CN104277944A

CN104277944A - 一种tft液晶玻璃基板清洗液及其清洗方法

Info

Publication number: CN104277944A
Application number: CN201310455269.4A
Authority: CN
Inventors: 沈玉国; 张广涛; 李俊锋; 闫冬成; 侯建伟; 徐兴军
Original assignee: Tunghsu Group Co Ltd
Current assignee: Tunghsu Group Co Ltd
Priority date: 2013-09-29
Filing date: 2013-09-29
Publication date: 2015-01-14

Abstract

一种TFT液晶玻璃基板清洗液，该清洗液配方组分及各组分的质量百分含量为：无水乙醇：18~22%，正丁醇：10~30%，正戊醇：5~15%，OP-10：10~25%，去离子水：20~55%；基于该配方制备清洗液的方法步骤中包括A、选取该清洗液配方中所需的各组分；B、按上述组分配比及以无水乙醇、正丁醇、正戊醇、OP-10、去离子水的顺序依次将各组分加入搅拌器中，充分搅拌至均匀以得到清洗液；C、将清洗液装入玻璃器皿中，备用；利用上述制备方法制得的清洗液对玻璃基板进行清洗在超声波清洗机中分三步进行，依次用去离子水、该清洗液及去离子水进行超声波清洗。本清洗方法对玻璃基板的透光性和反光性不产生任何影响，能够彻底清理玻璃基板表面的污渍，且清洗后的玻璃基板表面无水印，能充分满足后续工作需要。

Description

一种TFT液晶玻璃基板清洗液及其清洗方法

技术领域

本发明属于液晶玻璃基板清洗技术领域，涉及一种TFT液晶玻璃基板清洗液及其清洗方法。

背景技术

玻璃基板清洗是TFT液晶玻璃制程中重复使用频率最高的步骤，在每一道制程步骤之前都必须将玻璃基板表面清洗干净，以去除污染物，避免原生氧化物薄膜之生成，随着玻璃基板的尺寸越来越大，对基板表面的洁净度要求也不断提高。玻璃基板洗净的目的在于清除基板表面的污垢的同时，必须确保基板在洗净完成后其电性参数及特性，确保元件的品质与可靠度。

发明内容

本发明为了满足对玻璃基板表面的清洁度要求，设计了一种TFT液晶玻璃基板清洗液及其清洗方法，本清洗液的制作工艺简单，使用安全方便，利用本发明所制备的清洗液对玻璃基板的清洗能力强，达到了每一道TFT液晶玻璃制程对玻璃基板表面的清洁度要求。

本发明采用的技术方案是：一种TFT液晶玻璃基板清洗液，关键在于：上述清洗液配方组分及其各组分的质量百分含量为：

无水乙醇： 18~22%，

正丁醇： 10~30%，

正戊醇： 5~15%，

OP-10： 10~25%，

去离子水： 20~55%。

一种制备上述TFT液晶玻璃基板清洗液的方法，该制备方法步骤中包括：

A、取料：按各组分及其各组分的质量百分含量关系备料：

无水乙醇： 18~22%，

正丁醇： 10~30%，

正戊醇： 5~15%，

OP-10： 10~25%，

去离子水： 20~55%；

B、搅拌：将无水乙醇、正丁醇、正戊醇、OP-10、去离子水按顺序依次加入搅拌器中，充分搅拌至均匀以得到清洗液；

C、装瓶：将清洗液装入玻璃器皿中，备用。

一种TFT液晶玻璃基板清洗液配套用的玻璃基板清洗方法，该清洗方法的整个清洗过程是借助超声波清洗机完成的，所述的清洗方法步骤中包括：

a、去离子水清洗：将玻璃基板放入超声波清洗机中，用去离子水进行超声波清洗，水温控制在40℃~50℃，清洗10~15分钟；

b、清洗液清洗：用TFT液晶玻璃基板清洗液对玻璃基板进行超声波清洗30-60分钟，清洗温度控制在25~30℃；

c、二次去离子水清洗：再次用去离子水对玻璃基板进行超声清洗，清洗时间为15~20分钟，清洗温度为40℃~50℃。

本发明的有益效果是：1、本发明清洗液的配方安全，利用本发明配方所制备的清洗液及其清洗方法的去污能力效果显著，并且不影响玻璃的透光性和反光性，使用安全；2、利用本发明所述的清洗方法清洗出的玻璃无水印，无污点，能充分满足液晶玻璃基板后续工作需要。

具体实施方式

一种TFT液晶玻璃基板清洗液，上述清洗液配方组分及其各组分的质量百分含量为：

无水乙醇： 18~22%，

正丁醇： 10~30%，

正戊醇： 5~15%，

OP-10： 10~25%，

去离子水： 20~55%。

这样，该清洗液配方由溶剂无水乙醇、助剂正丁醇和正戊醇、非离子表面活性剂OP-10、去离子水组成，配方安全可靠，并不存在对玻璃基板透光性和反光性产生影响的原料组分。

一种制备TFT液晶玻璃基板清洗液的方法，该制备方法步骤中包括：

A、取料：按以上各组分及其各组分的质量百分含量关系备料；

C、装瓶：将清洗液装入玻璃器皿中，备用。

所述的无水乙醇的质量浓度大于99%。

所述的正丁醇的质量浓度大于99.9%。

所述的正戊醇的质量浓度大于99.9%。

所述的OP-10的质量浓度大于99.9%。

所述的去离子水的电阻率为7~9 MΩ??cm。

所述的正丁醇与正戊醇的质量比为2：1。

与一种TFT液晶玻璃基板清洗液配套用的玻璃基板清洗方法，该清洗方法的整个清洗过程是借助超声波清洗机完成的，所述的清洗方法步骤中包括：

所述的超声波清洗机的超声波频率为40~80KHz。

在具体实施时，首先，选取制备TFT液晶玻璃基板清洗液所需的各组分原料，其中，选用质量浓度均为99.9%的无水乙醇、正丁醇、正戊醇及OP-10，选用电阻率为7 MΩ??cm的去离子水。

然后，并以无水乙醇、正丁醇、正戊醇、OP-10、去离子水这样的先后顺序及表1中所示的质量百分含量关系依次往搅拌器中加料，充分搅拌至均匀以得到清洗液：

表1

	无水乙醇	正丁醇	正戊醇	OP-10	去离子水
						实施例1	18	10	5	10	55
实施例2	19	15	7.5	15	42.5
						实施例3	20	16	8	20	36
实施例4	21	20	10	25	25
						实施例5	22	30	15	15	20

接着，将上述所制得的清洗液装入玻璃器皿中，备用；

最后再进行下述清洗步骤：

a、将玻璃基板放入超声波清洗机中，用去离子水进行超声波清洗，水温控制在40℃~50℃，清洗10~15分钟；

经对清洗过后的玻璃基板的各项测试表明：本清洗方法对玻璃基板的透光性和反光性不产生任何影响，能够彻底清理玻璃基板表面的污渍，且清洗后的玻璃基板表面无水印，无污点，能充分满足后续工作需要。

Claims

1.一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：上述清洗液配方组分及其各组分的质量百分含量为：

无水乙醇： 18~22%，

正丁醇： 10~30%，

正戊醇： 5~15%，

OP-10： 10~25%，

去离子水： 20~55%。

2.一种制备权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液的方法，其特征在于：该清洗液的制备方法步骤中包括：

A、取料：按以下各组分及其各组分的质量百分含量关系备料：

无水乙醇： 18~22%，

正丁醇： 10~30%，

正戊醇： 5~15%，

OP-10： 10~25%，

去离子水： 20~55%；

C、装瓶：将清洗液装入玻璃器皿中，备用。

3.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的无水乙醇的质量浓度大于99%。

4.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的正丁醇的质量浓度大于99.9%。

5.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的正戊醇的质量浓度大于99.9%。

6.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的OP-10的质量浓度大于99.9%。

7.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的去离子水的电阻率为7~9 MΩ??cm。

8.根据权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液，其特征在于：所述的正丁醇与正戊醇的质量比为2：1。

9.与权利要求1所述的一种TFT液晶玻璃基板清洗液配套用的玻璃基板清洗方法，该清洗方法的整个清洗过程是借助超声波清洗机完成的，其特征在于：所述的清洗方法步骤中包括：

10.根据权利要求9所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于：所述的超声波清洗机的超声波频率为40~80KHz。