CN104217980B - 衬底移除设备以及使用其制造平板显示装置的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了包括初始间隙形成单元和前吸附型移除单元的衬底移除设备以及其中使用该衬底移除设备分离辅助衬底的制造平板显示装置的方法。通过使用辅助衬底容易地执行制造薄板衬底的过程，并且针对过程完成了的衬底，通过使用包括具有台的前吸附型移除单元和初始间隙形成单元的衬底移除设备，可以将该辅助衬底容易地从板衬底分离，其中在该台上形成有翼型O形圈和多个真空吸附线。

Description

衬底移除设备以及使用其制造平板显示装置的方法
技术领域
本公开内容涉及衬底移除设备，更具体地涉及包括初始间隙形成单元和前吸附型移除单元的衬底移除设备，并且涉及其中使用该衬底移除设备分离辅助衬底的制造平板显示装置的方法。
背景技术
随着各种便携式设备、移动电话、笔记本电脑和实现高分辨率和高质量的图像的信息电子设备比如HDTV等的发展，对其中所使用的平板显示装置的需求已增加。平板显示装置包括液晶显示器(LCD)、等离子体显示板(PDP)、场发射显示器(FED)和有机发光显示装置等。
平板显示装置常用在便携式设备中，并且在大电视的情形中，其面积的增大导致其重量的增大，所以对更轻和更薄的显示装置的需求正在增长，以增强便携性。
可以以各种方式减小平板显示装置的厚度和重量，但是平板显示装置的必需部件的减少在结构和当前技术方面受到限制。另外，必需部件重量轻，所以很难减小必需部件的重量以减小平板显示装置的总厚度和重量。
因此，已活跃地研究了用于通过减小构成显示板的板衬底的厚度来减小平板显示装置的厚度和重量的方法。然而，在此情形中，由于要使用薄衬底，所以当对薄衬底执行多个单元过程时或者当在多个单元过程期间转移薄衬底时，薄衬底可能弯屈(bent)或断裂。因此，为了克服该问题，已提出了如下方法：将辅助衬底附着到薄玻璃衬底，执行制造过程并且当所述过程完成时移除辅助衬底，从而使对板衬底的损坏最小化。
图1A是示意性地示出了用于制造薄衬底的相关技术方法中的使用真空垫的衬底移除设备的视图。图1B是示意性地示出了使用弧形鼓垫的衬底移除设备的视图。
参照图1，相关技术真空垫衬底移除设备10具有如下结构：在附着到玻璃或塑料板衬底11的辅助衬底12上布置有多个真空吸附垫14，并且通过驱动真空抽吸单元15来分离板衬底11和辅助衬底12。特别地，在塑料衬底的情形中，通过使用SiNx和a-Si在板衬底11与辅助衬底12之间形成释放层，并通过使用激光来移除该释放层，从而削弱待执行移除过程的衬底之间的接合力。
然而，在真空垫衬底移除设备10中，由于真空吸附垫14(a)的高度和吸附功率之间的差异，辅助衬底12在初始吸附部分和末尾吸附部分中可能损坏，并且由于释放层需要通过激光移除，所以成本增加。此外，一旦被使用，辅助衬底12不能被回收。
图1B示出了使用鼓垫的相关技术的衬底移除设备20。在衬底移除设备20中，当辅助衬底附着过程完成时，附着到板衬底21的第一辅助衬底22和第二辅助衬底23需要被移除，为此，使用弧形鼓垫25来吸附第一辅助衬底22的前表面并且逐渐提升它，同时降低第一辅助衬底22的后端，以移除第一辅助衬底22，并且以相同的方式移除第二辅助衬底23。
然而，使用鼓垫的衬底移除方法的缺点在于：与前表面吸附方法相比，分离(或移除)辅助衬底的前表面所需的时间更长，并且由于提供了大量的驱动单元和吸附室，所以难以在设备维护方面管理驱动单元和吸附室。另外，难以制造和管理在鼓垫的下表面上形成的O形圈来用于分离。
发明内容
因此，详细描述的一方面提供了：一种用于制造平板显示装置的方法，该方法能够通过将辅助衬底附着到薄板衬底并且执行多个过程来防止对薄玻璃衬底的损坏；以及一种衬底移除设备，该衬底移除设备能够将辅助衬底容易地从通过该方法制造出的板衬底分离。
为了实现这些和其它优点，根据本说明书的目的，如本文中所实施和宽泛描述的那样，衬底移除设备可以包括：初始间隙形成单元，初始间隙形成单元被配置成当通过附着辅助衬底和板衬底而形成的母衬底被装载时在母衬底中形成初始间隙；以及前吸附型移除单元，前吸附型移除单元被配置成通过在其上已装载有形成有初始间隙的母衬底的台上形成的矩形翼型O形圈来真空吸附辅助衬底，以将辅助衬底从板衬底分离。初始间隙形成单元包括：吸附台，被转移了的母衬底被装载到吸附台；推针模块，推针模块被配置成控制推针向母衬底的角切割部施压；视觉对准模块，视觉对准模块被配置成对在母衬底中形成的角切割部成像并且将推针定位成与角切割部对应；以及间隙刀模块，间隙刀模块被配置成将间隙刀施加于由推针施压于的角切割部的衬底接触部以形成初始间隙。
为了实现这些和其它优点，根据本说明书的目的，如本文中所实施和宽泛描述的那样，衬底移除方法可以包括：提供第一辅助衬底、第二辅助衬底和薄板衬底；通过将第一辅助衬底和第二辅助衬底附着到板衬底来制备母衬底；对母衬底执行显示板制造过程；将母衬底转移到上面所述的初始间隙形成单元以在第一辅助衬底与板衬底之间形成初始间隙；将母衬底转移到前吸附型移除单元以分离第一辅助衬底；将母衬底转移到初始间隙形成单元以在第二辅助衬底与板衬底之间形成初始间隙；以及将母衬底转移到前吸附型移除单元以分离第二辅助衬底。
根据下文中给出的详细描述，将更容易明白本申请的更多适用范围。然而，应当理解，详细描述和具体例子尽管指示了本发明的优选实施方式，但是仅作为说明而给出，这是因为本领域的技术人员根据详细描述容易明白在本发明的精神和范围内的各种改变和修改。
附图说明
包括附图来提供对本发明的进一步理解，附图被合并到本说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了多个实施方式并且与描述一起用于解释本发明的原理。
在附图中：
图1A是示意性地示出了用于制造薄衬底的相关技术方法中的使用真空垫的衬底移除设备的视图，而图1B是示意性地示出了使用弧形鼓垫的衬底移除设备的视图；
图2是示出了根据本公开内容的实施方式的用于制造平板显示装置的方法的视图；
图3是示意性地示出了根据本公开内容的实施方式的衬底移除设备的视图；
图4A至图4C是示出了用于使用初始间隙形成单元执行初始间隙过程的具有角切割部的板衬底的视图；
图5是示出了根据本公开内容的实施方式的衬底移除设备的初始间隙形成单元的视图；
图6A至图6D是示出了包括在图5的初始间隙形成单元中的部件的视图；
图7是根据本公开内容的实施方式的衬底移除设备的前吸附型移除单元的视图；
图8A至图8C是示出了图7的前吸附型移除单元的两个台的视图；
图9A和图9B是示出了根据本公开内容的实施方式的分离间隙形成模块的视图；
图10A和图10B是示出了根据本公开内容的实施方式的弯曲(bowing)防止模块的视图；以及
图11是示出了根据本公开内容的实施方式的用于制造平板显示装置的方法中的移除衬底的方法的视图。
具体实施方式
现在参照附图给出各实施方式的详细描述。为了参照附图进行简要描述，将用相同的附图标记提供相同的或等同的部件，而不重复其描述。
在下文中，将参照附图描述根据本公开内容的实施方式的用于制造平板显示装置的方法和被用于该方法的衬底移除设备。在下文中，将参照附图描述根据本公开内容的实施方式的用于制造平板显示装置的方法和衬底移除设备。在下面的描述中，将作为例子来描述制造其中在两个衬底之间插入有液晶层的液晶显示器(LCD)的板衬底的方法，但是根据本公开内容的实施方式的制造方法不仅限于LCD，而可以应用于诸如有机发光显示装置、等离子体显示板等的平板显示装置的任何板衬底。
图2是示出了根据本公开内容的实施方式的用于制造平板显示装置的方法的视图。
在图2中，示出了在以滴落方式形成液晶层的情形中用于制造LCD的板衬底的方法，但是本公开内容也可以应用于在以液晶注入方式形成液晶层的情形中用于制造LCD的方法。
制造LCD的过程可以包括：在下阵列衬底上形成驱动元件的驱动元件阵列过程；以及在下滤色器衬底上形成滤色器的滤色器过程。
LCD的厚度和重量可以取决于各种因素，并且在LCD的部件当中，由玻璃形成的阵列衬底或滤色器衬底可能是最重的。因此，为了减小LCD设备的厚度和重量，优选地使用薄玻璃衬底。
在根据本公开内容的实施方式的用于制造平板显示装置的方法中，使用厚度等于或小于0.5t的薄板衬底来执行阵列衬底和滤色器衬底。在此情形中，通过将辅助衬底附着到两个较薄板衬底的外表面来执行过程，从而使薄板衬底的弯曲最小化并且防止对薄板衬底的损坏。这里，t指的是mm，从而0.5t指的是0.5mm的厚度。在下文中，为了描述的目的，在下面的描述中用t表示mm。
特别地，厚度为0.5t或更小的薄玻璃板衬底当被放到一般的平板显示装置制造过程中时严重下垂，从而引起如下问题：使用移动单元如盒子(cassette)等的板衬底难以转移并且当被装载到单元过程设备或者从单元过程设备卸载时即使对其施加小冲击也迅速严重弯曲，从而频繁地引起位置误差。
因此，在本公开内容的实施方式中，在将厚度为0.5mm或更小的薄板衬底放到制造线之前，将辅助衬底附着到薄板衬底，由此，板衬底具有与在一般的平板显示装置中使用的厚度约为0.7t的玻璃衬底的弯曲特性相比相同或更好的增强的弯曲特性。
首先，在将厚度为0.5t或更小的薄玻璃板衬底放到阵列过程和滤色器过程的制造线之前，将厚度约为0.3t至0.7t的辅助衬底附着到板衬底的一个表面(S101)。然而，这里，本公开内容不限于薄板衬底和辅助衬底的厚度。
可以通过使这两个衬底在真空状态下接触来执行附着板衬底和辅助衬底的过程。在此情形中，这两个衬底之间的附着力可以设想为基于真空力、范德华力、静电力、分子键联等。
这里，在本公开内容的实施方式中，使用氟等对辅助衬底进行等离子体处理，或者利用表面活性剂处理辅助衬底，或者可以在辅助衬底上形成凹凸图案以减轻附着力从而容易地从薄板衬底分离，或者可以使薄板衬底和辅助衬底附着而不对其执行任何处理。
接下来，当辅助衬底附着到薄板衬底时，附着有辅助衬底的用于阵列衬底的薄板衬底(在下文中称为“阵列衬底”)经历阵列过程。在阵列过程期间，在阵列衬底上布置多个栅线和多个数据线以限定像素区域，并且在像素区域中分别形成连接到栅线和数据线的薄膜晶体管TFT、驱动元件(S102)。此外，形成待连接到每个TFT的像素电极。当向TFT施加信号时，像素电极驱动液晶层。
另一方面，在滤色器过程期间，在附着有前述辅助衬底的用于滤色器衬底的薄板衬底上形成包括实现色彩的红、绿和蓝副滤色器的滤色器层(S103)。在此情形中，当制造平面内切换(IPS)LCD时，在其中在步骤S102中形成有像素电极的阵列衬底上形成公共电极。
随后，执行在滤色器衬底和阵列衬底上形成对准膜的对准过程(S104、S105)。在此情形中，为了向在滤色器衬底和阵列衬底之间形成的液晶层的液晶分子提供锚定力或表面固定力，可以进一步包括针对对准层的摩擦过程。
接下来，执行如下过程：向经摩擦的滤色器衬底施加密封剂(或密封材料)以形成预定密封图案，并且同时通过液晶滴落过程在阵列衬底上形成液晶层(S106、S107)。可替选地，可以分别对阵列衬底或滤色器衬底执行密封剂施加过程和液晶滴落过程。
这里，分别在大尺寸的母衬底上形成滤色器衬底和阵列衬底。即，在每个大尺寸的母衬底中形成多个板区域，并且分别在板区域中形成TFT、驱动元件或滤色器层。
此后，在附着过程(S108)期间，滴落液晶，并且向其中形成有阵列衬底和滤色器衬底的母衬底中的任何一个施加密封剂，随后，使两个母衬底对准并且向其施加压力以借助于密封剂附着两个母衬底并且允许滴落的液晶均匀地遍布于整个两个衬底。
通过这些过程，在大尺寸的母衬底状态下的阵列衬底和滤色器衬底中形成包括液晶层的多个显示板，并且从包括多个显示板的大尺寸的母衬底移除第一辅助衬底和第二辅助衬底(S109)，并且将母衬底切割成多个显示板，并且检查该多个显示板中的每一个，从而制造出平板显示装置(S110)。
在此情形中，通过使用衬底移除设备来执行分离辅助衬底的过程(S109)，并且衬底移除设备包括初始间隙形成单元和前表面吸附型移除单元。
图3是示意性地示出了根据本公开内容的实施方式的衬底移除设备的视图。参照图3，根据本公开内容的实施方式的衬底移除设备包括：初始间隙形成单元100，其执行初始间隙形成过程以便从板衬底移除辅助衬底；以及前吸附型移除单元200，其从形成有初始间隙的板衬底移除辅助衬底。
将已经历附着过程的单个母衬底50装载到初始间隙形成单元100中，对附着到板衬底的一个表面的第一辅助衬底执行初始间隙形成过程，并且卸载母衬底。将针对第一辅助衬底形成有初始间隙的母衬底51装载到前吸附型移除单元200，移除第一辅助衬底，将第二辅助衬底控制为面朝上，并且通过初始间隙形成单元100和前吸附型移除单元200再次对第二辅助衬底执行初始间隙形成过程和衬底分离过程。
为了通过初始间隙形成单元100针对辅助衬底形成初始间隙，需要在衬底上形成切割部以施加推针(push pin)。
图4A至图4C是示出了用于使用初始间隙形成单元执行初始间隙过程的具有角切割部的板衬底的视图。
如上所述，在本实施方式中，在使用0.5t或更小的薄玻璃板衬底(即，使用第一板衬底51和第二板衬底52)开始制造过程之前，第一辅助衬底61和第二辅助衬底62被附着以具有与在一般的LCD中使用的厚度约为0.7t的玻璃衬底的弯曲特性相比相同或更好的弯曲特性，以使在转移或单元过程期间衬底下垂等的生成最小化。
在此情形中，以预定倾斜角切除其中分配有多个液晶板并且被附着的第一辅助衬底61和第二辅助衬底62以及第一板衬底51和第二板衬底52的角。
特别地，与第一板衬底51和第二板衬底52相比(请参照图4A)，较少地切除第一辅助衬底61和第二辅助衬底62的至少两个角，以便区分方向和后续过程。因此，当衬底被附着时，第一辅助衬底和第二辅助衬底的角部被暴露。被暴露的区域被用作推针区域A和B，推针PP被施加于推针区域A和B以开始第一辅助衬底61和第二辅助衬底62的初始间隙过程。
即，在第一板衬底51和第二板衬底52被切割之后，被附着的第一辅助衬底61和第二辅助衬底62的角突起。在衬底被固定的状态下将推针PP沿X轴方向和Y轴方向移动到推针区域A和B中以施加压力。因此，首先，对附着到一个表面的第一辅助衬底61执行第一初始间隙过程以将第一辅助衬底61从第一板衬底51或第二板衬底52分离，并且在将第一辅助衬底61分离之后，执行第二初始间隙过程以通过针对第二辅助衬底62使用推针PP来向推针区域C和D施加压力。
在下文中，将参照附图描述构成根据本公开内容的实施方式的衬底移除设备的两个单元的结构。
图5是示出了根据本公开内容的实施方式的衬底移除设备的初始间隙形成单元的视图，并且图6A至图6D是示出了包括在图5的初始间隙形成单元中的部件的视图。
参照图5，初始间隙形成单元100包括：被安装在室101内并且被布置在支柱102上以对在母衬底中形成的角切割部成像以将推针定位成与角切割部对应的视觉对准模块110；当母衬底被装载时将母衬底对准于规则位置的衬底对准模块120；控制推针向母衬底的角切割部施压的推针模块140；将间隙刀插入到由推针施压于的角切割部的衬底接触部以形成初始间隙的间隙刀模块150(图6C)；装载被转移了的母衬底的吸附台160；以及包括耦接到吸附台160的下部以支撑母衬底的多个举针(lift pin)的举针模块170。
在下文中，将参照图5和图6A至图6D描述初始间隙形成单元100的结构。
视觉对准模块110耦接到支柱102并且被安装在吸附台160的上方，并且与吸附台160间隔开预定距离。视觉对准模块110可以对被装载在吸附台160上的母衬底(未示出)的区域成像并且根据结果将推针模块140定位成与在母衬底中形成的角切割部对应。
为此，视觉对准模块110包括：包括用于对角切割部成像的图像传感器的传感器单元111；耦接到传感器单元111并且沿第一方向和第二方向移动传感器单元111的第一行进单元112和第二行进单元113；以及耦接到第一行进单元112和第二行进单元113以沿第三方向移动第一行进单元112和第二行进单元113的第三行进单元114。这里，可以将第一方向至第三方向设定为X轴、Y轴和Z轴。
当将母衬底转移到室101的内部并装载到吸附台160时，衬底对准模块120首要地对准母衬底以将母衬底放置在规则位置。当将母衬底转移到室101的内部时，母衬底被装载到通过穿透吸附台160举起的多个针(未示出)上，并且衬底对准模块120在母衬底被固定到吸附台160之前对准母衬底。
根据视觉对准模块110的成像结果，推针模块140将推针141定位成与被装载到吸附台160的母衬底的角切割部对应，并且举起推针141以向角切割部施压以暴露板衬底和母衬底的辅助衬底之间的接触部。在此情形中，如果由推针141施加于母衬底的压力太强或者如果长时间向母衬底施加压力，则母衬底可能损坏。因此，为了防止这一点，可以进一步提供用于当预定压力被施加时降低推针141的载荷单元142。因此，推针模块140包括推针141以及用于将推针141定位在与母衬底的角切割部对应的位置的第一行进单元143至第三行进单元145。
间隙刀模块150用于将间隙刀151插入到由推针141施压于的母衬底的接触部以形成初始间隙。详细地，当由推针141向母衬底施压时，母衬底的辅助衬底在一定程度上从板衬底分离，但是在此情形中，当母衬底被转移到前吸附型移除设备时，辅助衬底可能再次附着到板衬底，并且因此辅助衬底不分离。因此，为了使该问题最小化，当辅助衬底与板衬底之间的接触部通过推针141的施压而被暴露时，间隙刀模块150将间隙刀151插入到被暴露的接触部以减小衬底之间的附着，从而形成初始间隙。
间隙刀模块150包括：间隙刀151；将间隙刀插入到正被施压的母衬底的接触部以及将间隙刀从正被施压的母衬底的接触部移除的刀控制器152；以及用于沿第一方向至第三方向移动刀控制器152的第一行进单元153至第三行进单元155。
吸附台160通过支柱102被安装在室101内(被转移了的母衬底被装载到其)，并且用于在初始间隙形成过程期间稳定地支撑母衬底。吸附台160根据真空吸附法装载母衬底。为此，吸附台160包括：从布置在下方的举针模块170举起的多个举针所进入的多个举针孔161；在吸附台160的侧面上形成以允许推针进入的至少一个推针孔165；具有矩阵形状、划分母衬底的整个区域并且首要地吸附母衬底的主真空吸附线167；以及具有矩阵形状、在由主真空吸附线167划分的区域中的与角切割部相邻的区域内并且次要地吸附母衬底的副真空吸附线169。
特别地，副真空吸附线169在与由推针141施压于的母衬底的角切割部对应的区域中形成，用于防止母衬底由于推针141的施压而从吸附台160分离。即，副真空吸附线169相对于主真空吸附线167密集地形成，并且在真空状态下，其吸附力强于其它区域的吸附力，从而使分离问题最小化。
举针模块170被布置在吸附台160的后表面上，并且在母衬底被吸附之前临时地支撑被转移到室101的内部的母衬底。详细地，举针模块170举起举针(未示出)使之穿过吸附台160的举针孔161而上升以支撑被转移了的母衬底。当母衬底被完全对准时，举针模块170降低举针使得母衬底可以被装载到吸附台160。此外，在初始间隙过程完成之后，当母衬底由于附着力而不容易从吸附台160分离时，举针模块170可以举起举针以推动母衬底的后表面，从而帮助迅速执行卸载过程。
根据该结构，根据本实施方式的初始间隙形成单元执行形成用于将辅助衬底从母衬底分离的初始间隙的过程。在下文中，将描述根据本公开内容的前吸附型移除单元的结构。
图7是示出了根据本公开内容的实施方式的衬底移除设备的前吸附型移除单元的视图。图8A至图8C是示出了图7的前吸附型移除单元的两个台的视图。图9A和图9B是示出了根据本公开内容的实施方式的分离间隙形成模块的视图。图10A和图10B是示出了根据本公开内容的实施方式的弯曲防止模块的视图。
参照图7，前吸附型移除单元200包括：在室201中在支柱202上安装的下台210，其允许被转移了的母衬底装载到其上，并且具有翼型O形圈(OR)；布置在下台210的上方并且具有翼型O形圈的上台220；在下台210与上台220之间形成间隙的分离间隙形成模块230；以及移除在母衬底中生成的静电的弯曲防止模块240。
在下文中，将参照图7和图8A至图8C描述前吸附型移除单元200的结构。
下台210被安装在支柱202的上方并且用于在过程期间稳定地支撑被转移到室201中并被装载在其上的母衬底。下台210包括：在内侧面处形成并且具有矩阵形状以在真空状态下吸附母衬底的多个真空吸附线211；以及在其最外部中形成并且允许翼型O形圈(OR)被插入到其的凹槽线213。此外，在凹槽线213的外侧面中形成衬底止动突起214以围绕被装载了的母衬底的侧面。
根据该结构，被转移到前吸附型移除单元200的内部的母衬底首先由衬底止动突起214对准并且被装载成使得其后表面与翼型O形圈的上部接触。此外，在真空吸附期间，翼型O形圈向凹槽线213的内部倾斜，并且母衬底被安装在下台210的上表面上。
特别地，当母衬底被瞬间地吸附到下台210时，母衬底可能损坏，而为了防止这一点，可以提供电动气动调节器来允许母衬底被缓慢地吸附。如下面所述，可以不在上台220中提供电动气动调节器。
上台220被安装成与下台210对应并且吸附辅助衬底以将辅助衬底从母衬底分离。在上台220上在上台220的内侧面处形成具有与下台210的真空吸附线和凹槽线相同形状的真空吸附线221和凹槽线223，并且将翼型O形圈插入到凹槽线223中。
此外，尽管未示出，还可以在上台220中提供预定传感器(未示出)以便确定辅助衬底是否损坏或被移除。当衬底损坏时，吸附压力降低。因此，传感器可以包括用于感测吸附压力的吸附压力传感器和用于感测分离的压力传感器，该压力传感器包括在其上部上形成并且具有预定高度的突起、并且当突起被按压时确定辅助衬底的分离。
在如上所述通过下台210和上台220进行的真空吸附过程中，通过连接到真空吸附线的真空泵等在上台和下台与辅助衬底之间形成真空状态，并且真空吸附线可以具有2mm或更小的宽度和1mm的深度。在此情形中，可以确定吸附压力在约30kpa至90kpa的范围内。
此外，可以在下台210的下表面上提供加热板以便通过提供热来帮助移除辅助衬底。加热板用于通过将母衬底的温度调整到30℃至150℃的范围内来减小板衬底与辅助衬底之间的附着。
根据该结构，母衬底被装载，下台210和上台220彼此间隔开预定距离，并且每个真空吸附线处于真空状态下。在此状态下，O形圈密闭地关闭内侧面，并且辅助衬底从初始间隙开始从板衬底分离。
图8C是示出了其中翼型O形圈被插入到下台210的凹槽线中的结构的图8A的一部分的放大图。特别地，翼型O形圈由挠性材料形成并且可以由具有优良的热、化学和物理耐久性的柔顺材料比如天然橡胶、发泡硅或非发泡硅等形成。
此外，在辅助衬底被分离之后，被分离了的辅助衬底可能没有从翼型O形圈移除。为了防止该问题，翼型O形圈的表面可以涂覆有聚对二甲苯(parylene)。聚对二甲苯涂层可以指的是在室温下在真空状态下以气相沉积到厚度在微米量级的主体的聚合物的涂层，而无论主体的形状如何。聚对二甲苯涂层包括少量的多晶、是线性的并且具有优良的疏水性，并且因此其不引起严重的化学反应。在本公开内容的该实施方式中，用具有这样的特性的聚对二甲苯涂覆翼型O形圈以允许辅助衬底容易地从O形圈滑动并且减小O形圈的粘附。
此外，通过将翼型O形圈的部分弯屈两次，翼型O形圈具有形状，并且上弯屈部以预定角度倾斜并且与母衬底接触。特别地，当翼型O形圈被吸附到母衬底时，翼型O形圈的形状不维持而是弯屈以被插入到凹槽线213中。因此，为此，在凹槽线213中形成预定的台阶部213a。
因此，当母衬底的前表面和后表面与分别在彼此间隔开预定距离的上台210和下台220中提供的翼型O形圈接触、并且翼型O形圈的内侧面被抽真空时，板衬底和辅助衬底被分别吸附到下台210和上台220，以便被分离，为此，提供用于调整下台210与上台220之间的空间的分离间隙形成模块230。
分离间隙形成模块230用于调整下台210与上台220之间的间隙，并且包括：布置在所述台的每个侧面上的固定框231；耦接在固定框之间的一个或更多个移入/移出构件232；调整固定框231的高度的高度调整单元233；以及其中安装有下台210的底框234。
特别地，移入/移出构件232通过布置在后台中的驱动单元236向内移动以限制上台被降低到的位置。驱动单元236可以被手动操作或者可以被配置为伺服电动机等。特别地，可以竖直地堆叠两个或更多个移入/移出构件232以根据母衬底的高度或其它处理环境适当地调整下台210与上台220之间的间隙。
在母衬底被装载之后，如果温度不均匀地升高，则母衬底可能弯屈并伸展以引起母衬底的一部分脱离的弯曲现象。这可能导致衬底的区域的高度之间的20mm或更大的差异。此外，当执行分离过程时，静电可能被引入到母衬底。因此，为了防止该问题，可以在下台210的两个侧面中提供弯曲防止模块240以便释放静电。
弯曲防止模块240用于当母衬底被装载到下台210时临时地向下台210的两个侧端施压，并且包括通过旋转构件241和242连接并且进入到下台210和从下台210撤回的条型按压构件和连接构件。
预定刷子可以附着到弯曲防止模块240的按压构件以有效地释放被引入到母衬底的静电。
在下文中，将参照附图描述根据本公开内容的实施方式的用于制造平板显示装置的方法中的使用衬底移除设备移除衬底的方法。
图11是示出了根据本公开内容的实施方式的用于制造平板显示装置的方法中的移除衬底的方法的视图。
参照图11，将包括已经历前一过程的板衬底以及附着到板衬底的第一辅助衬底和第二辅助衬底的母衬底转移到初始间隙形成单元的室的内部并且装载到吸附台(S200)。
在此情形中，板衬底可以形成为厚度为0.5t或更小的薄玻璃衬底，并且厚度在0.3t至0.7t范围内、经过等离子体处理或表面活性剂处理并且具有凹凸图案的第一辅助衬底和第二辅助衬底可以附着到板衬底。这里，相应衬底的厚度不限于特定尺寸。
接下来，通过衬底对准模块将被装载到吸附台上的母衬底对准到规则位置(S210)。
随后，将第一辅助衬底从母衬底分离(S220)。首先，视觉对准模块对母衬底的角切割部成像并且定位推针模块使得它与角切割部对应。推针模块向角切割部施压以暴露板衬底与第一辅助衬底之间的接触部，并且间隙刀进入以形成初始间隙(S221)。此后，将母衬底转移到前吸附型移除单元并且装载到下台，上台被降低，并且第一辅助衬底随后以真空方式分离(S222)。在此情形中，下台和上台分别包括翼型O形圈，并且当母衬底被翼型O形圈围绕并且第一辅助衬底被吸附到上台时，第一辅助衬底从板衬底分离。
此后，将已移除了第一辅助衬底的母衬底反转并且再次装载到初始间隙形成单元的吸附台(S230)。即，母衬底被装载到吸附台使得待被分离的第二辅助衬底面朝上。
通过衬底对准模块将母衬底对准到规则位置(S240)。
随后，将第二辅助衬底从母衬底分离(S220)。首先，使用前述推针以预定压力向上按压第二辅助衬底的角切割部分以暴露第二辅助衬底与薄玻璃衬底之间(即，板衬底与第二辅助衬底之间)的接触部，并且间隙刀从一个方向向另一方向移动以部分地分离母衬底和第二辅助衬底的接触区域以形成初始间隙(S251)。
接下来，将母衬底转移到前吸附型移除单元并且装载到下台，并且上台被降低，并且第二辅助衬底以真空方式分离(S252)。在此情形中，当母衬底被翼型O形圈围绕并且第二辅助衬底被吸附到上台时，第二辅助衬底从板衬底分离。
根据本公开内容的实施方式，通过使用辅助衬底可以容易执行制造薄板衬底的过程，并且针对前一过程完成了的衬底，通过使用包括具有其上形成有翼型O形圈和多个真空吸附线的台的前吸附型移除单元以及初始间隙形成单元的衬底移除设备，可以将辅助衬底从板衬底容易地分离。因此，可以在衬底制造过程期间无损坏地分离辅助衬底，并且可以简化过程和降低成本。
前述实施方式和优点仅是示例性的而不应被认为限制本公开内容。本教导能够容易地应用于其它类型的设备。本描述意在是说明性的，而并非意在限制权利要求的范围。本领域的技术人员容易明白很多可替选方案、修改和变化。本文中所述的实施方式的特征、结构、方法和其它特性可以以各种方式进行组合以得到额外的和/或可替选的实施方式。
当可以在不背离本发明的特征的特性的情况下以若干形式实施本发明的特征时，还应当理解，除非另有说明，上述实施方式并不受前面的描述的任何细节的限制，而是应当在其范围内宽泛地视为在所附权利要求中限定，并且因此落入权利要求的边界和界限内的所有改变和修改或者这样的边界和界限的等同设置意在被所附权利要求所包含。

Claims (14)

1.一种衬底移除设备，包括：
初始间隙形成单元，所述初始间隙形成单元被配置成当通过附着辅助衬底和板衬底而形成的母衬底被装载时在所述母衬底中形成初始间隙；以及
前吸附型移除单元，所述前吸附型移除单元被配置成通过在其上已装载有形成有所述初始间隙的母衬底的台上形成的矩形翼型O形圈来真空吸附所述辅助衬底，以将所述辅助衬底从所述板衬底分离，
其中，所述初始间隙形成单元包括：
吸附台，被转移了的所述母衬底被装载到所述吸附台；
推针模块，所述推针模块被配置成控制推针向所述母衬底的角切割部施压；
视觉对准模块，所述视觉对准模块被配置成对在所述母衬底中形成的所述角切割部成像并且将所述推针定位成与所述角切割部对应；以及
间隙刀模块，所述间隙刀模块被配置成将间隙刀施加于由所述推针施压于的所述角切割部的衬底接触部以形成初始间隙。
2.根据权利要求1所述的衬底移除设备，其中，所述推针模块进一步包括被配置成测量由所述推针向所述母衬底施加的压力的载荷单元。
3.根据权利要求1所述的衬底移除设备，其中，所述初始间隙形成单元包括：
耦接到所述吸附台的下部以支撑所述母衬底的多个举针。
4.根据权利要求3所述的衬底移除设备，其中，所述吸附台包括：
多个举针孔，所述多个举针被插入到所述多个举针孔中；
至少一个推针孔，所述至少一个推针孔在所述吸附台的侧面中形成以允许所述推针被插入到所述推针孔中；
主真空吸附线，所述主真空吸附线以矩阵形状形成以划分所述母衬底的整个区域并且被配置成首要地吸附所述母衬底；以及
副真空吸附线，所述副真空吸附线在由所述主真空吸附线划分的区域当中的与所述母衬底的所述角切割部相邻的区域内以矩阵形状形成，以次要地吸附所述母衬底。
5.根据权利要求1所述的衬底移除设备，其中，所述前吸附型移除单元包括：
下台，所述母衬底被装载到所述下台，所述下台包括：凹槽线，所述翼型O形圈被插入到所述凹槽线；以及多个真空吸附线，所述多个真空吸附线以矩阵形状形成并且沿着所述凹槽线的向内方向定位；
上台，所述上台被布置在所述下台的上方，所述上台包括：凹槽线，所述翼型O形圈被插入到所述凹槽线；以及多个真空吸附线，所述多个真空吸附线以矩阵形状形成并且沿着所述凹槽线的向内方向定位；
分离间隙形成模块，所述分离间隙形成模块被配置成在所述下台与所述上台之间形成间隙；以及
弯曲防止模块，所述弯曲防止模块被配置成移除在所述母衬底中生成的静电。
6.根据权利要求5所述的衬底移除设备，其中，所述上台进一步包括被配置成感测所述母衬底是否沿朝着所述下台的方向分离的分离感测传感器。
7.根据权利要求5所述的衬底移除设备，其中，所述下台进一步包括向所述衬底的后表面施加热的加热单元。
8.根据权利要求5所述的衬底移除设备，其中，每个所述翼型O形圈被弯屈至少两次并且具有形状为的部分，并且每个所述翼型O形圈的一个侧面沿朝着所述母衬底的方向弯屈。
9.根据权利要求8所述的衬底移除设备，其中，所述凹槽线具有台阶，每个所述O形圈的弯屈部被插入到所述台阶。
10.根据权利要求5所述的衬底移除设备，其中，所述翼型O形圈的表面涂覆有聚对二甲苯涂覆材料。
11.一种衬底移除方法，包括：
提供第一辅助衬底、第二辅助衬底和薄板衬底；
通过将所述第一辅助衬底和所述第二辅助衬底附着到所述板衬底来制备母衬底；
对所述母衬底执行显示板制造过程；
将所述母衬底转移到权利要求1中记载的初始间隙形成单元以在所述第一辅助衬底与所述板衬底之间形成初始间隙；
将所述母衬底转移到前吸附型移除单元以分离所述第一辅助衬底；
将所述母衬底转移到所述初始间隙形成单元以在所述第二辅助衬底与所述板衬底之间形成初始间隙；以及
将所述母衬底转移到所述前吸附型移除单元以分离所述第二辅助衬底。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述板衬底包括阵列衬底和滤色器衬底，
其中，
对所述母衬底执行所述显示板制造过程包括：
对所述阵列衬底执行阵列形成过程；
对所述滤色器衬底执行滤色器形成过程；以及
在所述阵列衬底与所述滤色器衬底之间插入有液晶层的情况下附着所述阵列衬底和所述滤色器衬底。
13.根据权利要求11所述的方法，其中，在所述第一辅助衬底或所述第二辅助衬底与所述板衬底之间形成初始间隙包括：
将所述母衬底装载到吸附台；
对在所述母衬底中形成的角切割部成像并且将推针定位成与所述角切割部对应；
控制所述推针向所述母衬底的所述角切割部施压；以及
将间隙刀插入到由所述推针施压于的所述角切割部的衬底接触部以形成初始间隙。
14.根据权利要求11所述的方法，其中，将所述母衬底转移到所述前吸附型移除单元并且分离所述第一辅助衬底或所述第二辅助衬底包括：
将所述母衬底装载到下台上并且使所述母衬底与在所述下台中形成的翼型O形圈接触；
降低上台并且将所述母衬底带到在所述上台中形成的翼型O形圈中；
将在所述下台和所述上台上形成的呈矩阵形状的多个真空吸附线控制在真空状态下，以分离所述第一辅助衬底或所述第二辅助衬底；以及
移除在所述母衬底中生成的静电。
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