CN104259133A - 蓝宝石晶片退火前的清洗工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种蓝宝石晶片退火前的清洗工艺,属蓝宝石加工技术领域,使用清洗机预清洗,超声频率为40KHZ,0.2-0.3V,18M纯水,震洗5分钟;将晶片完全浸泡在酸液中5小时,酸液为98%硫酸,配比为1:15,配液使用18M纯水;用清洗机漂洗酸液,超声频率为40KHZ,0.3-0.4V,18M纯水,震洗8分钟;使用清洗机碱洗,用AR级固体KOH配置碱液,配比按1KG:10L执行,配液使用18M纯水,清洗前加热至60℃,超声频率28KHZ,0.4-0.5V,清洗30分钟;将晶片喷淋冲洗5分钟;使用清洗机漂洗,超声频率为40KHZ,0.4-0.5V,使用18M纯水,水温60℃,震洗30分钟;甩干。
Description
技术领域
本发明涉及蓝宝石加工清洗工艺,特别涉及一种蓝宝石晶片退火前的清洗工艺,属于晶体加工技术领域。
背景技术
在蓝宝石衬底加工行业内,研磨后蓝宝石衬底晶片表面有很多脏污,主要有:研磨盘铁锈,悬浮液残留,研磨粉颗粒残留,退火前必须将所有脏污全部去除,以便达到退火后要求的洁净度。研磨后清洗一直是一个困扰各厂家的问题,清洗不干净会导致退火后大量的油量片,需返工处理,有些甚至直接报废,造成损失。
随着大尺寸晶片的需求量越来越高,目前的退火温度(1400℃)已经无法满足加工需求,但是提高退火温度,油量比例会大幅度上涨,清洗难度高。退火温度为1500℃时按常规工艺残余油量比例高达9%。
发明内容
针对上述技术问题,本发明提供一种1500℃退火残余油量比例1.5%、满足批量生产要求的蓝宝石晶片退火前的清洗工艺。
本发明是通过以下技术方案予以实现的。
一种蓝宝石晶片退火前的清洗工艺,包括如下步骤:
(1)使用清洗机预清洗,超声频率为40KHZ,强度调节至0.2V-0.3V,使用18M纯水,震洗5分钟;
(2)将晶片完全浸泡在酸液中5小时,酸液为98%工业级硫酸,配比为1:15,配液使用18M纯水;
(3)使用清洗机漂洗酸液,超声频率为40KHZ,强度调节至0.3V-0.4V,使用18M纯水,震洗8分钟;
(4)使用清洗机碱洗,用AR级(分析纯试剂)固体KOH配置碱液,配比按1KG:10L执行,配液使用18M纯水,清洗前需加热至60℃,超声频率28KHZ,超声强度调节至0.4V-0.5V,清洗30分钟;
(5)将晶片喷淋冲洗5分钟;
(6)使用清洗机漂洗,超声频率为40KHZ,强度调节至0.4V-0.5V,使用18M纯水,水温60℃,震洗30分钟;
(7)将晶片完全甩干。
具体实施方式
以下通过具体实施例对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
(1)使用清洗机预清洗,超声频率为40KHZ,强度调节至0.2V-0.3V,使用18M纯水,震洗5分钟,每清洗800片晶片后更换为佳;(2)将晶片完全浸泡在酸液中5小时,酸液为98%工业级硫酸,配比为1:15,配液使用18M纯水,每升硫酸浸泡1500片更换为佳; (3)使用清洗机漂洗酸液,超声频率为40KHZ,强度调节至0.3V-0.4V,使用18M纯水,震洗8分钟,每清洗800片晶片后更换为佳;(4)使用清洗机碱洗,用AR级固体KOH配置碱液,配比按1KG:10L执行,配液使用18M纯水,清洗前需加热至60℃,超声频率28KHZ,超声强度调节至0.4V-0.5V,清洗30分钟,每公斤KOH碱洗1000片更换为佳;(5)将晶片喷淋冲洗5分钟;(6)使用清洗机漂洗,超声频率为40KHZ,强度调节至0.4V-0.5V,使用18M纯水,水温60℃,震洗30分钟,每清洗800片后换水为佳;(7)将晶片完全甩干。
以上实施例的描述较为具体、详细,但并不能因此而理解为对本专利范围的限制,应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。
Claims (6)
1.一种蓝宝石晶片退火前的清洗工艺,其特征在于包括以下步骤:
(1)使用清洗机预清洗,超声频率为40KHZ,强度调节至0.2V-0.3V,使用18M纯水,震洗5分钟;
(2)将晶片完全浸泡在酸液中5小时,酸液为98%工业级硫酸,配比为1:15,配液使用18M纯水;
(3)使用清洗机漂洗酸液,超声频率为40KHZ,强度调节至0.3V-0.4V,使用18M纯水,震洗8分钟;
(4)使用清洗机碱洗,用AR级固体KOH配置碱液,配比按1KG:10L执行,配液使用18M纯水,清洗前需加热至60℃,超声频率28KHZ,超声强度调节至0.4V-0.5V,清洗30分钟;
(5)将晶片喷淋冲洗5分钟;
(6)使用清洗机漂洗,超声频率为40KHZ,强度调节至0.4V-0.5V,使用18M纯水,水温60℃,震洗30分钟;
(7)将晶片完全甩干。
2.根据权利要求1所述蓝宝石晶片退火前的清洗工艺,其特征在于:步骤(1)所述清洗液,每清洗800片晶片后更换。
3.根据权利要求1所述蓝宝石晶片退火前的清洗工艺,其特征在于:步骤(2)所述酸液,每升硫酸浸泡1500片更换。
4.根据权利要求1所述蓝宝石晶片退火前的清洗工艺,其特征在于:步骤(3)所述清洗液,每清洗800片晶片后更换。
5.根据权利要求1所述蓝宝石晶片退火前的清洗工艺,其特征在于:步骤(4)所述碱液,每公斤KOH碱洗1000片更换。
6.根据权利要求1所述蓝宝石晶片退火前的清洗工艺,其特征在于:步骤(6)所述清洗液,每清洗800片晶片后更换。
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