角度范围内,则,如可从图4中所见,设置U1=0且其它两个方程根据下式确定:
U 2 U 3 = + T ′ ′ - 1 α x α y 其中 T ′ ′ = p 2 x p 3 x p 2 y p 3 y - - - ( 6 )
对于在内的θ,对应地设置U2=0且U1和U3根据下式确定:
U 1 U 3 = + T ′ ′ ′ - 1 α x α y 其中 T ′ ′ ′ = p 1 x p 3 x p 1 y p 3 y - - - ( 7 )
在以上的解中,两个未被干扰的倾斜角度αx和αy现在一般可被采用控制变量SGx、SGy的分配函数αi=f(SGi)替代。因此对于所有的控制变量向量SGV,获得从控制变量SGx、SGy计算三个电压U1、U2和U3方法。
图6的上部分示出电压U1(连续的)、U2(虚线的)以及U3(点线的)分布,并显示通过这里采用的方法,尤其需要较低的最大电压以实现特定的倾斜,这是因为控制电极E1、E2或E3分别设为0,该控制电极的有效倾斜向量w1、w2和w3包含将与控制变量向量SGV相反的分量。高压输出级50、52的工作范围可因此被选择为较小,使得可实现对单独的电压的较小的量子化级以及随之发生的较小的误差。图6的下部分也显示总力Fz的变化,其发生在这里描述的方法中并导致已经在上提到的偏移运动。
如上所述,测量方法可被用于确定模型参数p1x、p1y、p2x、p2y、p3x、p3y,即,矩阵T的项目,从而考虑反射镜单元38的制造中的工艺变量。在这种测量方法中,各电压U1、U2和U3被施加且由其导致的倾斜角度αx和αy被测量。为了演示此方法,方程系统(2)可被重新写成:
此表示现在示出列向量形式的矩阵T的原始项目p1x、p1y、p2x、p2y、p3x、p3y,表示具有两个方程的方程系统的未知数。
仅由一次测量将不能确定模型参数p1x、p1y、p2x、p2y、p3x、p3y,这是因为方程(8)的方程系统不能被充分地确定。通过N个测量点,要求N≥3,即三个电压U1、U2和U3被N次分配给两个倾斜角度αx和αy,然而方程(8)可被建立N次:
向量代表每次测量中固有的测量不准确性。如果电压U11至U3N现在被选择使得矩阵H具有满秩,则可从方程系统(9)确定未知的模型参数p1x、p1y、p2x、p2y、p3x、p3y
参数向量在此情况下例如以最小二乘估算器或另一估算器由下式估算,
p → = ( H T H ) - 1 H T α → - - - ( 10 )
从而通过更大数量的测量,尽可能的消除参数向量的误差,或更精确而言测量不准确性的影响。
替代在计算模型中模型化施加的电压U1、U2和U3与由此导致的未被干扰的倾斜角度αx和αy之间的关系,确定电压U1、U2和U3的稍许不同的方法在于从已经被在先确定的所谓的查阅表简单的读出它。
为此,在两个倾斜轴x、y的角度范围内的N2个未被干扰的倾斜角度αx和αy在测量时期被激活,且这些未被干扰的倾斜角度αx和αy与为此所需的电压U1、U2和U3一起被存储到表中,优选存储到电子存储器中。N2个测量点被适当地均匀分配到两个倾斜轴x、y的角度范围内的NxN的栅格上。例如可借助于调节算法执行单独的倾斜角度的激活,测量的倾斜角度αx和αy进而被提供给该算法。然而,测量期间的单独的倾斜角度也可仅通过控制算法被激活,其中仅测量真实的倾斜角度并与相关的电压U1、U2和U3存储到表中。
对于控制变量SGx、SGy的每个组合以及查阅表,借助于控制变量SGx、SGy与未被干扰的倾斜角度αx和αy之间的给定的分配,相关的电压U1、U2和U3在操作期间可被读出并且被施加到控制电极E1、E2和E3。由于电压U1、U2和U3的值仅在NxN的倾斜角度αx和αy的位置可用,通过插值法,例如双线性插值法或双三次插值法可计算中间值。
刚才解释的这些程序也可被组合,从而将电压U1、U2和U3中的一个设为0,如上所述通过在编译查阅表时,或更精确地在激活N2个倾斜角度αx、αy时,已经将电压U1、U2和U3设为0。通过这种方法信号放大器的费用也可被保持得小。
由于真实系统中的反射镜单元38总是受到某些干扰z,下面将解释控制和调节算法54,其根据具体的目标倾斜角度调节微反射镜24的真实的实际值。
为此,图7显示作为驱动仪器26的一部分的控制和调节系统54的图。其各种元件可单独实施为装置。然而优选地,控制和调节算法54的功能通过数字算法承担,数字算法例如在数字信号处理器(DSP)中执行。由于此原因,以下关于各种元件的评论也旨在对于算法形式的实施例。各种实施例可选择性地仅包括这些控制和调节元件的单独部分。
作用于干扰z的由短线表示的调节部分包括具有微反射镜24的反射镜单元38以及相关的驱动电子装置39。如果对于将控制变量SGX、SGY分配给关于两个倾斜轴x、y的微反射镜24的未被干扰的倾斜角度αx和αy,选择线性的优选相等的分配,则由于驱动电子装置39,关于控制和调节元件的考虑仍然不受未被干扰倾斜角度αx和αy对驱动器的三个控制信号的复杂的依赖关系的影响,三个控制信号在此以电压U1、U2和U3的形式被施加到反射镜单元38的控制电极E1、E2和E3。控制和调节元件的逻辑因此被保持得直接简单,其尤其简化了它们的布局。
在控制和调节算法54的输入,轨迹确定单元56接收来自上级的系统或用户的目标角度,微反射镜24最终旨在通过该目标角度被倾斜。从这些目标倾斜角度,轨迹确定单元56随后确定一系列的设置点倾斜角度,其将实际的倾斜角度转换成目标倾斜角度,微反射镜24瞬时通过实际的倾斜角度倾斜。这可实现例如目标倾斜角度的平稳激活。校准数据可进一步被传送到轨迹确定单元56,该校准数据可被用以使实际倾斜角度适应上级系统。
设置点倾斜角度的顺序被传送到调节器58,调节器58确定或修正被传送到反射镜单元38的驱动电子装置39的控制变量SGx、SGy。为此,调节器58采用调节差异e,由所关心的设置点倾斜角度以及通过监视系统60测量的实际的倾斜角度负面反馈,给出该调节差异e。构造为简单的PID调节器的调节器58可根据调节部分的调节特征被参数化。
在本实施例中进一步提供预测控制器62,其包括调节部分的反向系统动力学模型并因此预测微反射镜24对控制变量SGx、SGy的变化的反应。这样的方案是可推荐的,尤其由于多个单独的反射镜单元38,这是因为闭合的控制回路的调节频率经由调节器58可相对地低,该调节频率基本上由监控系统60的有限带宽控制。
因此预测控制器62包括控制部分的可预测的反应,且调节器58修正由预测控制器62确定的控制变量SGx、SGy从而补偿作用于控制部分的干扰z以及驱动电子装置39的误差。
根据上述方法,由此确定的并可选择性修正的控制变量SGx、SGy随后通过驱动电子装置39被转换为控制信号,且这些控制信号被施加到反射镜单元38的驱动器。
用于驱动多反射镜阵列22中的微反射镜24的所有所述方法和装置也可被用于使用EUV光(即,波长在几纳米范围(例如13.6nm)内的光)的照明系统中。
以上已经通过示例的方式给出优选实施例的描述。从给出的公开内容,本领域技术人员不仅将理解本发明及其伴随的优势,而且也将找到对所公开的结构和方法明显的各种变型和修改。申请人因此要求覆盖落入本发明精神和范围内的所有这样的变型和修改,本发明精神和范围由所附权利要求及其等价形式界定。

Claims (24)

1.一种驱动微反射镜(24)的方法,包括下面的步骤:
a)提供微反射镜阵列(22),其布置于微光刻投射曝光设备的照明系统(10)中且包括所述微反射镜(24),所述微反射镜(24)可关于两个倾斜轴(x、y)通过各倾斜角度(αx、αy)倾斜,且所述微反射镜(24)被分配三个驱动器(E1、E2、E3),所述三个驱动器(E1、E2、E3)可通过控制信号(U1、U2、U3)被分别驱动,从而使得所述微反射镜(24)关于所述两个倾斜轴(x、y)倾斜;
b)规定两个控制变量(SGx、SGy),其每个被分配给一个倾斜轴(x、y)且其两者被分配给未被干扰的倾斜角度(αx、αy);
c)对于所述两个控制变量(SGx、SGy)的任何希望的组合,根据所述两个控制变量(SGx、SGy),选择所述三个驱动器中的一个驱动器(E1)并将其控制信号(U1)设为常数值,具体地0;
d)确定所述控制信号(U1、U2、U3),使得当所述控制信号(U1、U2、U3)被施加到其它两个驱动器(E2、E3)时,所述微反射镜(24)根据所述两个控制变量(SGx、SGy)采用所述未被干扰倾斜角度;
e)将所述控制信号(U1、U2、U3)施加到所述驱动器(E1、E2、E3)。
2.根据权利要求1的所述方法,其特征在于所述控制变量(SGx、SGy)被线性分配给所述未被干扰的倾斜角度(αx、αy)。
3.根据权利要求1或2的所述方法,其特征在于通过将具有方向(θ)的二维控制变量向量(SGV)分配给所述两个控制变量(SGx、SGy),所述两个控制变量(SGx、SGy)被分配给关于所述两个倾斜轴(x、y)的所述未被干扰的倾斜角度(αx、αy),将有效倾斜向量(w1,w2,w3)分配给每个单独的驱动器(E1、E2、E3),随后选择所述驱动器(E1),所述驱动器(E1)的有效倾斜向量(w1)的方向(θ)与所述控制变量向量(SGV)的方向(θ)不直接相邻,从而在步骤c)中选择其控制信号(U1)被设为常数,具体地被设为0的驱动器(E1),。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于所述驱动器(E1、E2、E3)的所述有效倾斜向量(w1,w2,w3)从所述控制变量(SGx、SGy)获得,所述控制变量(SGx、SGy)被分配给当仅此驱动器(E1、E2、E3)被驱动时所述微反射镜(24)采用的所述未被干扰的倾斜角度(αx、αy)。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于所述有效倾斜向量(w1,w2,w3)通过测量确定。
6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于所述控制变量向量(SGV)以及所述有效倾斜向量(w1,w2,w3)的方向根据下式被确定:
θ = arctan ( SG y SG x )
其中SGx和SGy是分配给关于各个倾斜轴(x、y)的所述未被干扰的倾斜角度(αx、αy)的所述控制变量(SGx、SGy),且θ表示所述各个向量与方向y所成角度,所述方向y与所述两个倾斜轴(x、y)中的一个一致。
7.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于所述驱动器(E1、E2、E3)以三重对称性被布置。
8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于第一驱动器(E1)的所述有效倾斜向量(w1)的方向与方向y在排列角度内一致,所述第二驱动器(E2)的有效倾斜向量(w2)与所述第一驱动器(E1)的所述有效倾斜向量(w1)实质上成120°,所述第三驱动器(E3)的有效倾斜向量(w3)与所述第二驱动器(E2)的所述有效倾斜向量(w2)实质上成120°,其特征还在于所述控制变量向量(SGV)的方向θ被确定,且随后所述第三驱动器(E3)被选择所述第一驱动器(E1)被选择且所述第二驱动器(E2)随后被选择
9.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于在步骤b)中通过控制算法(62)、调节算法(58)或组合的控制和调节算法(54)由设置点倾斜角度确定所述两个控制变量(SGx、SGy)。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于规定目标倾斜角度以及包括一系列的设置点倾斜角度的轨迹,所述轨迹表示实际倾斜角度向所述目标倾斜角度的转变,微反射镜瞬时通过所述实际倾斜角度倾斜。
11.根据权利要求9所述的方法,其特征在于当确定所述设置点倾斜角度时考虑校准数据。
12.根据权利要求9所述的方法,其特征在于所述两个控制变量(SGx、SGy)通过所述调节算法(58)被规定或由此被修正,所述调节算法(58)接收调节差异,所述调节差异由所述设置点倾斜角度以及监控系统(60)测得的实际倾斜角度的负反馈确定,微反射镜瞬时通过所述实际倾斜角度倾斜。
13.根据权利要求9所述的方法,其特征在于通过借助于采用反向系统动力学模型的预测控制算法(62)将所述两个控制变量(SGx、SGy)分配给所述设置点倾斜角度,从而所述两个控制变量(SGx、SGy)被规定。
14.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于在步骤c)和d)中包括下面的步骤:
根据分配表,对于给定控制变量(SGx、SGy),确定所述控制信号(U1、U2、U3)。
15.根据权利要求14所述的方法,其特征在于通过将各控制信号(U1、U2、U3)施加到所述驱动器(E1、E2、E3),测量因此导致的所述倾斜角度(αx、αy)并随后将所述两个控制变量(SGx、SGy)线性分配给所述导致的倾斜角度(αx、αy),当所述控制信号(U1、U2、U3)被施加时,一个控制信号(U1、U2、U3)被分别保持为常数,具体地0,从而所述两个控制变量(SGx、SGy)与所述三个控制信号(U1、U2、U3)之间的所述分配表在参数化阶段被编译。
16.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于在步骤c)和d)中包括下面的步骤:
借助于使用参数向量的计算法则,对给定的控制变量(SGx、SGy)确定控制信号。
17.根据权利要求16所述的方法,其特征在于通过从倾斜角度(αx、αy)与所述三个驱动器(E1、E2、E3)的所述控制信号(U1、U2、U3)之间的至少3个分配的估算,从而所述参数向量在参数化阶段被确定,通过将各控制信号(U1、U2、U3)施加到驱动器(E1、E2、E3)并且测量由此导致的倾斜角度(αx、αy),从而确定所述至少3个分配。
18.根据权利要求17中的任一项所述的方法,其特征在于所述参数向量通过最小二乘估算器被估算。
19.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于所述微反射镜(24)可分别采用至少3个关于所述倾斜轴(x、y)的不同的倾斜角度(αx、αy)。
20.一种用于驱动微反射镜(24)的驱动电子装置(39),所述微反射镜(24)包含在微反射镜阵列(22)中,所述微反射镜阵列布置在微光刻透射曝光设备的照明系统(10)中,所述微反射镜(24)具有两个倾斜轴(x、y)且三个驱动器(E1、E2、E3)被分配到所述微反射镜(24),从而使得所述微反射镜(24)关于所述两个倾斜轴(x、y)倾斜,且所述驱动电子装置(39)包括:
a)转换器(46),具有控制变量(SGx、SGy)的输入,所述控制变量(SGx、SGy)被分配给关于所述两个倾斜轴(x、y)的未被干扰的倾斜角度(αx、αy),
b)两个信号放大器(50、52),其可通过所述转换器(46)被控制,以及
c)切换单元(48),通过所述切换单元(48),控制信号(U1、U2、U3)可被施加到所述三个驱动器(E1、E2、E3),
其特征在于,
d)根据施加到所述转换器(46)的输入的所述控制变量(SGx、SGy),所述三个驱动器(E1、E2、E3)中的一个驱动器的所述控制信号(U1、U2、U3)可借助于所述转换器(46)以及所述切换单元(48)可被设为常数值,具体地0,以及
e)所述其它两个控制信号(U1、U2、U3)可借助于所述转换器(46)、所述切换单元(48)以及所述两个信号放大器(50、52)被施加到所述驱动器(E1、E2、E3),使得所述微反射镜(24)采用所述未被干扰的倾斜角度(αx、αy),关于所述两个倾斜轴(x、y)的所述未被干扰的倾斜角度(αx、αy)分配给所述控制变量(SGx、SGy)。
21.根据权利要求20所述的驱动电子装置(39),其特征在于所述转换器(46)的控制变量(SGx、SGy)的输入连接到控制系统(62)、调节系统(58)或组合的控制和调节系统(54),通过所述控制系统(62)、所述调节系统(58)或所述组合的控制和调节系统(54)可由设置点倾斜角度确定所述控制变量(SGx、SGy)。
22.根据权利要求20或21所述的驱动电子装置(39),其特征在于所述转换器(46)包括用于分配表的存储器(45),由所述分配表,根据施加到所述转换器(46)的输入的所述控制变量(SGx、SGy),可确定所述三个驱动器(E1、E2、E3)的所述控制信号(U1、U2、U3)。
23.根据权利要求20或21所述的驱动电子装置(39),其特征在于所述转换器(46)包括计算单元(47),通过所述计算单元(47)借助于使用参数向量的计算法则,根据施加到所述转换器(46)的所述输入的所述控制变量(SGx、SGy),可计算所述三个驱动器(E1、E2、E3)的所述控制信号(U1、U 2、U3)。
24.微反射镜系统,具有根据权利要求20至23中的任一项所述的驱动电子装置(39)以及微反射镜(24),所述微反射镜(24)包含在所述微反射镜阵列(22)中,所述微反射镜阵列(22)布置在微光刻透射曝光设备的照明系统(10)中,所述微反射镜(24)具有两个倾斜轴且三个驱动器(E1、E2、E3)被分配到所述微反射镜(24),从而使得所述微反射镜(24)关于所述两个倾斜轴(x、y)倾斜。
CN201410453043.5A 2008-10-08 2009-10-06 驱动微反射镜的方法和装置 Active CN104267495B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10369108P 2008-10-08 2008-10-08
DE102008050446.7 2008-10-08
DE102008050446A DE102008050446B4 (de) 2008-10-08 2008-10-08 Verfahren und Vorrichtungen zur Ansteuerung von Mikrospiegeln
US61/103,691 2008-10-08
CN2009801398210A CN102177460A (zh) 2008-10-08 2009-10-06 驱动微反射镜的方法和装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2009801398210A Division CN102177460A (zh) 2008-10-08 2009-10-06 驱动微反射镜的方法和装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104267495A true CN104267495A (zh) 2015-01-07
CN104267495B CN104267495B (zh) 2016-12-07

Family

ID=41821122

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410453043.5A Active CN104267495B (zh) 2008-10-08 2009-10-06 驱动微反射镜的方法和装置
CN2009801398210A Pending CN102177460A (zh) 2008-10-08 2009-10-06 驱动微反射镜的方法和装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2009801398210A Pending CN102177460A (zh) 2008-10-08 2009-10-06 驱动微反射镜的方法和装置

Country Status (8)

Country Link
US (2) US8345224B2 (zh)
EP (2) EP2340456B1 (zh)
JP (1) JP5325301B2 (zh)
KR (1) KR101233900B1 (zh)
CN (2) CN104267495B (zh)
DE (1) DE102008050446B4 (zh)
TW (1) TWI502282B (zh)
WO (1) WO2010040506A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110347082A (zh) * 2019-07-12 2019-10-18 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种驱动电路、驱动方法及微反射镜阵列
CN114660880A (zh) * 2022-04-11 2022-06-24 长沙沃默科技有限公司 一种反射式投影成像装置及其设计方法

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008050446B4 (de) 2008-10-08 2011-07-28 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Verfahren und Vorrichtungen zur Ansteuerung von Mikrospiegeln
JP5587917B2 (ja) 2009-03-13 2014-09-10 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置
DE102010062720B4 (de) 2010-12-09 2012-07-12 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Lithographiesystem
WO2012169089A1 (ja) 2011-06-07 2012-12-13 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、デバイス製造方法、および偏光ユニット
TWI652508B (zh) 2011-06-13 2019-03-01 尼康股份有限公司 照明方法
CN107390477B (zh) 2011-10-24 2020-02-14 株式会社尼康 照明系统、曝光装置及制造、图像形成、照明与曝光方法
US9732934B2 (en) 2011-10-28 2017-08-15 Nikon Corporation Illumination device for optimizing polarization in an illumination pupil
WO2013071940A1 (en) 2011-11-15 2013-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Light modulator and illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102013201509A1 (de) 2012-02-17 2013-08-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Bauelement
DE102013201506A1 (de) 2012-02-17 2013-08-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Bauelement
WO2013164997A1 (ja) 2012-05-02 2013-11-07 株式会社ニコン 瞳輝度分布の評価方法および改善方法、照明光学系およびその調整方法、露光装置、露光方法、並びにデバイス製造方法
DE102012011202A1 (de) * 2012-06-06 2013-09-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektor und Verfahren zum Erzeugen eines Bildes
WO2014187599A1 (en) * 2013-05-22 2014-11-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical component comprising an optical device and means for reducing radiation-induced influences on said optical device
DE102013212613B4 (de) * 2013-06-28 2015-07-23 Carl Zeiss Sms Gmbh Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
JP6273109B2 (ja) * 2013-08-28 2018-01-31 株式会社ミツトヨ 光干渉測定装置
DE102014203188A1 (de) 2014-02-21 2015-08-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage
CN104111592B (zh) * 2014-08-06 2016-06-08 中国科学院光电技术研究所 一种基于微反射镜阵列实现可变自由照明光瞳的方法
CN105573061B (zh) * 2014-10-16 2018-03-06 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 Euv光源和曝光装置
DE102017217164B4 (de) 2017-09-27 2020-10-15 Continental Automotive Gmbh Projektionsvorrichtung zum Erzeugen eines pixelbasierten Beleuchtungsmusters
DE102018202421B3 (de) 2018-02-16 2019-07-11 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
DE102018216344A1 (de) * 2018-09-25 2020-03-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Abstützung eines optischen elements
CN110954142B (zh) * 2019-12-10 2021-12-28 京东方科技集团股份有限公司 一种光学微电机传感器、基板及电子设备

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6312134B1 (en) * 1996-07-25 2001-11-06 Anvik Corporation Seamless, maskless lithography system using spatial light modulator
JP2863502B2 (ja) * 1996-10-23 1999-03-03 防衛庁技術研究本部長 マルチディザー方式補償光学装置
US7006595B2 (en) * 1998-05-05 2006-02-28 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag Illumination system particularly for microlithography
KR100716946B1 (ko) 2000-07-20 2007-05-10 삼성전자주식회사 마이크로미러 액추에이터를 이용한 광결합 구조체
KR100332888B1 (ko) 2000-08-25 2002-04-15 이형도 마이크로 미러를 이용한 광 픽업 액츄에이터
US6300665B1 (en) * 2000-09-28 2001-10-09 Xerox Corporation Structure for an optical switch on a silicon on insulator substrate
JP2002189176A (ja) * 2000-12-20 2002-07-05 Mitsubishi Electric Corp ミラー駆動装置
KR100389865B1 (ko) * 2001-03-02 2003-07-04 삼성전자주식회사 마이크로미러 디바이스 및 이를 채용한 프로젝터
US6735004B1 (en) * 2001-03-15 2004-05-11 Nanogear, Inc. Rotatable counterbalanced actuator
JP3724432B2 (ja) * 2001-04-19 2005-12-07 株式会社ニコン 薄膜弾性構造体及びその製造方法並びにこれを用いたミラーデバイス及び光スイッチ
JP3908503B2 (ja) * 2001-10-30 2007-04-25 富士通株式会社 光スイッチ
US6643053B2 (en) * 2002-02-20 2003-11-04 The Regents Of The University Of California Piecewise linear spatial phase modulator using dual-mode micromirror arrays for temporal and diffractive fourier optics
US6717325B2 (en) 2002-03-06 2004-04-06 Glimmerglass Networks, Inc. Method and apparatus for actuation of a two-axis MEMS device using three actuation elements
US6707534B2 (en) * 2002-05-10 2004-03-16 Anvik Corporation Maskless conformable lithography
EP1367446A1 (en) * 2002-05-31 2003-12-03 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus
KR100464320B1 (ko) * 2002-11-19 2004-12-31 삼성전자주식회사 마이크로미러 액츄에이터 및 그 제조방법
US6906848B2 (en) * 2003-02-24 2005-06-14 Exajoule, Llc Micromirror systems with concealed multi-piece hinge structures
JP4244156B2 (ja) * 2003-05-07 2009-03-25 富士フイルム株式会社 投影露光装置
JP4357317B2 (ja) * 2003-05-13 2009-11-04 富士通株式会社 ティルトミラーの制御装置及び制御方法
KR101159867B1 (ko) * 2003-09-12 2012-06-26 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로리소그래피 투사 노출 장치용 조명 시스템
DE10343333A1 (de) * 2003-09-12 2005-04-14 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
US7646528B2 (en) * 2006-12-26 2010-01-12 Silicon Quest Kabushiki-Kaisha Deformable mirror device with oscillating states
US7304783B2 (en) * 2003-11-01 2007-12-04 Fusao Ishii Control of micromirrors with intermediate states
JPWO2005085125A1 (ja) * 2004-03-08 2007-12-06 松下電器産業株式会社 マイクロアクチュエータ、およびマイクロアクチュエータを備えた装置
JP4921366B2 (ja) * 2005-04-15 2012-04-25 パナソニック株式会社 微小機械構造体システムおよびその製造方法
JP2007264305A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Fujitsu Ltd 光スイッチシステム
DE102006020734A1 (de) * 2006-05-04 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die EUV-Lithographie sowie erstes und zweites optisches Element zum Einsatz in einem derartigen Beleuchtungssystem
US9250536B2 (en) * 2007-03-30 2016-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
JP2010537414A (ja) * 2007-08-30 2010-12-02 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明システム
KR101668573B1 (ko) * 2007-12-21 2016-10-21 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 마이크로리소그래피 투영 노광 장치용 조명 시스템
DE102008050446B4 (de) 2008-10-08 2011-07-28 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Verfahren und Vorrichtungen zur Ansteuerung von Mikrospiegeln

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110347082A (zh) * 2019-07-12 2019-10-18 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种驱动电路、驱动方法及微反射镜阵列
CN110347082B (zh) * 2019-07-12 2021-07-27 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种驱动电路、驱动方法及微反射镜阵列
CN114660880A (zh) * 2022-04-11 2022-06-24 长沙沃默科技有限公司 一种反射式投影成像装置及其设计方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN104267495B (zh) 2016-12-07
DE102008050446B4 (de) 2011-07-28
US20130088698A1 (en) 2013-04-11
EP2340456B1 (en) 2017-04-05
EP3193203B1 (en) 2018-08-29
EP2340456A1 (en) 2011-07-06
WO2010040506A1 (en) 2010-04-15
KR20110067156A (ko) 2011-06-21
US8345224B2 (en) 2013-01-01
US10061202B2 (en) 2018-08-28
EP3193203A1 (en) 2017-07-19
TW201019051A (en) 2010-05-16
KR101233900B1 (ko) 2013-02-15
US20110188017A1 (en) 2011-08-04
CN102177460A (zh) 2011-09-07
DE102008050446A1 (de) 2010-04-15
JP2012505533A (ja) 2012-03-01
JP5325301B2 (ja) 2013-10-23
TWI502282B (zh) 2015-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104267495A (zh) 驱动微反射镜的方法和装置
JP5554245B2 (ja) マイクロリソグラフィ露光装置のマスク照明用の照明系
US7196841B2 (en) Lighting system, particularly for use in extreme ultraviolet (EUV) lithography
TWI544282B (zh) 微影投射曝光裝置的照射系統
US8102506B2 (en) Method and device for controlling a plurality of actuators and an illumination device for lithography
US7136214B2 (en) Active faceted mirror system for lithography
JP5727005B2 (ja) 光学系及びマルチファセットミラー
JP5639894B2 (ja) マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明系
TWI595329B (zh) 具有波前光學操縱器的投影透鏡、投影曝光方法、與投影曝光裝置
JP2013522918A (ja) マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
KR20130108279A (ko) 마이크로리소그래피 투영 노광 장치
WO2014056512A1 (en) Method of operating a microlithographic apparatus
JP6593623B2 (ja) 空間光変調器の設定方法、駆動データの作成方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
KR20180093923A (ko) 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치용 광학 시스템

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant