CN104119836A - 一种氧化硅抛光磨料 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种氧化硅抛光磨料，包括以下组分，各组分重量百分比：氧化硅30～40％；钾长石20～30％；棕刚玉20～30％；高岭土10～20％；石英1～5％；纳米陶瓷粉透明液体5～15％；各组分重量百分比总和为100％。本发明的氧化硅抛光磨料可以同时得到硬度高、尺寸稳定性好、致密性高、光洁度高、冷热疲劳性好、断裂韧性好、抗蠕变性能和耐磨性能优异，其使用寿命比现有技术的抛光磨料长5～6倍，有效克服了现有技术中抛磨块存在抛光质量差、耐磨度差等缺点。
Description
技术领域
本发明属于抛磨材料技术领域，涉及一种氧化硅抛光磨料。
背景技术
现有技术中，抛磨块是以刚玉或碳化硅等粉末为磨料，用烧结或浇注的方法制造的小型抛光磨具，主要用于抛光磨削各种金属或非金属物品的表面。用于金属抛光的抛磨块通常是使用高温烧结棕刚玉制造的抛磨块，由于现有工艺制作方法的影响，现有的抛磨块存在抛光质量差、耐磨度差等缺点，使用效果不够理想，因此很多高要求的抛光、磨削处理仍然是采用进口的抛磨块，这样大大提高了加工的生产成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题就是有效提高抛磨块的耐磨度，并且使抛光磨料的抛光、磨削处理效果符合高要求而提供的一种氧化硅抛光磨料。
为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种氧化硅抛光磨料，包括以下组分，各组分重量百分比为：
各组分重量百分比总和为100％，
其中，所述纳米陶瓷粉透明液体的固含量为20～50％。
一般情况下，抛光磨料采用氧化硅、钾长石、棕刚玉和高岭土为主要原料进行烧结而成，而且高岭土的加入量太多，达到质量百分比30～50％甚至更多，虽然成本低，但是直接导致抛光磨料的硬度下降，耐磨度明显不足，使抛光磨料的使用寿命大大降低。
本发明大大降低高岭土的加入量，降至10～20％，并提高氧化硅的含量，达到30～40％，同时加入1～5％石英和5～15％纳米陶瓷粉透明液体，纳米陶瓷粉透明液体为无色透明，固含量为20～50％。该纳米陶瓷粉液体使用的是5～10nm的陶瓷粉，该陶瓷粉是将粒径稍大的纳米陶瓷粉经过层层深加工筛选出来的，具有明显的纳米蓝相。纳米陶瓷粉透明液体与其他配料搅拌均匀，可以大大提高抛光磨料的硬度、尺寸稳定性、致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和耐磨性能，混合均匀的配料通过球磨机深度粉碎和滚动成型而成，很好的保持抛光磨料硬度高、耐磨度高等优异性能，避免传统烧结工艺得到的抛光磨料脆性高的缺点。
优选的，各组分重量百分比为：
优选的，各组分重量百分比为：
当氧化硅的含量增多时，抛光磨料的硬度明显提高。
优选的，各组分重量百分比为：
当纳米陶瓷粉透明液体的含量增多时，抛光磨料中各种成分明显分布更加均匀，并且其致密度明显增加，耐磨度明显大大提高。
优选的，各组分重量百分比为：
随着纳米陶瓷粉透明液体的含量加入更多时，成型时间需要适当延长。
优选的，各组分重量百分比为：
合适的配比使得到的抛光磨料综合性能达到较为理想的效果，而且球磨机滚动成型的加工时间比较短，达到低成本，符合经济效应。
与现有技术相比，本发明的优点是：该抛光磨料硬度高、尺寸稳定性好、致密性高、光洁度高、冷热疲劳性好、断裂韧性好、抗蠕变性能和耐磨性能优异，其使用寿命比现有技术的抛光磨料长5～6倍。
下面结合具体实施方式对本发明作进一步描述：
具体实施方式
本发明一种氧化硅抛光磨料实施例1，包括以下组分，各组分重量百分比为：
其中，所述纳米陶瓷粉透明液体的固含量为20～50％。
本发明一种氧化硅抛光磨料实施例2，包括以下组分，各组分重量百分比为：
本发明一种氧化硅抛光磨料实施例3，包括以下组分，各组分重量百分比为：
本发明一种氧化硅抛光磨料实施例4，包括以下组分，各组分重量百分比为：
本发明一种氧化硅抛光磨料实施例5，包括以下组分，各组分重量百分比为：
对实施例1～5得到的氧化硅抛光磨料产物的抗压强度和高温蠕变值等进行检测，同时与现有技术对比例进行比较，检测结果如表1所示。
表1
| 抗压强度(MPa) | 高温蠕变值(％) | |
| 实施例1 | 30 | 0.5 |
| 实施例2 | 26 | 0.4 |
| 实施例3 | 27 | 0.4 |
| 实施例4 | 29 | 0.6 |
| 实施例5 | 30 | 0.3 |
| 对比例 | 20 | 0.8 |
测试结果表明，本发明实施例1～5得到的氧化硅抛光磨料产物均明显比现有技术的抛光磨料性能优异，可以同时得到高抗压强度和高温蠕变值的优异性能，另外，保证硬度高、尺寸稳定性好、致密性高、光洁度高、冷热疲劳性好、断裂韧性好、抗蠕变性能和耐磨性能等良好的综合性能，其使用寿命比现有技术的抛光磨料长5～6倍。
以上所述仅为本发明的具体实施例，但本发明的技术特征并不局限于此，任何本领域的技术人员在本发明的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本发明的专利范围之中。
Claims (6)
1.一种氧化硅抛光磨料，其特征在于：包括以下组分，各组分重量百分比为：
各组分重量百分比总和为100％，
其中，所述纳米陶瓷粉透明液体的固含量为20～50％。
2.如权利要求1所述的一种氧化硅抛光磨料，其特征在于：各组分重量百分比为：
3.如权利要求1所述的一种氧化硅抛光磨料，其特征在于：各组分重量百分比为：
4.如权利要求1所述的一种氧化硅抛光磨料，其特征在于：各组分重量百分比为：
5.如权利要求1所述的一种氧化硅抛光磨料，其特征在于：各组分重量百分比为：
6.如权利要求1所述的一种氧化硅抛光磨料，其特征在于：各组分重量百分比为：
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