CN106423999A - 一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺 - Google Patents

一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN106423999A
CN106423999A CN201610844330.8A CN201610844330A CN106423999A CN 106423999 A CN106423999 A CN 106423999A CN 201610844330 A CN201610844330 A CN 201610844330A CN 106423999 A CN106423999 A CN 106423999A
Authority
CN
China
Prior art keywords
sapphire substrate
cleaning
substrate sheet
substrate slice
ultrasound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610844330.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106423999B (zh
Inventor
秦光临
孙敦陆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tunghsu Group Co Ltd
Original Assignee
JIANGSU JIXING NEW MATERIALS CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JIANGSU JIXING NEW MATERIALS CO Ltd filed Critical JIANGSU JIXING NEW MATERIALS CO Ltd
Priority to CN201610844330.8A priority Critical patent/CN106423999B/zh
Publication of CN106423999A publication Critical patent/CN106423999A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106423999B publication Critical patent/CN106423999B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

本发明公开的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,克服了现有双面研磨后蓝宝石衬底片清洗过程中需要用到多种化学试剂对蓝宝石衬底片表面残留的碳化硼微粉进行去除,清洗废液难处理,对环境污染大的缺点,使用本发明的清洗工艺,可有效减少表面碳化硼微粉残留,降低高温退火后蓝宝石衬底片表面的油亮斑比例,减少蓝宝石衬底片的返工成本,杜绝蓝宝石衬底片的报废情况,从而达到提高蓝宝石衬底片质量,降低蓝宝石衬底片生产成本的目的。

Description

一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺
技术领域
本发明涉及一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,属于蓝宝石衬底研磨后的清洗加工技术领域。
背景技术
蓝宝石(Sapphire)晶体具有优良的光学性能、物理性能和稳定的化学性能,广泛应用于高亮度LED衬底材料。蓝宝石衬底片为了获得优良的平坦度,需要以碳化硼为主要研磨材料对蓝宝石衬底片进行双面研磨加工,研磨后的蓝宝石衬底片表面残留有碳化硼微粉,在高温退火前需要进行清洗。由于碳化硼稳定的化学性能,研磨后的清洗非常困难,碳化硼微粉残留在蓝宝石衬底片表面,高温退火后在蓝宝石衬底片表面形成油亮斑,导致蓝宝石衬底片需要返工处理甚至报废。
发明内容
本发明的目的是针对现有清洗技术的缺陷,提供一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,具有操作方便,一次成品合格率高,清洗进程无二次化学污染,清洗废液无污染易处理等特点。
为解决以上技术问题,本发明提供的技术方案是:
一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其特征在于,具体步骤如下:
(1)将双面研磨后的蓝宝石衬底片放入RO纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min,清洗完成后取出,并在室温下自然晾干;
(2)将晾干后的蓝宝石衬底片放入超声清洗槽内,随后向超声清洗槽内放置氧化铝(AL2O3),氧化铝没过蓝宝石衬底片上表面3~5mm;
(3)启动超声清洗槽,使用频率40~60KHZ的超声,设置超声强度为60W/cm2~80W/cm2,超声震洗15min;
(4)将步骤(3)中,超声震洗后的蓝宝石衬底片放入RO纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(5)将步骤(4)中,清洗后的蓝宝石衬底片放入清洗碱液内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(6)将步骤(5)中,碱液清洗后的蓝宝石衬底片放入16M纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(7)将步骤(6)中,超声清洗后的蓝宝石衬底片用甩干机在1800rpm转速下甩干180秒,得到清洗干净的蓝宝石衬底片。
上述的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其中,所述氧化铝(AL2O3)的粒径在W80~W120之间。
上述的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其中,所述清洗碱液由分析纯AR级氢氧化钠(NaOH)与16M纯水以1kg:10L的配比制得。
本发明的有益效果为:
本发明公开的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,克服了现有双面研磨后蓝宝石衬底片清洗过程中需要用到多种化学试剂对蓝宝石衬底片表面残留的碳化硼微粉进行去除,清洗废液难处理,对环境污染大的缺点,使用本发明的清洗工艺,可有效减少表面碳化硼微粉残留,降低高温退火后蓝宝石衬底片表面的油亮斑比例,减少蓝宝石衬底片的返工成本,杜绝蓝宝石衬底片的报废情况,从而达到提高蓝宝石衬底片质量,降低蓝宝石衬底片生产成本的目的。
具体实施方式
实施例一
一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其特征在于,具体步骤如下:
(1)将双面研磨后的蓝宝石衬底片放入RO纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min,清洗完成后取出,并在室温下自然晾干;
(2)将晾干后的蓝宝石衬底片放入超声清洗槽内,随后向超声清洗槽内放置粒径W120的氧化铝(AL2O3),氧化铝没过蓝宝石衬底片上表面4mm;
(3)启动超声清洗槽,使用频率40KHZ的超声,设置超声强度为60W/cm2,超声震洗15min;
(4)将步骤(3)中,超声震洗后的蓝宝石衬底片放入RO纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(5)将步骤(4)中,清洗后的蓝宝石衬底片放入清洗碱液内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(6)将步骤(5)中,碱液清洗后的蓝宝石衬底片放入16M纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(7)将步骤(6)中,超声清洗后的蓝宝石衬底片用甩干机在1800rpm转速下甩干180秒,得到清洗干净的蓝宝石衬底片。
上述的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其中,所述蓝宝石衬底片的直径为2英寸。
上述的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其中,所述清洗碱液由分析纯AR级氢氧化钠(NaOH)与16M纯水以1kg:10L的配比制得。
实施例二
一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其特征在于,具体步骤如下:
(1)将双面研磨后的蓝宝石衬底片放入RO纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min,清洗完成后取出,并在室温下自然晾干;
(2)将晾干后的蓝宝石衬底片放入超声清洗槽内,随后向超声清洗槽内放置粒径W80的氧化铝(AL2O3),氧化铝没过蓝宝石衬底片上表面5mm;
(3)启动超声清洗槽,使用频率60KHZ的超声,设置超声强度为80W/cm2,超声震洗15min;
(4)将步骤(3)中,超声震洗后的蓝宝石衬底片放入RO纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(5)将步骤(4)中,清洗后的蓝宝石衬底片放入清洗碱液内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(6)将步骤(5)中,碱液清洗后的蓝宝石衬底片放入16M纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(7)将步骤(6)中,超声清洗后的蓝宝石衬底片用甩干机在1800rpm转速下甩干180秒,得到清洗干净的蓝宝石衬底片。
上述的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其中,所述蓝宝石衬底片的直径为4英寸。
上述的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其中,所述清洗碱液由分析纯AR级氢氧化钠(NaOH)与16M纯水以1kg:10L的配比制得。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

Claims (3)

1.一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其特征在于,具体步骤如下:
(1)将双面研磨后的蓝宝石衬底片放入RO纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min,清洗完成后取出,并在室温下自然晾干;
(2)将晾干后的蓝宝石衬底片放入超声清洗槽内,随后向超声清洗槽内放置氧化铝(AL2O3),氧化铝没过蓝宝石衬底片上表面3~5mm;
(3)启动超声清洗槽,使用频率40~60KHZ的超声,设置超声强度为60W/cm2~80W/cm2,超声震洗15min;
(4)将步骤(3)中,超声震洗后的蓝宝石衬底片放入RO纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(5)将步骤(4)中,清洗后的蓝宝石衬底片放入清洗碱液内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(6)将步骤(5)中,碱液清洗后的蓝宝石衬底片放入16M纯水内,用强度为50W/cm2的超声波清洗15min;
(7)将步骤(6)中,超声清洗后的蓝宝石衬底片用甩干机在1800rpm转速下甩干180秒,得到清洗干净的蓝宝石衬底片。
2.如权利要求1所述的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其特征在于,所述氧化铝(AL2O3)的粒径在W80~W120之间。
3.如权利要求1所述的一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺,其特征在于,所述清洗碱液由分析纯AR级氢氧化钠(NaOH)与16M纯水以1kg:10L的配比制得。
CN201610844330.8A 2016-09-23 2016-09-23 一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺 Active CN106423999B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610844330.8A CN106423999B (zh) 2016-09-23 2016-09-23 一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610844330.8A CN106423999B (zh) 2016-09-23 2016-09-23 一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106423999A true CN106423999A (zh) 2017-02-22
CN106423999B CN106423999B (zh) 2019-03-19

Family

ID=58167012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610844330.8A Active CN106423999B (zh) 2016-09-23 2016-09-23 一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106423999B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108648989A (zh) * 2018-05-16 2018-10-12 福建北电新材料科技有限公司 一种单晶碳化硅衬底晶片清洗方法
CN110586568A (zh) * 2019-08-29 2019-12-20 江苏吉星新材料有限公司 一种用于蓝宝石衬底片碳化硼研磨后的清洗方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006010110A2 (en) * 2004-07-09 2006-01-26 Akrion Technologies, Inc. Reduced pressure irradiation processing method and apparatus
CN102962226A (zh) * 2012-12-06 2013-03-13 江苏吉星新材料有限公司 蓝宝石衬底晶片抛光后的清洗方法
CN104259133A (zh) * 2014-07-31 2015-01-07 江苏吉星新材料有限公司 蓝宝石晶片退火前的清洗工艺
CN104259132A (zh) * 2014-07-29 2015-01-07 蓝思科技股份有限公司 一种蓝宝石晶片清洗工艺
CN205380104U (zh) * 2015-12-07 2016-07-13 珠海东精大电子科技有限公司 蓝宝石窗口片清洗设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006010110A2 (en) * 2004-07-09 2006-01-26 Akrion Technologies, Inc. Reduced pressure irradiation processing method and apparatus
CN102962226A (zh) * 2012-12-06 2013-03-13 江苏吉星新材料有限公司 蓝宝石衬底晶片抛光后的清洗方法
CN104259132A (zh) * 2014-07-29 2015-01-07 蓝思科技股份有限公司 一种蓝宝石晶片清洗工艺
CN104259133A (zh) * 2014-07-31 2015-01-07 江苏吉星新材料有限公司 蓝宝石晶片退火前的清洗工艺
CN205380104U (zh) * 2015-12-07 2016-07-13 珠海东精大电子科技有限公司 蓝宝石窗口片清洗设备

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108648989A (zh) * 2018-05-16 2018-10-12 福建北电新材料科技有限公司 一种单晶碳化硅衬底晶片清洗方法
CN108648989B (zh) * 2018-05-16 2020-12-25 福建北电新材料科技有限公司 一种单晶碳化硅衬底晶片清洗方法
CN110586568A (zh) * 2019-08-29 2019-12-20 江苏吉星新材料有限公司 一种用于蓝宝石衬底片碳化硼研磨后的清洗方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN106423999B (zh) 2019-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104259132B (zh) 一种蓝宝石晶片清洗工艺
CN102074617B (zh) 一种丝网印刷返工硅片的处理方法
CN100522478C (zh) 一种磷化镓晶片双面抛光方法
CN102437234A (zh) 一种太阳能电池片印刷返工次品的处理方法
CN106423999A (zh) 一种蓝宝石衬底片研磨后的清洗工艺
CN105150407B (zh) 建筑用pvc塑料模板浮选回收再利用工艺
CN104324922A (zh) 一种清除触摸屏残胶的方法
CN110586568A (zh) 一种用于蓝宝石衬底片碳化硼研磨后的清洗方法
CN102643113B (zh) 一种聚四氟乙烯浸渍石墨换热块的生产方法
CN105086582B (zh) 一种塑料脱漆剂的制备及使用方法
WO2016206319A1 (zh) 一种用于圆盘机的除屑机构
CN104259133A (zh) 蓝宝石晶片退火前的清洗工艺
CN102871529A (zh) 具有硬质表面的铝合金不粘锅及其加工工艺
CN106738400A (zh) 玻璃碎屑清洁结构及搬运机
CN106807883A (zh) 一种超声波湿法再生水玻璃旧砂的方法
CN101740227A (zh) 一种铝电解电容器用阳极铝箔后处理方法
CN205442658U (zh) 一种节能环保硅料清洗机
CN103253871B (zh) 一种熔燃脱墨褪镀工艺
CN109622492A (zh) 一种塑胶镜片脱膜工艺
CN102618879A (zh) 烧结NdFeB煮料方法及装置
CN205740381U (zh) 一种废旧覆铜板回收系统用排污装置
CN113232378A (zh) 多功能百洁片及其制备工艺
CN105856820A (zh) 一种水转印往复式水洗装置
CN201614345U (zh) 一种湿粉喷粉机
CN207139554U (zh) 晶圆抛光工艺用的货架

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Application publication date: 20170222

Assignee: Zhejiang Zhaojing New Material Technology Co.,Ltd.

Assignor: JIANGSU JESHINE NEW MATERIAL Co.,Ltd.

Contract record no.: X2022980008188

Denomination of invention: A cleaning process for sapphire substrate after grinding

Granted publication date: 20190319

License type: Common License

Record date: 20220627

EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20230105

Address after: 100102 20628, Floor 2, Building A1, No. 1, Huangchang West Road, Dougezhuang, Chaoyang District, Beijing

Patentee after: Youran Walker (Beijing) Technology Co.,Ltd.

Address before: 212200 new materials Industrial Park, Youfang Town, Yangzhong City, Zhenjiang City, Jiangsu Province

Patentee before: JIANGSU JESHINE NEW MATERIAL Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20230628

Address after: 050035 No. 369, Zhujiang Avenue, high tech Zone, Shijiazhuang, Hebei

Patentee after: TUNGHSU GROUP Co.,Ltd.

Address before: 100102 20628, Floor 2, Building A1, No. 1, Huangchang West Road, Dougezhuang, Chaoyang District, Beijing

Patentee before: Youran Walker (Beijing) Technology Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right