CN104199575A - 触控显示装置及其制作方法 - Google Patents

Abstract

触控显示装置包括显示基板、透明凹凸结构层和触控感测层。显示基板包括阵列基板和彩色滤光基板以及夹置于两基板之间的液晶层，彩色滤光基板位于阵列基板上方，具有面对阵列基板的第一表面以及远离阵列基板的且与第一表面相对的第二表面。彩色滤光基板包括设置在第一表面的黑矩阵层。透明凹凸结构层位于彩色滤光基板的第二表面，具有第一凹凸表面。触控感测层位于彩色滤光基板设置有透明凹凸结构层的一侧，触控感测层的边缘在彩色滤光基板的投影位于黑矩阵层在彩色滤光基板的投影范围之内。触控显示装置具有较高的穿透率，可有效地消除触控感测层的镜面反射现象，有利于提升触控显示装置的显示品质。本发明还涉及触控显示装置的制作方法。

Description

触控显示装置及其制作方法

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，且特别是涉及一种触控显示装置及其制作方法。

背景技术

现有的触控显示装置的触控技术主要有外挂式、单玻璃触控式(OneGlass Solution，OGS)、内嵌式(In cell)和外嵌式(On cell)等技术。外挂式的触控显示装置由于触摸屏与显示面板是相互独立设置，产品厚度较大，不能满足一些掌上设备和便携式设备的超薄要求，已经被逐渐淘汰。OGS的触控显示装置是将触控感测层与保护玻璃整合在一起再通过光学胶贴合在显示面板上，具有触控灵敏度高等优点，是目前的主流触控技术之一，主要的缺点是强度不好易碎。In Cell的触控显示装置是将触控感测层集成到显示面板的彩色滤光基板内侧，但In Cell的触控显示装置因结构、制程均比较复杂而导致其生产良率较低。On Cell的触控显示装置是将触控感测层设置在显示面板的彩色滤光基板外侧，也是目前的主流触控技术之一。

图1是现有的一种On Cell的触控显示装置的局部剖面结构示意图。如图1所示，触控显示装置10包括阵列基板11，彩色滤光基板12及夹置于阵列基板11和彩色滤光基板12之间的液晶层14。触控感测层13设置在彩色滤光基板12远离阵列基板11一侧的表面，包括第一触控电极层13a和设于第一触控电极层13a上的第二触控电极层13b。第一触控电极层13a和第二触控电极层13b一般是用氧化铟锡(Indium Tin Oxides，ITO)等透明导电材料制作，因此，触控感测层13不仅制作成本高，阻抗大，而且会导致触控显示装置的穿透率降低，观看者甚至会看到触控感测层13的明显的图形。随着触控显示装置的分辨率的逐渐增大，对触控显示装置的穿透率的要求也越加苛刻，由ITO等透明导电材料制作的上述结构的触控感测层13已无法满足需求。

金属网格(Metal Mesh)技术的触控显示装置是指触控显示装置具有由金属导电材料制成的呈网格状结构的触控感测层，由金属网格制成的触控感测层由于阻抗小、穿透率高、触控灵敏度高和响应速度快而受到重视，是目前用于取代由ITO等透明导电材料制作触控感测层的触控显示装置主要产品之一。

图2是现有的另一种On Cell的触控显示装置的局部俯视结构示意图。图3是图2所示的On Cell的触控显示装置的沿III-III线的局部剖面结构示意图。图3主要绘示了图2所示的触控显示装置20的彩色滤光基板22的相对两侧的结构的局部剖面示意图，触控显示装置20同样包括阵列基板、液晶层等结构，为了图示简洁在此并未绘出。如图2和图3所示，触控显示装置20的彩色滤光基板22包括基板23及设置在基板23面对阵列基板一侧的表面的黑矩阵层24。触控感测层25设置在基板23远离阵列基板一侧的表面，呈网状结构，由导电金属例如纳米银制成。为了不影响触控显示装置20的穿透率和显示品质，触控感测层25边缘一般都制作在黑矩阵层24的轮廓范围内。但是，由于触控感测层25是金属导电材料制成，通常具有较平坦的表面25a，当光线入射至触控感测层25时会出现镜面反射现象，导致观看者从某些角度观看触控显示装置20时会看到间隔的亮区和暗区，出现明暗相间的干涉条纹，影响触控显示装置20的显示品质。

发明内容

本发明的目的在于，提供了一种触控显示装置，其具有较高的穿透率，可有效地消除触控感测层的镜面反射现象，有利于提升触控显示装置的显示品质。

本发明的目的在于，提供了一种触控显示装置的制作方法，其步骤简单，有利于降低制作成本，所制作的触控显示装置具有较高的穿透率，可有效地消除触控感测层的镜面反射现象，有利于提高触控显示装置的显示品质。

本发明解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。

一种触控显示装置，包括显示基板、透明凹凸结构层和触控感测层。显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板以及夹置于两基板之间的液晶层，彩色滤光基板具有面对阵列基板的第一表面以及远离阵列基板的且与第一表面相对的第二表面。彩色滤光基板包括设置在第一表面的黑矩阵层。透明凹凸结构层位于彩色滤光基板的第二表面，透明凹凸结构层具有第一凹凸表面。触控感测层位于彩色滤光基板设置有透明凹凸结构层的一侧，触控感测层的边缘在彩色滤光基板的投影位于黑矩阵层在彩色滤光基板的投影范围之内。

本发明较佳实施例中，上述透明凹凸结构层的材料的折射率为n，0≤n≤50。

本发明较佳实施例中，上述透明凹凸结构层包括透明胶层以及分布在透明胶层中的不同粒径的多个粒子，透明胶层的厚度小于多个粒子的最小粒子直径。

本发明较佳实施例中，上述触控感测层位于透明凹凸结构层上并顺势性的接触第一凹凸表面而具有第二凹凸表面。

本发明较佳实施例中，上述触控感测层设置于彩色滤光基板的第二表面，透明凹凸结构层位于彩色滤光基板的第二表面并覆盖触控感测层。

一种触控显示装置的制作方法，包括提供显示基板，显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板以及夹置于两基板之间的液晶层。彩色滤光基板具有面对阵列基板的第一表面以及远离阵列基板的且与第一表面相对的第二表面，在第一表面设置有黑矩阵层。在显示基板的彩色滤光基板的第二表面形成透明凹凸结构层，透明凹凸结构层具有第一凹凸表面。在彩色滤光基板设置有透明凹凸结构层的一侧设置触控感测层，触控感测层的边缘在彩色滤光基板的投影位于黑矩阵层在彩色滤光基板的投影范围之内。

本发明较佳实施例中，上述形成透明凹凸结构层包括在彩色滤光基板的第二表面形成透明基底层。利用曝光显影蚀刻工艺对透明基底层进行图案化处理，以使透明基底层形成具有第一凹凸表面的透明凹凸结构层。

本发明较佳实施例中，上述形成透明凹凸结构层包括在彩色滤光基板的第二表面喷洒多个不同粒径的粒子并使多个粒子粘附在彩色滤光基板的第二表面。沉积一层液体透明胶层填充在多个粒子的间隙，并使液体透明胶层的厚度小于多个粒子的最小粒子直径。固化液体透明胶层和多个粒子形成具有第一凹凸表面的透明凹凸结构层。

本发明较佳实施例中，上述在彩色滤光基板设置有透明凹凸结构层的一侧设置触控感测层是在形成透明凹凸结构层之前，在彩色滤光基板的第二表面形成触控感测层，透明凹凸结构层形成在彩色滤光基板的第二表面并覆盖触控感测层。

本发明较佳实施例中，上述在彩色滤光基板设置有透明凹凸结构层的一侧设置触控感测层是在形成透明凹凸结构层之后，在透明凹凸结构层上顺势性形成触控感测层，触控感测层接触第一凹凸表面而具有第二凹凸表面。

本发明的有益效果是，本发明的触控显示装置的彩色滤光基板的第一表面设置有黑矩阵层，具有第一凹凸表面的透明凹凸结构层设置于彩色滤光基板的第二表面，触控感测层位于彩色滤光基板设置有透明凹凸结构层的一侧，触控感测层的边缘在彩色滤光基板的投影位于黑矩阵层在彩色滤光基板的投影范围之内，利用具有第一凹凸表面的透明凹凸结构层使入射至触控感测层的入射光经触控感测层反射后向不同方向发散或经透明凹凸结构层折射后向不同方向发散入射至触控感测层，有效地避免了触控感测层的镜面反射现象，从而消弱了触控显示装置中触控感测层的金属表面和触控感测层以外的非金属表面反射光的视觉差别，因此不会看到间隔的亮区和暗区，避免了出现明暗相间的干涉条纹，从而提高了触控显示装置的显示品质。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述触控显示装置及制作方法的其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明。

附图说明

图1是现有的第一种On Cell的触控显示装置的局部剖面结构示意图。

图2是现有的第二种On Cell的触控显示装置的局部俯视结构示意图。

图3是图2所示的On Cell的触控显示装置的沿III-III线的局部剖面结构示意图。

图4是本发明第一实施例的触控显示装置的局部俯视结构示意图。

图5是沿图4的V-V线的剖视图。

图6是本发明第一实施例的触控显示装置的入射到触控显示层的光线路径示意图。

图7是本发明第一实施例的触控显示装置与现有第二种触控显示装置的照度分布对比图。

图8是现有第二种触控显示装置在单位面积内的光照仿真及照度曲线图。

图9是本发明第一实施例的触控显示装置在单位面积内的光照仿真及照度曲线图。

图10是本发明第二实施例的触控显示装置的局部剖面结构示意图。

图11是本发明第三实施例的触控显示装置的局部剖面结构示意图。

图12是本发明第三实施例的触控显示装置的入射到触控显示层的光线路径示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的触控显示装置及其制作方法的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下：

有关本发明的前述及其它技术内容、特点及功效，在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中将可清楚呈现。通过具体实施方式的说明，当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效得以更加深入且具体的了解，然而所附图式仅是提供参考与说明之用，并非用来对本发明加以限制。

图4是本发明第一实施例的触控显示装置的局部俯视结构示意图。图5是沿图4的V-V线的剖视图。请参阅图4和图5，本实施例的触控显示装置100是On Cell型的触控式液晶显示装置(Liquid CrystalDisplay，LCD)，但并不以此为限，例如也可以是触控式主动矩阵有机发光二极管(Active Matrix Organic Light Emitting Diode，AMOLED)显示装置。触控显示装置100包括显示基板110、透明凹凸结构层140以及触控感测层150。

显示基板110例如是包括相对设置的阵列基板111和彩色滤光基板130以及夹置于阵列基板111与彩色滤光基板130之间的液晶层112，阵列基板111上设置有数据线、扫描线、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列和透明保护层等本领域技术人员较为熟知的结构，在此不再赘述。

彩色滤光基板130位于阵列基板111上方，彩色滤光基板130具有第一表面132和与第一表面132相对的第二表面134，第一表面132面对阵列基板111，第二表面134远离阵列基板111。彩色滤光基板130包括设置在第一表面132的黑矩阵层120，黑矩阵层120位于彩色滤光基板130的面向阵列基板111的第一表面132上。黑矩阵层120包括多条第一遮光条121和与多条第一遮光条121相交的多条第二遮光条122。彩色滤光基板130还包括彩色滤光光阻、透明保护层等本领域技术人员较为熟知的结构，在此不再赘述。

透明凹凸结构层140位于彩色滤光基板130远离阵列基板111的第二表面134，覆盖整个第二表面134，并具有凹凸不平的第一凹凸表面140a，也即第一凹凸表面140a为起伏的非平坦表面。本实施例中，透明凹凸结构层140的材料的折射率为n，0≤n≤50。

触控感测层150位于彩色滤光基板130设置有透明凹凸结构层140的一侧。本实施例中，触控感测层150位于透明凹凸结构层140上并位于黑矩阵层120的正上方，并顺势性的与透明凹凸结构层140的第一凹凸表面140a接触，从而触控感测层150具有与透明凹凸结构层140起伏相同的凹凸不平的第二凹凸表面150a，也即第二凹凸表面150a为起伏的非平坦表面。触控感测层150例如是由钼或铝或钼铝的混合层等制成的金属网结构，包括位于多条第一遮光条121正上方的多条第一金属条152和位于多条第二遮光条122正上方的多条第二金属条154，多条第一金属条152和多条第二金属条154互相交叉形成网格结构。本实施例中，触控感测层150的边缘在彩色滤光基板130的投影位于黑矩阵层120在彩色滤光基板130的投影范围之内，也即，每一第一金属条152的边缘在彩色滤光基板130的投影均位于对应正下方的第一遮光条121在彩色滤光基板130的投影范围之内，每一第二金属条154的边缘在彩色滤光基板130的投影均位于对应正下方的第二遮光条122在彩色滤光基板130的投影范围之内。

图6是本发明第一实施例的触控显示装置的入射到触控显示层的光线路径示意图。请参阅图6，由于触控感测层150顺势性地形成在透明凹凸结构层140的第一凹凸表面140a，触控感测层150具有与透明凹凸结构层140起伏相同的凹凸不平的第二凹凸表面150a，当光线入射至触控感测层150的表面时，入射光在第二凹凸表面150a反射后向不同方向发散，形成漫反射，有效地避免了触控感测层150的镜面反射现象，从而消弱了触控显示装置100中触控感测层150的金属表面和触控感测层150以外的非金属表面反射光的视觉差别，因此不会看到间隔的亮区和暗区，避免了出现明暗相间的干涉条纹，从而提高了触控显示装置100的显示品质。

另外，触控感测层150设置在黑矩阵层120的正上方并且触控感测层150的边缘在彩色滤光基板130的投影位于黑矩阵层120在彩色滤光基板130的投影范围之内，触控感测层150不会降低穿透率，从而触控显示装置100具有较高的穿透率。图7是具有本发明第一实施例的触控显示装置与现有的第二种触控显示装置的照度分布对比图。如图7所示，曲线①是本发明第一实施例的触控显示装置100的照度随接收面位置的变化曲线，曲线②是如图2所示的触控显示装置20的照度随接收面位置的变化曲线。图8是如图2所示的触控显示装置在单位面积内的光照仿真及照度曲线图。图9是本发明第一实施例的触控显示装置在单位面积内的光照仿真及照度曲线图。由图7的曲线②和图8可知，如图2所示的触控显示装置20的照度随接收面位置的不同，曲线呈现规律性的波动，照度呈规律性的增大和减小，也就是说，如图2所示的触控显示装置20的触控感测层23具有平坦表面23a，因此触控显示装置20显示有明显的明暗相间的干涉条纹。由图7的曲线①和图9可知，本发明第一实施例的触控显示装置100的照度随接收面位置的不同，曲线较为平坦，照度变化不大，也就是说，具有第一凹凸表面140a的透明凹凸结构层140和具有第二凹凸表面150a的触控感测层150的触控显示装置100有效避免了明暗相间的干涉条纹的出现。

以下将对触控显示装置100的制作方法作进一步说明。

首先，制作显示基板110。本实施例中，显示基板110包括相对设置的阵列基板111和彩色滤光基板130以及夹设于阵列基板111和彩色滤光基板130之间的液晶层112，但并不以此为限。阵列基板111的制作步骤包括数据线、扫描线、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列和透明保护层等结构的制作步骤，在此不再赘述。

彩色滤光基板130设置在阵列基板111上方，本实施例中，彩色滤光基板130设置在液晶层112上。彩色滤光基板130具有面对阵列基板111的第一表面132以及远离阵列基板111的且与第一表面132相对的第二表面134。彩色滤光基板130的制作包括在彩色滤光基板130的第一表面132形成黑矩阵层120。黑矩阵层120包括多条第一遮光条121和与多条第一遮光条121相交的多条第二遮光条122。彩色滤光基板130的制作步骤还包括彩色滤光光阻、透明保护层等结构的制作步骤，在此不再赘述。

然后，在显示基板110的彩色滤光基板130的第二表面134形成透明凹凸结构层140。具体的，先在彩色滤光基板130的第二表面134形成透明基底层，透明基底层的材料例如是由有机树脂或者氮化硅(SiNx)形成的防护(Overcoat)层等。再利用曝光显影蚀刻工艺对透明基底层进行图案化处理，以使透明基底层形成透明凹凸结构层140，从而在透明基底层远离彩色滤光基板130一侧的表面形成凹凸不平的第一凹凸表面140a，透明凹凸结构层140的第一凹凸表面140a根据实际需要控制凸起和凹陷的大小，并且凸起位置与大小随机分布。本实施例中，透明凹凸结构层140的材料的折射率为n，0≤n≤50。

接着，在透明凹凸结构层140的第一凹凸表面140a上顺势性的形成一层金属膜层，并使金属膜层具有与透明凹凸结构层140相似的凹凸表面，利用曝光显影蚀刻工艺将金属膜层形成具有网格图案的触控感测层150，触控感测层150是由导电金属材料例如钼、铝或钼铝混合层等制成。触控感测层150接触第一凹凸表面140a并具有与透明凹凸结构层140起伏相同的凹凸不平的第二凹凸表面150a。本实施例中，触控感测层150形成在对应黑矩阵层120的正上方，包括位于多条第一遮光条121正上方的多条第一金属条152和位于多条第二遮光条122正上方的多条第二金属条154，多条第一金属条152和多条第二金属条154互相交叉形成网格结构，并且触控感测层150的边缘在彩色滤光基板130的投影位于黑矩阵层120在彩色滤光基板130的投影范围之内，但并不以此为限。本实施例中，每一第一金属条152的边缘在彩色滤光基板130的投影均位于对应正下方的第一遮光条121的在彩色滤光基板130的投影范围内，每一第二金属条154的边缘在彩色滤光基板130的投影均位于对应正下方的第二遮光条122的在彩色滤光基板130的投影范围内。

此外，在制作完成触控感测层150后还包括其他结构例如保护层的制作、贴附偏光片等，其为本领域技术人员较为熟知，在此不再赘述。

本发明的触控显示装置100的触控感测层150设置在彩色滤光基板130的远离阵列基板111的第二表面134，只需在显示面板原有的生产工艺上加以调整即可，即在显示基板110制作完成后在彩色滤光基板130的第二表面134增加一层具有第一凹凸表面140a的透明凹凸结构层140和顺势性的在透明凹凸结构层140形成具有第二凹凸表面150a的触控感测层150，阵列基板111和彩色滤光基板130兼容显示面板原有的技术，触控感测层150使用金属导电材料，金属导电材料的阻抗小、响应速度快，并且有利于降低生产成本。

图10是本发明第二实施例的触控显示装置的局部剖面结构示意图。图10中触控显示装置200的剖面位置与第一实施例的触控显示装置100的剖面位置相同，请参阅图10，本实施例的触控显示装置200与第一实施例的触控显示装置100结构大致相同，触控显示装置200同样包括显示基板210、透明凹凸结构层240以及触控感测层250，显示基板210例如是包括阵列基板211、彩色滤光基板230以及夹置于阵列基板211与彩色滤光基板230之间的液晶层212。显示基板210和触控感测层250的结构和制作方法与第一实施例相同，在此不再赘述。二者的主要区别在于本实施例的触控显示装置200的透明凹凸结构层240的具体结构和制作方法不同于触控显示装置100的透明凹凸结构层140的制作方法。

透明凹凸结构层240位于显示基板110的彩色滤光基板230远离阵列基板211的第二表面234，包括覆盖整个第二表面234的透明胶层242以及分布在透明胶层242中的不同粒径的多个粒子241，由于不同粒径的多个粒子241随机分布在整个透明胶层242中且透明胶层242的厚度小于多个粒子241的最小粒子直径，透明凹凸结构层240同样具有凹凸不平的第一凹凸表面240a。

以下是透明凹凸结构层240的制作方法，具体的，在彩色滤光基板230的第二表面234喷洒不同粒径的带有预固化层的多个粒子241并使粒子241铺满整个第二表面234，带预固化层的粒子241是指将粒子241在规定温度和压力下预先将粒子241的外表面固化到一定程度，粒子241例如是由透明胶形成，加热后能使粒子241的外表面(预固化层)软化然后粘附在彩色滤光基板230的第二表面234，之后在所有不同粒径的粒子241的间隙处沉积一层液体透明胶层242，并使液体透明胶层242的厚度小于多个粒子241中最小的粒子的直径。液体透明胶层242和不同粒径的多个粒子241共同固化后形成透明凹凸结构层240。液体透明胶层242的材料可以与不同粒径的多个粒子241的材料相同，两者也可以使用折射率不同的透明材料。由于透明凹凸结构层240中具有不同粒径的粒子241，所形成的透明凹凸结构层240同样具有凹凸不平的第一凹凸表面240a。

本实施例的触控显示装置200由于触控感测层250顺势性地形成在透明凹凸结构层240的第一凹凸表面240a，触控感测层250具有与透明凹凸结构层240起伏相同的凹凸不平的第二凹凸表面250a，当光线入射至触控感测层250的第二凹凸表面250a时，入射光在第二凹凸表面250a反射后向不同方向发散，形成漫反射，有效地避免了触控感测层250的镜面反射现象，从而消弱了触控显示装置200中触控感测层250的金属表面和触控感测层250以外的非金属表面反射光的视觉差别，因此不会看到间隔的亮区和暗区，避免了出现明暗相间的干涉条纹，从而提高了触控显示装置200的显示品质。

图11是本发明第三实施例的触控显示装置的局部剖面结构示意图。图11中触控显示装置300的剖面位置与第一实施例的触控显示装置100的剖面位置相同，请参阅图11，触控显示装置300包括显示基板310、触控感测层340以及透明凹凸结构层350。

本实施例的触控显示装置300的结构和制作方法与第一实施例的触控显示装置100的结构和制作方法大致相同，二者的不同之处在于，本实施例的触控显示装置300的触控感测层340形成在透明凹凸结构层350之前，即触控感测层340形成在彩色滤光基板330的第二表面324，透明凹凸结构层350设置在彩色滤光基板330的第二表面324并覆盖触控感测层340。

具体的，触控感测层340位于显示基板310的彩色滤光基板330远离阵列基板311的第二表面334并位于黑矩阵320的正上方。触控感测层340例如是由钼、铝或钼铝混合层等制成的金属网结构，包括位于多条第一遮光条321正上方的多条第一金属条342和位于多条第二遮光条322正上方的多条第二金属条344，多条第一金属条342和多条第二金属条344互相交叉形成网格结构。本实施例中，触控感测层340的边缘在彩色滤光基板330的投影位于黑矩阵层320在彩色滤光基板330的投影范围之内，但并不以此为限。本实施例中，每一第一金属条342的边缘在彩色滤光基板330的投影均位于对应正下方的第一遮光条321在彩色滤光基板330的投影范围内，每一第二金属条344的边缘在彩色滤光基板330的投影均位于对应正下方的第二遮光条322在彩色滤光基板330的投影范围内。

透明凹凸结构层350位于彩色滤光基板330的第二表面334并覆盖触控感测层340，具有凹凸不平的第一凹凸表面350a，也即第一凹凸表面350a为起伏的非平坦表面。本实施例中，透明凹凸结构层350的材料的折射率为n，0≤n≤50。

图12是本发明第三实施例的触控显示装置的入射到触控显示层的光线路径示意图。请参阅图12，触控显示装置300由于在触控感测层340的表面340a上覆盖一层透明凹凸结构层350，由于透明凹凸结构层350具有凹凸不平的第一凹凸表面350a，并且透明凹凸结构层350的材料的折射率为n，0≤n≤50。当平行的光线入射至触控感测层340区域时，先经过透明凹凸结构层350的第一凹凸表面350a后发生折射，入射光折射后入射至触控感测层340的表面340a反射，反射光再次经过透明凹凸结构层350的第一凹凸表面350a折射后向不同方向发散，透明凹凸结构层350的凹凸表面350a会将入射光转化为漫反射，虽然触控感测层340的表面340a比较平坦，但透明凹凸结构层350能有效地避免了触控感测层340的镜面反射现象，从而消弱了触控显示装置300中触控感测层340的金属表面和触控感测层340以外的非金属表面反射光的视觉差别，因此不会看到间隔的亮区和暗区，避免了出现明暗相间的干涉条纹，从而提高了触控显示装置300的显示品质。

以下将对触控显示装置300的制作方法作进一步说明。

首先，制作显示基板310。本实施例中，显示基板310包括阵列基板311、液晶层312和彩色滤光基板330，但并不以此为限。阵列基板311的制作步骤包括数据线、扫描线、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列和透明保护层等结构的制作步骤，在此不再赘述。液晶层312设置在阵列基板311上，并位于阵列基板311和后续形成的彩色滤光基板330之间。

彩色滤光基板330设置在阵列基板311上，彩色滤光基板330具有面对阵列基板311的第一表面332以及远离阵列基板311的且与第一表面332相对的第二表面334。彩色滤光基板330的制作包括在彩色滤光基板330的第一表面332形成黑矩阵层320，黑矩阵层320包括多条第一遮光条321和与多条第一遮光条321相交的多条第二遮光条322。彩色滤光基板330的制作步骤包括彩色滤光光阻、透明保护层等结构的制作步骤，在此不再赘述。

然后，在显示基板310的彩色滤光基板330的第二表面334形成具有网格图案的触控感测层340，触控感测层340是由导电金属材料例如钼、铝或钼铝混合层等制成。本实施例中，触控感测层340形成在对应黑矩阵层320的正上方，包括位于多条第一遮光条321正上方的多条第一金属条342和位于多条第二遮光条322正上方的多条第二金属条344，多条第一金属条342和多条第二金属条344互相交叉形成网格结构，并将触控感测层340的边缘在彩色滤光基板330的投影位于黑矩阵层320在彩色滤光基板330的投影范围之内，但并不以此为限。本实施例中，每一第一金属条352的边缘在彩色滤光基板330的投影均位于对应正下方的第一遮光条321在彩色滤光基板330的投影范围内，每一第二金属条354的边缘在彩色滤光基板330的投影均位于对应正下方的第二遮光条322在彩色滤光基板330的投影范围内。

接着，在彩色滤光基板330的第二表面334形成透明凹凸结构层350并覆盖触控感测层340。具体的，先在彩色滤光基板330的第二表面334和触控感测层340上形成透明基底层，透明基底层的材料例如是由有机树脂或者氮化硅(SiNx)形成的防护(Overcoat)层等。再利用曝光显影蚀刻工艺对透明基底层进行图案化处理，以使透明基底层形成透明凹凸结构层350，从而在透明基底层远离彩色滤光基板330一侧的表面形成凹凸不平的第一凹凸表面350a，透明凹凸结构层350的第一凹凸表面350a根据实际需要控制凸起和凹陷的大小，并且凸起位置与大小随机分布。

此外，在制作完成透明凹凸结构层350后还包括其他结构例如保护层的制作、贴附偏光片等，其为本领域技术人员较为熟知，在此不再赘述。

本发明的触控显示装置300的触控感测层340集成在显示基板310的彩色滤光基板330上，只需在显示面板原有的生产工艺上加以调整即可，即在显示基板310制作完成后在彩色滤光基板330的第二表面334增加一层触控感测层340和具有第一凹凸表面350a的透明凹凸结构层350即可，阵列基板311和彩色滤光基板130兼容显示面板原有的技术。触控感测层340使用金属导电材料，金属导电材料的阻抗小、响应速度快，并且有利于降低生产本。

以上对本发明所提供的触控显示装置及其制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种触控显示装置，其特征在于，其包括：

显示基板，该显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板以及夹置于两基板之间的液晶层，该彩色滤光基板具有面对该阵列基板的第一表面以及远离该阵列基板的且与该第一表面相对的第二表面，该彩色滤光基板包括设置在该第一表面的黑矩阵层；

透明凹凸结构层，位于该彩色滤光基板的第二表面，该透明凹凸结构层具有第一凹凸表面；以及

触控感测层，位于该彩色滤光基板设置有该透明凹凸结构层的一侧，该触控感测层的边缘在该彩色滤光基板的投影位于该黑矩阵层在该彩色滤光基板的投影范围之内。

2.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该透明凹凸结构层的材料的折射率为n，0≤n≤50。

3.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该透明凹凸结构层包括透明胶层以及分布在该透明胶层中的不同粒径的多个粒子，该透明胶层的厚度小于该多个粒子的最小粒子直径。

4.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该触控感测层位于该透明凹凸结构层上并顺势性的接触该第一凹凸表面而具有第二凹凸表面。

5.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该触控感测层设置于该彩色滤光基板的该第二表面，该透明凹凸结构层位于该彩色滤光基板的该第二表面并覆盖该触控感测层。

6.一种触控显示装置的制作方法，其特征在于，其包括：

提供显示基板，该显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板以及夹置于两基板之间的液晶层，

该彩色滤光基板具有面对该阵列基板的第一表面以及远离该阵列基板的且与该第一表面相对的第二表面，在该第一表面设置有黑矩阵层；

在该显示基板的该彩色滤光基板的该第二表面形成透明凹凸结构层，该透明凹凸结构层具有第一凹凸表面；以及

在该彩色滤光基板设置有该透明凹凸结构层的一侧设置触控感测层，该触控感测层的边缘在该彩色滤光基板的投影位于该黑矩阵层在该彩色滤光基板的投影范围之内。

7.如权利要求6所述的触控显示装置的制作方法，其特征在于，形成该透明凹凸结构层包括：在该彩色滤光基板的该第二表面形成透明基底层；以及利用曝光显影蚀刻工艺对该透明基底层进行图案化处理，以使该透明基底层形成具有该第一凹凸表面的该透明凹凸结构层。

8.如权利要求6所述的触控显示装置的制作方法，其特征在于，形成该透明凹凸结构层包括：在该彩色滤光基板的该第二表面喷洒多个不同粒径的粒子并使该多个粒子粘附在该彩色滤光基板的该第二表面；沉积一层液体透明胶层填充在该多个粒子的间隙，并使该液体透明胶层的厚度小于该多个粒子的最小粒子直径；以及固化该液体透明胶层和该多个粒子形成具有该第一凹凸表面的该透明凹凸结构层。

9.如权利要求6所述的触控显示装置的制作方法，其特征在于，在该彩色滤光基板设置有该透明凹凸结构层的一侧设置该触控感测层是在形成该透明凹凸结构层之前，在该彩色滤光基板的该第二表面形成该触控感测层，该透明凹凸结构层形成在该彩色滤光基板的该第二表面并覆盖该触控感测层。

10.如权利要求6所述的触控显示装置的制作方法，其特征在于，在该彩色滤光基板设置有该透明凹凸结构层的一侧设置该触控感测层是在形成该透明凹凸结构层之后，在该透明凹凸结构层上顺势性形成该触控感测层，该触控感测层接触该第一凹凸表面而具有第二凹凸表面。