CN113182258A - 一种铁氧体球形谐振子清洗方法 - Google Patents
一种铁氧体球形谐振子清洗方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113182258A CN113182258A CN202110471657.6A CN202110471657A CN113182258A CN 113182258 A CN113182258 A CN 113182258A CN 202110471657 A CN202110471657 A CN 202110471657A CN 113182258 A CN113182258 A CN 113182258A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- harmonic oscillator
- spherical harmonic
- ferrite spherical
- ferrite
- transferring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
本发明公开了一种铁氧体球形谐振子清洗方法,包括以下步骤:首先将化抛后的小球依次转移到200~250℃的氢氧化钠溶液及中80~100℃的去离子水中浸泡;取出后在分别在弱酸溶液及去离子水中依次浸泡;再将小球转移至退火匣钵内,退火处理;最后将小球转移至无水乙醇中超声后,取出后再在另一无水乙醇中浸泡。本发明在保证有效去除表面磨料、杂质等颗粒的同时,及时中和化抛后小球表面磷酸,避免磷酸附着对小球表面的多余腐蚀;采用退火去除加工生产过程中带来的几乎全部有机物的同时,释放小球内部由机械抛光带来的应力,提升小球的微波性能。
Description
技术领域
本发明涉及微波材料产品清洗工艺测试领域,具体涉及一种磁调谐器件用铁氧体球形谐振子的清洗方法。
背景技术
磁调谐器件在现代电子战中有着广泛的应用,其是实现对战场空域电磁环境全面侦察监控、频谱综合分析、自适应跟踪、以及抑制和干扰等多个功能的核心器件。随着5G通信的快速发展,磁调谐器件的应用快速扩展至5G通信测试仪器设备等领域,而铁氧体小球谐振子是磁调谐器件实现宽带调谐等核心功能的关键元件。
在磁调谐器件的装配工艺中,小球表面的清洁度对小球粘接工序(使用导热高温胶将小球固定在钹陶瓷杆上)有着至关重要的影响。通常,生产过程中铁氧体小球表面的杂质可分为三类:1)油脂等有机物;2)磷酸等无机物;3)灰尘等颗粒。在磁调谐器件小球粘接工序中,对其常用小球的表面清洁度要求很高,因为磁调谐器件生产完成后需要进行温度冲击、振动、稳态湿热等环境试验,如果小球表面清洁度较差会导致小球粘接在陶瓷杆上的附着力变差,从而可能导致经过环境试验后小球脱落,使磁调谐器件失效。
目前,铁氧体小球谐振子通常采用在酒精中超声的方法清洗。该方法可以去掉磨料等颗粒,对磷酸等无机物只能起到稀释作用,极少部分酸液残留仍会对小球表面产生腐蚀,也不利于后续的粘接工序,对部分有机物也起不到溶解作用,因此不利于后续小球粘接。
发明内容
本发明的目的就在于提供一种磁调谐器件用铁氧体球形谐振子的清洗方法,以解决背景技术存在的缺陷。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种磁调谐器件用铁氧体球形谐振子的清洗方法,包括以下步骤:
(1):将化学抛光后的铁氧体球形谐振子转移到200~250℃的碱溶液中浸泡3~5min,然后转移到80~100℃的去离子水中浸泡5~10min;
(2):将步骤(1)处理后的铁氧体球形谐振子冷却后转移到室温下的弱酸溶液中浸泡30min以上,然后在室温下的去离子水中浸泡5~10min;
(3): 将步骤(2)处理后的铁氧体球形谐振子在400~500℃温度下退火处理24~48h,冷却至室温后取出;
(4): 将步骤(3)处理后的铁氧体球形谐振子转移至无水乙醇中并超声10~15min,取出后在另一室温下的无水乙醇中浸泡10~15min。
作为优选的技术方案:步骤(1)中,所述铁氧体球形谐振子为多晶谐振子和/或单晶谐振子。即多晶谐振子和单晶谐振子均可采用本发明的方法进行清洗。
作为优选的技术方案:步骤(1)中,所述碱溶液为强碱性溶液,比如氢氧化钠、氢氧化钾等。
作为优选的技术方案:步骤(1)中,采用铂金坩埚转移铁氧体球形谐振子。可以避免小球被二次污染。
作为优选的技术方案:步骤(2)中,所述的弱酸选自冰乙酸、柠檬酸中的至少一种无腐蚀性酸。
作为优选的技术方案:步骤(3)中,所述的退火工艺在氧气气氛中进行,退火温度为400~500℃。
作为优选的技术方案:步骤(2)、(3)、(4)中采用磁针和镊子转移铁氧体球形谐振子。可以避免小球被二次污染。
与现有工艺技术相比,而本发明可有效去除小球表面的杂质污迹等,使小球呈现镜面效果,本发明的优点在于:
1、在保证有效去除表面磨料等颗粒的同时,可以通过清洗及时中和化学抛光后小球表面磷酸,避免附着的磷酸对小球表面的多余腐蚀;
2、本发明采用退火去除有机物,在去除铁氧体小球加工生产过程中几乎全部有机物的同时,释放小球内部由机械抛光加工带来应力,消除该应力对小球铁磁共振线宽的影响,提升小球的微波性能。
附图说明
图1为本发明提供的铁氧体球形谐振子的清洗方法流程图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明作进一步说明。
实施例1:
按照如图1所示的铁氧体球形谐振子的清洗方法流程图进行200Gs BCV型单晶小球清洗,具体步骤如下:
步骤1:将化学抛光后的石榴石铁氧体单晶小球转移到200℃的氢氧化钠溶液中浸泡3min,然后转移到80℃的去离子水中浸泡5min;
步骤2:将步骤1处理后的小球冷却后转移到室温下的冰乙酸溶液中浸泡40min,然后在室温下的去离子水中浸泡5min;
步骤3: 将步骤2处理后的小球转移至退火匣钵内,并置于退火炉内,在一定氧气气氛下,500℃温度下退火处理48h,冷却至室温后取出;
步骤4: 将步骤3处理后的小球转移至无水乙醇中并超声10min,取出后在另一室温下的无水乙醇中浸泡10min。
在上述清洗过程中,步骤1采用铂金坩埚转移小球,和步骤2、3、4采用磁针和镊子转移小球,避免小球表面的二次污染。
为进一步验证本清洗方法在释放小球内部由机械抛光加工带来应力方面的作用,表1给出了采用传统的在酒精中超声清洗的方法和本发明方法处理后的小球线宽指标对比(按GB/T4410-2012旋磁铁氧体材料通用规范进行测试)。可以看到采用本发明处理后的200Gs单晶小球线宽平均减小9-11%,微波性能得到提升。
表1 传统方法和本发明方法清洗的小球线宽指标测试值
实施例2
按照如图1所示的铁氧体球形谐振子的清洗方法流程图进行1000Gs Ga-YIG单晶小球清洗,具体步骤如下:
步骤1:将化学抛光后的石榴石铁氧体单晶小球转移到230℃的氢氧化钾溶液中浸泡4min,然后转移到90℃的去离子水中浸泡8min;
步骤2:将步骤1处理后的小球冷却后转移到室温下的冰乙酸溶液中浸泡30min,然后在室温下的去离子水中浸泡8min;
步骤3: 将步骤2处理后的小球转移至退火匣钵内,并置于退火炉内,在一定氧气气氛下,450℃温度下退火处理36h,冷却至室温后取出;
步骤4: 将步骤3处理后的小球转移至无水乙醇中并超声12min,取出后在另一室温下的无水乙醇中浸泡12min。
在上述清洗过程中,步骤1采用铂金坩埚转移小球,和步骤2、3、4采用磁针和镊子转移小球,避免小球表面的二次污染。
为进一步验证本清洗方法在释放小球内部由机械抛光加工带来应力方面的作用,表2给出了采用传统的在酒精中超声清洗的方法和本发明方法处理后的1000Gs小球线宽指标对比(按GB/T4410-2012旋磁铁氧体材料通用规范进行测试)。可以看到采用本发明处理后的单晶小球线宽平均减小10-12%,微波性能得到提升。
表2 传统方法和本发明方法清洗的小球线宽指标测试值
实施例3:
按照如图1所示的铁氧体球形谐振子的清洗方法流程图进行3700Gs Li系尖晶石型单晶小球清洗,具体步骤如下:
步骤1:将化学抛光后的石榴石铁氧体单晶小球转移到250℃的氢氧化钠溶液中浸泡5min,然后转移到100℃的去离子水中浸泡10min;
步骤2:将步骤1处理后的小球冷却后转移到室温下的柠檬酸溶液中浸泡30min,然后在室温下的去离子水中浸泡10min;
步骤3: 将步骤2处理后的小球转移至退火匣钵内,并置于退火炉内,在一定氧气气氛下,500℃温度下退火处理48h,冷却至室温后取出;
步骤4: 将步骤3处理后的小球转移至无水乙醇中并超声15min,取出后在另一室温下的无水乙醇中浸泡15min。
在上述清洗过程中,步骤1采用铂金坩埚转移小球,和步骤2、3、4采用磁针和镊子转移小球,避免小球表面的二次污染。
为进一步验证本清洗方法在释放小球内部由机械抛光加工带来应力方面的作用,表3给出了采用传统的在酒精中超声清洗的方法和本发明方法处理后的3700Gs小球线宽指标对比(按GB/T4410-2012旋磁铁氧体材料通用规范进行测试)。可以看到采用本发明处理后的单晶小球线宽平均减小10-11%,微波性能得到提升。
表3传统方法和本发明方法清洗的小球线宽指标测试值
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种铁氧体球形谐振子清洗方法,包括以下步骤:
(1):将化学抛光后的铁氧体球形谐振子转移到200~250℃的碱溶液中浸泡3~5min,然后转移到80~100℃的去离子水中浸泡5~10min;
(2):将步骤(1)处理后的铁氧体球形谐振子冷却后转移到室温下的弱酸溶液中浸泡30min以上,然后在室温下的去离子水中浸泡5~10min;
(3): 将步骤(2)处理后的铁氧体球形谐振子在400-500℃温度下退火处理24-48h,冷却至室温后取出;
(4): 将步骤(3)处理后的铁氧体球形谐振子转移至无水乙醇中并超声10~15min,取出后在另一室温下的无水乙醇中浸泡10~15min。
2.根据权利要求1所述的铁氧体球形谐振子清洗方法,其特征在于:步骤(1)中,所述铁氧体球形谐振子为多晶谐振子和/或单晶谐振子。
3.根据权利要求1所述的铁氧体球形谐振子清洗方法,其特征在于:步骤(1)中,所述碱溶液为强碱性溶液。
4.根据权利要求1所述的铁氧体球形谐振子清洗方法,其特征在于:
步骤(1)中,采用铂金坩埚转移铁氧体球形谐振子。
5.根据权利要求1所述的铁氧体球形谐振子清洗方法,其特征在于:
步骤(2)中,所述的弱酸选自冰乙酸、柠檬酸中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的铁氧体球形谐振子清洗方法,其特征在于:步骤(3)中,所述的退火工艺在氧气气氛中进行,退火温度为400~500℃。
7.根据权利要求1所述的铁氧体球形谐振子清洗方法,其特征在于:步骤(2)、(3)、(4)中,用磁针和镊子转移铁氧体球形谐振子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110471657.6A CN113182258B (zh) | 2021-04-29 | 2021-04-29 | 一种铁氧体球形谐振子清洗方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110471657.6A CN113182258B (zh) | 2021-04-29 | 2021-04-29 | 一种铁氧体球形谐振子清洗方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113182258A true CN113182258A (zh) | 2021-07-30 |
CN113182258B CN113182258B (zh) | 2022-12-02 |
Family
ID=76980402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110471657.6A Active CN113182258B (zh) | 2021-04-29 | 2021-04-29 | 一种铁氧体球形谐振子清洗方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113182258B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115138632A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-10-04 | 中国船舶重工集团公司第七0七研究所 | 一种提升石英谐振子q值的表面处理方法 |
Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09155308A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 切断後の電子材料表面の洗浄方法及びその装置 |
DE19618899A1 (de) * | 1996-05-10 | 1997-11-13 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zum Entfernen von mit Seifen behafteten Konversionsschichten von metallischen Werkstücken |
US20010054431A1 (en) * | 2000-06-26 | 2001-12-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus |
CN101062503A (zh) * | 2006-04-24 | 2007-10-31 | 联华电子股份有限公司 | 化学机械研磨后的晶片清洗方法 |
CN101154556A (zh) * | 2006-09-30 | 2008-04-02 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 化学机械抛光后晶圆表面的清洗方法 |
CN101285188A (zh) * | 2007-04-12 | 2008-10-15 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 防止cmp过程中产生钻石刮痕的方法 |
CN101359581A (zh) * | 2008-09-25 | 2009-02-04 | 张彩根 | 碳化硅舟的清洗方法 |
CN103624028A (zh) * | 2013-11-27 | 2014-03-12 | 西南应用磁学研究所 | 一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺方法 |
CN103639131A (zh) * | 2013-11-26 | 2014-03-19 | 沈阳黎明航空发动机(集团)有限责任公司 | 一种叶片气膜孔及狭小缝隙内环境沉积物的去除方法 |
US20140246056A1 (en) * | 2011-11-25 | 2014-09-04 | Ihi Corporation | Vacuum cleaning apparatus and vacuum cleaning method |
CN104259133A (zh) * | 2014-07-31 | 2015-01-07 | 江苏吉星新材料有限公司 | 蓝宝石晶片退火前的清洗工艺 |
CN107164109A (zh) * | 2017-03-31 | 2017-09-15 | 吴江创源新材料科技有限公司 | 一种蓝宝石晶片退火前清洗液及其制备方法和清洗工艺 |
CN107755340A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-03-06 | 贰陆光学(苏州)有限公司 | 一种光学镜片的清洗方法 |
CN111238461A (zh) * | 2020-03-09 | 2020-06-05 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 一种谐振子及其制备方法 |
CN111446188A (zh) * | 2020-05-12 | 2020-07-24 | 天津中环领先材料技术有限公司 | 一种半导体硅片表面清洗机构及其清洗工艺 |
CN112452906A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-03-09 | 威科赛乐微电子股份有限公司 | 一种研磨后晶片的清洗方法 |
CN112452936A (zh) * | 2020-12-15 | 2021-03-09 | 中国电子科技集团公司第九研究所 | 一种铁氧体基片上金属薄膜电路电镀前清洗处理方法 |
-
2021
- 2021-04-29 CN CN202110471657.6A patent/CN113182258B/zh active Active
Patent Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09155308A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 切断後の電子材料表面の洗浄方法及びその装置 |
DE19618899A1 (de) * | 1996-05-10 | 1997-11-13 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zum Entfernen von mit Seifen behafteten Konversionsschichten von metallischen Werkstücken |
US20010054431A1 (en) * | 2000-06-26 | 2001-12-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus |
CN101062503A (zh) * | 2006-04-24 | 2007-10-31 | 联华电子股份有限公司 | 化学机械研磨后的晶片清洗方法 |
CN101154556A (zh) * | 2006-09-30 | 2008-04-02 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 化学机械抛光后晶圆表面的清洗方法 |
CN101285188A (zh) * | 2007-04-12 | 2008-10-15 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 防止cmp过程中产生钻石刮痕的方法 |
CN101359581A (zh) * | 2008-09-25 | 2009-02-04 | 张彩根 | 碳化硅舟的清洗方法 |
US20140246056A1 (en) * | 2011-11-25 | 2014-09-04 | Ihi Corporation | Vacuum cleaning apparatus and vacuum cleaning method |
CN103639131A (zh) * | 2013-11-26 | 2014-03-19 | 沈阳黎明航空发动机(集团)有限责任公司 | 一种叶片气膜孔及狭小缝隙内环境沉积物的去除方法 |
CN103624028A (zh) * | 2013-11-27 | 2014-03-12 | 西南应用磁学研究所 | 一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺方法 |
CN104259133A (zh) * | 2014-07-31 | 2015-01-07 | 江苏吉星新材料有限公司 | 蓝宝石晶片退火前的清洗工艺 |
CN107164109A (zh) * | 2017-03-31 | 2017-09-15 | 吴江创源新材料科技有限公司 | 一种蓝宝石晶片退火前清洗液及其制备方法和清洗工艺 |
CN107755340A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-03-06 | 贰陆光学(苏州)有限公司 | 一种光学镜片的清洗方法 |
CN111238461A (zh) * | 2020-03-09 | 2020-06-05 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 一种谐振子及其制备方法 |
CN111446188A (zh) * | 2020-05-12 | 2020-07-24 | 天津中环领先材料技术有限公司 | 一种半导体硅片表面清洗机构及其清洗工艺 |
CN112452906A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-03-09 | 威科赛乐微电子股份有限公司 | 一种研磨后晶片的清洗方法 |
CN112452936A (zh) * | 2020-12-15 | 2021-03-09 | 中国电子科技集团公司第九研究所 | 一种铁氧体基片上金属薄膜电路电镀前清洗处理方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
冯柯等: "《给水装备运用与管理》", 31 May 2017, 国防工业出版社 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115138632A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-10-04 | 中国船舶重工集团公司第七0七研究所 | 一种提升石英谐振子q值的表面处理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113182258B (zh) | 2022-12-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN113182258B (zh) | 一种铁氧体球形谐振子清洗方法 | |
Matthewson et al. | Acid stripping of fused silica optical fibers without strength degradation | |
KR102151997B1 (ko) | 유리 기판을 에칭 절단하는 방법 | |
CN111192822B (zh) | 硅片和化合物半导体晶片的低温键合方法 | |
CN103624028B (zh) | 一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺方法 | |
CN102543665B (zh) | 砷化镓衬底改进的快速减薄方法 | |
CN112504799B (zh) | 一种奥氏体耐热钢管内壁喷丸层深度的检测方法 | |
CN112452906A (zh) | 一种研磨后晶片的清洗方法 | |
CN113245279A (zh) | 陶瓷件清洗方法 | |
CN111945139A (zh) | 一种覆铜陶瓷基板镀镍方法 | |
CN107915499B (zh) | 一种C/SiC陶瓷基复合材料的修复方法 | |
CN109817512A (zh) | 晶圆清洗方法及清洗装置 | |
CN111174809A (zh) | 一种激光陀螺腔体内孔清洗方法 | |
CN101110348A (zh) | 微电子元件的表面处理、分类与组装方法及其储存结构 | |
CN115433824A (zh) | 马氏体不锈钢热处理的温度测控系统及方法 | |
US20170018424A1 (en) | Method for cleaning lanthanum gallium silicate wafer | |
RU2541436C1 (ru) | Способ плазмохимической обработки подложек из поликора и ситалла | |
CN107817621B (zh) | 平板显示器的修复方法 | |
JP4753656B2 (ja) | シリコンウエーハ表面へのボロン汚染抑制方法 | |
CN115305474B (zh) | 无损去除钢铁表面防护涂层的清洗方法及应用 | |
CN114136872B (zh) | 一种轴承渗氮钢晶粒度的腐蚀方法 | |
CN109704600A (zh) | 一种石英玻璃冷连接方法 | |
CN116544110A (zh) | 一种磷化铟晶片的退火方法 | |
CN116313282B (zh) | 一种漆包超导线材表面漆膜缺陷修复方法 | |
CN103693998A (zh) | 一种金属化陶瓷废品的回收方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |