CN104105545B - 烯烃寡聚化催化剂的制备 - Google Patents

烯烃寡聚化催化剂的制备 Download PDF

Info

Publication number
CN104105545B
CN104105545B CN201280069248.2A CN201280069248A CN104105545B CN 104105545 B CN104105545 B CN 104105545B CN 201280069248 A CN201280069248 A CN 201280069248A CN 104105545 B CN104105545 B CN 104105545B
Authority
CN
China
Prior art keywords
group
alternatively
composition
compound
iii
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201280069248.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104105545A (zh
Inventor
O·叙多拉
R·努森
E·巴拉尔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chevron Phillips Chemical Co LLC
Original Assignee
Chevron Phillips Chemical Co LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chevron Phillips Chemical Co LLC filed Critical Chevron Phillips Chemical Co LLC
Publication of CN104105545A publication Critical patent/CN104105545A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104105545B publication Critical patent/CN104105545B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/04—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing carboxylic acids or their salts
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/22—Organic complexes
    • B01J31/2204—Organic complexes the ligands containing oxygen or sulfur as complexing atoms
    • B01J31/2208—Oxygen, e.g. acetylacetonates
    • B01J31/2226—Anionic ligands, i.e. the overall ligand carries at least one formal negative charge
    • B01J31/223—At least two oxygen atoms present in one at least bidentate or bridging ligand
    • B01J31/2239—Bridging ligands, e.g. OAc in Cr2(OAc)4, Pt4(OAc)8 or dicarboxylate ligands
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2231/00—Catalytic reactions performed with catalysts classified in B01J31/00
    • B01J2231/20—Olefin oligomerisation or telomerisation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00—Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/60—Complexes comprising metals of Group VI (VIA or VIB) as the central metal
    • B01J2531/62—Chromium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/12—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing organo-metallic compounds or metal hydrides
    • B01J31/14—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing organo-metallic compounds or metal hydrides of aluminium or boron
    • B01J31/143—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing organo-metallic compounds or metal hydrides of aluminium or boron of aluminium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/18—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms
    • B01J31/1805—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms the ligands containing nitrogen
    • B01J31/181—Cyclic ligands, including e.g. non-condensed polycyclic ligands, comprising at least one complexing nitrogen atom as ring member, e.g. pyridine
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/22—Organic complexes
    • B01J31/2204—Organic complexes the ligands containing oxygen or sulfur as complexing atoms
    • B01J31/2208—Oxygen, e.g. acetylacetonates
    • B01J31/2226—Anionic ligands, i.e. the overall ligand carries at least one formal negative charge

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

本公开提供新的催化剂体系以及制备和使用用于生成三聚产物的催化剂体系的新方法。在一个方面中，新的催化剂体系包括通过无水复分解制备的羧酸铬。在另一个方面中，催化剂体系包括通过无水复分解制备的羧酸铬和金属吡咯化合物。催化剂体系向烯烃三聚作用方法给予改良的性能和/或减少的催化剂体系成本。

Description

烯烃寡聚化催化剂的制备
技术领域
本公开涉及催化剂体系，用于制备催化剂体系的方法，以及使用催化剂体系制备三聚产物的方法。
背景技术
乙烯三聚作用产生1-己烯构成用于这个α烯烃的选择性制备的商业上有意义的方法，反过来，该方法对于制备一系列聚烯烃，通常作为具有乙烯的共聚单体是有用的。一个广泛采用的乙烯三聚作用催化剂体系包括羧酸铬、吡咯化合物和烷基金属。例如，一个乙烯三聚作用催化剂体系包括三(2-己酸乙酯)铬(III)、2,5-二甲基吡咯、三乙基铝、和二乙基氯化铝。
通常，制备活性催化剂体系的任何方法可对用于乙烯三聚作用催化剂体系的羧酸铬提出挑战。商业的2-乙基己酸铬(III)质量中的批与批之间的变化，和催化剂体系性能中的伴随的不一致性可对乙烯三聚作用催化剂体系生产率和选择性具有重大影响。因此，将有用的是，发现和研发新的催化剂体系，用于制备催化剂体系的新方法，以及使用催化剂体系制备三聚产物的新的方法，所述方法可提供更大的效率和成本效力。在一个方面中，需要新的催化剂体系和制备催化剂体系的方法，其可减少催化剂体系中的昂贵的活化剂的量，或可降低成本或增加制备催化剂体系中使用的铬化合物的效率。
发明内容
本公开提供组合物，用于产生催化剂体系的方法，和/或利用催化剂体系三聚化烯烃的方法。
在方面中，组合物可包括C3-C25羧酸铬(III)组合物，其特点是，具有υasym(CO2)红外吸收峰处于υsym(CO2)红外峰的110cm-1内的KBr靶丸红外光谱，并具有大于或等于3：1的处于1516±15cm-1的υasym(CO2)红外吸收峰与位于700±50cm-1的红外吸收峰的红外吸收峰高度比。在另一个方面中，组合物可包括C3-C25羧酸铬(III)组合物，其特点是，当将羧酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与单核乙酸铬(III)理论模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点在1.3埃至4埃的r范围进行比较时，其具有至少0.6的拟合良好度检验值R2。在还有的另一方面中，组合物可包括可通过方法产生的C3-C25羧酸铬(III)组合物，其中所述方法包括在基本上无水和基本上无酸的条件下，接触1)具有式CrX3Lλ的铬(III)前体，其中每一个X各自是卤基，每一个L各自是C2-C10乙醚、C2-C10硫醚、C2-C5腈、C1-C30胺、或C3-C30膦，或其任何组合，和λ的范围为从0至7，2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，和3)第一溶剂，以形成羧酸铬(III)。催化剂体系可进一步包括吡咯化合物、金属烃基化合物、和可选地，含卤素化合物。
在方面中，可将组合物用作催化剂体系。在方面中，制备催化剂体系的方法可包括接触C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、金属烃基化合物，和任选地，含卤素化合物。在某些实施方式中，制备催化剂体系的方法可进一步包括在不饱和的有机化合物的存在下，接触C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、金属烃基化合物，和任选的，含卤素化合物中的两种或更多。在实施方式中，不饱和有机化合物可包括C2至C20脂肪族烃烯烃、C6至C20芳烃、或其任何组合。在某些实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括同时地接触羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、和金属烃基化合物。在其他实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括在使吡咯化合物与羧酸铬(III)组合物接触之前，接触吡咯化合物和金属烃基化合物(全部或其部分)，以形成吡咯/金属烃基化合物混合物。
在其中催化剂体系包括含卤素化合物的实施方式中，含卤素化合物可以是，包括，或基本上由无机金属卤化物、烃基金属卤化物、卤化烃、或其任何组合组成。在某些实施方式中，其中催化剂体系包括含卤素化合物，包含含卤素化合物的组合物可包括，或基本上由(ⅰ)无机金属卤化物，(ⅱ)烃基金属卤化物，(ⅲ)无机金属卤化物和非卤化物金属烃基化合物的混合物，或(ⅳ)烃基金属卤化物和非卤化物金属烃基化合物的混合物组成。在其中催化剂体系包括金属卤化物的实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括在使羧酸铬(III)组合物与金属烃基化合物接触之前，使羧酸铬(III)组合物与吡咯化合物或金属卤化物中的至少一种接触；可替换地，方法可包括在使羧酸铬(III)组合物与金属烃基化合物接触之前，使金属烃基化合物与吡咯化合物或金属卤化物中的至少一种接触；或可替换地，方法可包括在接触含有金属卤化物的组合物之前，使羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、或包括羧酸铬(III)组合物和吡咯化合物的组合物与非卤化物金属烃基化合物接触。在其中催化剂体系包括含卤素化合物的另一个实施方式中，可在接触含有含卤素化合物的组合物之前，使C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、或包括C3-C25羧酸铬(III)组合物和吡咯化合物的组合物与非卤化物金属烃基化合物接触；或可替换地，在使吡咯化合物或C3-C25羧酸铬(III)组合物与包含含卤素化合物的组合物接触之前，接触C3-C25羧酸铬(III)组合物和吡咯化合物。在其中催化剂体系包括含卤素化合物的实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括(1)接触吡咯化合物、包含含卤素化合物的组合物，和任选地，C3-C25羧酸铬(III)组合物，以形成混合物，和(2)使混合物与非卤化物金属烃基化合物接触。在其中催化剂体系包括含卤素化合物的实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括(1)接触吡咯化合物、金属烃基化合物，和任选地，含卤素化合物，以形成混合物，和(2)使混合物与C3-C25羧酸铬(III)组合物接触。
在另一个方面中，催化剂体系可被用于三聚化烯烃的方法。在实施方式中，利用包括C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、金属烃基化合物，和任选地，含卤素化合物的催化剂体系三聚化烯烃的方法，该方法可包括接触包括，或基本上由乙烯组成的烯烃、C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、金属烃基化合物和任选的含卤素化合物，以产生三聚产物。在实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括a)接触C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、金属烃基化合物，和任选地含卤素化合物，以形成催化剂体系，b)使催化剂体系与烯烃接触；和c)在三聚作用条件下产生烯烃三聚产物。在另一个实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括a)接触C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、金属烃基化合物，和任选地含卤素化合物，以形成催化剂体系，b)使催化剂体系与包括，或基本上由乙烯组成的烯烃接触；和c)在三聚作用条件下产生烯烃三聚产物，其中在接触烯烃之前，没有接触C3-C25羧酸铬(III)组合物和金属烃基化合物；可替换地，其中在使金属烃基化合物或C3-C25羧酸铬(III)组合物与烯烃接触之前，没有接触C3-C25羧酸铬(III)组合物和金属烃基化合物；或可替换地，C3-C25羧酸铬(III)组合物和金属烃基化合物基本上同时地接触乙烯。在其中烯烃包括乙烯的实施方式中，可在包括乙烯分压范围为从20psi至2500psi的三聚作用条件下形成三聚产物。
附图说明
图1显示来自DMP的标准摩尔百分比的摩尔百分比2,5-二甲基吡咯(DMP)的百分比偏差，对所得1-己烯生产率中的百分比差异的图，图示传统的三(2-己酸乙酯)铬(III)[Cr(EH)3]基础的催化剂体系的乙烯寡聚化催化性能的变化。
图2显示来自TEA/DEAC组合的标准摩尔百分比的摩尔百分比三乙基铝(TEA)和二乙基氯化铝(DEAC)组合的百分比偏差，对所得1-己烯生产率中的百分比差异的图，图示传统的三(2-己酸乙酯)铬(III)[Cr(EH)3]基础的催化剂体系的乙烯寡聚化催化性能的变化，其中将TEA/DEAC摩尔比保持在11：8不变。
图3是本公开的分离的过渡金属羧酸盐(2-乙基己酸铬(III))的图。
图4是分离的商业可得的过渡金属羧酸盐(2-乙基己酸铬(III))的图。
图5是第一个商业可得的2-乙基己酸铬(III)组合物的IR光谱。
图6提供第一个商业可得的2-乙基己酸铬(III)组合物的IR光谱的放大的部分，2000cm-1至1000cm-1。
图7提供第二个商业可得的2-乙基己酸铬(III)组合物的IR光谱。
图8提供第二个商业可得的2-乙基己酸铬(III)组合物的IR光谱的放大的部分，2000cm-1至1000cm-1。
图9提供根据此处公开的方法产生的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约3：1。
图10提供根据此处公开的方法生产的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的放大部分，2000cm-1至1000cm-1，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约3：1。
图11提供根据此处公开的方法产生的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约3.1：1。
图12提供根据此处公开的方法产生的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的放大部分，2000cm-1至1000cm-1，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约3：1。
图13提供根据此处公开的方法产生的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约3.3：1。
图14提供根据此处公开的方法产生的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的放大部分，2000cm-1至1000cm-1，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约3.3：1。
图15提供根据此处公开的方法产生的基本上无钠的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约3.3：1。
图16提供根据此处公开的方法产生的基本上无钠的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的放大部分，2000cm-1至1000cm-1，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约3.3：1。
图17提供根据此处公开的方法产生的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约4：1。
图18提供根据此处公开的方法产生的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的放大部分，2000cm-1至1000cm-1，其中2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3摩尔比是大约4：1。
图19提供根据此处描述的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与第一个商业可得的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的比较。
图20提供根据此处描述的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与文献报道的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的比较。
图21提供根据此处描述的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与理论上单核醋酸铬(III)模型的最佳计算的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的比较。
图22提供商业可得的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与理论上单核醋酸铬(III)模型的最佳计算的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的比较。
图23提供文献制备的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与理论上单核醋酸铬(III)模型的最佳计算的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的比较。
发明详述
根据本公开的多个方面和实施方式，提供了新的羧酸铬组合物、制备羧酸铬组合物的新方法、新催化剂体系、用于制备新的催化剂体系的方法、和应用新的催化剂体系制备烯烃寡聚化产物的方法。在一个方面中，此处描述的和根据多个公开的实施方式制备的新的三聚作用催化剂体系可获得良好的催化剂体系活性，同时利用相对更少量的烷基铝和类似的活化剂。
根据本公开的多个方面和实施方式，提供了：1)包含联合吡咯和金属烷基化合物，以形成混合物的催化剂成分和方法，其中混合物可含有这个接触步骤中形成的金属吡咯(metal pyrrolide)，其构成催化剂体系成分；2)催化剂成分和方法，包含在基本上无酸和无水条件下，在非质子配位溶剂(aprotic coordinating solvent)中，联合过渡金属前体和第1族或第2族金属羧酸盐，以提供过渡金属羧酸盐组合物的；和3)包含这些第一两个催化剂成分和方法的联合的催化剂成分和方法，即，它们包含联合吡咯和金属烷基化合物，以形成可含有金属吡咯的混合物，和在非质子配位溶剂中联合过渡金属前体和第1族或第2族金属羧酸盐，以提供过渡金属羧酸盐组合物，它们两个构成催化剂体系成分。
为了更加明确地限定本文使用的术语，提供下列定义。除非另外说明，下列定义适用于本公开。如果术语在本公开中被使用但未被在此具体限定，则可适用IUPACCompendium of ChemicalTerminology，第二版(1997)中的定义，只要该定义不与任何其他公开内容或本文适用的定义相冲突或导致其所适用的任何主张不确定或不可实现。如果本文引入作为参考的任何文献提供的任何定义或使用与本文提供的定义或使用相冲突，则以本文提供的定义或使用为准。
表中的元素族利用Chemical and Engineering News，63(5)，27，1985中公开的元素周期表版本所示的编号制显示。在一些实例中，元素族可利用族指定通用名称显示；例如第1族元素为碱金属，第2族元素为碱土金属，第3-12族元素为过渡金属，和第17族元素为卤素。
关于权利要求过渡术语或短语，过渡术语“包括”，与“包括”、“包含”、“具有”或“特征在于”同义，是包括性或开放式的，不排除额外的、未述及的元素或方法步骤。过渡短语“由……组成”排除权利要求中未指明的任何元素、步骤或成分。过渡短语“基本上由……组成”使权利要求的范围限制于指明的材料或步骤以及不实质上影响所主张的发明的基本特征和新特征(一个或多个)的那些材料或步骤。“基本上由……组成”主张存在于以“由……组成”形式书写的封闭式主张与以“包括”形式书写的完全开放式主张之间的中间立场。如无相反指示，当描述化合物或组合物时，“基本上由……组成”不被解释为“包括”，而是意图描述所述及的组分包括不显著改变该术语所适用的组合物或方法的材料。例如，由材料A组成的原料可包括所述化合物或组合物的工业生产的或市售的样品中一般存在的杂质。当权利要求包括不同特征和/或特征种类(例如，方法步骤、原料特征和/或产物特征、以及其他可能性)时，过渡术语——包括、基本上由……组成、和由……组成——仅适用于所使用的特征种类，在一个权利要求中不同过渡术语或短语可用于不同特征。例如，方法可包括若干述及的步骤(和其他未述及的步骤)，但使用由具体物质组成的催化剂系统制剂，或可选地由具体步骤组成，和/或使用包括述及的组分和其他未述及的组分的催化剂系统。
在本公开中，“包括”或等同表述的使用考虑利用短语“基本上由……组成的”、“基本上由……组成”或等同表述作为开放式表述的可选性实施方式。此外，说明书中“包括”或等同表述的使用或“基本上由……组成”的使用分别考虑利用短语“由……组成的”、“由……组成”或等同表述作为开放式表述或中间立场表述的可选性表述。例如，“包括”应被理解为包括“基本上由……组成”和“由……组成”作为说明书中展示的方面、特征和/或元素的可选性实施方式，除非另外具体说明。
除非另外具体说明，术语“a”、“an”、和“the”意为包括复数选择(例如，至少一个)。例如，除非另外指明，“一种卤化铬水合物”意为包括一种卤化铬水合物或多于一种卤化铬水合物的混合物或组合组合。
在本公开中，术语第一、第二和第三等可用于区分类似元素的多重存在。例如方法可在方法的一个或多个步骤中利用两种或更多种溶剂，或可选地混合物中的两种不同溶剂。当需要提供区分时，区分性术语可适用于本文所述的任何要素。应理解，区分性术语的数字或字母位序不表示本文所述方法或化合物中的特定顺序或优选，除非另外特别指明。
在本公开中，方法可具有多个步骤，或可包括具有多种不同要素的特征(例如，催化剂系统中的组分，或烯烃三聚低聚方法中的组分，等其他特征)。这种步骤和/或要素可用下列系列命名：a)、b)、c)等，i)、ii)、iii)、等，(a)、(b)、(c)等，和/或(i)、(ii)、(iii)等(以及其他命名系列)——如需提供每个方法步骤和/或要素的命名。应理解，命名系列中命名的数字或字母位序不表示本文所述方法的方法步骤、本文所述特征(一个或多个)和/或特征要素(一个或多个)的特定顺序或优选，除非另外特别指明或其他方法步骤、要素和/或要素特征需要。此外，这些命名系列被提供以区分不同方法步骤和/或特征要素，并且可按需使用，而无关于使命名系列用于这种描述下应用的特定步骤、要素或特征，只要命名系列一致地区分不同特征、不同方法步骤和/或不同特征要素。
术语“基本上无水”，在涉及化合物、溶液、溶剂或总体条件时，意为水量基于化合物、溶液、或溶剂重量小于或等于100ppm(按重量计)。术语“基本上干燥的”，在涉及气氛时，意为气氛——与气氛组成无关——表示气氛中的水量按重量计小于或等于100ppm。
术语“无酸”指代方法在不独立添加酸性或质子化合物或物质的情况下实施。例如，“无酸”意为不向被描述为“无酸”的反应或溶液中添加羧酸、矿物或无机酸、醇、或其他质子化合物或物质。术语“无酸”并非意图表达0ppm浓度的[H3O]+或0ppm浓度的酸性或质子源，因为“无酸”条件仍可表示可作为被添加组分中的污染物存在或可在反应或反应溶液制备过程中作为副产物生成的少量酸的存在。例如，通过本公开方法制备的过渡金属羧酸盐(一种或多种)和过渡金属羧酸盐组合物(一种或多种)可包含可测量量的游离羧酸或其他给质子化合物，其可作为污染物或作为这种化合物或组合物的制备过程中的副产物生成。术语“基本上无酸”，在涉及化合物、溶液、溶剂或总体条件时，意为酸量基于化合物、溶液或溶剂重量小于或等于1000ppm(按重量计)。
术语“室温”或“环境温度”在本文中用于描述15℃至35℃的任意温度，其中外部加热或冷却源不直接施加于反应容器。因此，术语“室温”和“环境温度”包括15℃至35℃的各个温度以及任意和全部温度范围、子范围和子范围组合，其中外部加热或冷却源不直接施加于反应容器。
术语“大气压”在本文中用于描述地球气压，其中不应用外部压力改动手段。通常，除非在极端地球海拔实践，“大气压”为约1大气(可选地，约14.7psi或约101kPa)。
术语“非质子”在本文中用于描述在给定条件下非给质子的溶剂。因此，“非质子”化合物或溶剂在特定条件下不能够充当强酸性或弱酸性的质子供体，作为酸。例如，乙腈可以是非质子溶剂，即使其可在强碱如叔丁醇钾存在的情况下被去质子化。
当提及接触方法时，术语“同时发生的”、“同时地接触”、“接触同时地”和它们的衍生物指的是，其中通过流入共同的连接点、罐、容器或反应器等，同时接触两种或更多列举的化合物、混合物、液流和/或组合物的接触方法。当提及接触方法时，术语“基本上同时地”、“基本上同时地接触”、“接触基本上同时地”和它们的衍生物指的是，其中，在两种或更多列举的化合物、混合物、液流和/或组合物的接触期间，接触两种或更多列举的化合物、混合物、液流和/或组合物，这样，对于接触过程期间的某些时期，两种或更多列举的化合物、混合物、液流和/或组合物同时流入共同的连接点、罐、容器、或反应器的接触方法。应该注意，术语“基本上同时发生地”、“基本上同时地接触”、“接触基本上同时地”和它们的衍生物并不意味着，在两种或或更多列举的化合物、混合物、液流和/或组合物的每一个的全部添加之上，同时地接触两种或或更多列举的化合物、混合物、液流和/或组合物。术语“基本上同时发生地”、“基本上同时地接触”、“接触基本上同时地”和它们的衍生物包含，其中可在另外的列举的化合物、混合物、液流和/或组合物之前，在完成、抑制、或中断其他的和/或一种(或小于全部的)列举的化合物、混合物、液流和/或组合物流入共同的连接点、罐、容器、或反应器之前，可开始一种(或小于所有的)列举的化合物、混合物、液流和/或组合物引入共同的连接点、罐、容器或反应器的情节。在此处描述的任何实施方式或方面中，可通过提供可同时地接触大量的每一种列举的化合物、混合物、液流、和/或组合物的一些的术语的内含物修饰术语“同时发生的”、“同时地接触”、“接触同时地”和它们的衍生物，以便指示“同时发生地”、“同时地接触”、“接触同时地”和它们的衍生物的多种程度的情节。例如，每一种列举的化合物、混合物、液流、和/或组合物的至少20％、30％、40％、50％、60％、70％、75％、80％、85％、90％、95％可以是“同时地接触的”或“接触同时地”。通常，可以是“同时地接触的”或“接触同时地”的列举的化合物、混合物、液流、和/或组合物的百分比可以是按重量(重量百分比)、按体积(体积百分比)、或按摩尔(摩尔百分比)。除非另外说明，“基本上同时发生地”、“基本上同时地接触”、“接触基本上同时地”和它们的衍生物的列举的化合物、混合物、液流、和/或组合物应该意味着，每一种列举的化合物、混合物、液流、和/或组合物的至少50％可以是“同时地接触的”或“接触同时地”。
进一步应该注意，关于接触方法或方法，“同时发生地”、“同时地接触”、“接触同时地”、“基本上同时地接触”、“接触基本上同时地”和它们的衍生物不同于其中一种或更多第一材料(例如，化合物、混合物、液流、和/或组合物)已经存在于罐、容器、或反应器中，和将一种或更多其他化合物、混合物、液流和/或组合物加入罐、容器或反应器的方法或方法。在这种情况下，罐、容器、或反应器中的第一材料没有流入同时地在罐中具有其他化合物、混合物、液流和/或组合物和材料的罐、容器或反应器。因而，第一材料和其他化合物、混合物、液流和/或组合物不能被称为是“同时地接触的”、“接触同时地”“基本上同时地接触的”、或“接触基本上同时地”。
对于本文公开的任意具体化合物，显示的一般结构或统称也意为包括可源于具体组取代基的所有结构异构体、构象异构体和立体异构体，除非另外说明。因此，化合物统称包括全部结构异构体，除非明确另外说明；例如、戊烷统称包括正戊烷、2-甲基-丁烷和2,2-二甲基丙烷，而丁基统称包括正丁基、仲丁基、异丁基和叔丁基。此外，一般结构或名称的指代包括全部对映体、非对映体和其他光学异构体——无论是对映体还是消旋形式，以及立体异构体混合物，如上下文允许或需要。对于显示的任意具体式或名称而言，显示的任意通式或名称还包括可源于具体组取代基的全部构象异构体、区域异构体和立体异构体。
化学“基团”是根据该基团在形式上如何从参考或“母体”化合物的基团衍生来描述的，例如，通过为生成该基团在形式上从母体化合物去除的氢原子的数量，即使该基团事实上不是以此方式合成。这些基团可被用作取代基、或配位或键合于金属原子。作为实例，“烷基”在形式上可通过从烷去除一个氢原子而衍生，而“亚烷基”在形式上可通过从烷去除两个氢原子而衍生。另外，更加上位的术语可用于包括在形式上可通过从母体化合物去除任意数量(“一好或多个”)的氢原子而衍生的多种基团，在本实例中，其可被描述为“烷类基团”，并且包括“烷基”、“亚烷基”和从烷去除三个或更多个氢原子——如情况需要——的材料。贯穿全文，取代基、配体、或其他化学部分可构成具体“基团”的公开表明，当如述应用该基团时，遵守化学结构和键合的公知规则。当将基团描述为“通过……衍生”、“由……衍生”、“通过……形成”、或“由……形成”时，这种术语以形式意义使用，而非意为表达任意具体合成方法或程序，除非另外指明或上下文另外要求。其他标识符或定性术语可用于指示具体取代基、具体区域化学和/或立体化学存在或不存在，或支链基础结构或骨架存在或不存在。
术语“取代”，在用于描述基团时，例如，在涉及具体基团的取代类似物时，意为描述在形式上替代该基团中的氢的任意非氢部分，并且意为非限制性的。基团(一个或多个)还可被称为“未取代”或同等术语如“非取代”，其指代原始基团，其中非氢部分未替代该基团中的氢。“取代”意为非限制性，并且包括无机取代基或有机取代基。
“羧酸基”是阴离子有机基团(organic group)，具有通式[ZC(＝O)O]-，其中Z表示任意有机基团(organyl group)。
“腈”是有机化合物，具有式R1C≡N，其中R1在本文中提供。脂肪族腈是不包含芳香族基团的腈。芳香族腈是具有芳香族基团的腈(例如，苄腈)。
“醚”是有机化合物，具有式R2-O-R3，其中R2和R3在本文中提供。脂肪族醚是不具有芳香族基团的醚。芳香族醚是具有芳香族基团(包含或不包含醚氧原子)的醚。非环醚是其中醚氧原子不包含在环中的醚(但可具有环——脂肪族或芳香族，作为R2和/或R3或在R2和/或R3中)。环醚是其中醚氧原子掺入环(脂族环或芳族环)中的醚。脂肪族环醚是其中醚氧原子被掺入脂族环中的环醚(例如，四氢呋喃、2,3-二氢呋喃、吡喃等)。芳香族环醚是其中醚氧原子被掺入芳族环或芳族环系统中的醚(例如，呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃等)。
“硫醚”是有机化合物，具有式R4-S-R5，其中R4和R5在本文中提供。脂肪族硫醚是不具有芳香族基团的硫醚。芳香族硫醚是具有芳香族基团(包含或不包含硫醚硫原子)的醚。环硫醚是其中硫醚硫原子不包含在环中的硫醚(但可具有脂肪族或芳香族的环，作为R4和/或R5或在R4和/或R5中)。环硫醚是其中硫醚硫原子掺入环(脂族环或芳族环)中的硫醚。脂肪族环硫醚是其中硫醚硫原子被掺入脂族环中的环硫醚(例如，四氢噻吩、硫杂环戊烷(thiane)等)。芳香族环硫醚是其中硫醚硫原子被掺入芳族环或芳族环系统中的硫醚(例如，噻吩、苯并噻吩等)。
“胺”是有机化合物，具有式NR6R7R8、NHR6R7、NH2R6或NH3，其中R6、R7、和R8在本文中提供。脂肪族胺是不具有芳香族基团的胺。芳香族胺是具有芳香族基团(包含或不包含胺氮原子)的胺。环胺是其中胺氮原子不包含在环中的胺(但可具有环——脂肪族或芳香族，作为R6、R7和/或R8或在R6、R7和/或R8中)。环胺是其中胺氮原子掺入环(脂族环或芳族环)中的胺。脂肪族环胺是其中胺氮原子被掺入脂族环中的环胺(例如，吡咯烷、哌啶等)。芳香族环胺是其中胺氮原子被掺入芳族环或芳族环系统中的胺(例如，吡啶、吡咯、吲哚等)。
“膦”是有机化合物，具有式PR9R10R11、PHR9R10、或PH2R9，其中R9、R10和R11在本文中提供。脂肪族膦是不具有芳香族基团的膦。芳香族膦是具有芳香族基团(包含或不包含膦磷原子)的膦。环膦是其中膦磷原子不包含在环中的膦(但可具有环——脂肪族或芳香族，作为R9、R10和/或R11或在R9、R10和/或R11中)。环膦是其中膦磷原子掺入环(脂族环或芳族环)中的膦。脂肪族环膦是其中膦磷原子掺入脂族环中的环膦(例如，磷杂环戊烷、磷杂环己烷(phosphinane)等)。芳香族环膦是其中膦磷原子掺入芳族环或芳族环系统中的膦(例如，磷杂环戊烯等)。
“亚膦酸酯”是有机化合物，具有式P(OR12)(OR13)(OR14)或PH(O)(OR12)(OR13)，其中R12、R13和R14在本文中提供。脂肪族亚膦酸酯是不具有芳香族基团的亚膦酸酯。芳香族亚膦酸酯是具有芳香族基团(包含或不包含亚膦酸酯磷原子)的亚膦酸酯。环亚膦酸酯是其中亚膦酸酯磷原子不包含在环中的亚膦酸酯(但可具有环——脂肪族或芳香族，作为R12、R13和/或R14或在R12、R13和/或R14中)。环亚膦酸酯是其中亚膦酸酯磷原子掺入环(脂族环或芳族环)中的亚膦酸酯。脂肪族环亚膦酸酯是其中亚膦酸酯磷原子掺入脂族环中的环亚膦酸酯。芳香族环亚膦酸酯是其中亚膦酸酯磷原子掺入芳族环或芳族环系统中的亚膦酸酯。
术语“环”，相对于“非环”，在涉及醚、硫醚、胺、膦或亚膦酸酯时用于指代这样的化合物：其中杂原子O、S、N、或P分别被包括在环结构中，该环结构还包括醚R2-O-R3的R2和R3基团，硫醚R4-S-R5的R4和R5基团，胺NR6R7R8或NHR6R7的R6、R7和R8的任意组合，膦PR9R10R11或PHR9R10的R9、R10和R11的任意组合，或亚膦酸酯P(OR12)(OR13)(OR14)或PH(O)(OR12)(OR13)的R12、R13和R14的任意组合。例如，“环醚”是非环醚结构R2-O-R3的类似物，其中R2和R3总体上如上文描述(非环)醚R2-O-R3时提供，除了R2和R3通过从R2和R3各去除一个氢原子并在R2和R3之间形成键而相互连接或键合，其中去除氢原子以形成包括醚氧的环结构。四氢呋喃(THF)是典型的环醚，其可在形式上通过如下衍生：从二乙基醚(CH3CH2OCH2CH3)的每个CH3基团去除一个氢原子或从甲基正丙基醚(CH3CH2CH2OCH3)的每个CH3基团去除一个氢原子，然后连接或键合这两个去除了氢原子的碳。类似地，环醚2-甲基氧杂环丁烷可在形式上通过如下衍生：从乙醚的一个乙基的CH3基团去除一个氢原子和二乙基醚(CH3CH2OCH2CH3)的另一个乙基的CH2去除一个氢原子，然后在形式上连接这两个去除了氢原子的碳。
术语“有机基团”在本文中按照IUPAC指定的定义使用：有机取代基、与功能类型无关，在碳原子处具有一个自由价。类似地，“有机亚基(organylene group)”指代这样的有机基团：与功能类型无关，通过从有机化合物去除两个氢原子——两个氢原子来自一个碳原子或氢原子来自两个不同碳原子中的每一个——而衍生的。“有机基团”指代统称的通过从有机化合物的碳原子去除一个或多个氢原子而形成的基团。因此，“有机基团”、“有机亚基”、和“有机基团”可包含除碳和氢之外的有机官能团(一个或多个)和/或原子(一个或多个)，即，除碳和氢外还可包括官能团和/或原子的有机基团。例如，碳和氢之外的原子的非限制性实例可包括但不限于，卤素、氧、硫、氮和磷等。官能团的非限制性实例包括醚、醛、酮、酯、硫化物、胺和膦等。一方面，为形成“有机基团”、“有机亚基”、或“有机基团”所去除的氢原子(一个或多个)可连接于属于官能团的碳原子，该官能团例如，酰基(-C(O)R)、甲酸基(-C(O)H)、羧基(-C(O)OH)、氢羧基羰基(-C(O)OR)、氰基(-C≡N)、氨基甲酰基(-C(O)NH2)、N-烃基氨基甲酰基(-C(O)NHR)，或N,N'-二烃基氨基甲酰基(-C(O)NR2)等。另一方面，为形成“有机基团”、“有机亚基”、或“有机基团”所去除的氢原子(一个或个种)可连接于不属于并且远离官能团的碳原子，例如，-CH2C(O)CH3、和-CH2NR2等。“有机基团”、“有机亚基”、或“有机基团”可以是脂肪族的，包括环状或非环状，或可以是芳香族的。“有机基团”、“有机亚基”、和“有机基团”还可包括含杂原子的环、含杂原子的环系统、杂芳环、和杂芳环系统。“有机基团”、“有机亚基”、和“有机基团”可以是直链或支链的，除非另外指明。最后，注意“有机基团”、“有机亚基”、或“有机基团”定义分别包括“烃基(hydrocarbyl group)”、“亚烃基(hydrocarbylene group)”、“烃类基团(hydrocarbon group)”，和分别包括“烷基”、“亚烷基”、和“烷类基团”，作为成员。
术语“由惰性官能团组成的有机基团”指代这样的有机基团：其中有机官能团(一种或多种)和/或除碳和氢之外存在于官能团中的原子(一个或多个)受限于除碳和氢之外不与金属化合物络合和/或在本文限定的方法条件下为惰性的那些官能团(一种或多种)和/或原子(一个或多个)。因此，术语“由惰性官能团组成的有机基团”或其术语变型进一步限定可存在于由惰性官能团组成的有机基团中的具体有机基团。此外，术语“由惰性官能团组成的有机基团”可指代有机基团中存在一种或多种惰性官能团。术语“由惰性官能团组成的有机基团”或其术语变型包括烃基作为成员。类似地，“由惰性官能团组成的有机亚基”指代通过从由惰性官能团组成的有机化合物的一个或两个碳原子去除两个氢原子而形成的有机基团，并且“由惰性官能团组成的有机基团”指代统称的、通过从由惰性官能团组成的有机化合物的一个或多个碳原子去除一个或多个氢原子而形成的、由惰性官能团组成的有机基团。
基于本申请的目的，“惰性官能团”是在杂原子上具有基本上不干扰本文所述方法的自由价的基团，其中具有惰性官能团的材料参与金属络合物的金属化合物和/或不与金属络合物的金属化合物络合。术语“不与金属化合物络合”可包括可与金属化合物络合的基团，但具体地，本文所述分子由于其在配体内的位置关系而不可与金属化合物络合物。因此，具体官能团的惰性不仅与官能团固有的不能与金属化合物络合有关，而且还可与金属络合物中的官能团位置有关。基本上不干扰本文所述方法的惰性官能团的非限制性实例可包括卤基(氟基、氯基、溴基和碘基)、硝基、氢羧基(例如，烷氧基和/或芳氧基等)和/或烃硫酰基(hydrocarbosulfidyl)(例如、RS-)等。
术语“烃”无论何时在说明书和权利要求书中均用于指代仅包含碳和氢的化合物。其他标识符可用于表示烃中存在具体基团(例如，卤代烃表示烃中存一个或多个卤原子，替代同等数量的氢原子)。术语“烃基”在本文中按照IUPAC指定的定义使用：从烃去除一个氢原子而形成的单价基团(即，仅包含碳和氢的基团)。烃基的非限制性实例包括乙基、苯基、甲苯基、丙烯基、及类似基团。类似地，“亚烃基”指代通过从烃去除两个氢原子而形成的基团——从一个碳原子去除两个氢原子或从两个不同的碳原子各去除一个氢原子。因此，根据在本文中应用的命名法，“烃类基团”指代统称的、通过从烃去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要)而形成的基团。“烃基”、“亚烃基”、和“烃类基团”可以是非环或环基团，和/或可以是直链或支链的。“烃基”、“亚烃基”、和“烃类基团”可包括环、环系统、芳族环、和芳族环系统，其仅包含碳和氢。“烃基”、“亚烃基”、和“烃类基团”分别包括，例如，芳基、亚芳基、芳烃类基团、烷基、亚烷基、烷类基团、环烷基、亚环烷基、环烷类基团、芳烷基、亚芳烷基、和芳烷类基团等其他基团，作为成员。
脂肪族化合物是非环或环、饱和或不饱的碳化合物，不包括芳香族化合物。“脂肪族基团”是统称的、通过从脂肪族化合物的碳原子去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要)而形成的基团。脂肪族化合物和脂肪族基团可包含除碳和氢之外的有机官能团(一种或多种)和/或原子(一个或多个)。
术语“烷”无论何时在说明书和权利要求书中均用于指代饱和烃化合物。其他标识符可用于表示烷中存在具体基团(例如，卤代烷表示烷中存在一个或多个卤原子，替代同等数量的氢原子)。术语“烷基”在本文中根据IUPAC指定的定义使用：通过从烷去除一个氢原子而形成的单价基团。类似地，“亚烷基”指代通过从烷去除两个氢原子而形成的基团(从一个碳原子去除两个氢原子或从两个不同的碳原子去除一个氢原子)。“烷类基团”是统称术语，指代通过从烷去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要)而形成的基团。“烷基”、“亚烷基”、和“烷类基团”可以是非环或环基团，和/或可以是直链或支链的，除非另外指明。伯烷基、仲烷基和叔烷基分别通过从烷的伯、仲、叔碳原子去除一个氢原子而衍生。正烷基通过从直链烷的端碳原子去除一个氢原子而衍生。基团RCH2(其中R不是H)、R2CH(其中R不是H)和R3C(其中R不是H)分别是伯烷基、仲烷基和叔烷基。
“环烷”是具有或不具有侧链的饱和环烃，例如，环丁烷。具有一个或多个环内双键或一个三键的不饱和环烃分别被称为环烯和环炔。具有仅一个、仅两个、仅三个等等环内双键或三键的环烯和环炔可通过在环烯或环炔名称中使用术语“单”、“二”、“三”、等来识别。环烯和环炔可进一步识别环内双键或三键的位置。其他标识符可用于表示环烷中存在具体基团(例如，卤代环烷表示环烷中存在一个或多个卤原子，替代同等数量的氢原子)。
“环烷基”是通过从环烷的环碳原子去除一个氢原子而衍生的单价基团。例如，1-甲基环丙基和2-甲基环丙基示例如下。
类似地，“亚环烷基”指代通过从环烷去除两个氢原子而衍生的基团，其中至少一个是环碳。因此，“亚环烷基”包括由环烷衍生的、其中在形式上从相同环碳去除两个氢原子的基团；由环烷衍生的、其中在形式上从两个不同环碳去除两个氢原子的基团；和由环烷衍生的、其中在形式上从环碳去除第一氢原子和在形式上从非环碳的碳原子去除第二氢原子的基团。“环烷类基团”指代统称的、通过从环烷去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要并且其中至少一个是环碳)而形成的基团。应注意，根据本文提供的定义，统称环烷类基团(包括环烷基和亚环烷基)包括具有零个、一个或一个以上烃基取代基的那些，该烃基取代基连接于环烷环碳原子(例如，甲基环丙基)，并且是烃类基团的基团成员。但是，在涉及具有指定数量的环烷环碳原子的环烷类基团(例如，环戊烷基团或环己烷基团等)时，具有限定数量的环烷环碳原子的环烷类基团的基本名称是指未取代环烷类基团(包括在环烷类基团环碳原子上不存在烃基)。因此，具有指定数量的环碳原子的取代环烷类基团(例如，取代环戊烷或取代环己烷等)是指这样的各个基团：具有一个或多个取代基(包括卤素、烃基、或氢羧基、等其他取代基)，该取代基连接于环烷类基团环碳原子。当具有限定数量的环烷环碳原子的取代环烷类基团是烃类基团的基团成员(或环烷类基团的一般基团成员)时，具有限定数量的环烷环碳原子的取代环烷类基团的各取代基受限于烃基取代基。可容易理解和选择一般基团、具体基团和/或具有特定数量的环碳原子的各个取代环烷类基团(一个或多个)，其可用作烃类基团的成员(或环烷类基团的一般基团成员)。
术语“烯烃”无论何时在说明书和权利要求书中均用于指代具有至少一个碳-碳双键的化合物，该碳-碳双键不是芳族环或环系统部分的。术语“烯烃”包括具有至少一个碳-碳双键的脂肪族和芳香族、环和环和/或直链和支链的化合物，该碳-碳双键不是芳族环或环系统的部分，除非另外具体说明。术语“烯烃”本身不表示存在或不存在杂原子和/或存在或不存在其他碳-碳双键，除非明确说明。具有仅一个、仅两个、仅三个等等碳-碳双键的烯烃可通过在烯烃名称中使用术语”单”、“二”、“三”等来识别。烯烃可通过碳-碳双键(一个或多个)的位置来进一步识别。
术语“烯”无论何时在说明书和权利要求书中均用于指代具有至少一个非芳香族碳-碳双键的烯烃。术语“烯”包括具有至少一个非芳香族碳-碳双键的、脂肪族或芳香族(化合物中具有芳香族取代基的烯)、环状或非环状和/或直链和支链的化合物，除非明确另外说明。具有仅一个、仅两个、仅三个等等碳双键的烯可通过在名称中使用术语“单”、“二”、“三”等来识别。例如，单烯、二烯和三烯分别指代具有仅一个碳-碳双键(通式CnH2n)、仅两个碳-碳双键(通式CnH2n-2)和仅三个碳-碳双键(通式CnH2n-4)的直链或支链烯烃。烯可进一步通过碳-碳双键(一个或多个)的位置来识别。其他标识符可用于表示烯中存在或不存在具体基团。例如，卤烯指代其一个或多个氢原子被卤原子替代的烯。
“烯基”是通过从烯任意碳原子去除一个氢原子由烯衍生的单价基团。因此，“烯基”包括其中在形式上从sp2杂交(烯属)碳原子去除氢原子的基团；和其中在形式上从任意其他碳原子去除氢原子的基团。例如并且除非另外指明，丙烯-1-基(-CH＝CHCH3)、丙烯-2-基[(CH3)C＝CH2]、和丙烯-3-基(-CH2CH＝CH2)基团全部被包括在术语“烯基”中。类似地，“亚烯基”指代通过在形式上从烯去除两个氢原子而形成的基团——从一个碳原子去除两个氢原子或从两个不同的碳原子去除一个氢原子。“烯类基团”指代统称的、通过从烯去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要)而形成的基团。当从参与碳-碳双键的碳原子去除氢原子时，去除了氢原子的碳的区域化学和碳–碳双键的区域化学可均被指明。烯基也可具有一个以上这种多重键。烯类基团也可通过碳-碳双键(一个或多个)的位置来进一步识别。其他标识符可用于表示烯类基团中存在或不存在具体基团。例如，卤烯类基团指代其一个或多个氢原子被卤原子替代的烯类基团。
术语“炔”在说明书和权利要求书中用于指代具有至少一个非芳香族碳-碳三键的烃化合物。术语“炔”包括具有至少一个非芳香族碳-碳三键的、脂肪族或芳香族(化合物中具有芳香族取代基的炔)、环状或非环状和/或直链和支链的化合物，除非明确另外说明。具有仅一个、仅两个、仅三个等碳-碳三键的炔可通过在名称中使用术语“单”、“二”、“三”等来识别。例如，单炔、二炔、和三炔分别指代具有仅一个碳-碳三键(通式CnH2n-2)、仅两个碳-碳三键(通式CnH2n-6)和仅三个碳-碳三键(通式CnH2n-10)的直链或支链烯烃。炔可通过碳-碳三键(一个或多个)的位置来进一步识别。其他标识符可用于表示炔中存在或不存在具体基团。例如，卤炔指代其一个或多个氢原子被卤原子替代的炔。
“炔基”是通过从炔任意碳原子去除一个氢原子由炔衍生的单价基团。因此，“炔基”包括其中在形式上从sp杂交(炔属)碳原子去除氢原子的基团；和其中在形式上从任意其他碳原子去除氢原子的基团。例如和除非另外指明，丙炔-1-基(-C≡CCH3)和丙炔-1-基(HC≡CCH2-)基团全部被包括在术语“炔基”中。类似地，“亚炔基”指代在形式上从炔去除两个氢原子而形成的基团——如可能，从一个碳原子去除两个氢原子，或从两个不同碳原子去除一个氢原子。“炔类基团”指代统称的、通过从炔去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要)而形成的基团。炔基也可具有多于一个这种多重键。炔类基团还可通过碳-碳三键(一个或多个)的位置来进一步识别。其他标识符可用于表示炔类基团中存在或不存在具体基团。例如，卤炔类基团指代其一个或多个氢原子被卤原子替代的炔类基团。
如用于本申请和权利要求中的术语“α烯烃”指的是，在碳原子的最长的连续链的第一和第二碳原子之间具有双键的烯烃。除非另外明确地声明，术语“α烯烃”包含直链和支链的α烯烃。在支链的α烯烃的情况中，支链可以在2-位置(亚乙烯基)和/或3-位置或关于烯烃双键更高的位置上。每当用于本申请和权利要求时，术语“亚乙烯基”指的是，在关于α烯烃双键的2-位置上具有支链的α烯烃。除非明确地指示，通过它自身，术语“α烯烃”不指示杂原子的存在或缺少和/或其他碳-碳双键的存在或缺少。术语“烃α烯烃”或“α烯烃烃”指的是，仅含有氢和碳的α烯烃化合物。
此处使用的术语“直链α烯烃”指的是，在第一和第二碳原子之间具有双键的直链烯烃。除非明确地指示，术语“直链α烯烃”通过它自身不指示杂原子的存在或缺少和/或其他碳-碳双键的存在或缺少。术语“直链烃α烯烃”或“直链α烯烃烃”指的是，仅含有氢和碳的线性α烯烃化合物。
每当用于本申请和权利要求时，术语“标准α烯烃”指的是，在第一和第二碳原子之间具有双键的直链烃单-烯烃。应该注意，“标准α烯烃”不与“直链α烯烃”同义，因为术语“直链α烯烃”可包含在第一和第二碳原子之间具有双键和具有杂原子和/或另外的双键的直链烯烃属化合物。
“杂环化合物”是具有至少两种不同元素作为环成员原子的环状化合物。例如，杂环化合物可包括包含碳和氮(例如，四氢吡咯和吡咯等)、碳和氧(例如，四氢呋喃和呋喃等)、或碳和硫(例如，四氢噻吩和噻吩等)的环。杂环化合物和杂环基团可以是脂肪族或芳香族的。
“杂环基”是通过从杂环化合物的杂环或环系统碳原子去除一个氢原子而形成的单价基团。通过指明是从杂环或环系统碳原子去除氢原子，使“杂环基”区别于“环杂基”——其中从杂环或环系统杂原子去除一个氢原子。例如，下文示例的吡咯烷-2-基是“杂环基”的一个实例，下文示例的吡咯烷-1-基是“环杂基”的一个实例。
类似地，“亚杂环基(heterocyclylene group)”或更简单地“亚杂环基(heterocyclene group)”指代通过从杂环化合物去除两个氢原子而形成的基团，其中至少一个是从杂环或环系统碳去除的。因此，在“亚杂环基”中，至少一个氢从杂环或环系统碳原子去除，并且另一氢原子可从任意其他碳原子去除，包括，例如，同一杂环或环系统碳原子、不同杂环或环系统环碳原子或非环碳原子。“杂环基团”指代统称的、通过从杂环化合物去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要，并且其中至少一个是杂环碳原子)而形成的基团。
“环杂基”是通过从杂环化合物的杂环或环系统杂原子去除一个氢原子而形成的单价基团，如本文示例。通过指明是从杂环或环系统杂原子而非从环碳原子去除氢原子，使“环杂基”区别于“杂环基”——其中从杂环或环系统碳原子去除一个氢原子。类似地，“亚环杂基”指代通过从杂环化合物去除两个氢原子而形成的基团，其中至少一个从杂环化合物的杂环或环系统杂原子去除；另一氢原子可从任意其他原子去除，包括，例如，杂环或环系统环碳原子、另一杂环或环系统杂原子、或非环原子(碳或杂原子)。“环杂基团”指代统称的、通过从杂环化合物去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要，并且其中至少一个从杂环或环系统杂原子去除)而形成的基团。
芳香族化合物是这样的化合物：包含环状共轭的双键系统，该环状共轭的双键系统遵循Hückel(4n+2)规则并且包含(4n+2)pi-电子，其中n是1至5的整数。芳香族化合物包括“芳烃”(芳香族烃化合物)和“杂芳烃(heteroarenes)”——也被称为“杂芳烃(hetarenes)”(在形式上通过用三价或二价杂原子替代环状共轭双键系统的一个或多个次甲基(–C＝)碳原子由芳烃衍生的杂芳香族化合物，以这种方式保持连续pi-电子系统特征和相应于Hückel规则(4n+2)的芳香族系统的平面外pi-电子数量。虽然芳烃化合物和杂芳烃化合物在芳香族化合物族中是互不相交的成员，但具有芳烃类基团和杂芳烃类基团的化合物通常被认为是杂芳烃化合物。芳香族化合物、芳烃、和杂芳烃可以是单环的(例如，苯、甲苯、呋喃、吡啶、甲基吡啶)或多环的，除非另外指明。多环芳香族化合物、芳烃和杂芳烃包括，除非另外指明，其中芳族环可稠合的化合物(例如，萘、苯并呋喃、和吲哚)；其中芳香族基团可分离和通过键连接的化合物(例如，联苯或4-苯基吡啶)；或其中芳香族基团通过包含连接原子的基团连接的化合物(例如，碳——二苯基甲烷中的亚甲基；氧——二苯基醚；氮——三苯基胺；等其他连接基团)。如本文公开，术语“取代”可用于描述其中非氢部分在形式上替代化合物中的氢的芳香族基团、芳烃、或杂芳烃，并且其意为非限制性的。
“芳香族基团”指代统称的、通过从芳香族化合物去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要，并且其中至少一个是芳环碳原子)而形成的基团。对于单价“芳香族基团”而言，去除的氢原子必须来自芳环碳。对于通过从芳香族化合物去除多于一个氢原子而形成的“芳香族基团”而言，至少一个氢原子必须来自芳香族烃环碳。此外、“芳香族基团”其氢原子可从芳族环或环系统的相同环去除(例如，亚苯-1,4-基、亚吡啶-2,3-基、亚萘-1,2-基、和亚苯并呋喃-2,3-基)，其氢原子可从环系统的两个不同环去除(例如，亚萘-1,8-基和亚苯并呋喃-2,7-基)，或其氢原子可从两个分离的芳族环或环系统去除(例如，双(亚苯-4-基)甲烷)。
芳烃是具有或不具有侧链的芳香族烃(例如，苯、甲苯或二甲苯等)。“芳基”是通过在形式上从芳烃的芳环碳去除一个氢原子而衍生的基团。应注意，芳烃可包含单个芳香族烃环(例如，苯或甲苯)，包含稠合芳族环(例如，萘或蒽)，和包含共价连接的一个或多个分离的芳族环——通过键(例如，联苯)或非芳香族烃类基团(一个或多个)(例如，二苯基甲烷)。“芳基”的一个实例是邻甲苯基(o-甲苯基)，其结构显示在此。
类似地，“亚芳基”指代通过从芳烃去除两个氢原子(其中至少一个从芳环碳去除)而形成的基团。“芳烃类基团”指代统称的、通过从芳烃去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要，并且其中至少一个是芳环碳)而形成的基团。但是，如果基团包含分离的和不同的芳烃和杂芳烃环或环系统(例如，7-苯基苯并呋喃中的苯基和苯并呋喃部分)，其分类取决于去除了氢原子的具体环或环系统，即，芳烃类基团——如果去除的氢来自芳香族烃环或环系统碳原子(例如，6-苯基苯并呋喃)的苯基中的2个碳原子)，和杂芳烃类基团——如果去除的氢碳来自杂芳环或环系统碳原子(例如，苯并呋喃基团或6-苯基苯并呋喃的2或7个碳原子)。应注意，根据本文提供的定义，统称芳烃类基团(包括芳基和亚芳基)包括的那些(例如，甲苯基团或二甲苯基团等)，并且是烃类基团的基团成员。但是，苯基(或亚苯基)和/或萘基(或亚萘基)指代具体的未取代芳烃类基团(不包括存在于芳香族烃环或环系统碳原子上的烃基)。因此，取代苯基或取代萘基分别指代具有位于芳香族烃环或环系统碳原子上的一个或多个取代基(包括卤素、烃基、或氢羧基等)的芳烃类基团。当取代苯基和/或取代萘基是烃类基团的基团成员(或芳烃类基团的一般基团成员)时，各取代基限于烃基取代基。可容易理解和选择一般的取代苯基和/或取代萘基、具体的取代苯基和/或取代萘基和/或可用作烃类基团的基团成员(或芳烃类基团的一般基团成员)的各个取代苯基或取代萘基。
杂芳烃是这样的芳香族化合物：其具有或不具有侧链，具有处于芳族环或芳族环系统中的杂原子(例如，吡啶、吲哚、或苯并呋喃等)。“杂芳基”是一类“杂环基”，并且是通过从从杂芳烃化合物的杂芳环或环系统碳原子去除一个氢原子而形成的单价基团。通过指明是从环碳原子去除氢原子，使“杂芳基”区别于“芳基杂基”——其中一个氢原子从杂芳环或环系统杂原子去除。例如，下文示例的吲哚-2-基是“杂芳基”的一个实例，下文示例的吲哚-1-基是“芳基杂基”基团的一个实例。
类似地，“杂亚芳基”指代通过从杂芳烃化合物去除两个氢原子而形成的基团，其中至少一个从杂芳烃环或环系统碳原子去除。因此，在“杂亚芳基”中，至少一个氢从杂芳烃环或环系统碳原子去除，并且另一氢原子可从任意其他碳原子去除，包括例如，杂芳烃环或环系统碳原子、或非杂芳烃环或环系统原子。“杂芳烃类基团”指代统称的、通过从杂芳烃化合物去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要，并且其中至少一个是杂芳烃环或环系统碳原子)而形成的基团。如果氢原子是从杂芳环或环系统杂原子和从杂芳环或环系统碳原子或芳香族烃环或环系统碳原子去除的，则将该基团分类为“亚芳基杂基(arylheterylenegroup)”或“芳基杂基团(arylhetero group)”。
“芳基杂基”是一类“环杂基”，并且是通过从杂芳环或环系统杂原子去除一个氢原子而形成的单价基团，如示。通过指明氢原子是从杂芳环或环系统杂原子而非从杂芳环或环系统碳原子去除，使“芳基杂基”区别于“杂芳基”——其中一个氢原子从杂芳环或环系统碳原子去除。类似地，“亚芳基杂基”指代通过从杂芳基化合物去除两个氢原子而形成的基团，其中至少一个从杂芳基化合物的杂芳环或环系统杂原子去除；另一氢原子可从任意其他原子去除，包括例如，杂芳环或环系统碳原子、另一杂芳环或环系统杂原子、或杂芳香族化合物的非环原子(碳或杂原子)。“芳基杂基团”指代统称的、通过从杂芳烃化合物的杂原子去除一个或多个氢原子(按照具体基团需要，并且其中至少一个来自杂芳环或环系统)而形成的基团。
“芳烷基”是在非芳香族碳原子处具有一个自由价的芳基取代型烷基(例如，苄基、或2-苯基乙-1-基、等)。类似地，“亚芳烷基”是在单个非芳香族碳原子处具有两个自由价或在两个非芳香族碳原子处一个自由价的芳基取代型亚烷基、而“芳烷类基团”是统称的、在非芳香族碳原子(一个或多个)处具有一个或多个自由价的芳基取代型烷类基团。“杂芳烷基”是在非杂芳环或环系统碳原子处具有一个自由价的杂芳基取代型烷基。类似地，“杂亚芳烷基”是在单个非杂芳环或环系统碳原子处具有两个自由价或在两个非杂芳环或环系统碳原子处具有一个自由价的杂芳基取代型亚烷基、而“杂芳烷类基团”是统称的、在非杂芳环或环系统碳原子(一个或多个)处具有一个或多个自由价的芳基取代型烷类基团。应注意，根据本文提供的定义，一般芳烷类基团包括具有位于芳烷芳香族烃环或环系统碳原子上的零个、一个或一个以上烃基取代基的那些，并且是烃类基团的基团成员。但是，指定具体芳基(例如，苄基或2-苯基乙基中的苯基等)的具体芳烷类基团指代具体的未取代芳烷类基团(不包括位于芳烷芳香族烃环或环系统碳原子上的烃基)。因此，指定具体芳基的取代芳烷类基团指代具有一个或多个取代基(包括卤素、烃基、或氢羧基等)的各个芳烷类基团。当指定具体芳基的取代芳烷类基团是烃类基团的基团成员(或芳烷类基团的一般基团成员)时，各取代基限于烃基取代基。可容易理解和选择可用作烃类基团的基团成员(或芳烷类基团的一般基团成员)的、指定具体芳基的取代芳烷类基团。
“卤基(卤化物，halid)”具有其普通含义；因此，卤基的实例包括氟基、氯基、溴基和碘基。
“有机杂基”是包含碳的单价基团，其因此是有机的，但其自由价在非碳原子处。因此，有机杂基和有机基团是互补并且互不相交的。有机杂基可以是环状或非环状的，和/或脂肪族或芳香族的，因此包括脂肪族“环杂基”(例如，吡咯烷-1-基或吗啉-1-基、等)、芳香族“芳基杂基”(例如，吡咯-1-基或吲哚-1-基、等)，和非环基团(例如，有机基硫、三烃基甲硅烷基、芳氧基、或烷氧基等)。类似地，“亚有机杂基”是二价基团，包含碳和至少一个杂原子，具有两个自由价——其中至少一个处于杂原子。“有机杂基团”是统称的基团：包含碳和至少一个杂原子，具有一个或多个自由价(按照具体基团需要，并且其中至少一个处于杂原子)，来自有机杂化合物。
如果化合物或基团包含一个以上部分，按照IUPAC规定，其在形式上是具有最高命名优先权的基团的成员。例如，4-苯基吡啶是杂芳香族化合物，4-(亚苯-2-基)嘧啶-2-基是杂芳香族基团，因为最高命名基团分别是吡啶基团和嘧啶-2-基。
在一些实例中，可命名“环基团”。除非另外指明，“环基团”包括具有环结构的——包括碳环和杂环基团——芳香族和脂肪族基团，并且“环”是用于命名环结构的名称的前缀。
“有机铝化合物”含有铝-碳键的任何化合物。因而，有机铝化合物包含含有铝-有机化合物键的烃基铝化合物如三烷基-、二烷基-或单烷基铝化合物；烃基铝烷化合物和铝酸盐化合物如四(对甲苯)铝酸盐，等等。
术语“反应器流出物”和它的衍生物(例如，寡聚化反应器流出物)通常指的是，离开反应器的所有的材料。也可以限制供参考的反应器流出物的部分的其他描述开始术语“反应器流出物”和它的衍生物。例如，当术语“反应器流出物”指的是所有离开反应器的材料(例如，产物和溶剂或稀释液，等等)时，术语“烯烃反应器流出物”指的是含有烯烃(也就是，碳-碳)双键的反应器的流出物。
术语“寡聚化”和它的衍生物，指的是，产生含有至少70重量百分比产物的产物混合物的方法，所述产物含有从2至30个单体单元。同样地，“寡聚物”是含有从2至30个单体单元的产物，而“寡聚化产物”包含通过“寡聚化”方法制造的所有的产物，包含“寡聚物”和不是“寡聚物”的产物(例如，含有超过30个单体单元的产物)。应该注意，“寡聚物”或“寡聚化产物”中的单体单元不一定是相同的。例如，利用乙烯和丙烯作为单体的“寡聚化”方法的“寡聚物”或“寡聚化产物”可含有乙烯和/或丙烯单元。
术语“三聚作用”，和它的衍生物指的是，产生含有至少70重量百分比产物的产物混合物的方法，所述产物含有三个且只有三个单体单元。“三聚体”是含有三个且只含有三个单体单元的产物，而“三聚作用产物”包含通过三聚作用方法制造的所有的产物，包含三聚体和不是三聚体的产物(例如，二聚体、四聚体、和聚合物，等)。通常，当考虑单体单元中的烯烃键的数目和三聚体中的烯烃键的数目时，烯烃三聚作用减少两个烯属键的数目，也就是，碳-碳双键。应该注意，“三聚体”或“三聚作用产物”中的单体单元不一定是相同的。例如，利用乙烯和丁烯作为单体的“三聚作用”方法的“三聚体”可含有乙烯和/或丁烯单体单元。那就是说，“三聚体”将含有C6、C8、C10和C12产物。在另一个实例中，利用乙烯作为单体的“三聚作用”方法的“三聚体”可含有乙烯单体单元。也应该注意，单个的分子可含有两个单体单元。例如，二烯烃如1,3-丁二烯和1,4-戊二烯在一个分子内具有两个单体单元。
应该注意，在本公开内，某些亚属可以是超过一个属的成员，例如，烃基金属卤化物亚属可以是金属烃基化合物属的成员和金属卤化物属的成员。这可导致亚属是否属于详述的具体的属(或详述内的属)的不确定性。然而，在本公开内，属包含所有它的亚属(即使亚属可属于详述内的两个或更多亚属)，除非具体的特征排除来自属的一个或更多亚属。例如，为使过度金属化合物与金属烃基化合物接触提供的详述包含金属烃基化合物属内的非-卤化物金属烃基化合物和烃基金属卤化物，而为在使过度金属化合物与含卤素化合物接触之前，使过度金属化合物与金属烃基化合物接触提供的详述将排除列举的金属烃基化合物属内的烃基金属卤化物亚属。这种考虑同样地适用于种、亚种和个体化合物(或其他分类系统)，其可被归入超过一个属、亚属、种和/或亚种。
在方面中，本公开提供了组合物，其包括，或基本上由下列组成：a)过渡金属化合物；b)含氮化合物；c)金属烃基化合物；和d)可选地，含卤素化合物。在实施方式中，本公开提供了组合物，其包括，或基本上由下列组成：a)过渡金属化合物；b)含氮化合物；和c)金属烃基化合物；或可替换地，a)过渡金属化合物；b)含氮化合物；c)金属烃基化合物；和d)含卤素化合物。通常，含氮化合物、过渡金属化合物、金属烃基化合物和含卤素化合物是组合物的独立元素。作为组合物的独立元素，此处将独立地描述含氮化合物、过渡金属化合物、金属烃基化合物和含卤素化合物。不受限制地，这些独立的描述的方面和实施方式可用于进一步描述组合物。
在方面中，组合物可用于寡聚化烯烃和将其描述为催化剂体系。在实施方式中，组合物可用于三聚化烯烃和可将其描述为烯烃三聚作用催化剂体系。此处独立地描述可被寡聚化(或可替换地，三聚化)的烯烃。在一个方面中，被寡聚化的烯烃可以是，包括，或基本上由乙烯组成和可将催化剂体系描述为乙烯三聚作用催化剂体系。在另一个方面中，三聚化的烯烃可以是，包括，或基本上由乙烯组成和可将催化剂体系描述为乙烯三聚作用催化剂体系。
在方面中，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上无机过渡金属化合物组成。在某些方面中，过渡金属化合物可包括，或基本上由过渡金属阳离子和无机阴离子组成。在其他方面中，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上过渡金属阳离子和形式上来源于有机化合物或分子的阴离子组成(例如，羧酸盐、酚盐、或β-二酮等等)。通常，过渡金属和无机阴离子或形式上来源于有机化合物或分子的阴离子是过渡金属化合物的独立元素且此处单独地描述。可利用此处描述的过渡金属阳离子、和此处描述的无机阴离子或此处描述的有机来源的阴离子的任何组合描述过渡金属化合物。
在方面中，可用于本公开的三聚催化剂体系的过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由第4族-第11过渡金属化合物组成。在实施方式中，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由第5族-第10过渡金属化合物组成；可替换地，第6族-第9过渡金属化合物组成。在某些实施方式中，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由第5族过渡金属化合物组成；可替换地，第6族过渡金属化合物组成；可替换地，第7族过渡金属化合物组成；可替换地，第8族过渡金属化合物组成；或可替换地，第9族过渡金属化合物组成。在其他实施方式中，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由钒化合物、铬化合物、钼化合物、铁化合物、钴化合物、镍化合物或铜化合物组成；可替换地，钒化合物；可替换地，铬化合物；可替换地，钼化合物；可替换地，铁化合物；可替换地，钴化合物；可替换地，镍化合物；或可替换地，铜化合物组成。
在另一个方面中，过渡金属化合物的过渡金属(一般的或特殊的)可具有从+1至+6的氧化态(有时写成1至6)。在某些实施方式中，过渡金属化合物的过渡金属(一般的或特殊的)可具有+2或+3的氧化态；或可替换地，过渡金属化合物的过渡金属可具有+3的氧化态。在其他实施方式中，过渡金属化合物的过渡金属(一般的或特殊的)可具有+1的氧化态；可替换地，+2；可替换地，+3；可替换地，+4；可替换地，+5；或可替换地，+6。应该注意，在某些术语中，当涉及过渡金属化合物时，可通过括号中的氧化态的罗马字母放置在过渡金属之后表示过渡金属化合物中的过渡金属(一般的或特殊的)的氧化态；例如，氯化铬(III)和氯化铬(II)分别代表在+3和+2氧化态的铬的氯化物化合物。
在方面中，适当的无机阴离子包含，但不限于，卤基、硫酸根、亚硫酸根、重亚硫酸根、氧化物、硝酸根、亚硝酸根、氢氧化物和氯酸根。在某些实施方式中，无机阴离子可以是卤基、硫酸根或硝酸根。在其他实施方式中，无机阴离子可以是卤基；可替换地，硫酸根；可替换地，亚硫酸根；可替换地，重亚硫酸根；可替换地，氧化物；可替换地，硝酸根；可替换地，亚硝酸根；可替换地，氢氧化物；或可替换地，氯酸根。在方面中，卤基可以是氟化物、氯化物、溴化物、或碘化物；可替换地，氟化物；可替换地，氯化物；可替换地，溴化物；或可替换地，碘化物。
在实施方式中，适当的无机过渡金属化合物(一般的或特殊的)可包括，或基本上由过渡金属卤化物、过渡金属硫酸根、过渡金属亚硫酸根、过渡金属重亚硫酸根、过渡金属硝酸根、过渡金属亚硝酸根、过渡金属氢氧化物、过渡金属氯酸根或其任何组合组成；可替换地，过渡金属卤化物、过渡金属硫酸根或过渡金属硝酸根组成。在某些实施方式中，过渡金属化合物(一般的或特殊的)可包括，或基本上由过渡金属卤化物；可替换地，过渡金属硫酸根；可替换地，过渡金属亚硫酸根；可替换地，过渡金属重亚硫酸根；可替换地，过渡金属硝酸根；可替换地，过渡金属亚硝酸根；可替换地，过渡金属氢氧化物；或可替换地，过渡金属氯酸根。在实施方式中，过渡金属卤化物可包括，或基本上由过渡金属氯化物、过渡金属溴化物或过渡金属碘化物；可替换地，过渡金属氯化物；可替换地，过渡金属溴化物；或可替换地，过渡金属碘化物。
在方面中，形式上来源于无机化合物的适当的阴离子可包含，但不限于，有机氧化物、羧酸基、酰胺、和β-二酮(例如，乙酰丙酮化物)。在某些实施方式中，形式上来源于无机化合物的适当的阴离子可以是，包括，或基本上由有机氧化物组成；可替换地，羧酸基；可替换地，酰胺；或可替换地，β-二酮组成。
在方面中，过渡金属化合物(一般的或特殊的)可包括，或基本上由过渡金属有机氧化物、过渡金属羧酸基、过渡金属酰胺、或过渡金属β-二酮组成。在实施方式中，过渡金属化合物(一般的或特殊的)可包括，或基本上由过渡金属羧酸盐或过渡金属β-二酮组成。在某些实施方式中，过渡金属化合物(一般的或特殊的)可包括，或基本上由过渡金属有机氧化物组成；可替换地，过渡金属羧酸基；可替换地，过渡金属酰胺、或可替换地，过渡金属β-二酮组成。在实施方式中，过渡金属有机氧化物可包括，或基本上由过渡金属烃氧化物或过渡金属取代的烃氧化物组成；可替换地，过渡金属烃氧化物；或可替换地，过渡金属取代的烃氧化物组成。在另一个方面中，用于此处描述的催化剂体系的过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由列举的过渡金属化合物的组合组成。
在实施方式中，任何过渡金属有机氧化物的有机氧化物(一般的或特殊的)可以是，包括，或基本上由，C1至C24有机氧化物组成；可替换地，C4至C19有机氧化物组成；或可替换地，C5至C12有机氧化物组成。
在实施方式中，有机氧化物可以是，包括，或基本上由烃氧化物或取代的烃氧化物组成；可替换地，烃氧化物；或可替换地，取代的烃氧化物。通常，可用于过渡金属烃氧化物和/或过渡金属取代的烃氧化物的烃氧化物组和/或取代的烃氧化物可与有机氧化物具有相同数目的碳原子，所述有机氧化物可被用作过渡金属有机氧化物。
在实施方式中，过渡金属有机氧化物的每一个有机氧化物可以是，包括，或基本上由如下组成：烷基氧化物(alkoxide)、取代的烷基氧化物、环烷基氧化物、取代的环烷基氧化物、芳基氧化物(aroxide)、取代的芳基氧化物、芳烷基氧化物、或取代的芳烷基氧化物；可替换地，烷基氧化物、环烷基氧化物、芳基氧化物、或芳烷基氧化物；可替换地，烷基氧化物或取代的烷基氧化物；可替换地，环烷基氧化物或取代的环烷基氧化物；可替换地，芳基氧化物或取代的芳基氧化物；或可替换地，芳烷基氧化物或取代的芳烷基氧化物。在某些实施方式中，过渡金属有机氧化物的每一个有机氧化物可以是，包括，或基本上由如下组成：烷基氧化物、环烷基氧化物、芳基氧化物、或芳烷基氧化物。在某些实施方式中，过渡金属有机氧化物的每一个有机氧化物可以是，包括，或基本上由如下组成：烷基氧化物；可替换地，取代的烷基氧化物；可替换地，环烷基氧化物；可替换地，取代的环烷基氧化物；可替换地，芳基氧化物；可替换地，取代的芳基氧化物；可替换地，芳烷基氧化物；或可替换地，取代的芳烷基氧化物。通常，烷基氧化物、取代的烷基氧化物、环烷基氧化物、取代的环烷基氧化物、芳基氧化物、取代的芳基氧化物、芳烷基氧化物和/或取代的芳烷基氧化物可与它的各自的有机氧化物组(或取代的烃氧化物组)或烃氧化物组具有相同数目的碳。
在实施方式中，每一个有机氧化物独立地可以是C1至C24烷基氧化物(取代的或未取代的)；可替换地，C1至C24烷基氧化物(取代的或未取代的)；或可替换地，C5至C12烷基氧化物(取代的或未取代的)。在某些实施方式中，过渡金属烃氧化物的每一个烷基氧化物(一般的或特殊的)独立地可以是甲基氧化物、乙基氧化物、丙基氧化物、丁基氧化物、戊基氧化物、己基氧化物、七氧化物、八氧化物、九氧化物、十氧化物、十一氧化物、或十二氧化物；可替换地，丁基氧化物、戊基氧化物、己基氧化物、七氧化物、八氧化物、九氧化物、十氧化物、十一氧化物、或十二氧化物；可替换地，戊基氧化物、己基氧化物、七氧化物、八氧化物、九氧化物、十氧化物、十一氧化物、或十二氧化物。在其他实施方式中，过渡金属烃氧化物的每一个烷基氧化物(一般的或特殊的)独立地可以是甲基氧化物；可替换地，乙基氧化物；可替换地，丙基氧化物；可替换地，丁基氧化物；可替换地，戊基氧化物；可替换地，己基氧化物；可替换地，七氧化物；可替换地，八氧化物；可替换地，九氧化物；可替换地，十氧化物；可替换地，十一氧化物；或可替换地，十二氧化物。在实施方式中，取代的烷基氧化物的每一个取代基独立地可以是卤基或氢羧基基团；可替换地，卤基；或可替换地氢羧基基团。此处独立地公开取代基卤基和氢羧基基团，且其可无限制地用于进一步描述取代的烷基氧化物基团。
在实施方式中，每一个有机氧化物独立地可以是C6至C24芳基氧化物(取代的或未取代的)；可替换地，C6至C19芳基氧化物(取代的或未取代的)；或可替换地，C6至C12芳基氧化物(取代的或未取代的)。在某些实施方式中，过渡金属烃氧化物的每一个有机氧化物(一般的或特殊的)独立地可以是苯基氧化物或取代的苯基氧化物；可替换地，苯基氧化物；或可替换地，取代的苯基氧化物。在实施方式中，每一个取代的苯基氧化物可以独立地是2-取代的苯基氧化物、4-取代的苯基氧化物、2,4-取代的苯基氧化物、2,6-双取代的苯基氧化物、或2,4,6-三取代的苯基氧化物；可替换地，2-取代的苯基氧化物或4-取代的苯基氧化物；可替换地，2,4-取代的苯基氧化物或2,6-双取代的苯基氧化物；2-取代的苯基氧化物；可替换地，4-取代的苯基氧化物；可替换地，2,4-取代的苯基氧化物；可替换地，2,6-双取代的苯基氧化物；或可替换地，2,4,6-三取代的苯基氧化物。此处独立地公开可用于取代的苯基氧化物的取代基，且其可无限制地用于进一步描述取代的苯基氧化物基团。
在方面中，过渡金属酰胺的每一个酰胺基团(一般的或特殊的)独立地可以是C2至C24酰胺。在某些实施方式中，过渡金属酰胺的每一个酰胺基团(一般的或特殊的)独立地可以是C3至C19。在其他实施方式中，过渡金属酰胺的每一个酰胺基团(一般的或特殊的)独立地可以是C4至C12酰胺。
在方面中，过渡金属β-二酮的每一个β-二酮基团(一般的或特殊的)独立地可以是C5至C24β-二酮基团；可替换地，C5至C19β-二酮基团；或可替换地，C5至C12β-二酮基团。在实施方式中，β-二酮可以是，包括，或基本上由如下组成：乙酰丙酮化物(可替换地，2,4-戊二酮)、六氟乙酰丙酮(可替换地，1,1,1,5,5,5-六氟-2,4-戊二酮)、苯甲酰丙酮、或1,3-联苯-1,3-丙二酮；可替换地，乙酰丙酮化物；可替换地，六氟乙酰丙酮；可替换地，苯甲酰丙酮；或可替换地，1,3-联苯-1,3-丙二酮。
在方面中，过渡金属羧酸盐的每一个羧酸根(也可将其称为羧酸根基团)(一般的或特殊的-例如，羧酸铬)独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：C2至C25羧酸根；可替换地，C3至C25羧酸根；可替换地，C4至C20羧酸根；或可替换地，C5至C12羧酸根。在实施方式中，羧酸根可具有从一至四个羧酸根分子；可替换地，两个至四个羧酸根分子；可替换地，两个至三个羧酸根分子。在某些实施方式中，羧酸根可只具有一个羧酸根分子；可替换地，只具有两个羧酸根分子；可替换地，只具有三个羧酸根分子；或可替换地，只具有四个羧酸根分子。
在方面中，羧酸根可具有式(-O2C)rR1c。通常，此处独立地描述r和R1C和可利用此处描述的具有r和R1C的任何组合描述具有式(-O2C)rR1c的羧酸根。
在方面中，具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r可以是从1至4的整数；可替换地，从2至4；或可替换地，从2至3。在某些实施方式中，具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r可以是1；可替换地，2；可替换地，3；或可替换地，4。当r是1时，具有式(-O2C)rR1c的羧酸根相当于具有式-O2CR2c的一元羧酸根，和当r是1时，可将具有式-O2CR2c的一元羧酸根的R2c的方面和实施方式用作具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的R1c的方面和实施方式。
在其中r是1的实施方式中，R1C可以是C1至C24有机基团；可替换地，C2至C24有机基团；可替换地，C2至C24有机基团；可替换地，C3至C19有机基团；或可替换地，C4至C11有机基团。在其中r是2的实施方式中，R1c可以是键或C1至C23亚有机基团；可替换地，键；可替换地，C1至C23亚有机基团；可替换地，C3至C18亚有机基团；或可替换地，C4至C10亚有机基团。在其中r是3的实施方式中，R1C可以是C1至C22有机基团；可替换地，C2至C22有机基团；可替换地，C3至C17有机基团；可替换地，C4至C9有机基团。在其中r是4的实施方式中，R1C可以是C2至C21有机基团；可替换地，C3至C16有机基团；可替换地，C4至C8有机基团。
在其中r是1的实施方式中，R1C可以是由惰性官能团组成的C1至C24有机基团；可替换地，由惰性官能团组成的C2至C24有机基团；可替换地，由惰性官能团组成的C3至C19有机基团；或可替换地，由惰性官能团组成的C4至C11有机基团。在其中r是2的实施方式中，R1C可以是键或由惰性官能团组成的C1至C23亚有机基团；可替换地，键；可替换地，由惰性官能团组成的C1至C23亚有机基团；可替换地，由惰性官能团组成的C3至C18亚有机基团；或可替换地，由惰性官能团组成的C4至C10亚有机基团。在其中r是3的实施方式中，R1C可以是由惰性官能团组成的C1至C22有机基团；可替换地，由惰性官能团组成的C2至C22有机基团；可替换地，由惰性官能团组成的C3至C17有机基团；或可替换地，由惰性官能团组成的C4至C9有机基团。在其中r是4的实施方式中，R1C可以是由惰性官能团组成的C2至C21有机基团；可替换地，由惰性官能团组成的C3至C16有机基团；或可替换地，由惰性官能团组成的C4至C8有机基团。
在其中r是1的实施方式中，R1C可以是烃基基团或取代的烃基基团；可替换地，烃基基团；或可替换地，取代的烃基基团。通常，可被用作R1C的烃基基团和/或取代的烃基基团可与可被用作R1C的任何有机基团具有相同的碳原子数目。在其中r是2的实施方式中，R1C可以是键、亚烃基基团、或取代的亚烃基基团；可替换地，键或亚烃基基团；可替换地，键或取代的亚烃基基团；可替换地，键；可替换地，亚烃基基团；或可替换地，取代的亚烃基基团。通常，可被用作R1C的亚烃基基团和/或取代的亚烃基基团可与可被用作R1C的任何亚有机基团具有相同的碳原子数目。在其中r是3的实施方式中，R1C可以是烃类基团或取代的烃类基团；可替换地，烃类基团；或可替换地，取代的烃类基团。通常，可被用作R1C的烃类基团和/或取代的烃类基团可与可被用作R1C的任何有机基团具有相同的碳原子数目。在其中r是4的实施方式中，R1C可以是烃类基团或取代的烃类基团；可替换地，烃类基团；或可替换地，取代的烃类基团。通常，可被用作R1C的烃类基团和/或取代的烃类基团可与可被用作R1C的任何有机基团具有相同的碳原子数目。在实施方式中，取代的烃基基团、取代的亚烃基基团、和/或取代的烃类基团的每一个取代基独立地可以是卤基、烃基基团、或氢羧酸根；可替换地，卤基或烃基基团；可替换地，卤基或氢羧酸根；可替换地，烃基基团或氢羧酸根；可替换地，卤基；可替换地，烃基基团；或可替换地，氢羧基基团根。此处独立地公开卤基、烃基基团、和氢羧酸根(也被称为非氢取代基或非氢取代基团)。这些取代基团可无限制地被用于进一步描述可被用作R1c的任何取代的烃基基团、取代的亚烃基基团和/或取代的烃类基团。
在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的实施方式中，R1C可以是链烷基、取代的链烷基、链烯烃基团、取代的链烯烃基团、环链烷基、取代的环链烷基、环烯烃基、取代的环烯烃基、芳烃基、取代的芳烃基、芳链烷基、或取代的芳链烷基；或可替换地，链烷基、链烯烃基团、环链烷基、环烯烃基、芳烃基、或芳链烷基。在某些实施方式中，具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的R1C可以是链烷基或取代的链烷基；可替换地，链烯烃基团或取代的链烯烃基团；可替换地，环链烷基或取代的环链烷基；可替换地，环烯烃基或取代的环烯烃基；可替换地，芳烃基或取代的芳烃基；或可替换地，芳链烷基或取代的芳链烷基。在其他实施方式中，具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的R1C可以是链烷基；可替换地，取代的链烷基；可替换地，链烯烃基团；可替换地，取代的链烯烃基团；可替换地，环链烷基；可替换地，取代的环链烷基；可替换地，环烯烃基；可替换地，取代的环烯烃基；可替换地，芳烃基；可替换地，取代的芳烃基；可替换地，芳链烷基；或可替换地，取代的芳链烷基。通常，链烷基、取代的链烷基、链烯烃基团、取代的链烯烃基团、环链烷基、取代的环链烷基、环烯烃基、取代的环烯烃基、芳烃基、取代的芳烃基、芳链烷基、或取代的芳链烷基可与为可被用于具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的R1C的有机和烃类基团具有相同的碳原子数目，其中r是3和/或4。
在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3的方面中，r可以是C1至C22链烷基团(取代的或未取代的)；可替换地，C2至C22链烷基团(取代的或未取代的)；可替换地，C3至17链烷基团(取代的或未取代的)；或可替换地，C4至C9链烷基团(取代的或未取代的)。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是4的方面中，R1c可以是C2至C21链烷基团(取代的或未取代的)；可替换地，C3-C16链烷基团(取代的或未取代的)；或可替换地，C4-C8链烷基团(取代的或未取代的)。在某些实施方式中，其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4，R1C可以是乙烷基团、丙烷基团、丁烷基团、戊烷基团、己烷基团、庚烷基团、辛烷基团、壬烷基团、癸烷基团、十一烷基团、十二烷基团、十三烷基团、十四烷基团、十五烷基团、十六烷基团、十七烷基团、十八烷基团、或十九烷基团。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的其他实施方式中，R1C可以是丁烷基团、戊烷基团、己烷基团、庚烷基团、辛烷基团、壬烷基团、癸烷基团、十一烷基团。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的其他实施方式中，R1C可以是丁烷基团、戊烷基团、己烷基团、庚烷基团、或辛烷基团。在实施方式中，可取代可被用作具有式-O2CR2的羧酸根的R1c的任何链烷基团(一般的或特殊的)。在实施方式中，可被用作R1c的取代的链烷的每一个取代基(一般的或特殊的)独立地可以是卤基或氢羧基基团；可替换地，卤基；或可替换地氢羧基基团。此处独立地公开卤基取代基和氢羧基取代基基团，且其可无限制地用于进一步描述可被用作R1C的取代的链烷基团(一般的或特殊的)。
在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3的方面中，r可以是C1至C22链烯烃基团(取代的或未取代的)；可替换地，C2至C22链烯烃基团(取代的或未取代的)；可替换地，C3至C17链烯烃基团(取代的或未取代的)；或可替换地，C4至C9链烯烃基团(取代的或未取代的)。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是4的方面中，R1c可以是C2至C21链烯烃基团(取代的或未取代的)；可替换地，C3-C16链烯烃基团(取代的或未取代的)；或可替换地，C4-C8链烯烃基团(取代的或未取代的)。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的其他实施方式中，R1C可以是丁烯基团、戊烯基团、己烯基团、庚烯基团、辛烯基团、壬烯基团、癸烯基团、或十一烯基团。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的其他实施方式中，R1C可以是丁烯基团、戊烯基团、己烯基团、庚烯基团、或辛烯基团。在实施方式中，可被用作R1c的取代的烯烃的每一个取代基(一般的或特殊的)独立地可以是卤基或氢羧基基团；可替换地，卤基；或可替换地氢羧基基团。此处独立地公开卤基取代基和氢羧基取代基基团，且其可无限制地用于进一步描述可被用作R1C的取代的链烯烃基团(一般的或特殊的)。
在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的方面中，R1c可以是C3-C21环链烷基团(取代的或未取代的)；可替换地，C5-C16环链烷基团(取代的或未取代的)；或可替换地，C5-C10环链烷基团(取代的或未取代的)。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的实施方式中，R1c可以是环戊烷基团、取代的环戊烷基团、环己烷基团、取代的环己烷基团、环庚烷基团、或取代的环庚烷基团；可替换地，环戊烷基团、取代的环戊烷基团、环己烷基团、或取代的环己烷基团；可替换地，环戊烷基团或取代的环戊烷基团；或可替换地，环己烷基团或取代的环己烷基团。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的实施方式中，R1c可以是环戊烷基团、或环己烷基团。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的还有的其他实施方式中，R1c可以是环戊烷基团；可替换地，取代的环戊烷基团；可替换地，环己烷基团；或可替换地，取代的环己烷基团。在实施方式中，可被用作R1C的取代的烷链烷基团(一般的或特殊的)的每一个取代基独立地可以是卤基、烃基基团、或氢羧酸根；可替换地，卤基或烃基基团；可替换地，卤基或氢羧酸根；可替换地，烃基基团或氢羧酸根；可替换地，卤基；可替换地，烃基基团；或可替换地，氢羧基基团根。
在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的方面中，R1c可以是C3-C21环烯基团(取代的或未取代的)；可替换地，C5-C16环烯基团(取代的或未取代的)；或可替换地，C5-C10环烯基团(取代的或未取代的)。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的实施方式中，R1c可以是环戊烯基团、取代的环戊烯基团、环己烯基团、取代的环己烯基团、环庚烯基团、或取代的环庚烯基团；可替换地，环戊烯基团、取代的环戊烯基团、环己烯基团、取代的环己烯基团；可替换地，环戊烯基团或取代的环戊烯基团；或可替换地，环己烯基团或取代的环己烯基团。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的实施方式中，R1c可以是环戊烯基团、或环己烯基团。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的还有的其他实施方式中，R1c可以是环戊烯基团；可替换地，取代的环戊烯基团；可替换地，环己烯基团；或可替换地，取代的环己烯基团。在实施方式中，可被用作R1C的取代的环烯基团(一般的或特殊的)的每一个取代基独立地可以是卤基、烃基基团、或氢羧酸根；可替换地，卤基或烃基基团；可替换地，卤基或氢羧酸根；可替换地，烃基基团或氢羧酸根；可替换地，卤基；可替换地，烃基基团；或可替换地，氢羧基基团根。
在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的方面中，R1c可以是C6-C21苯基(取代的或未取代的)，或C10-C21萘基(取代的或未取代的)；可替换地，C6-C21苯基(取代的或未取代的)；或可替换地，C10-C21萘基(取代的或未取代的)。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的另一个方面中，R1c可以是C6-C16苯基(取代的或未取代的)，或C10-C16萘基(取代的或未取代的)；可替换地，C6-C16苯基(取代的或未取代的)；或可替换地，C10-C16萘基(取代的或未取代的)。在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的另一个方面中，R1c可以是C6-C16苯基(取代的或未取代的)。在实施方式中，可被用作R1C的取代的苯基(一般的或特殊的)或取代的萘基每一个取代基独立地可以是卤基、烃基基团、或氢羧酸根；可替换地，卤基或烃基基团；可替换地，卤基或氢羧酸根；可替换地，烃基基团或氢羧酸根；可替换地，卤基；可替换地，烃基基团；或可替换地，氢羧基基团根。
在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是3和/或4的方面中，R1c可以是C7-C21甲苯基(取代的或未取代的)；可替换地，C7-C16甲苯基(取代的或未取代的)；可替换地，C7-C10甲苯基(取代的或未取代的)。在实施方式中，可被用作R1C的取代的甲苯基(一般的或特殊的)的每一个取代基独立地可以是卤基、烃基基团、或氢羧酸根；可替换地，卤基或烃基基团；可替换地，卤基或氢羧酸根；可替换地，烃基基团或氢羧酸根；可替换地，卤基；可替换地，烃基基团；或可替换地，氢羧基基团根。
此处独立地公开卤基、烃基取代基、和氢羧基取代基(也被称为非氢取代基或非氢取代基团)。这些取代基可无限制地用于进一步描述任何取代的烃基(一般的或特殊的)、取代的链烷基团(一般的或特殊的)、取代的烯烃基团(一般的或特殊的)、取代的环烷基团(一般的或特殊的)、取代的环烯烃基团(一般的或特殊的)、取代的芳烃基团(一般的或特殊的)、取代的芳基链烷基团(一般的或特殊的)，其可被用作具有此处描述的式(-O2C)rR1c的羧酸根的R1c。
在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是2的方面中，具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的R1c、任何一般的或特殊的有机基团、由惰性官能团组成的有机基团、烃类基团、链烷基团、取代的链烷基团、链烯烃基团、取代的链烯烃基团、环烷基团、取代的环烷基团、环烯烃基团、取代的环烯烃基团、芳烃基团、取代的芳烃基团、芳链烷基团、或取代的芳链烷基团可能指的是，通过后缀-亚基取代有机的-ic、烃的-on、一般的或特殊的链烷(包含芳基链烷)的-ane、一般的或特殊的烯烃(包含环烯烃)的-e、或一般的或特殊的芳烃的-ene。例如，当r是2时，一般的有机基团和烃类基团将变成亚有机基团和亚烃类基团(分别地)，一般的链烷和环烷基将变成亚烃基和环亚烃基(分别地)，一般的甲基基团和乙基基团将变成亚甲基基团和亚乙基(分别地)，一般的烯烃基团将变成亚烯烃基团，特殊的乙烯基团将变成亚乙烯基团，一般的芳烃基团将变成亚芳基基团，和一般的芳基链烷基团将变成芳基亚烃基基团。同样地，在其中具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的r是1的方面中，具有式(-O2C)rR1c的羧酸根的R1c，任何一般的或特殊的有机基团、由惰性官能团组成的有机基团、烃类基团、链烷基团、取代的链烷基团、链烯烃基团、取代的链烯烃基团、环烷基团、取代的环烷基团、环烯烃基团、取代的环烯烃基团、芳烃基团、取代的芳烃基团、芳链烷基团、或取代的芳链烷基团可能指的是，通过后缀-基取代有机的-ic、烃的-on、一般的或特殊的链烷(包含芳基链烷)的-ane、一般的或特殊的烯烃(包含环烯烃)的-e、或一般的或特殊的芳烃的-ene。例如，当r是1时，一般的有机基团和烃类基团将变成亚有机基团和亚烃基(分别地)，一般的链烷和环烷基将变成烷基和环烷基(分别地)，特殊的甲烷基团和乙烷基团将变成甲基基团和乙基(分别地)，一般的烯烃基团将变成烯基，特殊的乙烯基团将变成次乙基，一般的芳烃基团将变成芳基基团，和一般的芳基链烷基团将变成芳烷基基基团。容易地看到这些命名规格到其他一般的或特殊的基团的延伸，和一般的到特殊的基团之间的常用名变化(例如苯基到亚苯基基团或苯基，等等)。
在其中羧酸根具有超过一个羧酸根部分的非限制性实施方式中，每一个羧酸根独立地可以是，包括，或基本上由草酸根、丙二酸根(1,3-丙二酸根)、琥珀酸根(1,4-丁二酸根)、戊二酸根(1,5-戊二酸根)、己二酸根(1,6-己二酸根)、庚二酸根(1,7-庚二酸根)、辛二酸根(1,8-辛二酸根)、马来酸根、延胡索酸根、丁二炔二羧酸根、邻苯二甲酸根(1,2-苯二羧酸根)、间苯二酸根(1,3-苯二羧酸根)、对苯二酸根(1,4-苯二羧酸根)、亚苯基二乙酸根、柠檬酸根、或其任何组合；可替换地，丙二酸根(1,3-丙二酸根)、琥珀酸根(1,4-丁二酸根)、戊二酸根(1,5-戊二酸根)、己二酸根(1,6-己二酸根)、庚二酸根(1,7-庚二酸根)、辛二酸根(1,8-辛二酸根)、马来酸根、延胡索酸根、丁二炔二羧酸根、邻苯二甲酸根(1,2-苯二羧酸根)、间苯二酸根(1,3-苯二羧酸根)、对苯二酸根(1,4-苯二羧酸根)、亚苯基二乙酸根，或其任何组合；可替换地，丙二酸根(1,3-丙二酸根)、琥珀酸根(1,4-丁二酸根)、戊二酸根(1,5-戊二酸根)、己二酸根(1,6-己二酸根)、庚二酸根(1,7-庚二酸根)、辛二酸根(1,8-辛二酸根)，或其任何组合；可替换地，马来酸根、延胡索酸根，或其任何组合；可替换地，丁二炔二羧酸根；可替换地，邻苯二甲酸根(1,2-苯二羧酸根)、间苯二酸根(1,3-苯二羧酸根)、对苯二酸根(1,4-苯二羧酸根)，或其任何组合；或可替换地，亚苯基二乙酸根。在其中羧酸根具有超过一个羧酸根分子的非限制性实施方式中，每一个羧酸根独立地可以是，包括，或基本上由草酸根组成；可替换地，丙二酸根(1,3-丙二酸根)；可替换地，琥珀酸根(1,4-丁二酸根)；可替换地，戊二酸根(1,5-戊二酸根)；可替换地，己二酸根(1,6-己二酸根)；可替换地，庚二酸根(1,7-庚二酸根)；可替换地，辛二酸根(1,8-辛二酸根)；可替换地，马来酸根；可替换地，延胡索酸根；可替换地，丁二炔二羧酸根；可替换地，邻苯二甲酸根(1,2-苯二羧酸根)；可替换地，间苯二酸根(1,3-苯二羧酸根)；可替换地，对苯二酸根(1,4-苯二羧酸根)；可替换地，亚苯基二乙酸根，或可替换地，柠檬酸根。
在方面和在任何实施方式中，羧酸根可以是，包括，或基本上由具有式-O2CR2c.的单羧酸根组成。在具有式-O2CR2c.的羧酸根的实施方式中，R2c可以是有机基团；可替换地，由惰性官能团组成的有机基团；可替换地，烃基、或取代的烃基；可替换地，烃基；或可替换地，取代的烃基基团。通常，R2C(无论有机基团，由惰性官能团组成的有机基团、烃基、和/或取代基烃基)可以是C1至C24基团；可替换地，C2至C24基团；可替换地，C3至C19基团；或可替换地，C4至C11基团。在某些实施方式中，烃基基团(取代的或未取代的)可以是烷基基团、烯基基团、环烷基基团、环烯基基团、芳基基团、或芳烷基基团；可替换地，烷基基团、环烷基基团、芳基基团、或芳烷基；可替换地，烷基基团、芳基基团、或芳烷基基团；可替换地，烷基基团或芳基基团；可替换地，烷基基团；可替换地，烯基基团；可替换地，环烷基基团；可替换地，环烯基基团；可替换地，芳基基团；或可替换地，芳烷基基团。
在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2C可以是烷基基团、取代的烷基基团、烯基基团、取代的烯基基团、环烷基基团、取代的环烷基基团、环烯基基团、取代的环烯基基团、芳基基团、取代的芳基基团、芳烷基基团、或取代的芳烷基基团；或可替换地，烷基基团、烯基基团、环烷基基团、环烯基基团、芳基基团或芳烷基基团。在某些实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2C可以是烷基基团或取代的烷基基团；可替换地，烯基基团或取代的烯基基团；可替换地，环烷基基团或取代的环烷基基团；可替换地，环烯基基团或取代的环烯基基团；可替换地，芳基基团或取代的芳基基团；或可替换地，芳烷基基团或取代的芳烷基基团。在其他实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2C可以是烷基基团；可替换地，取代的烷基基团；可替换地，烯基基团；可替换地，取代的烯基基团；可替换地，环烷基基团；可替换地，取代的环烷基基团；可替换地，环烯基基团；可替换地，取代的环烯基基团；可替换地，芳基基团；可替换地，取代的芳基基团；可替换地，芳烷基基团；或可替换地，取代的芳烷基基团。通常，烷基基团、取代的烷基基团、烯基基团、取代的烯基基团、环烷基基团、取代的环烷基基团、环烯基基团、取代的环烯基基团、芳基基团、取代的芳基基团、芳烷基基团、或取代的芳烷基基团可与描述的可被用作具有式-O2CR2的羧酸盐内的R2c的有机基团、由惰性基团组成的有机基团、和烃类基团(取代的或未取代的)具有相同数目的碳原子。
在实施方式中，可被用作具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c的烷基基团(取代的或未取代的)可以是C1-C24烷基基团(取代的或未取代的)；可替换地，C2-C24烷基基团(取代的或未取代的)；可替换地，C3-C19烷基基团(取代的或未取代的)；或可替换地，C4-C11烷基基团(取代的或未取代的)。在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、或十一基。在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是丁基；可替换地，戊基；可替换地，己基；可替换地，庚基；可替换地，辛基；可替换地，壬基；可替换地，癸基；或可替换地，十一基。在实施方式中，可取代可被用作具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c的任何烷基基团(一般的或特殊的)。在实施方式中，可被用作R2c的取代的烷基的每一个取代基(一般的或特殊的)独立地可以是卤基或氢羧基基团；可替换地，卤基；或可替换地，氢羧基基团。此处独立地公开卤基取代基和氢羧基取代基基团，且其可无限制地用于进一步描述可被用作R2C的取代的烷基基团(一般的或特殊的)。
在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是正丁基基团、仲丁基基团、异丁基基团、叔丁基基团、正戊基基团、3-戊基基团、异戊基基团、新-戊基基团、正-己基基团、2-己基基团、3-己基基团、2-甲基戊烷-1-基基团、2-乙基丁烷-1-基、2-甲基戊烷2-基基团、2,3-二甲基丁烷-1-基基团、2,3-二甲基丁烷-2-基基团、正-庚基基团、庚烷-2-基基团、庚烷-3-基基团、庚烷-4-基基团、2-甲基己烷-1-基基团、2-乙基戊烷-1-基基团、2-甲基己烷-2-基基团、2,3-二甲基戊烷-1-基基团、2,3-二甲基戊烷-2-基基团、2,3,3-三甲基戊烷-1-基基团、2,3,3-三甲基戊烷-2-基基团、正-辛基基团、2-辛基基团、3-辛基基团、4-辛基基团、2-甲基庚烷-1-基基团、2-乙基庚烷-1-基基团、2-甲基庚烷-2-基基团、正-壬基基团、2-壬基基团、3-壬基基团、4-壬基基团、5-壬基基团、正-癸基基团、2-癸基基团、3-癸基基团、4-癸基基团、5-癸基基团、或正-十一烷基基团。在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是正丙基基团；可替换地，异丙基基团；可替换地，正丁基基团；可替换地，仲丁基基团；可替换地，异丁基基团；可替换地，叔丁基基团；可替换地，正戊基基团；可替换地，3-戊基基团；可替换地，异戊基基团；可替换地，新-戊基基团；可替换地，正-己基基团；可替换地，2-己基基团；可替换地，3-己基基团；可替换地，2-甲基戊烷-1-基基团；可替换地，2-乙基丁烷-1-基；可替换地，2-甲基戊烷-2-基基团；可替换地，2,3-二甲基丁烷-1-基基团；可替换地，2,3-二甲基丁烷-2-基基团；可替换地，正-庚基基团；可替换地，庚烷-2-基基团；可替换地，庚烷-3-基基团；可替换地，庚烷-4-基基团；可替换地，2-甲基己烷-1-基基团；可替换地，2-乙基戊烷-1-基基团；可替换地，2-甲基己烷-2-基基团；可替换地，2,3-二甲基戊烷-1-基基团；可替换地，2,3-二甲基戊烷-2-基基团；可替换地，2,3,3-三甲基戊烷-1-基基团；可替换地，2,3,3-三甲基戊烷-2-基基团；可替换地，正-辛基基团；可替换地，2-辛基基团；可替换地，3-辛基基团；可替换地，4-辛基基团；可替换地，2-甲基庚烷-1-基基团；可替换地，2-乙基庚烷-1-基基团；可替换地，2-甲基庚烷-2-基基团；可替换地，正-壬基基团；可替换地，2-壬基基团；可替换地，3-壬基基团；可替换地，4-壬基基团；可替换地，5-壬基基团；可替换地，正-癸基基团；可替换地，2-癸基基团；可替换地，3-癸基基团；可替换地，4-癸基基团；可替换地，5-癸基基团；或可替换地，正-十一烷基基团。在实施方式中，可取代可被用作具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c的任何烷基基团(一般的或特殊的)。在实施方式中，可被用作R2c的取代的烷基的每一个取代基(一般的或特殊的)独立地可以是卤基或氢羧基基团；可替换地，卤基；或可替换地，氢羧基基团。此处独立地公开卤基取代基和氢羧基取代基基团，且其可无限制地用于进一步描述可被用作R2C的取代的烷基基团(一般的或特殊的)。
在实施方式中，可被用作具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c的烯基基团(取代的或未取代的)可以是C2-C24烯基基团(取代的或未取代的)；可替换地，C3-C19烯基基团(取代的或未取代的)；或可替换地，C4-C11烯基基团(取代的或未取代的)。在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基、十一碳烯基、十二碳烯基、十三碳烯基、十四碳烯基、十五碳烯基、十六碳烯基、十七碳烯基、十八碳烯基、或十九碳烯基；可替换地，丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基、或十一碳烯基。在某些实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是乙烯基；可替换地，丙烯基；可替换地，丁烯基；可替换地，戊烯基；可替换地，己烯基；可替换地，庚烯基；可替换地，辛烯基；可替换地，壬烯基；可替换地，癸烯基；或可替换地，十一碳烯基。在实施方式中，可取代可被用作具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c的任何烯基基团(一般的或特殊的)。在实施方式中，可被用作R2c的取代的烯基的每一个取代基(一般的或特殊的)独立地可以是卤基或氢羧基基团；可替换地，卤基；或可替换地，氢羧基基团。此处独立地公开卤基取代基和氢羧基取代基基团，且其可无限制地用于进一步描述可被用作R2C的取代的烷基基团(一般的或特殊的)。
在实施方式中，可被用作具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c的环烷基团(取代的或未取代的)可以是C3-C24环烷基团(取代的或未取代的)；可替换地，C3-C19环烷基团(取代的或未取代的)；或可替换地，C4-C11环烷基团(取代的或未取代的)。在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是环戊基、取代的环戊基、环己基、或取代的环己基。在某些实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是环戊基或取代的环戊基；可替换地，环己基或取代的环己基。在某些实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是环戊基或环己基。在其他实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是环戊基；可替换地，取代的环戊基；可替换地，环己基；或可替换地，取代的环己基。在实施方式中，可被用作R2c的取代的环烷烃基的每一个取代基(一般的或特殊的)独立地可以是卤基、烃基、或氢羧基基团；可替换地，卤基或烃基；可替换地，卤基或氢羧基基团；可替换地，烃基或氢羧基基团；可替换地，卤基；可替换地，烃基；或可替换地，氢羧基基团。
在方面中，可被用作具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c的芳基(取代的或未取代的)可以是C6-C24芳基(取代的或未取代的)；可替换地，C6-C19芳基(取代的或未取代的)；或可替换地，C6-C11芳基(取代的或未取代的)。在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是苯基、取代的苯基、奈基、或取代的奈基；或可替换地，苯基或取代的苯基；可替换地，奈基、或取代的奈基。在某些实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是苯基或奈基。在其他实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是苯基；可替换地，取代的苯基；可替换地，奈基；或可替换地，取代的奈基。在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是2-取代的苯基、3-取代的苯基、4-取代的苯基、2,4-二取代的苯基、2,6-二取代的苯基、3,5-二取代的苯基、或2,4,6-三取代的苯基。在其他实施方式中，R2c取代的苯基可以是2-取代的苯基、4-取代的苯基、2,4-二取代的苯基、或2,6-二取代的苯基；可替换地，3-取代的苯基或3,5-二取代的苯基；可替换地，2-取代的苯基或4-取代的苯基；可替换地，2,4-二取代的苯基或2,6-二取代的苯基；可替换地，2-取代的苯基；可替换地，3-取代的苯基；可替换地，4-取代的苯基；可替换地，2,4-二取代的苯基；可替换地，2,6-二取代的苯基；可替换地，3,5-二取代的苯基；或可替换地，2,4,6-三取代的苯基。在实施方式中，可被用作R2c的芳基(一般的或特殊的)、取代的苯基(一般的或特殊的)、或取代的奈基(一般的或特殊的)的每一个取代基独立地可以是卤基、烃基、或氢羧基基团；可替换地，卤基或烃基；可替换地，卤基或氢羧基基团；可替换地，烃基或氢羧基基团；可替换地，卤基；可替换地，烃基；或可替换地，氢羧基基团。
在方面中，可被用作具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c的芳烷基(取代的或未取代的)可以是C7-C24芳烷基(取代的或未取代的)；可替换地，C7-C19芳烷基(取代的或未取代的)；或可替换地，C7-C11芳烷基(取代的或未取代的)。在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是苄基或取代的苄基。在实施方式中，具有式-O2CR2c的羧酸根的R2c可以是苄基；或可替换地，取代的苄基。在实施方式中，可被用作R2c的芳烷基(一般的或特殊的)的每一个取代基独立地可以是卤基、烃基、或氢羧基基团；可替换地，卤基或烃基；可替换地，卤基或氢羧基基团；可替换地，烃基或氢羧基基团；可替换地，卤基；可替换地，烃基；或可替换地，氢羧基基团。
此处独立地公开卤基、烃基取代基、和氢羧基取代基基团(也被称为非-氢取代基或非-氢取代基团)。这些取代基团可无限制地用于进一步描述此处描述的任何取代的烃基(一般的或特殊的)、取代的烷基(一般的或特殊的)、取代的烯基(一般的或特殊的)、取代的环烷基(一般的或特殊的)、取代的环烯基(一般的或特殊的)、取代的芳基(一般的或特殊的)、取代的芳烷基(一般的或特殊的)。
在实施方式中，取代的R2C苯基可以是甲苯基、二甲苯基、或三甲苯基；可替换地，甲苯基；可替换地，二甲苯基、或可替换地，三甲苯基。在某些实施方式中，R2c甲苯基可以是邻-甲苯基、间-甲苯基、或对-甲苯基；可替换地，邻-甲苯基；可替换地，间-甲苯基；或可替换地，对-甲苯基。在实施方式中，R2c二甲苯基可以是2,3-二甲苯基、2,4-二甲苯基、2,5-二甲苯基、2,6-二甲苯基、3,4-二甲苯基、或3,5-二甲苯基；可替换地，2,4-二甲苯基或2,6-二甲苯基；可替换地，2,3-二甲苯基；可替换地，2,4-二甲苯基；可替换地，2,5-二甲苯基；可替换地，2,6-二甲苯基；可替换地，3,4-二甲苯基；或可替换地，3,5-二甲苯基。
在方面中，过渡金属羧酸盐的每一个一元羧酸基(一般的或特殊的)独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：醋酸基、丙酸基、丁酸基、戊酸基、己酸基、庚酸基、辛酸基、壬酸基、癸酸基、十一烷酸基、十二烷酸基、十三烷酸基、十四烷酸基、十五烷酸基、十六烷酸基、十七烷酸基、十八烷酸基、或其任何组合组成；可替换地，丙酸基、丁酸基、戊酸基、己酸基、庚酸基、辛酸基、壬酸基、癸酸基、十一烷酸基、十二烷酸基、十三烷酸基、十四烷酸基、十五烷酸基、十六烷酸基、十七烷酸基、十八烷酸基、或其任何组合；或可替换地，戊酸盐、己酸盐、庚酸盐、辛酸盐、壬酸盐、癸酸盐、十一烷酸盐、十二烷酸盐或其任何组合。在某些实施方式中，过渡金属羧酸盐的每一个一元羧酸基(一般的或特殊的)独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：醋酸基、丙酸基、正丁酸基、异丁酸基、戊酸基(正戊酸基)、新-戊酸基、己酸基(正-己酸基)、正庚酸基、辛酸基(正-辛酸基)、2-乙基己酸基、正-壬酸基、癸酸基(正-癸酸基)、正-十一烷酸基、十二酸基(正-十二烷酸基)、硬脂酸基(正-十三烷酸基)，或其任何组合；可替换地，丙酸基、正丁酸基、异丁酸基、戊酸基(正戊酸基)、新-戊酸基、己酸基(正-己酸基)、正庚酸基、辛酸基(正-辛酸基)、2-乙基己酸基、正-壬酸基、癸酸基(正-癸酸基)、正-十一烷酸基、十二酸基(正-十二烷酸基)、硬脂酸基(正-十三烷酸基)，或其任何组合；可替换地，戊酸基(正戊酸基)、新-戊酸基、己酸基(正-己酸基)、正庚酸基、辛酸基(正-辛酸基)、2-乙基己酸基、正-壬酸基、癸酸基(正-癸酸基)、正-十一烷酸基、十二酸基(正-十二烷酸基)，或其任何组合；或可替换地，戊酸基(正戊酸基)、辛酸基(正-辛酸基)、或2-乙基己酸基。在某些实施方式中，过渡金属羧酸基的每一个一元羧酸基(一般的或特殊的)独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：醋酸基；可替换地，丙酸基；可替换地，丁酸基；可替换地，正丁酸基；可替换地，异丁酸基；可替换地，戊酸基；可替换地，戊酸基(正戊酸基)；可替换地，新-戊酸基；可替换地，己酸基；可替换地，己酸基(正-己酸基)；可替换地，庚酸基；可替换地，辛酸基；可替换地，辛酸基(正-辛酸基)；可替换地，2-乙基己酸基；可替换地，壬酸基；可替换地，癸酸基；可替换地，癸酸基(正-癸酸基)；可替换地，十一烷酸基；可替换地，十二烷酸基；可替换地，十二酸基(正-十二烷酸基)；可替换地，十三烷酸基；可替换地，十四烷酸基；可替换地，十五烷酸基；；可替换地，十六烷酸基；可替换地，十七烷酸基；可替换地，十八烷酸基；或可替换地，硬脂酸基(正-十八烷酸基)。
在方面中，过渡金属羧酸盐的每一个一元羧酸盐(一般的或特殊的)独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苯酸基、取代的苯酸基、萘甲酸基、或取代的萘甲酸基。在某些实施方式中，过渡金属羧酸盐的每一个一元羧酸基(一般的或特殊的)独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苯酸基或取代的苯酸基；可替换地，萘甲酸基或取代的萘甲酸基。在其他实施方式中，过渡金属羧酸盐的每一个一元羧酸基(一般的或特殊的)独立地可以是，包括，或基本上由苯酸基或萘甲酸基组成。在还有的其他实施方式中，过渡金属羧酸盐的每一个一元羧酸基(一般的或特殊的)独立地可以是，包括，或基本上由苯酸基组成；可替换地，取代的苯酸基；可替换地，萘甲酸基；或可替换地，取代的萘甲酸基组成。在某些实施方式中，过渡金属羧酸盐的每一个一元羧酸基(一般的或特殊的)独立地可以是，包括，或基本上由苯甲酸甲酯、苯甲酸二甲酯、苯甲酸三甲酯，或其任何组合组成；可替换地，苯甲酸甲酯；可替换地，苯甲酸二甲酯；或可替换地，苯甲酸三甲酯。在实施方式中，苯甲酸甲酯可以是，包括，或基本上由苯甲酸2-甲基酯、苯甲酸3-甲基酯、苯甲酸4-甲基酯或其任何组合组成；可替换地，苯甲酸2-甲基酯、苯甲酸4-甲基酯或其任何组合组成；可替换地，苯甲酸2-甲基酯；可替换地，苯甲酸3-甲基酯；或可替换地，苯甲酸4-甲基酯组成。在实施方式中，苯甲酸二甲酯可以是，包括，或基本上由苯甲酸2,3-二甲酯、苯甲酸2,4-二甲酯、苯甲酸2,5-二甲酯、苯甲酸2,6-二甲酯、苯甲酸3,4-二甲酯、苯甲酸3,5-二甲酯、或其任何组合组成；可替换地，苯甲酸2,4-二甲酯、苯甲酸2,6-二甲酯、或其任何组合组成；可替换地，苯甲酸2,3-二甲酯；可替换地，苯甲酸2,4-二甲酯；可替换地，苯甲酸2,5-二甲酯；可替换地，苯甲酸2,6-二甲酯；可替换地，苯甲酸3,4-二甲酯；或可替换地，苯甲酸3,5-二甲酯。在实施方式中，苯甲酸三甲酯可以是，包括，或基本上由苯甲酸2,4,6-三甲酯组成。在实施方式中，过渡金属羧酸盐的每一个一元羧酸基(一般的或特殊的)独立地可以是，包括，或基本上由苯乙酸、取代的苯乙酸、或其任何组合组成；可替换地，苯乙酸；或可替换地，取代的苯乙酸组成。
通常，可用于此处描述的催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化烯烃的方法的过渡金属可包括，或基本上由此处描述的过渡金属阳离子，和此处描述的无机阴离子或此处描述的有机来源的阴离子的任何组合组成。此处提供某些，非限制性的，典型的过渡金属化合物。应该明白，提供的典型的过渡金属化合物不是可从本公开预期的所有的过渡金属化合物的全部。
通常，可用于催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)此处描述的烯烃的方法的过渡金属可包括，或基本上由，或由此处描述的过渡金属阳离子，和此处描述的阴离子(无机或有机来源的阴离子)的任何组合组成。此处提供用于催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)此处描述的烯烃的方法的，某些，非限制性的，典型的过渡金属化合物。应该明白，提供的典型的过渡金属化合物不是用于催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)此处描述的烯烃的方法的所有的过渡金属化合物的全部。可容易地从本公开看到其他过渡金属化合物。
在方面中，可用于此处描述的催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的过渡金属化合物可包括，或基本上由，或由铬化合物组成。在这个方面中，铬化合物可具有0至6的铬氧化态。在某些实施方式中，铬化合物内的铬可具有+2或+3的氧化态(也就是，铬(II)或铬(III)化合物)。在其他实施方式中，铬化合物内的铬可具有+2的氧化态(也就是，铬(II)化合物)；或可替换地，具有+3的氧化态(也就是，铬(III)化合物)。
在实施方式中，可用于此处描述的催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的铬(II)化合物可包括，或基本上由，或由如下组成：硝酸铬(II)、硫酸铬(II)、氟化铬(II)、氯化铬(II)、溴化铬(II)或碘化铬(II)。在实施方式中，在实施方式中，可用于此处描述的催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的铬(III)化合物可包括，或基本上由，或由如下组成：硝酸铬(III)、硫酸铬(III)、氟化铬(III)、氯化铬(III)、溴化铬(III)、或碘化铬(III)。在某些实施方式中，可用于此处描述的催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的铬化合物可包括，或基本上由，或由如下组成：硝酸铬(II)；可替换地，硫酸铬(II)；可替换地，氟化铬(II)；可替换地，氯化铬(II)；可替换地，溴化铬(II)；可替换地，碘化铬(II)；可替换地，硝酸铬(III)；可替换地，硫酸铬(III)；可替换地，氟化铬(III)；可替换地，氯化铬(III)；可替换地，溴化铬(III)；或可替换地，碘化铬(III)。
在实施方式中，可用于此处描述的催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的铬化合物可包括，或基本上由，或由如下组成：有机氧化铬(II)、羧酸铬(II)、β-二酮铬(II)、有机氧化铬(III)、羧酸铬(III)、β-二酮铬(III)；可替换地，有机氧化铬(II)或有机氧化铬(III)；可替换地，羧酸铬(II)或羧酸铬(III)；可替换地，β-二酮铬(II)或β-二酮铬(III)；可替换地，有机氧化铬(II)；可替换地，羧酸铬(II)；可替换地，β-二酮铬(II)；可替换地，有机氧化铬(III)；可替换地，羧酸铬(III)；或可替换地，β-二酮铬(III)。在实施方式中，任何铬(II)或铬(III)有机氧化物、β-二酮、和/或羧酸盐的有机氧化物、β-二酮、和/或羧酸盐可如此处描述的用于有机氧化物、β-二酮、和/或羧酸盐具有任何数目的碳原子。
羧酸铬可以是可用于催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或用于寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的特别有用的过渡金属化合物。因而，在一个方面中，根据本公开的催化剂体系，制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法可利用羧酸铬组合物，其包括，基本上由，或由羧酸铬(II)或羧酸铬(III)组成；可替换地，羧酸铬(II)；或可替换地，羧酸铬(III)组成。此处独立地描述羧酸盐，且其可无限制地用于进一步描述羧酸铬(II)和/或羧酸铬(III)，其可用于此处描述的催化剂体系，制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法。
在非限制性的实施方式中，可用于此处描述的催化剂体系，制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的羧酸铬(III)组合物可包括，基本上由，或由C3至C25一元羧酸铬(III)组成。在非限制性的实施方式中，可用于此处描述的催化剂体系，制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的羧酸铬(III)组合物可包括，基本上由，或由C3至C25一元羧酸铬(III)组成。
在方面中，可被用作过渡金属化合物的羧酸铬可以是，包括，或基本上由通过此处描述的任何方法制备的羧酸铬组成。
非限制性的实施方式中，可用于此处描述的催化剂体系、制备催化剂体系的方法，和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的羧酸铬(III)组合物可包括，基本上由，或由如下组成：丙酸铬(III)、正丁酸铬(III)、异丁酸铬(III)、戊酸铬(III)(正戊酸盐)、新-戊酸铬(III)、己酸铬(III)(正-己酸盐)、正庚酸铬(III)、辛酸铬(III)(正-辛酸盐)、2-乙基己酸铬(III)、正-壬酸铬(III)、癸酸铬(III)(正-癸酸盐)、正-十一烷酸铬(III)、十二酸铬(III)(正-十二烷酸盐)、硬脂酸铬(III)(正-十三烷酸盐)，或其任何组合组成；可替换地，戊酸铬(III)(正戊酸盐)、新-戊酸铬(III)、己酸铬(III)(正-己酸盐)、正庚酸铬(III)、辛酸铬(III)(正-辛酸盐)、2-乙基己酸铬(III)、正-壬酸铬(III)、癸酸铬(III)(正-癸酸盐)、正-十一烷酸铬(III)、十二酸铬(III)(正-十二烷酸盐)、硬脂酸铬(III)(正-十三烷酸盐)，或其任何组合；或可替换地，戊酸铬(III)(正戊酸盐)、辛酸铬(III)(正-辛酸盐)、2-乙基己酸铬(III)组成。在某些实施方式中，羧酸铬组合物的羧酸盐可以是，包括，或基本上由，2-乙基己酸铬(III)组成。可容易地从本公开看到可用于此处描述的催化剂体系、制备催化剂体系的方法、和/或寡聚化(或三聚化)烯烃的方法的其他羧酸铬组合物(铬(II)和/或铬(III))，且可完全地预期。
2011年12月12日提交的相关美国专利申请No.13/323,191描述与商业上可买到的羧酸铬组合物具有不同的组成成分的羧酸铬组合物。2011年12月12日提交的相关美国专利申请No.13/323,191包括在此，以供所有目的的参考。如此处参考的文献中公开的，已知羧酸铬(和其他过渡金属羧酸盐)含有一个或更多包括超过一个铬原子的结构。这些化合物的任何一个可对用于此处描述的烯烃寡聚化(或三聚化)方法的催化剂体系有影响。有人认为，羧酸铬组合物的组成成分的差异可对利用含有羧酸铬组合物的催化剂组合物的烯烃寡聚化(或三聚化)方法有影响。在一个方面中(和不限于理论)，有人认为，这些新的羧酸铬组合物可含有大量的单核过渡金属羧酸盐。
出乎意料地发现，这些新的羧酸铬组合物可对烯烃寡聚化(或三聚化)方法中的催化剂体系的性能有影响。例如，商业可得的羧酸铬组合物和此处描述的新的羧酸铬组合物(和在2011年12月12日提交的相关美国专利申请No.13/323,191中)之间的差异可对催化剂体系构成比率有影响，其提供最佳的产物选择性、产物纯度、和/或生产率。此处提供与羧酸铬组合物的构成组成可对烯烃寡聚化(或三聚化)方法有影响相关的信息。
可观察到，2011年12月12日提交的相关的美国专利申请No.13/323,191中(和本公开)的分离的过渡金属羧酸盐组合物本质上可比从商业可得的过渡金属羧酸盐组合物分离的无定形块出现更多的结晶。例如，将利用2-己酸乙酯钠对CrCl3(THF)3大约3.3的摩尔比(图3)的本公开的分离的2-乙基己酸铬(III)与分离的商业可得的2-乙基己酸铬(III)比较(图4)。然而，甚至在尝试几个不同的结晶化方法之后，这种新的过渡金属羧酸盐组合物也不形成将允许通过传统的X-射线晶体学方法说明它们的结构的结晶体。因此，需要利用一个或超过一个其他分析技术的组合，将新的过渡金属羧酸盐组合物与现有的商业可得的过渡金属羧酸盐组合物区分开来。
可用于将此处描述的羧酸铬组合物与其他羧酸铬组合物区别的一个技术可以是红外光谱法。可用于将此处描述的羧酸铬组合物与其他羧酸铬组合物区别的另一个技术可以是高能X-射线衍射。此处独立地描述与红外光谱法和高能X-射线衍射相关的具体的特征，和这些特征中的任何一个或多个可独立地或以任何组合的方式用于描述此处描述的羧酸铬组合物。
羧酸铬组合物的光谱分析法，具体地，红外(IR)吸收光谱可提供与组合物相关的有用的特征信息。在K.Nakamoto,Infrared and Raman Spectra of Inorganic andCoordination Compounds,4th Ed.,J.Wiley&Sons,New York,c.1986,pp.231-233中提供羧酸盐组合物的IR光谱的方面。另外，Cannon和White(Cannon,R.D and White R.P,Progress in Inorganic Chemistry；Volume36,1988,pp.195-298)以及Deacon和Phillips(G.B.Deacon and R.J.Phillips,Coordination Chemistry Reviews,33(1980),pp.227-250)提供关于羧酸盐阴离子与过渡金属的配合和过渡金属羧酸盐的IR光谱的进一步的信息。Vlachos等人(A.Vlachos,Psycharis,C.P.Raptopoula,N.Lalioti,Y.Sanakis,G.Diamantopoulos,M.Fardis,M.Karayanni,G.Papavassiliou,and A.Terzis,InorganicChimica Acta,357(2004),pp.3162-3172)，此处被称为Vlachos，提供关于三核铬(III)含氧羧酸盐的IR信息。Cannon和White、Deacon和Phillips和Vlachos的全部包括在此，以供所有目的的参考。
这些文章指示，不限于理论，其中羧酸根的氧原子桥接两个过渡金属原子的过渡金属化合物的υasym(CO2)IR峰位置不同于其中羧酸根的氧原子被结合到相同的过渡金属原子上的那些。另外，不限于理论，其中羧酸根的氧原子桥接两个过渡金属原子的过渡金属化合物的υasym(CO2)IR峰和υsym(CO2)IR峰与其中羧酸根的氧原子被结合到相同的过渡金属原子上的那些之间的距离以可辨识的方式变化。具体地，在比其中羧酸根的氧原子桥接到两个过渡金属原子的过渡金属化合物的υasym(CO2)IR峰低的波数上出现其中羧酸根的氧原子被结合到相同的过渡金属原子上的过渡金属化合物的υasym(CO2)IR峰位置。另外，出现的其中羧酸根的氧原子被结合到相同的过渡金属原子的过渡金属化合物的υasym(CO2)IR峰和υsym(CO2)IR峰之间距离小于其中羧酸根的氧原子桥接到两个过渡金属原子的过渡金属化合物的那些。
这些文章也指出，过渡金属羧酸盐组合物含有其中将多个过渡金属结合到单一氧原子上的种类。可能存在的一个这样的种类，不限于理论，是在Cannon和White中描述的具有MO3单元的三角形桥接的金属络合物，和MO3单元(其中M是过渡金属)具有在750cm-1至500cm-1范围内的υasym(MO3)IR峰。铬三角形桥接络合物，在750cm-1至650cm-1附近出现υsym(CrO3)IR峰。
图6和图8提供两种商业可得的2-乙基己酸铬(III)组合物的IR光谱的2000cm-1至1000cm-1部分。这些IR光谱中的每一个分别地显示在1616±20cm-1和1549±15cm-1上的υasym(CO2)IR峰和在1429±15cm-1上的υsym(CO2)IR峰。图10、图12、图14和图16提供四种2-乙基己酸铬(III)组合物的IR光谱的2000cm-1至1000cm-1部分。这些IR光谱中的每一个显示在1516±15cm-1上的υasym(CO2)IR峰和在1429±15cm-1上的υsym(CO2)IR峰，和在1616±20cm-1和1549±15cm-1上的显著地减少的υasym(CO2)IR峰(如果该峰还存在)。这些IR光谱显示，此处描述的羧酸铬组合物显著地不同于目前商业可得的羧酸铬组合物。
在实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有在110cm-1的υsym(CO2)IR峰内的υasym(CO2)IR峰。在实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有在105cm-1的υsym(CO2)IR峰内的υasym(CO2)IR峰；可替换地，可具有在100cm-1的υsym(CO2)IR峰内的υasym(CO2)IR峰；可替换地，可具有在95cm-1的υsym(CO2)IR峰内的υasym(CO2)IR峰；或可替换地，可具有在90cm-1的υsym(CO2)IR峰内的υasym(CO2)IR峰。在另一个方面中，可替换地，在110cm-1的υsym(CO2)IR峰内(或在此处公开的任何其他范围内)的υasym(CO2)IR峰可具有过渡金属羧酸盐组合物的所有的υasym(CO2)IR峰的最大的吸收峰高度。
在其他方面中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有大于或等于0.5：1的在110cm-1的υsym(CO2)IR峰(或在此处公开的任何其他范围内)内的υasym(CO2)IR峰与υsym(CO2)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，大于或等于0.75：1；可替换地，大于或等于1：1；可替换地，大于或等于1.25：1；可替换地，大于或等于1.5：1；或可替换地，大于或等于1.75：1。在其他方面中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有范围为从0.5：1至100：1的在110cm-1的υsym(CO2)IR峰(或在此处公开的任何其他范围内)内的υasym(CO2)IR峰与υsym(CO2)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，大于或等于0.75：1至80：1；可替换地，大于或等于1：1至60：1；可替换地，大于或等于1.25：1至40：1；可替换地，大于或等于1.5：1至3：1；或可替换地，大于或等于1.75：1至20：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有大于或等于5：1的在110cm-1的υsym(CO2)IR峰(或在此处公开的任何其他范围内)内的υasym(CO2)IR峰与非铬结合的羧酸盐(CO2)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，大于或等于6：1；可替换地，大于或等于7：1；可替换地，大于或等于8：1；可替换地，大于或等于9：1；或可替换地，大于或等于10：1。在非限制性实施方式中，此处描述的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有范围为从5：1至100：1的在110cm-1的υsym(CO2)IR峰(或在此处公开的任何其他范围内)内的υasym(CO2)IR峰与非铬结合的羧酸盐(CO2)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，范围为从6：1至90：1；可替换地，范围为从7：1至80：1；可替换地，范围为从8：1至60：1；可替换地，范围为从9：1至50：1；或可替换地，范围为从10：1至40：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有大于或等于3.5：1的υsym(CO2)IR峰与非铬结合的羧酸盐(CO2)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，大于或等于3.75：1；可替换地，大于或等于4；可替换地，大于或等于4.25：1；可替换地，大于或等于4.5：1；或可替换地，大于或等于4.75：1。在非限制性实施方式中，可替换地，此处描述的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有范围为从3.5：1至100：1的υsym(CO2)IR峰(或在此处公开的任何其他范围内)与非铬结合的羧酸盐(CO2)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，范围为从3.75：1至90：1；可替换地，范围为从4：1至80：1；可替换地，范围为从4.25：1至60：1；可替换地，范围为从4.5：1至50：1；或可替换地，范围为从4.75：1至40：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有可小于或等于0.9：1的位于150cm-1的υsym(CO2)IR峰之外的υsym(CO2)IR峰与位于110cm-1的υsym(CO2)IR峰内(或在此处公开的任何其他范围内)的υasym(CO2)IR峰的IR吸收峰高度的IR吸收峰高度比；可替换地，大于或等于0.85：1；可替换地，大于或等于0.8：1；可替换地，大于或等于0.75：1；可替换地，大于或等于0.7：1；或可替换地，大于或等于0.65：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有大于或等于1.5：1的110cm-1的υsym(CO2)IR峰(或在此处公开的任何其他范围内)内的υasym(CO2)IR峰与υasym(CrO3)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，大于或等于3：1；可替换地，大于或等于5：1；可替换地，大于或等于6：1；或可替换地，大于或等于7：1。在其他非限制性实施方式中，此处描述的羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有范围为从1.5：1至100：1的110cm-1的υsym(CO2)IR峰(或在此处公开的任何其他范围内)内的υasym(CO2)IR峰与υasym(CrO3)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，范围为从3：1至90：1；可替换地，范围为从5：1至80：1；可替换地，范围为从6：1至60：1；或可替换地，范围为从7：1至50：1。
在实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有在1516±15cm-1的υasym(CO2)IR峰。在此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)的方面和/或实施方式中，可归因于羧酸铬的最大的吸收IR峰高度可以是在1516±15cm-1的υasym(CO2)IR峰。在某些实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有大于或等于0.5：1的1516±15cm-1的IR峰对1429±15cm-1的IR峰的IR峰吸收峰高度比；可替换地，大于或等于0.75：1；可替换地，大于或等于1：1；可替换地，大于或等于1.25：1；可替换地，大于或等于1.5：1；可替换地，大于或等于1.55：1；可替换地，大于或等于1.6：1；可替换地，大于或等于1.65：1；可替换地，大于或等于1.7：1；或可替换地，大于或等于1.75：1。在某些实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有范围为从0.5：1至100：1的1516±15cm-1的IR峰对1429±15cm-1的IR峰的IR峰吸收峰高度比；可替换地，大于或等于0.75：1至80：1；可替换地，大于或等于1：1至60：1；可替换地，大于或等于1.25：1至40：1；可替换地，大于或等于1.5：1至3：1；或可替换地，大于或等于1.75：1至20：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有大于或等于1：1的位于1516±15cm-1的υasym(CO2)IR峰与位于1616±20cm-1的υsym(CO2)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，大于或等于1.5：1；可替换地，大于或等于2：1；可替换地，大于或等于2.5：1；或可替换地，大于或等于3：1。在某些非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有范围为从1：1至100：1的位于1516±15cm-1的υasym(CO2)IR峰与位于1616±20cm-1的υsym(CO2)IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，范围为从1.5：1至80：1；可替换地，范围为从2：1至60：1；可替换地，范围为从2.5：1至50：1；或可替换地，范围为从3：1至40：1。
在某些非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有大于或等于5：1的位于1516±15cm-1的υsym(CO2)IR峰与位于1685±20cm-1的非-铬(CO2)结合的IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，大于或等于6：1；可替换地，大于或等于7：1；可替换地，大于或等于8：1；可替换地，大于或等于9：1；或可替换地，大于或等于10：1。在其他非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有范围为从5：1至100：1的位于1516±15cm-1的υasym(CO2)IR峰与位于1685±20cm-1的非-铬(CO2)结合的IR峰的IR吸收峰高度比；可替换地，范围为从6：1至90：1；可替换地，范围为从7：1至80：1；可替换地，范围为从8：1至60：1；可替换地，范围为从9：1至50：1；或可替换地，范围为从10：1至40：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有大于或等于3.5：1的位于1429±15cm-1的υsym(CO2)IR峰与位于1685±20cm-1的非-铬(CO2)结合的IR峰的IR峰高度比；可替换地，大于或等于3.75：1；可替换地，大于或等于4：1；可替换地，大于或等于4.25：1；可替换地，大于或等于4.5：1；或可替换地，大于或等于4.75：1。在其他非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有范围为从3.5：1至100：1的位于1429±15cm-1的υsym(CO2)IR峰与位于1685±20cm-1的非-铬(CO2)结合的IR峰的IR峰高度比；可替换地，范围为从3.75：1至90：1；可替换地，范围为从4：1至80：1；可替换地，范围为从4.25：1至60：1；可替换地，范围为从4.5：1至50：1；或可替换地，范围为从4.75：1至40：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有可能小于或等于0.9：1的位于1616±20cm-1的υsym(CO2)IR峰与位于1429±15cm-1的υasym(CO2)IR峰的IR吸收峰高度的IR吸收峰高度比；可替换地，大于或等于0.85：1；可替换地，小于或等于0.8：1；可替换地，小于或等于0.75：1；可替换地，小于或等于0.7：1；或可替换地，小于或等于0.65：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有可能小于或等于1：1的位于695±20cm-1的IR峰与位于1429±15cm-1的υasym(CO2)IR峰的IR吸收峰高度的IR吸收峰高度比；可替换地，小于或等于0.8：1；可替换地，小于或等于0.6：1；可替换地，小于或等于0.4：1；可替换地，小于或等于0.3：1；可替换地，小于或等于0.25：1；可替换地，小于或等于0.2：1；可替换地，小于或等于0.18：1；或可替换地，小于或等于0.16：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有可能小于或等于1：1的位于695±20cm-1的IR峰与位于1429±15cm-1的υasym(CO2)IR峰的IR吸收峰高度的IR吸收峰高度比；可替换地，小于或等于0.8：1；可替换地，小于或等于0.6：1；可替换地，小于或等于0.4：1；可替换地，小于或等于0.3：1；可替换地，小于或等于0.25：1；可替换地，小于或等于0.2：1；可替换地，小于或等于0.18：1；或可替换地，小于或等于0.16：1。
在非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有大于或等于1.5：1的位于1516±15cm-1的υasym(CO2)IR峰与位于700±50cm-1的IR峰的IR峰高度比；可替换地，大于或等于3：1；可替换地，大于或等于5：1；可替换地，大于或等于6：1；或可替换地，大于或等于7：1。在其他非限制性实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)可具有范围为从1.5：1至100：1的位于1429±15cm-1的υsym(CO2)IR峰与位于700±50cm-1的非-铬(CO2)结合的IR峰的IR峰高度比；可替换地，范围为从3：1至90：1；可替换地，范围为从5：1至80：1；可替换地，范围为从6：1至60：1；或可替换地，范围为从7：1至50：1。
在实施方式中，可通过使包含在KBr(KBr靶丸)内的羧酸铬组合物进行红外线分析确定这些IR峰相关的特征。可替换地，如果羧酸铬组合物不适合于KBr靶丸中的分析，可通过将过渡金属羧酸盐组合物放置在溶剂中或分散在试剂中，即，在必要的IR峰区域中是IR透明的试剂(例如，矿物油如医药用润滑油，等等)进行IR分析。另外，IR峰高度比特征可以是以未加工的峰高度或基准纠正的峰高度为基础。
通常，X-射线晶体学可用于表征形成轮廓分明的晶体的材料的特征。然而，在某些情况下，本领域的技术人员认为形成轮廓分明的晶体的材料不能形成适合于传统的X-射线晶体学的晶体。例如，商业可得的2-乙基己酸铬(III)形成不适于传统的X-射线晶体学的非晶形块(参考图4)。同样地，利用此处描述的方法制备的2-乙基己酸铬(III)可形成非晶形块(参考图3)；产生的2-乙基己酸铬(III)是绿色发粘的固体，没有显示结晶性的证据，且不适合于传统的X-射线晶体学。在某些这些情况下，高能X-射线衍射可用于提供关于材料的结构信息。可将这些材料的高能X-射线衍射数据与其他材料的高能X-射线衍射数据比较，或与材料的理论模型的计算的高能衍射数据比较，以便确定材料的结构和/或材料是否类似于其他已知的材料。
在某些实施方式中，可通过高能X-射线衍射分析此处描述的任何羧酸铬组合物(一般的或特殊的)或通过此处描述的任何方法制备的任何羧酸铬组合物，以便确定在羧酸铬组合物中出现的一个或更多羧酸铬分子的结构和/或与认为在羧酸铬组合物中出现的材料的理论模型的计算的高能衍射数据比较。例如，“Synthesis and structural studiesof metal(Cr,Zn and Bi)carboxylate liquids”R.T.Hart Jr.,N.A.Eckert,J.K.Ngala,A.F.Polley,C.J.Benmore,A.Clark,S.Macha,Presentation CATL20,The237th ACSNational Meeting,Salt Lake City,UT,March232009，将含水复分解方法和取代方法产生的羧酸铬(III)的高能X-射线衍射g(r)数据点与Cr3O(O2CCH3)6、Cr8(OH)8(O2CCH3)12、和Cr12O(O2CCH3)6的模型的理论的高能X-射线衍射g(r)数据点进行比较，根据在M.Eshel,et al.,Inorg.Chem.,2000,39,pp1376,and M.Eshel,et al.,Inorg Chim.Acta,2002,329,pp45中出现的数据构建模型。Hart Jr.等人和M.Eshel等人全部内容包括在此以供参考。
不限于理论，有人认为，此处描述的或根据此处公开的任何方法制备的羧酸铬组合物可含有大量的单核羧酸铬。为了检验这个假设，可将此处描述的任何铬组合物或根据此处公开的任何方法制备的羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与真正的单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点进行比较。在很多情况下，不可利用单核羧酸铬的纯的和/或真实样品。在这些情况下，可将此处描述的任何羧酸铬组合物或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点进行比较。可利用本领域的技术人员可用的许多方法产生单核羧酸铬的模型。在一个实例中，可通过利用具有优化的Spartan 08获得单核羧酸铬(III)的模型，该优化经由具有构想搜索的PM3几何优化和利用具有LACVP基组的DFT B3LYP的进一步的几何优化，通过获得最初的几何图形假设夸脱基态自旋状态，其中所述基组在Cr上具有有效的核心潜能和在H、C、O上6-31g**。在另一个实例中，可利用类似于为羧酸铬(III)描述的一个方法的启发性方法获得单核羧酸铬的模型。可利用本领域的技术人员可用的方法和/或程序计算适合于单核羧酸铬模型的高能X-射线衍射g(r)数据点。例如，在PDFgui-version1.0中实施函数和程序的PDFFit库，(C.L.Farrow,P.Juhás,J.W.Liu,D.Bryndin,E.S.J.Bloch,Th.Proffen and S.J.L.Billinge,PDFfit2and PDFgui:computerprograms for studying nanostructure in crystals,J.Phys.:Condens.Matter19,335219(2007))，且可用于计算单核羧酸铬模型的高能X-射线衍射d(r)数据点，然后，可将其转变为高能X-射线衍射g(r)数据点。
可利用本领域的技术人员已知和使用的技术进行此处描述的或根据此处公开的方法制备的羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与真实的单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点的比较。用于比较此处描述的或根据此处公开的方法制备的羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与真实的单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点的一个方法可以是执行拟合良好度检验。拟合良好度检验值，R2越接近于1，铬组合物更可能含有大量的单核羧酸铬。
应该注意，当利用单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点进行比较时，人们不一定期望拟合良好度检验值R2非常接近于1，因为，是对单核羧酸铬的理论模型作出比较，和同样地，不是单核羧酸铬的真实结构。在不希望受到理论的约束时，应该相信，即使此处描述的羧酸铬组合物的任何一个或通过此处描述的任何方法生产的羧酸铬组合物的任何一个是纯的单核羧酸铬，拟合良好度检验值R2不太可以是1，因为，单核羧酸铬的理论模型的结构和实际纯净的单核羧酸铬之间可能存在差异。这些结构之间的差异将导致测量的高能X-射线衍射g(r)数据点和计算的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的差异。因此，将不期望拟合良好度检验值R2是1。然而，拟合良好度检验值，R2仍然具有值，因为具有大量单核羧酸铬的羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点将比具有大量双核、三核、和更多多核的羧酸铬种的羧酸铬组合物具有更接近于1的拟合良好度检验值R2。
取决于羧酸铬的羧酸盐中的碳原子的数目，制备单核羧酸铬的理论模型，这可能是不切实际的或困难的。回顾单核羧酸铬的理论结构，可明显看到，可能在空间中相对地固定铬原子，与过渡金属螯合的羧酸根的两个氧原子、羧酸根基团碳和氧原子和连接到羧酸根上的碳原子，因为它们不具有关于可改变它与其他原子的距离的联结的自由旋转。因此，人们预期，根据羧酸铬的羧酸盐，这些原子之间的各自的键距和键角中不可能存在大的变化。在没有进一步的取代基的情况下，这些原子将形成醋酸铬。因此，在实施方式中，可将此处描述的任何羧酸铬组合物或通过此处描述的任何方法产生的任何羧酸铬组合物与单核醋酸铬比较。如果此处描述的任何羧酸铬组合物或通过此处描述的任何方法产生的任何羧酸铬组合物含有大量的单核羧酸铬，人们预期，可将单核羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与真实的醋酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或单核醋酸铬的理论模型的计算个高能X-射线衍射g(r)数据点比较。不限于理论，可预期此处描述的任何羧酸铬组合物或通过此处描述的任何方法产生的任何羧酸铬组合物之间的比较十分类似于真实的醋酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或单核醋酸铬的理论模型的计算的高能X-射线g(r)数据点。具体地，可预期合理地达到和包含的r值的比较，其中，预期来自分子间的相互作用的贡献和连接到羧酸盐(C＝O)碳原子上的碳原子之外的羧酸根的非-氢原子的贡献是微弱的。
关于拟合良好度检验值，R2，可利用等式R2＝1–(SSerr/SStot)计算拟合良好度检验值。在等式R2＝1–(SSerr/SStot)内，SSerr是羧酸铬组合物的高能能量X-射线衍射g(r)数据点和a)真实的单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或b)单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的误差的平方的和。在等式R2＝1–(SSerr/SStot)内，SStot是羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点和平均的羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的差的平方和。为了使拟合良好度检验值具有合理的意义，应该利用高能X-射线衍射g(r)数据点的合理数字执行检验。这里，可在计算拟合良好度检验值的r值范围上，利用通过0.01埃分开的高能X-射线衍射g(r)数据点计算拟合良好度检验值。典型地，高能X-射线衍射g(r)数据点可以在精确的百分之一埃r值上。然而，高能X-射线衍射g(r)数据点可以以通过0.01埃的r值分开的任何一组g(r)数据点为基础。另外，为了为拟合良好度检验值提供最好的基础(和为了避免g(r)数据点的篡改)，羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点和真实的单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点和单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点应该位于相同的r值上。
在实施方式中，拟合良好度检验可能以拟合良好度检验在羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点和用于真实单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或用于单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点的r值的范围上的应用为基础。在某些实施方式中，适用于为了羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点和用于真实单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或用于单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点的比较的拟合良好度检验的值的范围的最小的r值可以是1.2埃；可替换地，1.25埃；可替换地，1.3埃；可替换地，1.35埃；或可替换地，1.4埃。在某些实施方式中，适用于为了羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点和用于真实单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或用于单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点的比较的拟合良好度检验的值的范围的最大的r值可以是4埃；可替换地，3.9埃；可替换地，3.8埃；可替换地，3.7埃；或可替换地，3.6埃；可替换地，3.5埃；可替换地，3.4埃；可替换地，3.3埃；可替换地，3.2埃；可替换地，3.1埃；或可替换地，3.0埃。在实施方式中，拟合良好度检验值可能以拟合良好度检验用于羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点和用于真实单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或用于单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点在范围为从此处描述的任何最小的r值至此处描述任何最大r值的r值范围上的比较的应用为基础。在某些非限制性的实施方式中，拟合良好度检验值可能以拟合良好度检验用于羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点和用于真实单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或用于单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点在1.3埃至4埃的r值范围上的比较的应用为基础；可替换地，拟合良好度检验至以拟合良好度检验在1.3埃至3.2埃的r值范围上的应用为基础；可替换地，1.3埃至3.3埃；可替换地，1.3埃至3.4埃；可替换地，1.3埃至3.5埃；可替换地，1.3埃至3.6埃；可替换地，1.3埃至3.7埃；可替换地，1.3埃至3.8埃；可替换地，1.3埃至3.9埃；可替换地，1.3埃至4.0埃。
这些范围的r值似乎是任意的。然而，范围的最大r值的选择可以假设为基础，不限于理论，即，当利用羧酸铬理论模型的计算的高能X-射线衍射时，不能精确地说明分子间贡献和连接到羧酸盐(C＝O)碳原子上的碳原子外的键旋转的作用。因而，可选择较大的r值，以便排除难以模拟特征的这些。这些范围的r值的下限可以假设为基础，不限于理论，即，更重要和/或更有意义的原子对原子距离可具有至少1.2至1.3埃的平均原子对原子距离。另外，那么只有短于1.2埃的键距是碳-氢键，其对散射强度的贡献少于1％且通常，在数据处理和建模中，不考虑。因而，可选择包含来自最短的重要的和/或有意义的原子对原子距离的贡献的较短r值的下限。
在实施方式中，可在此处描述的任何羧酸铬组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点，和真实的单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点之间执行拟合良好度检验。在另一个实施方式中，可在此处描述的任何羧酸铬组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点，和单核羧酸铬的理论模型的高能X-射线衍射g(r)数据点之间执行拟合良好度检验。在实施方式中，拟合良好度检验值，R2可以此处公开的r的任何范围上的高能X-射线衍射g(r)数据点为基础。在实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点，和真实的单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的拟合良好度检验的(在此处公开的r的任何范围上)R2可以至少是0.55；可替换地，至少0.60；可替换地，至少0.625；可替换地，至少0.65；可替换地，至少0.675；可替换地，至少0.70；可替换地，至少0.725；可替换地，至少0.75；可替换地，至少0.775；可替换地，至少0.80；可替换地，至少0.825；可替换地，至少0.85；可替换地，至少0.875；或可替换地，至少0.90。在另一个实施方式中，此处描述的任何羧酸铬组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点，和真实的单核羧酸铬的高能X-射线衍射g(r)数据点或单核羧酸铬的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的拟合良好度检验的(在此处公开的r的任何范围上)R2的范围可以是从0.55至1；可替换地，范围为从0.60至1；可替换地，范围为从0.625至1；可替换地，范围为从0.70至1；可替换地，范围为从0.725至1；可替换地，范围为从0.75至1；可替换地，范围为从0.775至1；可替换地，范围为从0.80至1；可替换地，范围为从0.825至1；可替换地，范围为从0.85至1；可替换地，范围为从0.875至1；或可替换地，范围为从0.90至1。
在非限制性实施方式中，可利用拟合良好度检验将此处描述的任何羧酸铬(III)组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与真实的单核羧酸铬(III)的高能X-射线衍射g(r)数据点比较。在另一个非限制性实施方式中，可利用拟合良好度检验将此处描述的任何羧酸铬(III)组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与单核羧酸铬(III)的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点比较。在其他非限制性实施方式中，可利用拟合良好度检验将此处描述的任何羧酸铬(III)组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与真实的单核醋酸铬(III)的高能X-射线衍射g(r)数据点比较。在另一个非限制性的实施方式中，可利用拟合良好度检验将此处描述的任何羧酸铬(III)组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与单核醋酸铬(III)理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点比较。在此处描述的任何实施方式或方面中，此处描述的任何羧酸铬(III)组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点和真实的单核羧酸铬(III)的高能X-射线衍射g(r)数据点、真实的单核醋酸铬(III)的高能X-射线衍射g(r)数据点、单核羧酸铬(III)的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点、或单核醋酸铬(III)的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的拟合良好度检验(在此处公开的r的任何范围上)的拟合良好度检验值，R2可能至少是0.55；可替换地，至少0.60；可替换地，至少0.625；可替换地，至少0.65；可替换地，至少0.675；可替换地，至少0.70；可替换地，至少0.725；可替换地，至少0.75；可替换地，至少0.775；可替换地，至少0.80；可替换地，至少0.825；可替换地，至少0.85；可替换地，至少0.875；或可替换地，至少0.90。在此处描述的任何实施方式或方面中，此处描述的任何羧酸铬(III)组合物和/或根据此处公开的任何方法制备的任何羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点和真实的单核羧酸铬(III)的高能X-射线衍射g(r)数据点、真实的单核醋酸铬(III)的高能X-射线衍射g(r)数据点、单核羧酸铬(III)的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点、或单核醋酸铬(III)的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点之间的拟合良好度检验(在此处公开的r的任何范围上)的拟合良好度检验值，R2的范围为从0.55至1；可替换地，范围为从0.60至1；可替换地，范围为从0.625至1；可替换地，范围为从0.65至1；可替换地，范围为从0.675至1；可替换地，范围为从0.70至1；可替换地，范围为从0.725至1；可替换地，范围为从0.75至1；可替换地，范围为从0.775至1；可替换地，范围为从0.80至1；可替换地，范围为从0.825至1；可替换地，范围为从0.85至1；可替换地，范围为从0.875至1；或可替换地，范围为从0.90至1。
在某些非限制性实施方式中，可单一地，或以任何组合的方式，利用此处描述的任何表征实施方式表现此处描述的任何羧酸铬(III)组合物或通过此处描述的任何方法生产的任何羧酸铬(III)组合物的特征；例如，此处公开的红外线峰的存在或缺少，此处公开的任何红外线峰高度特征，此处描述的任何红外线峰值波长间距，此处公开的任何红外线峰值高度比，此处描述的任何高能X-射线衍射峰值的存在或缺少，和/或此处公开的任何拟合良好度检验值R2，等等。此处公开这些表征元素中的每一个，且其可无限制地用于描述本公开的羧酸铬(III)组合物。
在实施方式中，羧酸铬组合物可包括，基本上由，或由通过此处描述的任何羧酸铬组合物制备方法制备的羧酸铬组合物组成。在某些实施方式中，羧酸铬组合物可以是，包括，或基本上由通过此处描述的任何羧酸铬(III)组合物制备方法制备的羧酸铬(III)组合物组成。
在多个方面和实施方式中，此处描述的组合物(或催化剂体系)利用含氮化合物。通常，含氮化合物可以是，包括，或基本上由具有氮原子的任何有机化合物组成。在实施方式中，含氮化合物可以是，包括，或基本上由如下组成：胺、酰胺腈或其任何组合；可替换地，胺；可替换地，酰胺；或可替换地，腈。
在实施方式中，可被用作含氮化合物的胺可以是，包括，或基本上由非金属的含金属化合物组成；或可替换地，金属的胺。在方面中，可被用作含氮化合物的胺(金属的或非金属的)可以是，包括，或基本上由非金属的吡咯化合物组成；可替换地，金属吡咯。在某些实施方式中，可被用作含氮化合物的酰胺可以是，包括，或基本上由非金属酰胺组成；或可替换地，金属酰胺。
可被用作含氮化合物的胺可以是，包括，或基本上由C1至C60胺组成；可替换地，C1-C45胺；可替换地，C1-C30胺；可替换地，C1-C20胺；或可替换地，C1-C15胺。在实施方式中，可被用作含氮化合物的胺可以是，包括，或基本上由单烃基胺、二烃基胺、三烃基胺，或其任何组合组成；可替换地，单烃基胺、二烃基胺，或其任何组合组成；可替换地，单烃基胺；可替换地，二烃基胺；或可替换地，三烃基胺。在其他实施方式中，可被用作含氮化合物的胺可以是，包括，或基本上由脂肪胺、芳香胺，或其任何组合组成；可替换地，脂肪胺；可替换地，芳香胺。在实施方式中，可被用作含氮化合物的胺(脂肪族的或芳香族的)可以是，包括，或基本上由环状胺、非环胺，或其任何组合组成；可替换地，环状胺；可替换地，非环胺。在某些实施方式中，可被用作含氮化合物的胺可以是，包括，或基本上由具有式NR6R7R8、NHR6R7、NH2R6的胺，或其任何组合组成，其中R6、R7和R8独立地是烃基。在其他实施方式中，可被用作含氮化合物的胺可以是，包括，或基本上由具有式NR6R7R8；可替换地，式NHR6R7；或可替换地，式NH2R6的胺组成。通常在本公开内公开烃基(例如，作为具有式-O2CR2c的一元羧酸盐的R2C的选择和/或作为用于R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、或R14的选择，和作为取代基，等等位置)。此处描述的烃基的方面和实施方式(明确地说明或本领域的技术人员含蓄地认可的)可无限制地被用作可被用于进一步描述N-烃基胺的烃基，其中N-烃基胺可被用作含氮化合物。另外，这些烃基可被无限制地用作可被用于进一步描述单烃基胺、二烃基胺和/或三烃基胺的烃基，其可被用作含氮化合物。另外，可将这些烃基无限制地用作可被用作含氮化合物的具有式NR6R7R8、NHR6R7、和/或NH2R6的R6、R7和R8。
此处作为方法中的潜在的中性配体和/或作为潜在的试剂描述单烃基胺、二烃基胺、三烃基胺、具有式NR6R7R8的胺、具有式NHR6R7的胺、具有式NH2R6的胺，以淬灭、去活化、和/或扼杀催化剂体系。可将这些胺无限制地用作此处描述的任何组合物(或催化剂体系)中的含氮化合物。在某些其他实施方式中，可被用作含氮化合物的胺可以是，包括，或基本上由氨水组成。
可被用作含氮化合物的酰胺可以是，包括，或基本上由C2至C30酰胺组成；可替换地，C2-C25酰胺；可替换地，C2-C15酰胺；或可替换地，C2-C10酰胺。在实施方式中，可被用作含氮化合物的酰胺可以是，包括，或基本上由N-烃基酰胺组成。在某些实施方式中，可被用作含氮化合物的酰胺可以是，包括，或基本上由脂肪族酰胺、芳香族酰胺，或其任何组合组成；可替换地，脂肪族酰胺；或可替换地，芳香族酰胺。在实施方式中，可被用作含氮化合物的酰胺可以是，包括，或基本上由环状酰胺、非环酰胺组成；可替换地，环状酰胺；可替换地，非环酰胺。在实施方式中，可被用作含氮化合物的酰胺可以是，包括，或基本上由具有式R15C(＝O)NH2、R15C(＝O)NHR16，或其任何组合的酰胺组成；可替换地，R15C(＝O)NH2；可替换地，R15C(＝O)NHR16。在实施方式中，R15和R16独立地是烃基。通常在本公开内公开烃基例如，作为具有式-O2CR2c的一元羧酸的R2C的选择和/或作为用于R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、或R14的选择，和作为取代基，等等位置)。此处描述的烃基的方面和实施方式(明确地说明或本领域的技术人员含蓄地认可的)可无限制地被用作可被用于进一步描述N-烃基酰胺的烃基，其中N-烃基酰胺可被用作含氮化合物。另外，这些烃基可被无限制地用作可被作含氮化合物的具有式R15C(＝O)R16的酰胺的R15和R16。
在实施方式中，可被用作含氮化合物的酰胺可以是，包括，或基本上由乙酰胺、N-烃基-乙酰胺、N-甲基-烃基酰胺或其任何组合组成；可替换地，N-烃基-乙酰胺、N-甲基-烃基酰胺、或其任何组合；可替换地，乙酰胺；可替换地，N-烃基-乙酰胺；可替换地，N-甲基-烃基酰胺。在某些实施方式中，可被用作含氮化合物的酰胺可以是，包括，或基本上由乙酰胺、N-甲基丙酰胺、N-甲基丁酰胺、N-甲基戊酰胺、N-甲基己酰胺、琥珀酰胺、马来酸二胺、N-甲基苯甲酰胺、N-甲基甲苯酰胺、N-甲基二甲苯酰胺、咪唑-2-苯甲酰胺、β-内酰胺、δ-内酰胺、ε-己内酰胺、或其任何组合；可替换地，N-甲基丙酰胺、N-甲基丁酰胺、N-甲基戊酰胺、N-甲基己酰胺，或其任何组合；可替换地，N-甲基苯甲酰胺、N-甲基甲苯酰胺、N-甲基二甲苯酰胺，或其任何组合；可替换地，β-内酰胺、δ-内酰胺、ε-己内酰胺、或其任何组合；可替换地，N-甲基丙酰胺；可替换地，N-甲基丁酰胺；可替换地，N-甲基戊酰胺；可替换地，N-甲基己酰胺；可替换地，琥珀酰胺；可替换地，马来酸二胺；可替换地，N-甲基苯甲酰胺；可替换地，N-甲基甲苯酰胺；可替换地，N-甲基二甲苯酰胺；可替换地，咪唑-2-苯甲酰胺；可替换地，β-内酰胺；可替换地，δ-内酰胺；或可替换地，ε-己内酰胺。
可被用作含氮化合物的腈可以是，包括，或基本上由C2-C20腈组成；可替换地，C2-C15腈；可替换地，C2-C10腈；或可替换地，C2-C5腈。在实施方式中，可被用作含氮化合物的腈可以是，包括，或基本上由脂肪族腈、芳香族腈，或其任何组合组成；可替换地，脂肪族腈；或可替换地，芳香族腈。在实施方式中，可被用作含氮化合物的腈可以是，包括，或基本上由环状腈、非环腈组成；可替换地，环状腈；或可替换地，非环腈。在实施方式中，可被用作含氮化合物的腈可以是，包括，或基本上由具有式R1C≡N的酰胺组成。
此处作为用于生产羧酸铬的铬前体的潜在的中性配体(或作为腈配位化合物)公开腈。可将这些腈(一般的或特殊的)无限制地用作含氮化合物。
在方面中，含氮化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯化合物组成(胺的特殊类型)。通常，吡咯化合物是含有吡咯环的化合物和此处利用的吡咯化合物包含，除非另外特别指出，具有吡咯环的任何化合物。因而，除非另外指出，吡咯化合物包含吡咯、吲哚、四氢吲哚、咔唑，和它的任何取代的类似物。在方面中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由金属吡咯化合物、非-金属吡咯化合物，或其任何组合组成；可替换地，非-金属吡咯化合物；或可替换地，金属吡咯化合物。
在方面中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由C4-C60吡咯化合物组成；可替换地，C4-C45吡咯化合物；可替换地，C4-C30吡咯化合物；可替换地，C4-C20吡咯化合物；或可替换地，C4-C15吡咯化合物。应该注意，除非另外指出，吡咯化合物中的碳原子的数目的标志不排除吡咯化合物内的其他元素的存在(氢、碳和吡咯氮之外)(例如，金属吡咯的金属、卤基、氧、和其他氮原子)。
在方面中，吡咯化合物可具有结构P1。
在结构P1中，R2p、R3p、R4p、和R5p独立地可以是氢原子或取代基。在其中吡咯化合物具有结构P1的实施方式中，R3p、R4p和R5p可以是氢和R2P可以是此处描述的任何非氢取代基；或可替换地，R2p、R4p和R5p可以是氢和R3P可以是此处描述的任何非氢取代基。在其中吡咯化合物具有结构P1的实施方式中，R3p和R4p可以是氢和R2P和R5P独立地可以是此处描述的任何非氢取代基；可替换地，R2p和R5p可以是氢和R3P和R4p独立地可以是此处描述的任何非氢取代基；或可替换地，R2p和R4p可以是氢和R3P和R5p独立地可以是此处描述的任何非氢取代基。在其中吡咯具有结构P1的实施方式中，R5P可以是氢和R2P、R3p和R4p独立地可以是此处描述的任何非氢取代基；或可替换地，R4P可以是氢和R2P、R3p和R5p可以是此处描述的任何非氢取代基。在其他实施方式中，R2P、R3p、R4P和R5p独立地可以是此处描述的任何非氢取代基。
在实施方式中，可被用作中性配体的吡咯化合物可具有结构P2、结构P3、结构P4、结构P5、或其任何组合；可替换地，结构P2、结构P3、结构P4、或其任何组合；可替换地，结构P2；可替换地，结构P3；可替换地，结构P4；或可替换地，结构P5。
在吡咯结构P2、P3、P4和P5中，R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p、和R45p独立地可以是此处描述的非氢取代基。
在实施方式中，可用作具有结构P1的吡咯化合物的R2p、R3p、R4p和R5p或用作具有结构P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p和R45p的各非氢取代基独立地可以是卤基、有机氧基、或有机基团；可选地，卤基或有机氧基；可选地，卤基或有机基团；可选地，有机氧基或有机基团；可选地，卤基；可选地，有机氧基；或可选地，有机基团。在实施方式中，可用作具有结构P1的吡咯化合物的R2p、R3p、R4p和R5p或用作具有结构P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p和R45p的各非氢取代基独立地可以是卤基、由惰性官能团组成的有机氧基、或由惰性官能团组成的有机基团；可选地，卤基或由惰性官能团组成的有机氧基；可选地，卤基或由惰性官能团组成的有机基团；可选地，由惰性官能团组成的有机氧基或由惰性官能团组成的有机基团；可选地，卤基；可选地，由惰性官能团组成的有机氧基；或可选地，由惰性官能团组成的有机基团。在实施方式中，可用作具有结构P1的吡咯化合物R2p、R3p、R4p和R5p或用作具有结构P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p和R45p的各非氢取代基独立地可以是卤基、氢羧基、或烃基；可选地，卤基或氢羧基；可选地，卤基或烃基；可选地，氢羧基或烃基；可选地，卤基；可选地，氢羧基；或可选地，烃基。
在本文所述一方面或任意实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各有机基团独立地可以是C1-C30有机基团；可选地，C1-C18有机基团；可选地，C1-C10有机基团；或可选地，C1-C5有机基团。在本文所述一方面或任意实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各有机氧基独立地可以是C1-C30有机氧基；可选地，C1-C18有机氧基；可选地，C1-C10有机氧基；或可选地，C1-C5有机氧基。在本文所述一方面或任意实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各由惰性官能团组成的有机基团独立地可以是由惰性官能团组成的C1-C30有机基团；可选地，由惰性官能团组成的C1-C18有机基团；可选地，由惰性官能团组成的C1-C10有机基团；或可选地，由惰性官能团组成的C1-C5有机基团。在本文所述一方面或任意实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各由惰性官能团组成的有机氧基独立地可以是由惰性官能团组成的C1-C30有机氧基；可选地，由惰性官能团组成的C1-C18有机氧基；可选地，由惰性官能团组成的C1-C10有机氧基；或可选地，由惰性官能团组成的C1-C5有机氧基。在本文所述一方面或任意实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各烃基独立地可以是C1-C30烃基；可选地，C1-C18烃基；可选地，C1-C10烃基；或可选地，C1-C5烃基。在本文所述一方面或任意实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各氢羧基独立地可以是C1-C30氢羧基；可选地，C1-C18氢羧基；可选地，C1-C10氢羧基；或可选地，C1-C5氢羧基。
在本文所述一方面或任意实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各卤基独立地可以是氟基、氯基、溴基或碘基。在本文所述一方面或任意实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各卤基独立地可以是氟基；可选地，氯基；可选地，溴基；或可选地，碘基。
在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是烷基、取代烷基、环烷基、取代环烷基、芳基、取代芳基、芳烷基、或取代芳烷基；可选地，烷基、环烷基、芳基、或芳烷基；可选地，烷基或取代烷基；可选地，环烷基或取代环烷基；可选地，芳基或取代芳基；或可选地，芳烷基或取代芳烷基。在其他实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是烷基；可选地，取代烷基；可选地，环烷基；可选地，取代环烷基；可选地，芳基；可选地，取代芳基；可选地，芳烷基；或可选地，取代芳烷基。通常，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的烷基、取代烷基、环烷基、取代环烷基、芳香族基团、取代芳香族基团、芳基、取代芳基、芳烷基、取代芳烷基和/或甲硅烷基可与其各自的、本文公开的、可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的有机基团、由惰性官能团组成的有机基团、或烃基具有相同数量的碳。
在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的烷基(取代或未取代)独立地可以是C1-C20烷基(取代或未取代)；可选地，C1-C10烷基(取代或未取代)；或可选地，C1-C5烷基(取代或未取代)。在一些实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、或癸基。在一些实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各烷基独立地可以是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基或新戊基；可选地，甲基、乙基、异丙基、叔丁基、或新戊基；可选地，甲基；可选地，乙基；可选地，正丙基；可选地，异丙基；可选地，叔丁基；或可选地，新戊基。在实施方式中，这些烷基中的任意种可被取代，以形成取代烷基。在实施方式中，取代烷基的各取代基独立地可以是卤基或氢羧基；可选地，卤基；或可选地，氢羧基。取代基卤基和氢羧基在本文中被独立地公开，并且可非限制地用于进一步描述可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的取代烷基。
在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的环烷基(取代或未取代)独立地可以是C4-C20环烷基(取代或未取代)；可选地，C4-C15环烷基(取代或未取代)；或可选地，C4-C10环烷基(取代或未取代)。在一些实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是环戊基、取代环戊基、环己基或取代环己基。在其他实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是环戊基或取代环戊基；或可选地，环己基或取代环己基。在进一步的实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是环戊基；可选地，取代环戊基；可选地，环己基；或可选地，取代环己基。可用于取代环烷基的取代基在本文中被独立地公开，并且可非限制地用于进一步描述可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的取代环烷基。
在一些实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的芳基(取代或未取代)独立地可以是C6-C20芳基(取代或未取代)；可选地，C6-C15芳基(取代或未取代)；或可选地，C6-C10芳基(取代或未取代)。在一些实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是苯基、取代苯基、萘基、或取代萘基。在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是苯基或取代苯基；可选地，萘基或取代萘基；可选地，苯基或萘基；或可选地，取代苯基或取代萘基。可用于取代苯基或取代萘基的取代基在本文中被独立地公开，并且可非限制地用于进一步描述可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的取代苯基或取代萘基。
在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各取代苯基独立地可以是2-取代苯基、3-取代苯基、4-取代苯基、2,4-双取代苯基、2,6-双取代苯基、3,5-双取代苯基、或2,4,6-三取代苯基。在其他实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各取代苯基独立地可以是2-取代苯基、4-取代苯基、2,4-双取代苯基、或2,6-双取代苯基；可选地，3-取代苯基或3,5-双取代苯基；可选地，2-取代苯基或4-取代苯基；可选地，2,4-双取代苯基或2,6-双取代苯基；可选地，2-取代苯基；可选地，3-取代苯基；可选地，4-取代苯基；可选地，2,4-双取代苯基；可选地，2,6-双取代苯基；可选地，3,5-双取代苯基；或可选地，2,4,6-三取代苯基。可用于这些具体取代苯基的取代基在本文中被独立地公开，并且可非限制地用于进一步描述可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的这些取代苯基。
在实施方式中，可被用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的芳烷基(取代的或未取代的)可以是C7-C20芳烷基(取代的或未取代的)；可替换地，C7-C15芳烷基(取代的或未取代的)；或可替换地，C7-C10芳烷基(取代的或未取代的)。在某些实施方式中，可被用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的的吡咯化合物的非氢取代基的每一个非氢取代基独立地可以是苄基或取代的苄基；可替换地，苄基；或可替换地，取代的苄基。在实施方式中，苄基可以是2-取代的苄基、4-取代的苄基、2,4-取代的苄基、2,6-二取代的苄基、或2,4,6-三取代的苄基；可替换地，2-取代的苄基或4-取代的苄基；可替换地，2,4-取代的苄基或2,6-二取代的苄基；可替换地，2-取代的苄基；可替换地，4-取代的苄基；可替换地，2,4-取代的苄基；可替换地，2,6-二取代的苄基；或可替换地，2,4,6-三取代的苄基。此处独立地公开可用于取代的芳烷基的取代基，且其可限制地用于进一步描述可被用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的的吡咯化合物的非氢取代基的取代的芳烷基。
在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各个非氢取代基独立地可以是烷氧基、取代烷氧基、环烷氧基、取代环烷氧基、芳氧基、取代芳氧基、芳烷氧基、或取代芳烷氧基；可选地，烷氧基、环烷氧基、芳氧基、或芳烷氧基；可选地，烷氧基或取代烷氧基；可选地，环烷氧基或取代环烷氧基；可选地，芳氧基或取代芳氧基；或可选地，芳烷氧基或取代芳烷氧基。在其他实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以的烷氧基；可选地，取代烷氧基；可选地，环烷氧基；可选地，取代环烷氧基；可选地，芳氧基；可选地，取代芳氧基；可选地，芳烷氧基；或可选地，取代芳烷氧基。通常，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的烷氧基、取代烷氧基、环烷氧基、取代环烷氧基、芳香族基团、取代芳香族基团、芳氧基、取代芳氧基、芳烷氧基和/或取代芳烷氧基可与本文公开的、可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的氢羧基具有相同数量的碳。取代基在本文中被独立地描述，并且可非限制地用于进一步描述可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的取代烷氧基、环烷氧基、取代环烷氧基、芳香族基团、取代芳香族基团、芳氧基、取代芳氧基、芳烷氧基和/或取代芳烷氧基。
在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、或辛氧基；或可选地，甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、或戊氧基。在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、新戊氧基、正己氧基、正庚氧基、正辛氧基；或可选地，甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、或新戊氧基。在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是甲氧基；可选地，乙氧基；可选地，正丙氧基；可选地，异丙氧基；可选地，正丁氧基；可选地，异丁氧基；可选地，叔丁氧基；可选地，正戊氧基；可选地，新戊氧基；可选地，正己氧基；可选地，正庚氧基；或可选地，正辛氧基。
在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是环丁氧基、取代环丁氧基、环戊氧基、取代环戊氧基、环己氧基、取代环己氧基、环庚氧基、取代环庚氧基、环辛氧基、或取代环辛氧基。在一些实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是环戊氧基、取代环戊氧基、环己氧基、或取代环己氧基。在其他实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是环丁氧基或取代环丁氧基；可选地，环戊氧基或取代环戊氧基；可选地，环己氧基或取代环己氧基；可选地，环庚氧基或取代环庚氧基；或可选地，环辛氧基或取代环辛氧基。在进一步的实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是环戊氧基；可选地，取代环戊氧基；可选地，环己氧基；或可选地，取代环己氧基。可用于取代环烷氧基的取代基在本文中被独立地公开，并且可非限制地用于进一步描述可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的取代环烷氧基。
一方面，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的各非氢取代基独立地可以是苯氧基或取代苯氧基；或可选地，苯氧基。在实施方式中，可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的取代苯氧基独立地可以是2-取代苯氧基、4-取代苯氧基、2,4-取代苯氧基、2,6-双取代苯氧基、或2,4,6-三取代苯氧基；可选地，2-取代苯氧基或4-取代苯氧基；可选地，2,4-取代苯氧基或2,6-双取代苯氧基；2-取代苯氧基；可选地，4-取代苯氧基；可选地，2,4-取代苯氧基；可选地，2,6-双取代苯氧基；或可选地，2,4,6-三取代苯氧基。可用于取代环烷氧基的取代基在本文中被独立地公开，并且可非限制地用于进一步描述可用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的取代苯氧基。
在方面中，可被用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的每一个非氢取代基独立地可以是苯酰氧基或取代的苯酰氧基；可替换地，取代的苯酰氧基。在实施方式中，可被用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非氢取代基的每一个非氢取代基独立地可以是2-取代的苯酰氧基、4-取代的苯酰氧基、2,4-取代的苯酰氧基、2,6-二取代的苯酰氧基、或2,4,6-三取代的苯酰氧基；可替换地，2-取代的苯酰氧基或4-取代的苯酰氧基；可替换地，2,4-二取代的苯酰氧基或2,6-二取代的苯酰氧基；可替换地，2-取代的苯酰氧基；可替换地，4-取代的苯酰氧基；可替换地，2,4-取代的苯酰氧基；可替换地，2,6-二取代的苯酰氧基；或可替换地，2,4,6-三取代的苯酰氧基。此处独立地公开可被用作取代的烷氧基的取代基，且其可限制地用于进一步描述可被用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的的吡咯化合物的非氢取代基的取代的苯酰氧基。
此处独立地描述通用取代基。可将这些基团无限制地用于进一步描述可被用作具有结构P1的吡咯化合物的R2p、R3p、R4p、和R5p或被用作具有结构P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p、和R45p的取代的非氢取代基。
在方面中，吡咯化合物可具有结构P1，其包括R2P和R5P有机基团(可替换地，由惰性官能团组成的基团；或可替换地，烃基或取代的烃基)，其中将R2P和R5P中的至少一个连接到吡咯环上，这样，连接到吡咯环上的碳原子是仲碳原子(例如，2-甲基-5-乙基吡咯，等等)；或可替换地，将R2P和R5P连接到吡咯环上，这样，连接到吡咯环上的碳原子是仲碳原子(例如，2,5-二乙基吡咯，等等)。在另一个方面中，吡咯化合物可具有结构P5，其中R42P和R45P是有机基团(可替换地，由惰性官能团组成的有机基团；或可替换地，烃基(取代的或未取代的))，其中将R42P和R45P中的至少一个连接到吡咯环上，这样，连接到吡咯环上的碳原子是仲碳原子；或可替换地，将R2P和R5P连接到吡咯环上，这样，连接到吡咯环上的碳原子是仲碳原子。此处独立地描述可被用作具有结构P1的吡咯化合物的R2P和R5P和/或具有结构P5的吡咯化合物的R42P和R45P的有机基团(可替换地，由惰性官能团组成的有机基团；或烃基(取代的或未取代的))。可容易地从本公开看到当连接到吡咯环上时，将提供其中连接到吡咯环上的碳原子是仲碳原子的基团的有机基团(可替换地，由由惰性官能团组成的有机基团；或烃基(取代的或未取代的))。这些有机基团(可替换地，由惰性官能团组成的有机基团；或烃基(取代的或未取代的))可无限制地用于进一步描述具有结构P1的任何吡咯化合物，其中至少一个(或两个)R2p和R5p有机基团(可替换地，由惰性官能团组成的基团；或可替换地，烃基或取代的烃基)和/或具有结构P5其中R42P和R45P，将至少一个(或两个)R2P和R5P有机基团(可替换地，由惰性官能团组成的基团；或可替换地，烃基或取代的烃基)连接到吡咯环上，这样连接到吡咯环上的碳原子是仲碳原子。在某些非限制性实施方式中，每一个基团，其中当连接到吡咯环上时，可提供是仲碳原子的连接到吡咯环上的碳原子，独立地可以是乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、或正辛基；可替换地，乙基、正丙基、正丁基或正戊基；可替换地，乙基、正丙基、正丁基或正戊基；可替换地，乙基；可替换地，正丙基；可替换地，正丁基；可替换地，正戊基；可替换地，正己基；可替换地，正庚基；或可替换地，正辛基。
在方面中，吡咯化合物可具有临近吡咯环的氮原子的至少一个吡咯环碳原子上的氢原子和位于临近具有氢原子的任何吡咯环碳原子的吡咯环碳原子上的大基团，其中所述氢原子临近吡咯环的氮原子；可替换地，具有位于临近吡咯环的单元的每一个吡咯环碳原子上的氢原子和位于临近具有氢原子的吡咯环碳原子的每一个吡咯环碳原子的大基团，其中所述氢原子临近吡咯环的氮原子。在实施方式中，吡咯化合物可具有结构P2，其中R14可以是此处描述的任何大的基团和R12P和R13P可以是此处描述的任何非-氢取代基。在另一个实施方式中，吡咯化合物可具有结构P3，其中R24P可以是此处描述的任何大的基团和R22P可以是此处描述的任何非-氢取代基。在还有的另一个实施方式中，吡咯化合物可具有结构P4，其中R33P和R34P可以是此处描述的任何大的基团。
在实施方式中，可将大的取代基描述为其中连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子是叔或季碳原子的基团或其中临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子是叔或季碳原子的基团；可替换地，其中连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子是叔或季碳原子的基团；或可替换地，其中临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子是叔或季碳原子的基团。在某些实施方式中，可将大的取代基描述为其中连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子是叔碳原子的基团或其中临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子是叔碳原子的基团；可替换地，其中连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子是季碳原子的基团；或可替换地，其中临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子是季碳原子的基团。在其他实施方式中，可将大的取代基描述为其中连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子是季碳原子的基团或其中临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子是季碳原子的基团；可替换地，其中连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子是季碳原子的基团；或可替换地，其中临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子是季碳原子的基团。
在实施方式中，可将大的取代基描述为其中将连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子连接到3或4碳原子上的基团，或其中将临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子连接到3或4碳原子上的基团；可替换地，其中将连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子连接到3或4碳原子上的基团；或可替换地，其中将临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子连接到3或4碳原子上的基团。在某些实施方式中，可将大的取代基描述为其中将连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子连接到3碳原子上的基团；可替换地，其中将临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子连接到3碳原子上的基团；可替换地，其中将连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子连接到3碳原子上的基团；或可替换地，其中将临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子连接到3碳原子上的基团。在其他实施方式中，可将大的取代基描述为其中将连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子连接到4碳原子上的基团；可替换地，其中将临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子连接到4碳原子上的基团；可替换地，其中将连接到吡咯环碳原子上的基团的碳原子连接到4碳原子上的基团；或可替换地，其中将临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的基团的碳原子连接到4碳原子上的基团。
为了说明的目的，结构E1用于图示连接到吡咯环上的碳原子和临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子。
利用E1，连接到吡咯环上，在基团内标记为1的碳原子代表连接到吡咯环碳原子上的碳原子，而在基团内标记为2的碳原子代表临近连接到吡咯环碳原子上的碳原子的碳原子。
在实施方式中，每一个大的取代基可以是有机基团；可替换地，由惰性官能团组成的有机基团；烃基基团或取代的烃基；烃基基团；或取代的烃基。通常，大的有机基团、由惰性官能团组成的大的有机基团、和/或大的烃基基团(取代的或未取代的)可与可被用作具有结构P1、P2、P3、P4、和/或P5的吡咯化合物的非-氢取代基的常用非-氢有机基团、由惰性官能团组成的有机基团、或烃基基团(取代的或未取代的)具有相同数目的碳原子。在某些实施方式中，每一个大的取代基独立地可以是烷基、取代的烷基、环烷基、取代的环烷基、芳基、取代的芳基、芳烷基、或取代的芳烷基；可替换地，烷基或取代的烷基；可替换地，环烷基或取代的环烷基；可替换地，芳基或取代的芳基；或可替换地，芳烷基或取代的芳烷基；可替换地，烷基；可替换地，取代的烷基；可替换地，环烷基；可替换地，取代的环烷基；可替换地，芳基；可替换地，取代的芳基；可替换地，芳烷基；或可替换地，取代的芳烷基。通常，大的烷基(取代的或未取代的)、大的环烷基(取代的或未取代的)、大的芳基(取代的或未取代的)和/或大的芳烷基(取代的或未取代的)可与可被用作具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非-氢取代基的常用的烷基(取代的或未取代的)、环烷基(取代的或未取代的)、芳基(取代的或未取代的)、和/或芳烷基(取代的或未取代的)具有相同数目的碳原子。
在实施方式中，每一个大的取代基独立地可以是丙烷-2-基、丁烷-2-基、2-甲基丙烷-1-基基团、2-甲基丙烷-2-基基团、戊烷-2-基、戊烷-3-基、2-甲基丁烷-1-基、2-甲基丁烷2-基基团、3-甲基丁烷2-基基团、2,2-二甲基丙烷-1-基基团、己烷-2-基、己烷-3-基、2-甲基戊烷-1-基基团、2-乙基丁烷-1-基基团、2-甲基戊烷2-基基团、2,3-二甲基丁烷-1-基基团、2,3-二甲基丁烷-2-基基团、庚烷-2-基基团、庚烷-3-基基团、庚烷-4-基基团、2-甲基己烷-1-基基团、2-乙基戊烷-1-基基团、2-甲基己烷-2-基基团、2,3-二甲基戊烷-1-基基团、2,3-二甲基戊烷-2-基基团、2,3,3-三甲基戊烷-1-基基团、2,3,3-三甲基戊烷-2-基基团、辛烷-2-基团、辛烷-3-基团、辛烷-4-基团、2-甲基庚烷-1-基基团、2-乙基己烷-1-基基团、2-甲基庚烷-2-基基团、壬烷-2-基团、壬烷-3-基团、壬烷-4-基团、壬烷-5-基团、癸烷-2-基团、癸烷-3-基团、癸烷-4-基团、或癸烷-5-基团。在某些实施方式中，每一个大的取代基独立地可以是丙烷2-基、丁烷-2-基、2-甲基丙烷-1-基基团、2-甲基丙烷-2-基基团、戊烷-2-基、戊烷-3-基、2-甲基丁烷-1-基、2-甲基丁烷2-基基团、3-甲基丁烷2-基基团、2,2-二甲基丙烷-1-基基团；可替换地，丙烷2-基、2-甲基丙烷-2-基基团、或2,2-二甲基丙烷-1-基基团。在某些实施方式中，每一个大的取代基独立地可以是丙烷2-基；可替换地，丁烷-2-基；可替换地，2-甲基丙烷-1-基基团；可替换地，2-甲基丙烷-2-基基团；可替换地，戊烷-2-基；可替换地，戊烷-3-基；可替换地，2-甲基丁烷-1-基；可替换地，2-甲基丁烷2-基基团；可替换地，3-甲基丁烷2-基基团；可替换地，2,2-二甲基丙烷-1-基基团。
在实施方式中，每一个大的取代基独立地可以是苯基或取代的苯基；可替换地，苯基；或可替换地，取代的苯基。在某些实施方式中，可被用作大的取代基的每一个取代的苯基可以是2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、或2,4,6-三苯基。在其他实施方式中，可被用作大的取代基的每一个取代的苯基可以是2-甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基或2,4,6-三苯基。在还有的其他实施方式中，可被用作大的取代基的每一个取代的苯基可以是2-甲基苯基；可替换地，3-甲基苯基；可替换地，4-甲基苯基；可替换地，2,3-二甲基苯基；可替换地，2,4-二甲基苯基；可替换地，2,5-二甲基苯基；可替换地，2,6-二甲基苯基；可替换地，3,4-二甲基苯基；可替换地，3,5-二甲基苯基；或可替换地，2,4,6-三苯基。
在实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯、2-取代的吡咯、3-取代的吡咯、2,5-二取代的吡咯、2,4-二取代的吡咯、3,4-二取代的吡咯、2,3,5-三取代的吡咯、2,3,4,5-四取代的吡咯或其任何组合组成。在某些实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯、2-取代的吡咯、3-取代的吡咯，或其任何组合组成；可替换地，2,5-二取代的吡咯、2,3,5-三取代的吡咯、2,3,4,5-四取代的吡咯、或其任何组合组成；或可替换地，2,4-二取代的吡咯、3,4-二取代的吡咯或其任何组合组成。在其他实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，2-取代的吡咯；可替换地，3-取代的吡咯；可替换地，2,5-二取代的吡咯；可替换地，2,4-二取代的吡咯；可替换地，3,4-二取代的吡咯；可替换地，2,3,5-三取代的吡咯；或可替换地，2,3,4,5-四取代的吡咯组成。此处通常描述非-氢取代基和其可无限制地用于进一步描述可被用作吡咯化合物的取代的吡咯。
在实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯、2-烷基吡咯、3-烷基吡咯、2,5-二烷基吡咯、2,4-二烷基吡咯、3,4-二烷基吡咯、2,3,5-三烷基吡咯、2,3,4,5-四烷基吡咯、或其任何组合组成。在某些实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯、2-烷基吡咯、3-烷基吡咯，或其任何组合组成；可替换地，2,5-二烷基吡咯、2,3,5-三烷基吡咯、2,3,4,5-四烷基吡咯、或其任何组合组成；或可替换地，2,4-二烷基吡咯、3,4-二烷基吡咯，或其任何组合组成。在其他实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，2-烷基吡咯；可替换地，3-烷基吡咯；可替换地，2,5-二烷基吡咯；可替换地，2,4-二烷基吡咯；可替换地，3,4-二烷基吡咯；可替换地，2,3,5-三烷基吡咯；或可替换地，2,3,4,5-四烷基吡咯组成。此处通常描述可被用作非-氢烷基取代基的烷基取代基和其可无限制地用于进一步描述可被用作吡咯化合物的烷基吡咯。
在实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯、2-烷氧基吡咯、3-烷氧基吡咯、2,3-二烷氧基吡咯、2,4-二烷氧基吡咯、2,5-二烷氧基吡咯、3,4-二烷氧基吡咯，或其任何组合组成。在其他实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，2-烷氧基吡咯；可替换地，3-烷氧基吡咯；可替换地，2,3-二烷氧基吡咯；可替换地，2,4-二烷氧基吡咯；可替换地，2,5-二烷氧基吡咯；或可替换地，3,4-二烷氧基吡咯组成。此处通常描述可被用作非-氢烷基取代基的烷氧基取代基和其可无限制地用于进一步描述可被用作吡咯化合物的烷氧基吡咯。
在实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯、2-甲基吡咯、2-乙基吡咯、2-丙基吡咯、2-丁基吡咯、3-甲基吡咯、3-乙基吡咯、3-丙基吡咯、3-丁基吡咯、2,5-二甲基吡咯、2-甲基-5-乙基吡咯、2,5-二乙基吡咯、2,5-二丙基吡咯、2,5-二丁基吡咯、2,4-二甲基吡咯、2,4-二乙基吡咯、2,4-二丙基吡咯、2,4-二丁基吡咯、3,4-二甲基吡咯、3,4-二乙基吡咯、3,4-二丙基吡咯、3,4-二丁基吡咯、2,3,4-三甲基吡咯、3-乙基-2,4-二甲基吡咯、2,3,5-三甲基吡咯、2,3,4,5-四甲基吡咯、2,3,4,5-四乙基吡咯、或其任何组合组成；可替换地，吡咯、2,5二(三氟甲基)吡咯、2,4-二(三氟甲基)吡咯、3,4-二(三氟甲基)吡咯，或其任何组合；或可替换地，吡咯、2-甲氧基吡咯、2-乙氧基吡咯、2-丙氧基吡咯、2-丁氧基吡咯、3-甲氧基吡咯、3-乙氧基吡咯、3-丙氧基吡咯、3-丁氧基吡咯、2,5-二(甲氧基)吡咯、2,4-二(甲氧基)吡咯、3,4-二(甲氧基)吡咯，或其任何组合。
在实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，2-甲基-5-乙基吡咯、2,5-二乙基吡咯、2,5-二-正丙基吡咯、2,5-二-正丁基吡咯、2,5-二-正戊基吡咯、2,5-二-正己基吡咯、2,5-二-正庚基吡咯、2,5-二-正辛基吡咯、2,3,5-三乙基吡咯、2,3,5-三正丁基吡咯、2,3,5-三正己基吡咯、2,3,4,5-四乙基吡咯、2,3,4,5-四正丁基吡咯、2,3,4,5-四正己基吡咯，或其任何组合；可替换地，2,5-二乙基吡咯、2,5-二-正丙基吡咯、2,5-二-正丁基吡咯、2,5-二-正戊基吡咯、2,5-二-正己基吡咯、2,5-二-正庚基吡咯，或其任何组合；可替换地，2,5-二乙基吡咯、2,5-二-正丙基吡咯、2,5-二-正丁基吡咯、2,5-二-正戊基吡咯，或其任何组合；可替换地，2,3,5-三乙基吡咯、2,3,5-三正丁基吡咯、2,3,5-三正己基吡咯，或其任何组合组成；可替换地，2,3,4,5-四乙基吡咯、2,3,4,5-四正丁基吡咯、2,3,4,5-四正己基吡咯，或其任何组合；在实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯；可替换地，2-甲基吡咯；可替换地，2-乙基吡咯；可替换地，2-丙基吡咯；可替换地，2-丁基吡咯；可替换地，3-甲基吡咯；可替换地，3-乙基吡咯；可替换地，3-丙基吡咯；可替换地，3-丁基吡咯；可替换地，2,5-二甲基吡咯；可替换地，2-甲基-5-乙基吡咯；可替换地，2,5-二乙基吡咯；可替换地，2,5-二丙基吡咯；可替换地，2,5-二丁基吡咯；可替换地，2,5-二-正丙基吡咯；可替换地，2,5-二-正丁基吡咯；可替换地，2,5-二-正戊基吡咯；可替换地，2,5-二-正己基吡咯；可替换地，2,5-二-正庚基吡咯；可替换地，2,5-二-正辛基吡咯；可替换地，2,4-二甲基吡咯；可替换地，2,4-二乙基吡咯；可替换地，2,4-二丙基吡咯；可替换地，2,4-二丁基吡咯；可替换地，3,4-二甲基吡咯；可替换地，3,4-二乙基吡咯；可替换地，3,4-二丙基吡咯；可替换地，3,4-二丁基吡咯；可替换地，2,3,4-三甲基吡咯；可替换地，3-乙基-2,4-二甲基吡咯；可替换地，2,3,5-三甲基吡咯；可替换地，2,3,5-三乙基吡咯；可替换地，2,3,5-三正丁基吡咯；可替换地，2,3,5-三正己基吡咯；可替换地，2,3,4,5-四甲基吡咯；可替换地，2,3,4,5-四乙基吡咯；可替换地，2,3,4,5-四乙基吡咯；可替换地，2,3,4,5-四正丁基吡咯；可替换地，2,3,4,5-四正己基吡咯；可替换地，2,5二(三氟甲基)吡咯；可替换地，2,4-二(三氟甲基)吡咯；可替换地，3,4-二(三氟甲基)吡咯；可替换地，2-甲氧基吡咯；可替换地，2-乙氧基吡咯；可替换地，2-丙氧基吡咯；可替换地，2-丁氧基吡咯；可替换地，3-甲氧基吡咯；可替换地，3-乙氧基吡咯；可替换地，3-丙氧基吡咯；可替换地，3-丁氧基吡咯；可替换地，2,5-二(甲氧基)吡咯；可替换地，2,4-二(甲氧基)吡咯；或可替换地，3,4-二(甲氧基)吡咯。在还有的其他实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由2,5-二(2’,2’,2’-三氟乙基)吡咯；或可替换地，2,5-二(2’-甲氧基甲基)吡咯组成。
在非限制性实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由2-甲基-4-异丙基吡咯、2-乙基-4-异丙基吡咯、2-甲基-4-仲丁基吡咯、2-乙基-4-仲丁基吡咯、2-甲基-4-异丁基吡咯、2-乙基-4-异丁基吡咯、2-甲基-4-叔丁基吡咯、2-乙基-4-叔丁基吡咯、2-甲基-4-新戊基吡咯、或2-乙基-4-新戊基吡咯组成。在某些非限制性实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由2-甲基-4-异丙基吡咯、2-乙基-4-异丙基吡咯、2-甲基-4-叔丁基吡咯、2-乙基-4-叔丁基吡咯、2-甲基-4-新戊基吡咯、或2-乙基-4-新戊基吡咯组成。在其他非限制性实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由2-甲基-4-异丙基吡咯；可替换地，2-乙基-4-异丙基吡咯；可替换地，2-甲基-4-仲丁基吡咯；可替换地，2-乙基-4-仲丁基吡咯；可替换地，2-甲基-4-异丁基吡咯；可替换地，2-乙基-4-异丁基吡咯；可替换地，2-甲基-4-叔丁基吡咯；可替换地，2-乙基-4-叔丁基吡咯；可替换地，2-甲基-4-新戊基吡咯；或可替换地，2-乙基-4-新戊基吡咯组成。在另一个非限制性实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由3,4-二异丙基吡咯、3,4-二仲丁基吡咯、3,4-二异丁基吡咯、3,4-二叔丁基吡咯、或3,4-二新戊基丙基吡咯组成。在还有的另一个非限制性实施方式中，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由3,4-二异丙基吡咯；可替换地，3,4-二仲丁基吡咯；可替换地，3,4-二异丁基吡咯；可替换地，3,4-二叔丁基吡咯；或可替换地，3,4-二新戊基丙基吡咯组成。
根据方面，含氮化合物可以是，包括，或基本上由金属含氮化合物组成(例如，金属胺、金属吡咯、和/或金属酰胺)。在实施方式中，金属含氮化合物可以是，包括，或基本上由金属胺、金属酰胺，或其任何组合组成；可替换地，金属胺；或可替换地，金属酰胺。在某些实施方式中，在实施方式中，金属含氮化合物可以是，包括，或基本上由金属吡咯化合物组成。
在实施方式中，金属含氮化合物的金属可以是第1族金属、第2族金属、或第13族金属；可替换地，第1族金属；可替换地，第2族金属；或可替换地，第13族金属。在某些实施方式中，金属含氮化合物的金属可以是锂、钠、钾、镁、钙、或铝；可替换地，锂、钠、或钾；可替换地，镁、或钙；可替换地，锂；可替换地，钠；可替换地，钾；可替换地，镁；可替换地，钙；或可替换地，铝。在方面中，第1族、第2族、或第13族金属含氮化合物的含氮化合物可以是，包括，或基本上由此处公开的任何胺和/或酰胺(一般的或特殊的)组成。
在方面中，金属含氮化合物可以是，包括，或基本上由，具有式MCNR6R7,MDNHR6，或其任何组合的金属胺组成；可替换地，MCNR6R7；或可替换地，MDNHR6。通常MC和MD可以是此处公开的金属含氮化合物的任何金属，和R6和R7可以是此处公开的任何酰R6和R7基团。
在方面中，金属含氮化合物可以是，包括，或基本上由，具有式R15C(＝O)NH2,R15C(＝O)NHR16，或其任何组合的金属胺组成；可替换地，R15C(＝O)NHME；或可替换地，R15C(＝O)NR16MF。通常ME和MF可以是此处公开的金属含氮化合物的任何金属，和R15和R16可以是此处公开的任何酰胺R15和R16基团。
根据方面，吡咯化合物可以是，包括，或基本上由金属吡咯烷酮组成。通常，金属吡咯烷酮的金属成分和金属吡咯烷酮的吡咯成分是金属吡咯烷酮的独立元素。同样地，可利用此处描述的金属成分和此处描述的吡咯成分的任何组合描述金属吡咯烷酮。在某些实施方式中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由通过接触此处描述的吡咯化合物和金属化合物的任何方法产生的金属吡咯烷酮组成。
在方面中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由，第1族、第2族、或第13族金属吡咯烷酮组成；可替换地，第1族金属吡咯烷酮；可替换地，第2族金属吡咯烷酮；可替换地，第13族金属吡咯烷酮；在某些实施方式中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由锂吡咯烷酮、钠吡咯烷酮、钾吡咯烷酮、镁吡咯烷酮、钙吡咯烷酮、或铝吡咯烷酮组成；可替换地，锂吡咯烷酮、钠吡咯烷酮、钾吡咯烷酮；可替换地，镁吡咯烷酮、钙吡咯烷酮；可替换地，锂吡咯烷酮；可替换地，钠吡咯烷酮；可替换地，钾吡咯烷酮；可替换地，镁吡咯烷酮；可替换地，钙吡咯烷酮；或可替换地，铝吡咯烷酮。在方面中，具体的第1族、第2族、或第13族金属吡咯烷酮的一般的吡咯成分可以是，包括，或基本上由，来源于此处公开的任何吡咯化合物组成。
在实施方式中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由具有结构P1的任何吡咯化合物的金属吡咯烷酮组成；可替换地，具有结构P2、结构P3、结构P4、结构P5，或其任何组合的任何吡咯化合物；可替换地，具有结构P2的任何吡咯化合物；可替换地，具有结构P3的任何吡咯化合物；可替换地，具有结构P4的任何吡咯化合物；或可替换地，具有结构P5的任何吡咯化合物。
在方面中，金属吡咯烷酮可具有结构MP1。在实施方式中，金属吡咯烷酮可具有结构MP2、结构MP3、结构MP4、结构MP5，或其任何组合。在某些实施方式中，金属吡咯烷酮可具有结构MP2；可替换地，结构MP3；可替换地，结构MP4；或可替换地，结构MP5，或其任何组合。
通常，具有结构MP1、MP2、MP3、MP4和/或MP5的金属吡咯烷酮的R2p、R3p、R4p、R5p、R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p、R45p、Mp、R1mp和q是金属吡咯烷酮的独立元素。同样地，可利用此处描述的R2p、R3p、R4p、R5p、R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p、R45p、Mp、R1mp和q的方面和/或实施方式的任何组合描述具有结构MP1、MP2、MP3、MP4、和/或MP5的金属吡咯烷酮。
R2p、R3p、R4p、R5p、R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p、R45p、Mp、R1mp和q被描述为用于具有结构P1、P2、P3、P4和/或P5的吡咯化合物的非-氢取代基。这些非氢取代基可无限制地用于进一步描述具有结构MP1、MP2、MP3、MP4和/或MP5的金属吡咯烷酮。
在方面中，MP可以是第1族、第2族、或第13族金属和q是金属的氧化态。在实施方式中，MP可以是第1族金属和q是1(q-1＝0)；可替换地，MP可以是第2族金属和q是2(q-1＝1)；或可替换地，MP可以是第13族金属和q是3(q-1＝2)。在某些实施方式中，MP可以是锂和q是1、MP可以是钠和q是1、MP可以是钾和q是1、MP可以是镁和q是2、MP可以是钙和q是2、或MP可以是铝和q是3。在其他实施方式中，MP可以是锂和q是1；可替换地，MP可以是钠和q是1；可替换地，MP可以是钾和q是1；可替换地，MP可以是镁和q是2；可替换地，MP可以是钙和q是2；或可替换地，MP可以是铝和q是3。
在方面中，每一个R1mp(当存在时)独立地可以是氢、烃基、或烃氧基基团；可替换地，氢、或烃基；可替换地，氢、或烃氧基基团；可替换地，烃基；可替换地，烃氧基基团；可替换地，氢。在实施方式中，可被用作R1mp(当存在时)的任何烃基可以是C1-C20烃基；可替换地，C1-C10烃基；或可替换地，C1-C5烃基。在实施方式中，可被用作R1mp(当存在时)的任何烃氧基基团，可以是C1-C20烃氧基基团；可替换地，C1-C10烃氧基基团；或可替换地，C1-C5烃氧基基团。
在实施方式中，每一个R1mp(当存在时)独立地可以是烷基、环烷基、芳基、或芳烷基。在某些实施方式中，每一个R1mp(当存在时)独立地可以是烷基；可替换地，环烷基；可替换地，芳基；或可替换地，芳烷基。此处独立地将烷基、环烷基、芳基、和芳烷基描述为用于吡咯化合物的潜在的非-氢取代基。可将这些非-氢吡咯烷基、环烷基、芳基、和芳烷基取代基无限制地用作具有结构MP1、结构MP2、结构MP3、结构MP4和/或结构MP5的金属吡咯烷酮的R1mp烷基、环烷基、芳基、和/或芳烷基。
在实施方式中，每一个R1mp(当存在时)独立地可以是烷氧基、环烷氧基、芳氧基、或芳烷氧基。在某些实施方式中，每一个R1mp(当存在时)独立地可以是烷氧基；可替换地，环烷氧基；可替换地，芳氧基；或可替换地，芳烷氧基。此处独立地将烷氧基、环烷氧基、芳氧基、和芳烷氧基描述为用于吡咯化合物的潜在的非-氢取代基。可将这些非-氢吡咯烷氧基、环烷氧基、芳氧基、和芳烷氧基取代基无限制地用作具有结构MP1、结构MP2、结构MP3、结构MP4、和/或结构MP5的金属吡咯烷酮的R1mp烷氧基、环烷氧基、芳氧基、和/或芳烷氧基。
在某些非限制性的实施方式中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由第2族氢化物吡咯烷酮、第2族烷基吡咯烷酮，或它的组合组成；可替换地，第2族氢化物吡咯烷酮；或可替换地，第2族烷基吡咯烷酮。在某些非限制性的实施方式中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由氢化镁吡咯烷酮、烷基镁吡咯烷酮、氢化钙吡咯烷酮、烷基钙吡咯烷酮，或其任何组合组成；可替换地，氢化镁吡咯烷酮、烷基镁吡咯烷酮、或其任何组合组成；可替换地，氢化钙吡咯烷酮、烷基钙吡咯烷酮，或其任何组合组成；可替换地，氢化镁吡咯烷酮；可替换地，烷基镁吡咯烷酮；可替换地，氢化钙吡咯烷酮；或可替换地，烷基钙吡咯烷酮。此处独立地将烷基描述为吡咯化合物的可能的非-氢取代基，和这些非-氢吡咯烷基可无限制地用于进一步描述第2族烷基吡咯烷酮、烷基镁吡咯烷酮、和/或烷基钙吡咯烷酮。
在非限制性的实施方式中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由第3族二氢化物吡咯烷酮、第3族烃基氢化物吡咯烷酮，第3族二烃基吡咯烷酮，或它的组合组成；可替换地，第3族二氢化物吡咯烷酮；可替换地，第3族烃基氢化物吡咯烷酮；或可替换地，第3族二烃基吡咯烷酮。此处独立地将烃基描述为吡咯化合物的可能的非-氢取代基，和这些非-氢吡咯烃基可无限制地用于进一步描述第3族烃基氢化物吡咯烷酮和/或第3族二烃基吡咯烷酮。
在方面中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由铝吡咯烷酮组成。在实施方式中，铝吡咯烷酮可具有结构AP1。在实施方式中，铝吡咯烷酮可具有结构AP2、结构AP3、结构AP4、结构AP5，或其任何组合。在其他实施方式中，铝吡咯烷酮可具有结构AP2；可替换地，结构AP3；可替换地，结构AP4；或可替换地，结构AP5，或其任何组合。
通常，具有结构AP1、AP2、AP3、AP4和/或AP5的铝吡咯烷酮的R2p、R3p、R4p、R5p、R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p、R45p、R1a和R2a是铝吡咯烷酮的独立元素。同样地，可利用此处描述的R2p、R3p、R4p、R5p、R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p、R45p、R1a和R2a的方面和/或实施方式的任何组合描述具有结构AP1、AP2、AP3、AP4和/或AP5的铝吡咯烷酮。
将R2p、R3p、R4p、R5p、R12p、R13p、R14p、R22p、R24p、R33p、R34p、R42p、R45p、R1a和R2a描述为具有结构P1、结构P2、结构P3、结构P4和/或结构P5的吡咯化合物的非-氢取代基。这些非-氢取代基可无限制地用于进一步描述具有结构AP1、AP2、AP3、AP4和/或AP5的铝吡咯烷酮。
在方面中，R1a和R2a独立地可以是氢或烃基；可替换地，氢；或可替换地，烃基。在实施方式中，可被用作R1mp(当存在时)的任何烃基可以是C1-C20烃基；可替换地，C1-C10烃基；或可替换地，C1-C5烃基。在实施方式中，R1a烃基和/或R2a烃基独立地可以是烷基、环烷基、芳基、或芳烷基；可替换地，烷基；可替换地，环烷基；可替换地，芳基；或可替换地，芳烷基。此处独立地将烷基、环烷基、芳基、和芳烷基描述为用于吡咯化合物的潜在的非-氢取代基。这些非-氢吡咯烷基、环烷基、芳基、和芳烷基取代基可无限制地被用作具有结构AP1、结构AP2、结构AP3、结构AP4和/或结构AP5的铝吡咯烷酮的R1a和/或R2a。
在非限制性实施方式中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由二氢化铝吡咯烷酮、烷基铝氢化物吡咯烷酮、二烷基铝吡咯烷酮，或其任何组合组成；可替换地，二氢化铝吡咯烷酮；可替换地，烷基铝氢化物吡咯烷酮；或可替换地，二烷基铝吡咯烷酮。通常，烷基铝氢化物吡咯烷酮和/或二烷基铝吡咯烷酮的烷基独立地可以是此处描述的，用于具有结构AP1、结构AP2、结构AP3、结构AP4、和/或结构AP5的铝吡咯烷酮的烷基。
在方面中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由二甲基铝吡咯烷酮、二乙基铝吡咯烷酮、二丙基铝吡咯烷酮、二丁基铝吡咯烷酮、二己基铝吡咯烷酮、二辛基铝吡咯烷酮，或其任何组合组成。在实施方式中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由二甲基铝吡咯烷酮、二乙基铝吡咯烷酮、二正丙基铝吡咯烷酮、二正丁基铝吡咯烷酮、二异丁基铝吡咯烷酮、二正己基铝吡咯烷酮、二正辛基铝吡咯烷酮，或其任何组合组成；可替换地，二乙基铝吡咯烷酮、二正丁基铝吡咯烷酮、或二异丁基铝吡咯烷酮；可替换地，二甲基铝吡咯烷酮；可替换地，二乙基铝吡咯烷酮；可替换地，二正丙基铝吡咯烷酮；可替换地，二正丁基铝吡咯烷酮；可替换地，二异丁基铝吡咯烷酮；可替换地，二正己基铝吡咯烷酮；或可替换地，二正辛基铝吡咯烷酮。通常，这些二烷基铝二氢化化物吡咯烷酮的吡咯烷酮可以是，包括，或基本上，由此处公开的任何吡咯化合物的吡咯烷酮组成。
在方面中，金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由通过用于生产此处描述的金属吡咯烷酮的任何方法生产的金属吡咯烷酮组成。在其中金属吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由铝吡咯烷酮组成的实施方式中，铝吡咯烷酮可以是，包括，或基本上由通过用于产生此处描述的金属吡咯烷酮的任何方法产生的金属吡咯烷酮组成。
通常，可用于催化剂体系的金属烃基化合物可以是具有结合到烃基的碳原子上的金属原子的金属化合物。在实施方式中，金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由任何杂配物或同配物烃基化合物组成。在实施方式中，金属烃基化合物可以是，包括，基本上由，或由非-卤化物金属烃基、金属烃基卤基，或其任何组合组成；可替换地，非-卤化物金属烃基；或可替换地，金属烃基卤基。通常，任何金属烃基卤基的每一个卤基独立地可以是氟化物、氯化物、溴化物、或碘化物；可替换地，氯化物、溴化物、或碘化物；可替换地，氟化物；可替换地，氯化物；可替换地，溴化物；或可替换地，碘化物。通常，在实施方式中，任何金属烃基(非-卤化物金属烷基和/或金属烷基卤基)的每一个烃基可以是C1-C20烃基；可替换地，C1-C10烃基；或可替换地，C1-C5烃基。
通常，任何金属烃基化合物的每一个烃基独立地可以是烷基、环烷基、芳基、或芳烷基；可替换地，烷基；可替换地，环烷基；可替换地，芳基；或可替换地，芳烷基。在某些实施方式中，金属烃基可以是金属烷基和可包括，基本上由，或由非-卤化物金属烷基，金属烷基卤基，或其任何组合组成；可替换地，非-卤化物金属烷基；或可替换地，金属烷基卤基。
在实施方式中，金属烃基(或金属烷基，等等金属烃基)的金属可包括，基本上由，或由第1、2、11、12、13或14族金属组成；或可替换地，第13族或14金属；或可替换地，第13族金属。在某些实施方式中，金属烃基(非-卤化物金属烃基或金属烃基卤基，或非-卤化物金属烷基或金属烷基卤基)的金属可以是锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、锌、铬、硼、铝或锡；可替换地，锂、钠、钾、镁、钙、锌、硼、铝或锡；可替换地，锂、钠或钾；可替换地，镁、钙；可替换地，锂；可替换地，钠；可替换地，钾；可替换地，镁；可替换地，钙；可替换地，锌；可替换地，硼；可替换地，铝；或可替换地，锡。
在方面中，金属烷基可包括，基本上由，或由第1族金属烷基，第2族金属烷基氢化物、第2族金属烷基卤基、第2族金属二烷基、第12族金属二烷基、第13族金属二氢化物、第13族金属二烷基氢化物、第13族金属烷基二卤基、第13族金属二烷基卤基、第13族金属三烷基、第14族金属二烷基、第14族金属二烷基二卤基、第14族金属四烷基、或其任何组合组成；可替换地，第1族金属烷基，第2族金属烷基氢化物、第2族金属烷基卤基、第2族金属二烷基、或其任何组合；可替换地，第13族金属二氢化物、第13族金属二烷基氢化物、第13族金属烷基二卤基、第13族金属二烷基卤基、第13族金属三烷基、或其任何组合；或可替换地，第14族金属二烷基、第14族金属二烷基二卤基、第14族金属四烷基。在实施方式中，金属烷基可包括，基本上由，或由第1族金属烷基，第2族金属烷基氢化物、第2族金属二烷基、第12族金属二烷基、第13族金属二氢化物、第13族金属二烷基氢化物、第13族金属三烷基、第14族金属二烷基、第14族金属四烷基、或其任何组合组成；可替换地，第1族金属烷基，第2族金属烷基氢化物、第2族金属二烷基，或其任何组合组成；可替换地，第13族金属二氢化物、第13族金属二烷基氢化物、第13族金属三烷基，或其任何组合组成。在某些实施方式中，金属烷基可包括，基本上由，或由第1族金属烷基、第2族金属二烷基、第12族金属二烷基、第13族金属三烷基、第14族金属二烷基、或第14族金属四烷基组成；可替换地，第1族金属烷基或第2族金属二烷基；或可替换地，第14族金属二烷基、或第14族金属四烷基组成。在其他实施方式中，金属烷基可包括，基本上由，或由第13族金属烷基二卤基、第13族金属二烷基卤基、第13族金属三烷基，或其任何组合组成。在还有的其他实施方式中，金属烷基可包括，基本上由，或由第1族金属烷基；可替换地，第2族金属烷基氢化物；可替换地，第2族金属烷基卤基；可替换地，第2族金属二烷基；可替换地，第12族金属二烷基；可替换地，第13族金属二氢化物；可替换地，第13族金属二烷基氢化物；可替换地，第13族金属烷基二卤基；可替换地，第13族金属二烷基卤基；可替换地，第13族金属三烷基；可替换地，第14族金属二烷基；可替换地，第14族金属二烷基二卤基；或可替换地，第14族金属四烷基。
应该注意，烃基金属化合物包含可含有卤素原子的化合物和不含有卤素原子的化合物。当烃基金属化合物含有卤素原子时，可将烃基金属化合物称为烃基金属卤化物。当烃基金属化合物不含有卤素原子时，可将烃基金属化合物称为非-卤基烃基金属。
当烃基金属化合物含有卤素原子时(例如，金属烃基卤基或金属烷基卤基)，烃基金属化合物也可担当含卤素化合物(此处进一步描述)。在其中烃基金属化合物含有卤素原子时(例如，金属烃基卤基或金属烷基卤基)的某些实施方式中，烃基金属化合物可代表所有的或部分的含卤素化合物；可替换地，所有的含卤素化合物；或可替换地，部分的含卤素化合物。
在某些非限制性实施方式中，金属烷基可包括，基本上由，或由烷基锂、烷基钠、二烷基镁、二烷基锌、三烷基硼、三烷基铝、或其任何组合组成；或可替换地，烷基锂、烷基钠、二烷基镁、或其任何组合组成。在另一个非限制性实施方式中，金属烷基可包括，基本上由，或由烷基锂；可替换地，烷基钠；可替换地，二烷基镁；可替换地，二烷基锌；可替换地，三烷基硼；或可替换地，三烷基铝。
在某些实施方式中，金属烃基(非-卤化物金属烃基或金属烃基卤基，或非-卤化物金属烷基或金属烷基卤基)可包括，基本上由，或由烃基锂、烃基钠、烃基镁、烃基锌、或烃基铝组成。在其他实施方式中，金属烷基可包括，基本上由，或由烷基锂、烷基钠、烷基镁、烷基硼、烷基锌、或烷基铝组成。在某些实施方式中，金属烃基(非-卤化物金属烃基或金属烃基卤基，或非-卤化物金属烷基或金属烷基卤基)可包括，基本上由，或由烃基铝组成。在某些非限制性实施方式中，烃基铝可包括，或基本上由烷基铝组成。
在方面中，金属烃基可包括，基本上由，或由三烃基铝化合物、二烃基铝卤基化合物、烃基铝二卤基化合物、二烃基铝卤基化合物、烃基铝二卤基化合物、二烃基铝烃氧化物(hydrocarboxide)化合物、烃基铝二烃氧化物化合物、烃基铝倍半卤基(sesquihalide)化合物、烃基铝倍半烃氧化物化合物、铝氧烷，或其任何组合组成；可替换地，三烃基铝、二烃基铝卤基、烃基铝二卤基、二烃基铝醇盐、烃基铝二醇盐，或其任何组合；或可替换地，三烃基铝、二烃基铝卤基、烃基铝二卤基、或其任何组合。在某些实施方式中，金属烃基可包括，基本上由，或由三烃基铝化合物、二烃基铝卤基化合物、烃基铝二卤基化合物、烃基铝倍半卤基、或其任何组合；可替换地，三烃基铝化合物、二烃基铝卤基化合物、或其任何组合；可替换地，三烃基铝化合物；可替换地，二烃基铝卤基化合物；可替换地，烃基铝二卤基化合物；可替换地，二烃基铝烃氧化物化合物；可替换地，烃基铝二烃氧化物化合物；可替换地，烃基铝倍半卤基化合物；可替换地，烃基铝倍半烃氧化物化合物；可替换地，铝氧烷烃基铝倍半卤基；或可替换地，铝氧烷。此处描述用于金属烃基、金属烃基卤基、和/或金属烃基烃基氧化物的合适的烃基和卤基，且其可用于进一步描述适当的金属烃基。
通常，具有烃基氧化物基团的任何金属烃基的每一个烃基氧化物基团可以是C1至C20烃氧化物基团；可替换地，C1至C10烃氧化物基团；可替换地，C1至C6烃氧化物基团。在实施方式中，烃基氧化物基团可以是烷基氧化物基团、环烷基氧化物基团、芳基氧化物基团、或芳烷基氧化物基团；可替换地，烷基氧化物基团；可替换地，环烷基氧化物基团；可替换地，芳基氧化物基团；或可替换地，芳烷基氧化物基团。通常，烷基氧化物基团、环烷基氧化物基团、芳基氧化物基团、和/或芳烷基氧化物基团可具有与烃氧化物基团相同数目的碳原子。
当金属烃基可包括，基本上由，或由烷基金属组成时，此处描述的任何烷基金属的每一个烷基(例如，烷基铝化合物或烷基铝卤化物，等等)独立地可以是C1至C20烷基；可替换地，C1至C10烷基；可替换地，C1至C6烷基。在实施方式中，此处描述的任何烷基金属的每一个烷基独立地可以是甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、或辛基；可替换地，甲基、乙基、丁基、己基、或辛基。在某些实施方式中，此处描述的任何烷基金属的每一个烷基独立地可以是甲基、乙基、正丙基、正丁基、异丁基、正己基、或正辛基；可替换地，甲基、乙基、正丁基、或异丁基；可替换地，甲基；可替换地，乙基；可替换地，正丙基；可替换地，正丁基；可替换地，异丁基；可替换地，正己基；或可替换地，正辛基。
通常，包含此处描述的烷基氧化物基团的任何金属烷基的每一个烷基氧化物基团独立地可以是C1至C20烷基氧化物基团；可替换地，C1至C10烷基氧化物基团；可替换地，C1至C6烷基氧化物基团。在实施方式中，包含此处描述的烷基氧化物基团的任何金属烷基的每一个烷基氧化物基团独立地可以是甲基氧化物基团、乙基氧化物基团、丙基氧化物基团、丁基氧化物基团、戊基氧化物基团、己基氧化物基团、庚基氧化物、或辛基氧化物基团；可替换地，甲基氧化物基团、乙基氧化物基团、丁基氧化物基团、己基氧化物基团、或辛基氧化物基团。在某些实施方式中，包含此处描述的烷基氧化物基团的任何金属烷基的每一个烷基氧化物基团独立地可以是甲基氧化物基团、乙基氧化物基团、正丙基氧化物基团、正丁基氧化物基团、异丁基氧化物基团、正己基氧化物基团、或正辛基氧化物基团；可替换地，甲基氧化物基团、乙基氧化物基团、正丁基氧化物基团、异丁基氧化物基团；可替换地，甲基氧化物基团；可替换地，乙基氧化物基团；可替换地，正丙基氧化物基团；可替换地，正丁基氧化物基团；可替换地，异丁基氧化物基团；可替换地，正己基氧化物基团；或可替换地，正辛基氧化物基团。
在非限制性实施方式中，金属烃基可包括，基本上由，或由甲基锂、乙基锂、正丁基锂、仲丁基锂、叔丁基锂、二乙基镁、二乙基锌、或其任何组合组成；可替换地，甲基锂、乙基锂、正丁基锂、仲丁基锂、叔丁基锂、或其任何组合；可替换地，甲基锂；可替换地，乙基锂；可替换地，正丁基锂；可替换地，仲丁基锂；可替换地，叔丁基锂；可替换地，二乙基镁；可替换地，二乙基锌。
在根据本公开的某些方面和实施方式中，金属烃基可以是，包括，或基本上由非-水解的烃基铝化合物组成。在实施方式中，非-水解的烃基铝化合物可以是，包括，或基本上由三烃基铝化合物、烃基铝卤基、和/或烃基铝烷基氧化物组成。
在方面中，烷基金属可包括，基本上由，或由三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基铝二卤化物、二烷基铝卤化物、烷基铝二卤化物、二烷基铝烷基氧化物、烷基铝二烷基氧化物、烷基铝倍半卤化物、烷基铝倍半烷基氧化物，或其任何组合组成；可替换地，三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基铝二卤化物、二烷基铝烷基氧化物、烷基铝二烷基氧化物，或其任何组合组成；可替换地，三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基铝二卤化物，或其任何组合组成；可替换地，三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基铝二卤化物、烷基铝倍半卤化物，或其任何组合组成；可替换地，三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基铝二卤化物，或其任何组合组成；可替换地，三烷基铝、二烷基铝卤化物，或其任何组合组成；可替换地，三烷基铝；可替换地，二烷基铝卤化物；可替换地，烷基铝二卤化物；可替换地，二烷基铝卤化物；可替换地，烷基铝二卤化物；可替换地，二烷基铝烷基氧化物；可替换地，烷基铝二烷基氧化物；可替换地，烷基铝倍半卤化物；或可替换地，烷基铝倍半烷基氧化物。此处公开烷基、烷基氧化物、和卤基，且其可无限制地用于进一步描述可用于进一步描述金属烷基的烷基金属、烷基金属卤化物，和/或金属烷基氧化物。
在非限制性实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的三烷基铝可包括，基本上由，或由三甲基铝、三乙基铝、三丙基铝、三正丁基铝、三异丁基铝、三正己基铝、三正辛基铝，或其任何组合组成；可替换地，三乙基铝、三正丁基铝、三异丁基铝、三正己基铝，或其任何组合；可替换地，三甲基铝；可替换地，三乙基铝；可替换地，三丙基铝；可替换地，三正丁基铝；可替换地，三异丁基铝；可替换地，三正己基铝；或可替换地，三正辛基铝。在非限制性的实施方式中，烷基铝卤化物可包括，基本上由，或由二乙基铝氯化物、二乙基铝溴化物、乙基铝二氯化物、乙基铝倍半氯化物，或其任何组合组成；可替换地，二乙基铝氯化物、乙基铝二氯化物、乙基铝倍半氯化物，或其任何组合；可替换地，二乙基铝氯化物；可替换地，二乙基铝溴化物；可替换地，乙基铝二氯化物；或可替换地，乙基铝倍半氯化物。在非限制性的实施方式中，烷基金属化合物可包括，基本上由，或由三甲基铝(TMA)、三乙基铝(TEA)、乙基铝二氯化物、三丙基铝、二乙基铝乙基氧化物、三丁基铝、二异丁基铝氢化物、三异丁基铝、二乙基铝氯化物(DEAC)、或其任何组合的混合物组成。
在方面中，烷基金属化合物可包括，基本上由，或由三烷基铝化合物和烷基铝卤化物的混合物组成。混合物的三烷基铝化合物可包括，基本上由，或由此处描述的任何三烷基铝化合物组成。混合物的烷基铝卤化物化合物可以是，包括，或基本上由，此处描述的任何烷基铝化合物组成。在某些实施方式中，三烷基铝化合物和烷基铝卤化物的混合物可包括，基本上由，或由三乙基铝和二乙基铝氯化物的混合物，三乙基铝和乙基铝二氯化物的混合物，或三乙基铝和乙基铝倍半氯化物的混合物组成。在实施方式中，三聚作用催化剂体系的烷基金属成分可包括，基本上由，或由三乙基铝和二乙基铝氯化物的混合物组成。
在方面中，金属烃基包括，基本上由，或由铝氧烷组成。在实施方式中，铝氧烷可具有式Ⅰ的重复单元。
通常，R’可以是此处公开的任何烃基。在某些实施方式中，R’可以是烷基。此处通常公开用于金属烷基的烷基，和这些烷基可无限制地用于描述具有式Ⅰ的重复单元的铝氧烷，其中R’可以是烷基。在某些实施方式中，R’可以是直链或支链的烷基；可替换地，直链烷基；可替换地，支链的烷基；或可替换地，直链和支链的烷基的混合物。通常，式Ⅰ的n大于1；或可替换地，大于2。在实施方式中，n的范围可以是从2至15；或可替换地，范围为从3至10。
在非限制性实施方式中，铝氧烷可包括，基本上由，或由甲基铝氧烷、乙基铝氧烷、修饰的甲基铝氧烷、正丙基铝氧烷、异丙基铝氧烷、正丁基铝杨宛、仲丁基铝氧烷、异丁基铝氧烷、叔丁基铝氧烷、1-戊基铝氧烷、2-戊基铝氧烷、3-戊基-铝氧烷、异戊基铝氧烷、新戊基铝氧烷，或其任何组合组成。在某些非限制性实施方式中，铝氧烷可包括，基本上由，或由甲基铝氧烷、修饰的甲基铝氧烷、异丁基铝氧烷、叔丁基铝氧烷，或其任何组合组成。在其他非限制性实施方式中，铝氧烷可包括，基本上由，或由甲基铝氧烷；可替换地，乙基铝氧烷；可替换地，修饰的甲基铝氧烷；可替换地，正丙基铝氧烷；可替换地，异丙基铝氧烷；可替换地，正丁基铝氧烷；可替换地，仲丁基铝氧烷；可替换地，异丁基铝氧烷；可替换地，叔丁基铝氧烷；可替换地，1-戊基铝氧烷；可替换地，2-戊基铝氧烷；可替换地，3-戊基-铝氧烷；可替换地，异戊基铝氧烷；或可替换地，新戊基铝氧烷。
尽管不意欲受理论的限制，应该相信，含卤素化合物可改进利用此处描述的催化剂体系的寡聚化方法的产物纯度和选择性。如此处使用的，可交替地使用术语“含卤素”和“含卤基”。在方面中，含卤素化合物可以是，包括，或基本上由，金属卤化物，非金属卤化物，或其任何组合组成；可替换地，金属卤化物；或可替换地，非金属卤化物。在某些实施方式中，金属卤化物可以是，包括，或基本上由，无机金属卤化物、烃基金属卤化物，或其任何组合组成；可替换地，无机金属卤化物；可替换地，烃基金属卤化物。在这个方面和任何公开的实施方式中，含卤素化合物(金属卤化物或非金属卤化物，和/或无机金属卤化物或烃基金属卤化物)可以是，包括，或基本上由第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、第14族、或第15族含卤素化合物组成。
在实施方式中，含卤素化合物可，包括，或基本上由第3族金属卤化物、第4族金属卤化物、第5族金属卤化物、排除Cr的第6族金属卤化物、第13族金属卤化物、第14族金属卤化物、第15族金属卤化物，或其任何组合组成；可替换地，第3族金属卤化物、第4族金属卤化物、第5族金属卤化物、排除Cr的第6族金属卤化物，或其任何组合；或可替换地，第13族金属卤化物、第14族金属卤化物、第15族金属卤化物，或其任何组合。在某些实施方式中，含卤素化合物可包括，或基本上由第3族金属卤化物；可替换地，第4族金属卤化物；可替换地，第5族金属卤化物；可替换地，排除Cr的第6族金属卤化物；可替换地，第13族金属卤化物；可替换地，第14族金属卤化物；或可替换地，第15族金属卤化物。在还有的其他实施方式中，含卤素化合物可包括，或基本上由卤化烃组成。
通常，族编号(金属或非金属)和卤素(等含有卤素的化合物的其他特征)是含卤素化合物的独立元素和此处独立地描述。可利用此处描述的族编号(金属或非金属)和卤素的任何组合描述含卤素化合物。
在实施方式中，非金属卤化物可以是，包括，或基本上由第13族非金属卤化物、第14族非金属卤化物、第15族非金属卤化物、或其任何组合组成；可替换地，第13族非金属卤化物；可替换地，第14族非金属卤化物；或可替换地，第15族非金属卤化物。在某些实施方式中，非金属卤化物可以是，包括，或基本上由卤化硼、卤化硅、卤化磷、卤代烃、或其任何组合组成；可替换地，卤化硼；可替换地，卤化硅；可替换地，卤化磷；或可替换地，卤代烃。在实施方式中，卤化硼化合物可以是，包括，或基本上由三卤化硼、烃基二卤化硼、二烃基单卤化硼、或其任何组合组成；可替换地，三卤化硼；可替换地，烃基二卤化硼；或可替换地，二烃基卤化硼。在实施方式中，卤化硅化合物可以是，包括，或基本上由四卤化硅、烃基三卤化硅、二烃基二卤化硅、三烃基单卤化硅，或其任何组合组成；可替换地，四卤化硅；可替换地，烃基三卤化硅；可替换地，二烃基二卤化硅；或可替换地，三烃基单卤化硅。在实施方式中，卤化磷化合物可以是，包括，或基本上由五卤化磷、三卤化磷、烃基二卤化磷、二烃基单卤化磷，或其任何组合组成；可替换地，五卤化磷、三卤化磷，或其任何组合；可替换地，五卤化磷；可替换地，三卤化磷；可替换地，烃基二卤化磷；或可替换地，二烃基单卤化磷。通常，卤基(或卤素)和烃基(或卤代烃的烃)是可被用作卤代化合物的卤化硼、卤化硅、卤化磷、或卤化烃的独立元素。此处独立地描述卤基(或卤素)和烃基，且其可以任何结合的方式用于进一步描述可被用作含卤素化合物的卤化硼、卤化硅、卤化磷、或卤化烃。
在实施方式中，可被用作含卤素化合物的金属卤化物化合物可以是，包括，或基本上由，无机金属卤化物、烃基金属卤化物，或其任何组合组成；可替换地，无机金属卤化物；可替换地，烃基金属卤化物。在某些实施方式中，金属卤化物可以是，包括，或基本上由第3族金属卤化物、第4族金属卤化物、第5族金属卤化物、排除Cr的第6族金属卤化物、第13族金属卤化物、第14族金属卤化物、第15族金属卤化物、或其任何组合组成；可替换地，第3族金属卤化物；可替换地，第4族金属卤化物；可替换地，第5族金属卤化物；可替换地，排除Cr的第6族金属卤化物；可替换地，第13族金属卤化物；可替换地，第14族金属卤化物；或可替换地，第15族金属卤化物。在实施方式中，可被用作含卤素化合物的金属卤化物化合物可包括，或基本上由，无机第3族金属卤化物、无机第4族金属卤化物、无机第5族金属卤化物、无机排除Cr的第6族金属卤化物、无机第13族金属卤化物、无机第14族金属卤化物、无机第15族金属卤化物、或其任何组合组成；可替换地，无机第3族金属卤化物；可替换地，无机第4族金属卤化物；可替换地，无机第5族金属卤化物；可替换地，无机排除Cr的第6族金属卤化物；可替换地，无机第13族金属卤化物；可替换地，无机第14族金属卤化物；或可替换地，无机第15族金属卤化物。在实施方式中，可被用作含卤素化合物的金属卤化物化合物可包括，或基本上由，烃基第3族金属卤化物、烃基第4族金属卤化物、烃基第5族金属卤化物、烃基排除Cr的第6族金属卤化物、烃基第13族金属卤化物、烃基第14族金属卤化物、烃基第15族金属卤化物、或其任何组合组成；可替换地，烃基第3族金属卤化物；可替换地，烃基第4族金属卤化物；可替换地，烃基第5族金属卤化物；可替换地，烃基排除Cr的第6族金属卤化物；可替换地，烃基第13族金属卤化物；可替换地，烃基第14族金属卤化物；可替换地，烃基第15族金属卤化物。通常，卤基(或无机金属卤化物的卤素和卤基(或卤素))和烃基金属卤化物的烃基是可被用作含卤素化合物的无机金属卤化物和/或烃基金属卤化物的独立元素。此处独立地描述卤基(或卤素)和烃基，且其可以任何结合的方式用于进一步描述可被用作含卤素化合物的无机金属卤化物和/或烃基金属卤化物。
应该注意，当含卤素化合物包括，或基本上由，烃基金属卤化物组成时，含卤素化合物(也就是，烃基金属卤化物)也可担当烃基金属化合物。在其中含卤素化合物包括，或基本上由，烃基金属卤化物组成的某些实施方式中，含卤素化合物(也就是，烃基金属卤化物)可代表烃基金属化合物的所有或部分；可替换地，烃基金属化合物的所有；可替换地，烃基金属化合物的部分。
在方面或任何实施方式中，可被用作含卤素化合物的任何一般的或特殊的无机金属卤化物或烃基金属卤化物的金属可以是，包括，或基本上由如下组成：钪、钇、镧、钛、锆、铪、钒、铌、钼、钨、铝、镓、锗、锡、砷、锑、或铋；可替换地，钪、钇、镧、钛、锆、铪、钼、钨、铝、镓、锗、锡、砷、锑、或铋。在某些实施方式中，可被用作含卤素化合物的任何一般的或特殊的无机金属卤化物或烃基金属卤化物的金属可以是，包括，或基本上由如下组成：钪、钇、镧、钛、锆、铪、钼、或钨；或可替换地，铝、镓、锗、锡、锑、或铋。在其他实施方式中，可被用作含卤素化合物的任何一般的或特殊的无机金属卤化物或烃基金属卤化物的金属可以是，包括，或基本上由如下组成：钪、钇、或镧；可替换地，钛、锆、或铪；可替换地，钒、或铌；可替换地，钼、或钨；可替换地，铝、或镓；可替换地，锗、或锡；或可替换地，锑、或铋。在还有的其他实施方式中，可被用作含卤素化合物的任何一般的或特殊的无机金属卤化物或烃基金属卤化物的金属可以是，包括，或基本上由如下组成：钪；可替换地，钇；可替换地，镧；可替换地，钛；可替换地，锆；可替换地，铪；可替换地，钒；可替换地，铌；可替换地，钼；可替换地，钨；可替换地，铝；可替换地，镓；可替换地，锗；可替换地，锡；可替换地，砷；可替换地，锑；或可替换地，铋。
在方面中，含卤素化合物的每一个卤素(或卤基)(不管它是否是无机金属卤化物，烃基金属卤化物，或非金属卤化物)独立地可以是氟化物、氯化物、溴化物、或碘化物；可替换地，氟化物；可替换地，氯化物；可替换地，溴化物；或可替换地，碘化物。因此，含卤素化合物可以是含氟(或氟化物)化合物、含氯(或氯化物)化合物、含溴(或溴化物)化合物、或含碘(或碘化物)化合物。在实施方式中，含卤素化合物可以是含氟(或氟化物)化合物；可替换地，含氯(或氯化物)化合物；可替换地，含溴(或溴化物)化合物；或可替换地，含碘(或碘化物)化合物。
在示例性的实施方式中，含卤素化合物可包括，或基本上由任何一般的或特殊的无机金属氟化物、烃基金属氟化物、非金属氟化物、无机金属氯化物、烃基金属氯化物、非金属氯化物、无机金属溴化物、烃基金属溴化物、非金属溴化物、无机金属碘化物、烃基金属碘化物、非金属碘化物、或其任何组合组成；可替换地，无机金属氟化物、无机金属氯化物、无机金属溴化物、无机金属碘化物、或其任何组合；可替换地，烃基金属氟化物、烃基金属氯化物、烃基金属溴化物、烃基金属碘化物、或其任何组合；或可替换地，非金属氟化物、非金属氯化物、非金属溴化物、非金属碘化物、或其任何组合。在某些实施方式中，含卤素化合物可包括，或基本上由如下组成：任何一般的或特殊的无机金属氯化物、烃基金属氯化物、非金属氯化物，或其任何组合组成；可替换地，无机金属氯化物；可替换地，烃基金属氯化物；可替换地，非金属氯化物。
在实施方式中，任何烃基金属卤化物(例如，此处公开的烃基铝卤基或烃基锡卤基，等等)或任何烃基非-金属卤化物(例如，此处公开的烃基卤化硼、烃基卤化硅、烃基卤化磷，等等)的烃基可以是C1至C20烃基；可替换地，C1至C10烃基；或可替换地，C1至C6烃基。此处通常将烃基(一般的和特殊的)描述为R2c取代基，用于吡咯化合物的实施方式，和此处描述的多种实施方式中的取代基，等方面和实施方式。这些烃基描述(一般的和特殊的)可无限制地用于进一步描述可被用作含卤素化合物的烃基金属卤化物或烃基非-金属卤化物。在某些非限制性，烃基金属卤化物(例如，此处公开的烃基铝卤基或烃基锡卤基，等等)或任何烃基非-金属卤化物(例如，此处公开的烃基卤化硼、烃基卤化硅、烃基卤化磷，等等)的烃基可以是烷基、环烷基、芳基、或芳烷基；可替换地，烷基；可替换地，环烷基；可替换地，芳基；或可替换地，芳烷基。
在非限制性实例中，可被用作含卤素化合物的金属卤化物可包括，或基本上由，或由如下组成：三氯化钪、三氯化钇、三氯化镧、四氯化钛、四氯化锆、四氯化铪、五氯化钼、六氯化钨、氯化铝、三溴化铝、氟化铝、三氯化镓、四氯化锗、四氯化锡、三氯化锑、五氯化锑、或三氯化铋，或其任何组合。在非限制性实例中，可被用作含卤素化合物的金属卤化物可包括，或基本上由，或由如下组成：三氯化钪、三氯化钇、三氯化镧，或其任何组合；可替换地，四氯化钛、四氯化锆、四氯化铪，或其任何组合；可替换地，五氯化钼、六氯化钨，或其任何组合；可替换地，氯化铝、三溴化铝、氟化铝、三氯化镓，或其任何组合；可替换地，三氯化镓、四氯化锗，或其任何组合；或可替换地，三氯化锑、五氯化锑、或三氯化铋，或其任何组合。在其他非限制性实施方式中，可被用作含卤素化合物的金属卤化物可包括，或基本上由，或由如下组成：三氯化钪；可替换地，三氯化钇；可替换地，三氯化镧；可替换地，四氯化钛；可替换地，四氯化锆；可替换地，四氯化铪；可替换地，五氯化钼；可替换地，六氯化钨；可替换地，氯化铝；可替换地，三溴化铝；可替换地，氟化铝；可替换地，三氯化镓；可替换地，四氯化锗；可替换地，四氯化锡；可替换地，三氯化锑；可替换地，五氯化锑；或可替换地，三氯化铋。
在非限制性实例中，可被用作含卤素化合物的卤化硼、卤化硅、或卤化磷可包括，或基本上由，或由如下组成：氯化硼、三溴化硼、四氯化硅、四溴化硅、三氯化磷、三溴化磷、五氯化磷、或其任何组合。在某些非限制性实施方式中，含卤素化合物可包括，或基本上由，或由如下组成：三氯化硼、三溴化硼，或其任何组合；可替换地，四氯化硅、四溴化硅，或其任何组合；或可替换地，三氯化磷、三溴化磷、五氯化磷、或其任何组合。在其他非限制性实施方式中，含卤素化合物可包括，或基本上由，或由如下组成：三氯化硼；可替换地，三溴化硼；可替换地，四氯化硅；可替换地，四溴化硅；可替换地，三氯化磷；可替换地，三溴化磷；或可替换地，五氯化磷。
在实施方式中，可被用作含卤素化合物的烃基金属卤化物可以是，包括，或基本上由，烃基铝卤化物或烃基锡卤化物组成；可替换地，烃基铝卤化物；或可替换地，烃基锡卤化物。在另一个典型的实施方式中，可被用作含卤素化合物的烃基金属卤化物可以是，包括，或基本上由，烃基铝二卤化物、二烃基铝卤化物、烃基铝倍半卤化物、烃基锡三卤化物、二烃基锡二卤化物、三烃基锡卤化物，或其任何组合组成。在还有的另一个实施方式中，可被用作含卤素化合物的烃基金属卤化物可以是，包括，或基本上由，烃基铝二卤化物、二烃基铝卤化物、烃基铝倍半卤化物、或其任何组合组成；或可替换地，烃基锡三卤化物、二烃基锡二卤化物、三烃基锡卤化物，或其任何组合组成。在进一步的实施方式中，可被用作含卤素化合物的烃基金属卤化物可以是，包括，或基本上由，烃基铝二卤化物；可替换地，二烃基铝卤化物；可替换地，烃基铝倍半卤化物；可替换地，烃基锡三卤化物；可替换地，二烃基锡二卤化物；可替换地，三烃基锡卤化物。此处已经描述烃基，且其可无限制地用于描述可被用作含卤素化合物的烃基铝卤化物和/或烃基锡卤化物的烃基。
在方面中，可被用作含卤素化合物的烃基金属卤化物可以是，包括，或基本上由烷基金属卤化物组成。在实施方式中，可被用作含卤素化合物的烷基金属卤化物可以是，包括，或基本上由烷基铝卤化物或烷基锡卤化物组成；可替换地，烷基铝卤化物；或可替换地，烷基锡卤化物。在某些实施方式中，可被用作含卤素化合物的烷基铝卤化物可以是，包括，或基本上由烷基铝氯化物组成；可替换地，烷基铝溴化物；或可替换地，烷基铝碘化物。在其他实施方式中，可被用作含卤素化合物的烷基锡卤化物可以是，包括，或基本上由烷基锡氯化物组成；可替换地，烷基锡溴化物；或可替换地，烷基锡碘化物。在另一个实施方式中，可被用作含卤素化合物的烷基金属卤化物可以是，包括，或基本上由烷基铝二卤化物、二烷基铝卤化物、烷基铝倍半卤化物、烷基锡三卤化物、二烷基锡二卤化物、三烷基锡卤化物、或其任何组合组成。在某些实施方式中，可被用作含卤素化合物的烷基金属卤化物可以是，包括，或基本上由烷基铝二卤化物、二烷基铝卤化物、烷基铝倍半卤化物、或其任何组合组成；或可替换地，烷基锡三卤化物、二烷基锡二卤化物、三烷基锡卤化物、或其任何组合组成。在进一步的非限制性实施方式中，可被用作含卤素化合物的烷基金属卤化物可以是，包括，或基本上由烷基铝二卤化物；可替换地，二烷基铝卤化物；可替换地，烷基铝倍半卤化物；可替换地，烷基锡三卤化物；可替换地，二烷基锡二卤化物；或可替换地，三烷基锡卤化物组成。此处公开特殊的烷基铝卤化物(例如，作为潜在的烷基铝化合物)且其可无限制地被用作含卤素化合物。
在非限制性实施方式中，含卤素化合物可以是三氟化硼、烷基氟化硼、三氯化硼、烷基氯化硼、三溴化硼、烷基溴化硼、三碘化硼、烷基碘化硼、四氟化硅、烷基氟化硅、四氯化硅、烷基氯化硅、四溴化硅、烷基溴化硅、四碘化硅、烷基碘化硅、氟化磷(三或五)、烷基氟化磷、氯化磷(三或五)、烷基氯化磷、溴化磷(三或五)、烷基溴化磷、碘化磷(三或五)、烷基碘化磷。在某些非限制性实施方式中，含卤素化合物可以是三氟化硼、三氯化硼、三溴化硼、三碘化硼、四氟化硅、四氯化硅、四溴化硅、四碘化硅、氟化磷(三或五)、氯化磷(三或五)、溴化磷(三或五)、或碘化磷(三或五)组成；可替换地，三氟化硼、三氯化硼、三溴化硼、三碘化硼；可替换地，四氟化硅、四氯化硅、四溴化硅、四碘化硅；或可替换地，氟化磷(三或五)、氯化磷(三或五)、溴化磷(三或五)、或碘化磷(三或五)。在其他非限制性实施方式中，含卤素化合物可以是三氟化硼、烷基氟化硼、三氯化硼、烷基氯化硼、三溴化硼、烷基溴化硼、三碘化硼、或烷基碘化硼；可替换地，四氟化硅、烷基氟化硅、四氯化硅、烷基氯化硅、四溴化硅、烷基溴化硅、四碘化硅、或烷基碘化硅；或可替换地，氟化磷(三或五)、烷基氟化磷、氯化磷(三或五)、烷基氯化磷、溴化磷(三或五)、烷基溴化磷、碘化磷(三或五)、烷基碘化磷；可替换地，三氟化硼或烷基氟化硼；可替换地，三氯化硼或烷基氯化硼；可替换地，三溴化硼或烷基溴化硼；可替换地，三碘化硼或或烷基碘化硼；可替换地，四氟化硅或烷基氟化硅；可替换地，四氯化硅或烷基氯化硅；可替换地，四溴化硅或烷基溴化硅；可替换地，四碘化硅或烷基碘化硅；可替换地，氟化磷(三或五)或烷基氟化磷；可替换地，氯化磷(三或五)或烷基氯化磷；可替换地，溴化磷(三或五)或烷基溴化磷；或可替换地，碘化磷(三或五)或烷基碘化磷。
在非限制性的烷基金属卤化物方面或烷基非金属卤化物方面，可被用作含卤素化合物的任何烷基金属卤化物(一般的或特殊的)或烷基非-金属卤化物(一般的或特殊的)的每一个烷基(如果超过一个)可以是C1至C20烷基；可替换地，C1至C10烷基；或可替换地，C1至C6烷基。在实施方式中，可被用作含卤素化合物的任何烷基金属卤化物(一般的或特殊的)或烷基非-金属卤化物(一般的或特殊的)的每一个烷基(如果超过一个)可以是甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、或癸基；可替换地，甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、或己基。在某些实施方式中，可被用作含卤素化合物的任何烷基金属卤化物(一般的或特殊的)或烷基非-金属卤化物(一般的或特殊的)的每一个烷基(如果超过一个)可以是甲基、乙基、丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正己基、或正辛基；可替换地，甲基、乙基、丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、或正己基；可替换地，甲基；可替换地，乙基；可替换地，丙基；可替换地，正丁基；可替换地，异丁基；可替换地，仲丁基；可替换地，叔丁基；或可替换地，正己基。
在非限制性实施方式中，烷基硅烷卤基可包括，基本上由，或由甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、或其任何组合组成。在某些非限制性实施方式中，烷基硅烷卤基可包括，基本上由，或由甲基三氯硅烷；可替换地，二甲基二氯硅烷；可替换地，三甲基氯硅烷组成。
此处将烃基金属卤化物和烷基金属卤化物描述为可能的烃基金属化合物和金属烷基。在实施方式中，这些烃基金属卤化物和/或烷基金属卤化物可无限制地被用作金属卤化物。在另一个非限制性实施方式中，烃基金属卤化物可包括，基本上由，或由三苯甲基六氯锑酸碳(rityl hexachloroantimonate)组成。
在方面中，含卤素化合物可包括，基本上由，或由C1-C15有机卤化物组成；可替换地，C1-C10有机卤化物组成；或可替换地，C1-C8有机卤化物组成。在实施方式中，含卤素化合物可包括，基本上由，或由有机氟化物、有机氯化物、有机溴化物、有机碘化物。在某些实施方式中，可被用作含卤素化合物的有机卤化物可包括，基本上由，或由有机氯化物；可替换地，有机溴化物；或可替换地，有机碘化物。通常，有机氟化物、有机氯化物、有机溴化物、或有机碘化物可具有与此处描述的任何一般的有机卤化物相同的碳数目范围。
在方面中，含卤素化合物可包括，基本上由，或由C1-C15卤化烃组成；可替换地，C1-C10卤化烃组成；或可替换地，C1-C8卤化烃组成。在实施方式中，含卤素化合物可包括，基本上由，或由氟代烃、氯代烃、溴代烃、碘代烃、或其任何组合组成。在某些实施方式中，含卤素化合物可包括，基本上由，或由氟代烃；可替换地，氯代烃；可替换地，溴代烃；可替换地，碘代烃。通常，氟代烃、氯代烃、溴代烃、或碘代烃可与此处描述的任何一般的卤代烃具有相同的碳数目范围。
在非限制性实施方式中，含卤素化合物可包括，基本上由，或由，四氯化碳、四溴化碳、氯仿、溴仿、二氯甲烷、二溴乙烷、二碘甲烷、氯甲烷、溴甲烷、碘甲烷、二氯乙烷、四氯乙烷、三氯丙烷、六氯丙酮、六氯环己烷、1,3,5-三氯苯、六氯苯、氯化三甲苯、氯化苄、溴化苄、碘化苄、氯苯、溴苯、碘苯、六氟苯，或其任何组合组成。
在方面中，催化剂体系可具有范围从1：1至1：150的过渡金属化合物的金属对金属烃基化合物的金属的摩尔比(也称为过渡金属：金属烃基金属摩尔比)；可替换地，从1：1至1：100；可替换地，从1：2至1：50；可替换地，从1：5至1：40；或可替换地，从1：9至1：25。在方面中，催化剂体系可具有范围从1：2至1：18的过渡金属：金属烃基金属摩尔比；可替换地，从1：5至1：17；可替换地，从1：8至1：16.5；可替换地，从1：9至1：16；或可替换地，从1：9.5至1：15.5。当利用对过渡金属化合物的金属和/或金属烃基化合物的金属的较少的一般参考时，对过渡金属化合物的金属和/或金属烃基化合物的金属的更特殊的参考可取代过渡金属：金属烃基摩尔比中对过渡金属化合物的金属和/或金属烃基化合物的金属的一般参考。在其中过渡金属化合物是铬化合物(例如，羧酸铬(III)组合物)和金属烃基化合物是烷基铝化合物(例如，三乙基铝、二乙基氯化铝或其混合物)的非限制性实施方式中，催化剂体系可具有范围从1：1至1：150的铬：铝摩尔比；可替换地，从1：1至1：100；可替换地，从1：2至1：50；可替换地，从1：5至1：40；可替换地，从1：9至1：25；可替换地，从1：2至1：18；可替换地，从1：5至1：17；可替换地，从1：8至1：16.5；可替换地，从1：9至1：16；或可替换地，从1：9.5至1：15.5。在其中过渡金属化合物是铬化合物(例如，羧酸铬(III)组合物)和金属烃基化合物是烷基铝化合物(例如，三乙基铝、二乙基氯化铝，或它的混合物)的另一个非限制性实施方式中，催化剂体系可具有范围从1：1至1：150的铬：铝摩尔比；可替换地，从1：1至1：100；可替换地，从1：9至1：25；可替换地，从1：2至1：18；可替换地，从1：5至1：17；可替换地，从1：8至1：16.5；可替换地，从1：9至1：16；或可替换地，从1：9.5至1：15.5。
在方面中，催化剂体系可具有范围从0.3：1至10：1的含氮化合物的氮：过渡金属化合物的过渡金属的摩尔比(也被称为氮：过渡金属摩尔比)；可替换地，从0.3：1至7.5：1；可替换地，从0.3：1至5：1。在另一个方面中，催化剂体系可具有范围从1：1至4：1的氮：过渡金属摩尔比；可替换地，从1.5：1至3.7：1；可替换地，从1.5：1至2.5：1；可替换地，从2.1：1至3.7：1；可替换地，从2.5：1至3.5：1；或可替换地，从2.9：1至3.1：1。在还有的另一个方面中，催化剂体系可具有范围从0.3：1至4.0：1的氮：过渡金属摩尔比；可替换地，从0.3：1至3：1；可替换地，从0.3：1至2：1；可替换地，从0.3：1至1.5：1；可替换地，从0.3：1至1.3：1；可替换地，从0.3：1至1.2：1；可替换地，从0.3：1至0.9：1；或可替换地，从0.3：1至0.8：1。当利用对含氮化合物和/或含过渡金属化合物的较少的一般参考时，更特殊的含氮化合物和/或含过渡金属化合物的参考可取代对氮：过渡金属摩尔比中含氮化合物和/或过渡金属化合物的一般参考。在其中过渡金属化合物是铬化合物(例如，羧酸铬(III)组合物)和含氮化合物是吡咯化合物(例如，非金属吡咯化合物、金属吡咯化合物、2,5-二取代的吡咯，等其他此处公开的吡咯化合物)的非限制性实施方式中，吡咯化合物氮：铬摩尔比范围可以是从0.3：1至10：1；可替换地，从0.3：1至7.5：1；可替换地，从0.3：1至5：1；可替换地，从1：1至4：1；可替换地，从1.5：1至3.7：1；可替换地，从1.5：1至2.5：1；可替换地，从2.1：1至3.7：1；可替换地，从2.5：1至3.5：1；或可替换地，从2.9：1至3.1：1；可替换地，从2.9：1至3.1：1；可替换地，从0.3：1至4.0：1；可替换地，从0.3：1至3：1；可替换地，从0.3：1至2：1；可替换地，从0.3：1至1.5：1；可替换地，从0.3：1至1.3：1；可替换地，从0.3：1至1.2：1；可替换地，从0.3：1至0.9：1；或可替换地，从0.3：1至0.8：1。
在其中烯烃三聚作用催化剂体系包含含卤素化合物(无机金属卤化物、烃基金属卤化物和/或有机卤化物)的方面中，卤基对过渡金属化合物的过渡金属摩尔比(也被称为卤基：过渡金属摩尔比)可能至少是0.001：1；可替换地，至少0.05：1；可替换地，至少0.1：1；可替换地，至少0.25；可替换地，至少0.5：1；或可替换地，至少0.75：1。在其中烯烃三聚作用催化剂体系包含含卤素化合物(无机金属卤化物、烃基金属卤化物、和/或有机卤化物)的其他方面中，卤基对过渡金属化合物的过渡金属摩尔比可小于或等于1000：1；可替换地，500：1；可替换地，250：1；可替换地，100：1；可替换地，75：1；可替换地，50：1；或可替换地，25：1。在方面中，卤基：过渡金属摩尔比的范围可以是从此处描述的任何最小的卤基：过渡金属摩尔比到此处描述的任何最大的卤基：过渡金属摩尔比。在某些非限制性实施方式中，卤基：过渡金属摩尔比的范围可以从0.1：1至100：1；可替换地，范围从0.25：1至75：1；可替换地，范围从0.5：1至50：1；或可替换地，范围从0.75：1至25：1。可容易地从本公开看到卤基：过渡金属摩尔比的其他范围。当指定具体的卤基(例如，氯化物)和/或过渡金属化合物的过渡金属(例如，铬)时，可根据指定的卤基和/或过渡金属(例如，卤基：铬摩尔比，氯基：过渡金属摩尔比，或氯基：铬摩尔比，等等)提供比值。
在非限制性实施方式中，催化剂体系可包括a)C3-C25羧酸铬(III)，其中C3-C25羧酸盐包括丙酸基、丁酸基、戊酸基、己酸基、庚酸基、辛酸基、壬酸基、癸酸基、十一烷酸基、十二烷酸基、十三烷酸基、十四烷酸基、十五烷酸基、十六烷酸基、十七烷酸基、十八烷酸基、或其任何组合和C3-C25羧酸铬(III)特征可以是ⅰ)具有KBr靶丸红外线光谱，其在100cm-1的υsym(CO2)红外线峰内具有υasym(CO2)红外线吸收峰，和具有大于或等于3：1的1516±15cm-1上的υasym(CO2)红外吸收峰对位于700±50cm-1上的红外吸收峰的红外吸收峰高度比，ⅱ)特点是，当在r范围为从1.3埃至4埃上，将C3-C25羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与单核醋酸铬(III)的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点比较时，具有至少0.6的拟合良好度检验值R2，或ⅲ)在基本上无水的和基本上无酸的条件下，通过包括接触的方法产生1)具有式CrX3Lλ的铬(III)前体，其中每一个X独立地是卤基，每一个L独立地是C2-C10醚、C2-C10硫醚、C2-C5腈、C1-C30胺、或C3-C30膦，或其任何组合，和λ的范围为从0至7，2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，和3)第一溶剂，以便形成羧酸铬(III)；b)吡咯化合物，其包括2,5-二甲基吡咯、2-甲基-5-乙基吡咯、2,5-二乙基吡咯、2,5-二丙基吡咯、2,5-二丁基吡咯、2,4-二甲基吡咯、2,4-二乙基吡咯、2,4-二丙基吡咯、2,4-二丁基吡咯、3,4-二甲基吡咯、3,4-二乙基吡咯、3,4-二丙基吡咯、3,4-二丁基吡咯、2,3,4-三甲基吡咯、3-乙基-2,4-二甲基吡咯、2,3,5-三甲基吡咯、2,3,4,5-四甲基吡咯、2,3,4,5-四乙基吡咯、或其任何组合；c)金属烃基化合物，其包括三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基金属二卤化物、烷基铝倍半氯化物，或其任何组合；d)范围为从1：1至1：100的铬对铝摩尔比；和e)范围为从0.3：1至10：1的吡咯化合物对铬摩尔比。在另一个非限制性实施方式中，催化剂体系可包括a)C3-C25羧酸铬(III)的C3-C25羧酸铬(III)，其中C3-C25羧酸盐包括丙酸基、丁酸基、戊酸基、己酸基、庚酸基、辛酸基、壬酸基、癸酸基、十一烷酸基、十二烷酸基、十三烷酸基、十四烷酸基、十五烷酸基、十六烷酸基、十七烷酸基、十八烷酸基、或其任何组合和C3-C25羧酸铬(III)特征可以是ⅰ)具有KBr靶丸红外线光谱，其在100cm-1的υsym(CO2)红外线峰内具有υasym(CO2)红外线吸收峰，和具有大于或等于3：1的1516±15cm-1上的υasym(CO2)红外吸收峰对位于700±50cm-1上的红外吸收峰的红外吸收峰高度比，ⅱ)特点是，当在r范围为从1.3埃至4埃上，将C3-C25羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与单核醋酸铬(III)盐的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点比较时，具有至少0.6的拟合良好度检验值R2，或ⅲ)在基本上无水的和基本上无酸的条件下，通过包括接触的方法产生1)具有式CrX3Lλ的铬(III)前体，其中每一个X独立地是卤基，每一个L独立地是C2-C10醚、C2-C10硫醚、C2-C5腈、C1-C30胺、或C3-C30膦，或其任何组合，和λ的范围为从0至7，2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，和3)第一溶剂，以便形成羧酸铬(III)；b)吡咯化合物，其包括2,5-二甲基吡咯、2-甲基-5-乙基吡咯、2,5-二乙基吡咯、2,5-二丙基吡咯、2,5-二丁基吡咯、2,4-二甲基吡咯、2,4-二乙基吡咯、2,4-二丙基吡咯、2,4-二丁基吡咯、3,4-二甲基吡咯、3,4-二乙基吡咯、3,4-二丙基吡咯、3,4-二丁基吡咯、2,3,4-三甲基吡咯、3-乙基-2,4-二甲基吡咯、2,3,5-三甲基吡咯、2,3,4,5-四甲基吡咯、2,3,4,5-四乙基吡咯、或其任何组合；c)金属烃基化合物，其包括三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基金属二卤基、烷基铝倍半氯化物，或其任何组合；d)范围为从1：5至1：17的铬对铝摩尔比；和e)范围为从0.3：1至2：1的吡咯化合物对铬摩尔比。容易地从本公开看到和预期其他催化剂体系组合物。
通常，可以可产生活性催化剂体系的任何方式制备催化剂体系。在某些实施方式中，可在使催化剂体系接触被三聚化的烯烃之前制备催化剂体系。在其他实施方式中，可在至少一种其他催化剂体系成分接触被三聚化的烯烃之前，使至少一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、或可选的，含卤素化合物)接触被三聚化的烯烃。通常，此处独立地描述催化剂体系的成分，和其可无限制地用于进一步描述制备催化剂体系的方法。
在方面中，制备催化剂体系的方法可包括，在不饱和有机化合物的存在下，接触两种或更多a)过渡金属化合物(例如，此处描述的C3-C25羧酸铬(III)组合物，等等)、b)含氮化合物(例如，此处描述的吡咯化合物，等等)、c)金属烃基化合物(例如，非-卤化物金属烃基化合物、烃基金属卤化物，或其任何组合)、和d)任选的，含卤素化合物(例如，此处描述的无机金属卤化物、烃基金属卤化物、无机卤基和非-卤化物金属烃基的组合，或烃基金属卤化物和非-卤化物金属烃基的组合，或有机卤基，等等)。在实施方式中，可在不饱和有机化合物的存在下，接触过渡金属化合物(或包括过渡金属化合物的混合物)和含氮化合物(或包括含氮化合物的混合物)；可替换地，可在不饱和有机化合物的存在下，接触过渡金属化合物(或包括过渡金属化合物的混合物)和金属烃基化合物(或包括金属烃基化合物的混合物)；或可替换地，可在不饱和有机化合物的存在下，接触过渡金属化合物(或包括过渡金属化合物的混合物)和含氮化合物(或包括含氮化合物的混合物)、和金属烃基化合物(或包括金属烃基化合物的混合物)。在某些实施方式中，不饱和有机化合物可以是包括过渡金属化合物的组合物、包括含氮化合物的组合物、包括金属烃基化合物的组合物、包括含卤素化合物的组合物、或其任何组合的成分；可替换地，包括过渡金属化合物的组合物；可替换地，包括含氮化合物的组合物；可替换地，包括金属烃基化合物的组合物；或可替换地，包括含卤素化合物的组合物。此处独立地公开不饱和有机化合物，和不饱和有机化合物它的任何方面或实施方式可用于进一步描述制备催化剂体系的方法，所述方法可包括在不饱和有机化合物的存在下，接触催化剂体系的两种或更多成分。
在方面中，可以其中，可在不饱和有机化合物的存在下，使至少一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、或任选的，含卤素化合物)与催化剂体系的至少一种其他成分接触的方式进行制备催化剂体系的方法。在方面中，可以其中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)每一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和当利用时，可选的，含卤素化合物)和不饱和有机化合物的方式进行制备催化剂体系的方法；可替换地，可使每一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和当利用时，任选的，含卤素化合物)与不饱和有机化合物基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)；或可替换地，可将每一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和当利用时，任选的，含卤素化合物)基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)添加到不饱和有机化合物中。在还有的另一个方面中，可以其中，可在使至少一种其他催化剂体系成分与不饱和有机化合物接触之前，使至少一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和任选的，含卤素化合物)与不饱和有机化合物接触的方式进行制备催化剂体系的方法。
关于其中在不饱和有机化合物的存在下，使过渡金属化合物和金属烃基化合物接触，其中在过渡金属化合物和烃基化合物接触之前，使过渡金属化合物接触不饱和有机化合物，或其中在过渡金属化合物和烃基化合物接触之前，使金属烃基化合物接触不饱和有机化合物的方面和实施方式，可关于在催化剂体系制备方法期间，催化剂体系成分的最初接触和催化剂体系成分的任何随后的单独添加执行这些条件。
在其中过渡金属化合物是C3-C25羧酸铬(III)组合物、含氮化合物是吡咯化合物、以及金属烃基化合物是烃基铝化合物(例如，三烃基铝、烃基铝卤基或其任何组合)的非限制性实施方式中，可以其中，可在不饱和有机化合物的存在下，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物和烃基铝化合物的方式进行制备催化剂体系的方法；可替换地，其中基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物和烃基铝化合物和不饱和有机化合物；可替换地，其中，使C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物和烃基铝化合物和不饱和有机化合物基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)；或可替换地，其中，将C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物和烃基铝化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)添加到不饱和有机化合物。在非限制性实施方式中，过渡金属化合物是C3-C25羧酸铬(III)组合物、含氮化合物是吡咯化合物、和金属烃基化合物是非-卤基铝烃基化合物(例如，三烃基铝，等等)和含卤素化合物是第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、或第14族金属卤化物化合物，或第13族、第14族、或第15族非金属卤化物，可以其中，可在不饱和有机化合物的存在下，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、和非卤基铝烃基化合物、和含卤素化合物的方式进行制备催化剂体系的方法；可替换地，其中基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、和非卤基铝烃基化合物、和含卤素化合物和不饱和有机化合物；可替换地，其中，使C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、和非卤基铝烃基化合物、和含卤素化合物和不饱和有机化合物基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)；或可替换地，其中，将C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、和非卤基铝烃基化合物、和含卤素化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)添加到不饱和有机化合物。
在方面中，可以其中在不饱和有机化合物的存在下接触过渡金属化合物和金属烃基化合物的方式进行制备催化剂体系的方法。在实施方式中，可以其中不在接触不饱和有机化合物之前接触过渡金属化合物和金属烃基化合物的方式进行制备催化剂体系的方法；可替换地，在金属烃基接触不饱和有机化合物之前，过渡金属化合物不接触不饱和有机化合物；或可替换地，在过渡金属化合物接触不饱和有机化合物之前，金属烃基化合物不接触不饱和有机化合物。在某些实施方式中，可以其中在过渡金属化合物和烃基化合物接触之前，使过渡金属化合物与不饱和有机化合物接触和使金属烃基化合物与不饱和有机化合物接触的方式进行制备催化剂体系的方法。
在其中在不饱和有机化合物存在的情况下，过渡金属化合物和金属烃基化合物彼此接触的这些方面和实施方式和任何其他合适的方面和实施方式内，可将过渡金属化合物(无论是否已经预先与不饱和有机化合物接触)添加到金属烃基化合物内(无论是否已经预先与不饱和有机化合物接触)；可替换地，可将金属烃基化合物(无论是否已经预先与不饱和有机化合物接触)添加到过渡金属化合物内(无论是否已经预先与不饱和有机化合物接触)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物(无论是否已经预先与不饱和有机化合物接触)和金属烃基化合物(无论是否已经预先与不饱和有机化合物接触)。在其他实施方式中，可以其中可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)不饱和有机化合物，过渡金属化合物，和金属烃基化合物的方式进行用于制备催化剂体系的方法；可替换地，以其中使过渡金属化合物，和金属烃基化合物基本上同时地与不饱和有机化合物接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)的方式进行；或可替换地，可以，其中，可将过渡金属化合物，和金属烃基化合物基本上同时地添加到不饱和有机化合物中(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)的方式进行。
在其中可以，其中在不饱和有机化合物存在的情况下，使过渡金属化合物和金属烃基化合物彼此接触的方式进行制备催化剂体系的方法的任何方面或实施方式中，可在接触过渡金属化合物和金属烃基化合物之前，使过渡金属化合物与催化剂体系的任何其他成分接触(以便形成包括过渡金属化合物的混合物)；可替换地，可在接触过渡金属化合物和金属烃基化合物之前，使金属烃基化合物与催化剂体系的任何其他成分接触(以便形成包括金属烃基化合物的混合物)；或可替换地，可在接触过渡金属化合物和金属烃基化合物之前，使过渡金属化合物与催化剂体系的任何其他成分接触(以便形成包括过渡金属化合物的混合物)和使金属烃基化合物与催化剂体系的任何其他成分接触(以便形成包括金属烃基化合物的混合物)。此处描述包括过渡金属化合物的混合物和用于制备包括过渡金属化合物的混合物的方法，且可以与制备催化剂体系的任何方法一致的任何方式利用，包含在不饱和有机化合物的存在下，使过渡金属化合物和金属烃基化合物彼此接触的特征。此处描述包括金属烃基化合物的混合物和用于制备包括金属烃基化合物的混合物的方法，且可以与制备催化剂体系方面或实施方式的任何方法一致的任何方式利用，包含在被三聚化的烯烃的存在下，使过渡金属化合物和金属烃基化合物彼此接触的特征。
在方面中，制备催化剂体系的方法可包括基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)催化剂体系的成分。在实施方式中，可使催化剂体系的成分基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)先前制备的催化剂体系。在非限制性的实例中，制备催化剂体系的方法可包括基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)a)过渡金属化合物(例如，此处描述的C3-C25羧酸铬(III)组合物，等等)，b)含氮化合物(例如，此处描述的吡咯化合物，等等)，和c)金属烃基化合物(例如，非卤化物金属烃基化合物、烃基金属卤化物，或其任何组合)。在另一个非限制性的实例中，制备催化剂体系的方法可包括基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)a)过渡金属化合物(例如，此处描述的C3-C25羧酸铬(III)组合物，等等)，b)含氮化合物(例如，此处描述的吡咯化合物，等等)，和c)非卤化物金属烃基化合物(例如，此处描述的三烷基铝，等等)和d)含卤素化合物(例如，此处描述的无机金属卤化物、烃基金属卤化物、无机金属卤化物和非卤化物金属烃基的组合，或烃基金属卤化物和非-卤化物金属烃基的组合，或有机卤基，等等)。在某些基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)实施方式中，可在与金属烃基化合物(例如，剩余的非-卤化物金属烃基化合物，烃基金属卤化物，或其任何组合)基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)之前，使非-卤化物金属烃基化合物的至少部分(可替换地，部分；或可替换地，所有的)与过渡金属化合物和/或含氮化合物接触。在某些基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)实施方式中，可在基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物(例如，剩余的非-卤化物金属烃基化合物，烃基金属卤化物，或其任何组合)和含卤基化合物(例如，此处描述的无机金属卤化物、烃基金属卤化物、无机卤基和非-卤化物金属烃基的组合，或烃基金属卤化物和非-卤化物金属烃基的组合，等)之前，使非-卤化物金属烃基化合物的至少部分(可替换地，部分；或可替换地，所有的)与过渡金属化合物和/或含氮化合物接触。通常，这些基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)方法可产生催化剂体系；或可替换地，可在能够形成催化剂体系的条件下产生催化剂。
在任何基本上同时地接触的实施方式中(可替换地，同时地接触实施方式；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比实施方式)，可在不饱和有机化合物的存在下，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)催化剂体系的成分。在某些基本上同时地接触的实施方式中(可替换地，同时地接触实施方式；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比实施方式)，不饱和有机化合物可以是，与催化剂体系的成分基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)的单独的液流。在其他基本上同时地接触的实施方式中(可替换地，同时地接触实施方式；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比实施方式)，不饱和有机化合物可被包含在催化剂体系的成分的一种的混合物中(或包括成分的多种混合物)。在还有的其他基本上同时地接触的实施方式中(可替换地，同时地接触实施方式；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比实施方式)，可使催化剂体系的成分与包括，或基本上由不饱和有机化合物组成的组合物基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)。
在方面中，制备催化剂体系的方法可包括接触含氮化合物(例如，此处描述的吡咯化合物，等)、金属烃基化合物(非-卤化物金属烃基化合物、烃基金属卤化物、或其任何组合)，和(当存在时)，可选的含卤素化合物(例如，此处描述的无机金属卤化物、烃基金属卤化物，无机金属卤化物和非-卤化物金属烃基的组合，或烃基金属卤化物和非-卤化物金属烃基的组合，或有机卤基，等)，以便形成混合物，和使混合物与过渡金属化合物接触(例如，此处描述的C3-C25羧酸铬(III)组合物，等)，以产生催化剂体系。在实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括ⅰ)接触含氮化合物和金属烃基化合物，以便形成含氮化合物/金属烃基化合物混合物和ⅱ)使过渡金属化合物与含氮化合物/金属烃基化合物混合物接触，以产生催化剂体系；或可替换地，ⅰ)接触含氮化合物、金属烃基化合物、和含卤素化合物，以形成含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物，和ⅱ)使过渡金属化合物与含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物接触，以产生催化剂体系。在某些实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括ⅰ)使非-卤化物金属烃基化合物的至少部分(可替换地，部分；或可替换地，所有的)与过渡金属化合物接触，以形成过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物，和ⅱ)使过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物与含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)接触，以产生催化剂体系。在其他实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括ⅰ)使非-卤化物金属烃基化合物的至少部分(可替换地，部分；或可替换地，所有的)与含氮化合物接触，以形成含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物，和ⅱ)使含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物与金属烃基化合物接触(或金属烃基化合物和含卤素化合物)，以形成含氮化合物/金属烃基化合物混合物(含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)，从而产生催化剂体系。在还有的另一个实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括ⅰ)使非-卤化物金属烃基化合物的至少部分与含氮化合物接触，以形成含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物，和ⅱ)使含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物与金属烃基化合物接触(或金属烃基化合物和含卤素化合物)，以形成含氮化合物/金属烃基化合物混合物(含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)，ⅲ)使非-卤化物金属烃基化合物的至少部分与过渡金属化合物接触，以形成过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物，和ⅳ)使过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物与含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)接触，以产生催化剂体系。
在实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入过渡金属化合物；可替换地，可将过渡金属化合物加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物。在另一个实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物；可替换地，可将过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物。在还有的另一个实施方式中，可将含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入过渡金属化合物；可替换地，可将过渡金属化合物加入含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物。在进一步的实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物；可替换地，可将过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物。在还有的进一步的实施方式中，可将含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物；可替换地，可将过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物加入含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物。
在方面中，制备催化剂体系的方法可包括接触过渡金属化合物(例如，此处描述的C3-C25羧酸铬(III)组合物，等)，和含氮化合物(例如，此处描述的吡咯化合物，等)，以形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物和使接触过渡金属化合物/含氮化合物混合物与金属烃基化合物接触(例如，非-卤化物金属烃基化合物，烃基金属卤化物，或其任何组合)，以产生催化剂体系。在实施方式中，可在过渡金属化合物接触金属烃基化合物之前，使过渡金属化合物和含氮化合物接触。在另一个方面中，制备催化剂体系的方法可包括接触过渡金属化合物(例如，此处描述的C3-C25羧酸铬(III)组合物，等)，含氮化合物(例如，此处描述的吡咯化合物，等)，和非-卤化物金属烃基化合物(例如，三烷基铝化合物，等)以形成过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物和使过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物与金属烃基化合物(例如，非-卤化物金属烃基化合物，烃基金属卤化物，或其任何组合)接触，以产生催化剂体系。在实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)加入金属烃基化合物；可替换地，可将金属烃基化合物加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物和过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)。
在方面中，制备催化剂体系的方法可包括接触过渡金属化合物(例如，此处描述的C3-C25羧酸铬(III)组合物，等)，含氮化合物(例如，此处描述的吡咯化合物，等)，和含卤素化合物(例如，此处描述的无机金属卤化物、烃基金属卤化物、无机卤基和非-卤化物金属烃基的组合，或烃基金属卤化物和非-卤化物金属烃基的组合，等)，以形成过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物和使接触过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物与金属烃基化合物接触(例如，非-卤化物金属烃基化合物，烃基金属卤化物，或其任何组合)，以产生催化剂体系。在实施方式中，可在过渡金属化合物接触金属烃基化合物之前，接触过渡含氮化合物和含卤素化合物。在另一个方面中，制备催化剂体系的方法可包括接触过渡金属化合物(例如，此处描述的C3-C25羧酸铬(III)组合物，等)，含氮化合物(例如，此处描述的吡咯化合物，等)，非-卤化物金属烃基化合物(例如，三烷基铝化合物，等)和含卤素化合物(例如，此处描述的无机金属卤化物、烃基金属卤化物、无机卤基和非-卤化物金属烃基的组合，或烃基金属卤化物和非-卤化物金属烃基的组合，等)，以形成过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物和使接触过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物与金属烃基化合物接触(例如，非-卤化物金属烃基化合物，烃基金属卤化物，或其任何组合)，以产生催化剂体系。在实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物(或接触过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入金属烃基化合物；可替换地，可将金属烃基化合物加入过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物(或接触过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可使过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物(或接触过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物。
在需要含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)的任何方面或实施方式中，可以与产生含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触含氮化合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)、金属烃基化合物和含卤素化合物。在非限制性实施方式中，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)、金属烃基化合物和含卤素化合物。在另一个非限制性实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物混合物)加入含卤素化合物；可替换地，可将含卤素化合物加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物混合物)；或可替换地，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/金属烃基化合物混合物)和含卤素化合物。在还有的另一个非限制性实施方式中，可将含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入金属烃基化合物；可替换地，可将金属烃基化合物加入含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和金属烃基化合物。在进一步的非限制性实施方式中，可将金属烃基/含卤素化合物混合物加入含氮化合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)；可替换地，可将含氮化合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)加入金属烃基/含卤素化合物混合物；或可替换地，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)和金属烃基/含卤素化合物混合物。
在需要过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)的任何方面或实施方式中，可以与产生过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触过渡金属化合物、含氮化合物和含卤素化合物(或过渡金属化合物、含氮化合物、非-卤化物金属烃基化合物和含卤素化合物混合物)。在非限制性实施方式中，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物、含氮化合物和含卤素化合物。在另一个非限制性实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基混合物、含氮化合物和含卤素化合物；可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物、含氮化合物/非-卤化物金属烃基混合物和含卤素化合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基混合物、含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物和含卤素化合物。在还有的另一个非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)加入含卤素化合物；可替换地，可将含卤素化合物加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)和含卤素化合物加入。在某些非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入含氮化合物；可替换地，可将含氮化合物加入过渡金属化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和含氮化合物。在其他非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物；可替换地，可将含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物加入过渡金属化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物。在某些非限制性实施方式中，可将含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入过渡金属化合物；可替换地，可将过渡金属化合物加入含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物。在其他非限制性实施方式中，可将含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物；可替换地，可将过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物加入含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物。
在需要过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物的任何方面或实施方式中，可以与产生过渡金属化合物/含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触过渡金属化合物、含氮化合物和非-卤化物金属烃基化合物。在非限制性实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物、含氮化合物和非-卤化物金属烃基化合物。在另一个非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物加入含氮化合物；可替换地，可将含氮化合物加入过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物和含氮化合物。在还有的另一个非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物加入含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物；可替换地，可将含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物加入过渡金属化合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物和含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物。在进一步的非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物加入含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物；可替换地，可将含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物加入过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物和含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物。在还有的进一步的非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物加入非-卤化物金属烃基化合物混合物；可替换地，可将非-卤化物金属烃基化合物加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物混合物和非-卤化物金属烃基化合物混合物。
在需要含氮化合物/金属烃基混合物(含氮化合物/非-卤化物金属烃基/金属烃基化合物混合物)的任何方面或实施方式中，可以与产生含氮化合物/金属烃基混合物(含氮化合物/非-卤化物金属烃基/金属烃基化合物混合物)的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触含氮化合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)和金属烃基化合物。在还有的进一步的非限制性实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物(含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)和金属烃基化合物；可替换地，可将含氮化合物(含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)加入金属烃基化合物；或可替换地，可将金属烃基化合物加入含氮化合物(含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)。
在需要含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基/含卤素化合物混合物)的任何方面或实施方式中，可以与产生含氮化合物/含卤素化合物混合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基/含卤素化合物混合物)的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触含氮化合物(或含氮化合物/非-卤化物金属烃基混合物)和含卤素化合物。在非限制性实施方式中，可将含氮化合物(含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)加入含卤素化合物；可替换地，可将含卤素化合物加入含氮化合物(含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物(含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)和含卤素化合物。
在需要过渡金属化合物/含氮化合物混合物的任何方面或实施方式中，可以与产生过渡金属化合物/含氮化合物混合物的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触过渡金属化合物和含氮化合物。在非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物加入含氮化合物；可替换地，可将含氮化合物加入过渡金属化合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物和含氮化合物。
在需要过渡金属化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)的任何方面或实施方式中，可以与产生过渡金属化合物/含卤素化合物混合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触过渡金属化合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)和含卤素化合物。在非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)加入含卤素化合物；可替换地，可将含卤素化合物加入过渡金属化合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物(或过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物)和含卤素化合物。
在需要金属烃基化合物/含卤素化合物混合物的任何方面或实施方式中，可以与产生金属烃基化合物/含卤素化合物混合物的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触金属烃基化合物和含卤素化合物。在非限制性实施方式中，可将金属烃基化合物加入含卤素化合物；可替换地，可将含卤素化合物加入金属烃基化合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物和含卤素化合物。
在需要过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物的任何方面或实施方式中，可以与产生过渡金属化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触过渡金属化合物和非-卤化物金属烃基化合物。在非限制性实施方式中，可将过渡金属化合物加入非-卤化物金属烃基化合物；可替换地，可将非-卤化物金属烃基化合物加入过渡金属化合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物和非-卤化物金属烃基化合物。
在需要含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物的任何方面或实施方式中，可以与产生含氮化合物/非-卤化物金属烃基化合物混合物的具体的方法和/或用于三聚化烯烃的具体的方法一致的任何方式接触过渡含氮化合物和非-卤化物金属烃基化合物。在非限制性实施方式中，可将过渡含氮化合物加入非-卤化物金属烃基化合物；可替换地，可将非-卤化物金属烃基化合物加入含氮化合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物和非-卤化物金属烃基化合物。
在其中非-卤化物金属烃基化合物的部分与过渡金属化合物接触和非-卤化物金属烃基化合物的部分与含氮化合物接触的任何方面或实施方式中，非-卤化物金属烃基化合物的部分的总和可以小于总的金属烃基化合物的非-卤化物金属烃基化合物；或可替换地，可以是所有的金属烃基化合物的非-卤化物金属烃基化合物。在其中非-卤化物金属烃基化合物的部分的总和小于总的非-卤化物金属烃基化合物的任何方面或实施方式中，与金属烃基化合物的进一步的接触可能指的是包括剩余的非-卤化物金属烃基化合物和此处描述的金属烃基化合物的任何其他成分(例如，烃基金属卤化物，等)。
通常，应该明白，除非另外特别地列举，此处描述的任何催化剂体系成分或催化剂体系成分混合物可包括列举的元素和同样地，可包含与制备催化剂体系的具体的方法一致的另外的成分。在实施方式中，除非另外特别地列举，此处描述的任何催化剂体系成分或催化剂体系成分混合物可包括此处描述的任何催化剂体系成分或催化剂体系成分混合物的列举的元素和溶剂和同样地，可包含与制备催化剂体系的具体的方法的特征一致的另外的成分。在某些实施方式中，此处描述的任何催化剂体系成分或催化剂体系成分混合物可基本上由列举的元素和溶剂组成。在其他实施方式中，此处描述的任何催化剂体系成分或催化剂体系成分混合物可基本上由列举的元素组成。
在某些实施方式中，可在溶剂的存在下，接触过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和/或任选的，含卤素化合物。在某些实施方式中，溶剂可以是，包括，或基本上由，烃溶剂或卤代的烃溶剂组成(其可担当任选的卤代化合物的至少部分，部分，或全部)；可替换地，烃溶剂；或可替换地，卤代的烃溶剂。在实施方式中，溶剂可以是，包括，或基本上由饱和烃溶剂、饱和卤代溶剂、不饱和烃溶剂、不饱和卤代溶剂，或其任何组合组成；可替换地，饱和烃溶剂、饱和卤代溶剂，或其任何组合组成；可替换地，不饱和烃溶剂、不饱和卤代溶剂，或其任何组合组成；可替换地，饱和烃溶剂；可替换地，饱和卤代溶剂；可替换地，不饱和烃溶剂；或可替换地，不饱和卤代溶剂。在某些实施方式中，不饱和烃溶剂(卤代或非卤代)可以是脂肪族或芳香族的；可替换地，脂肪族；或可替换地，芳香族的。此处描述溶剂，且其可用于此处描述的与制备催化剂体系的具体的方法或用于三聚化烯烃的具体的方法的特征和元素一致的任何方面或实施方式。
在某些方面和实施方式中，制备催化剂体系的方法可包括，接触过渡金属化合物(例如，此处描述的羧酸铬(III)C3-C25羧酸盐组合物，等)和含氮化合物(例如，此处描述的吡咯化合物等)，以形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在实施方式中，当使过渡金属化合物和含氮化合物接触，以形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物时，包括过渡金属化合物的组合物和/或包括含氮化合物的组合物混合物可进一步包括非-卤化物金属烃基化合物(例如，此处描述的三烷基铝，等)、含卤素化合物(例如，此处描述的无机金属卤化物、烃基金属卤化物、和/或有机卤基，等)、和/或不饱和有机化合物。在某些实施方式中，可在使过渡金属化合物和含氮化合物与金属烃基化合物和/或可选的，含卤素化合物接触之前，形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在其他实施方式中，可在使过渡金属化合物和含氮化合物与含卤素化合物接触之前，形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在还有的其他实施方式中，可在形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物之前(不管剩余的金属烃基化合物和/或可选的，含卤素化合物的存在或缺少)，使至少部分(可替换地，部分，或可替换地，所有的)非-卤化物金属烃基化合物与过渡金属化合物和/或含氮化合物接触；或可替换地，与过渡金属化合物/含氮化合物混合物接触。在实施方式中，可在不饱和有机化合物的存在下，形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物(不管至少部分，部分，或所有的非-卤化物金属烃基化合物的存在或缺少)。在某些实施方式中，不饱和有机化合物可能与(或可能接触)形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物之前的过渡金属化合物(不管至少部分，部分，或所有的非-卤化物金属烃基化合物的存在或缺少)或含氮化合物(不管至少部分，部分，或所有的非-卤化物金属烃基化合物的存在或缺少)混合。在其他实施方式中，不饱和有机化合物可能与(或可能接触)形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物之前的过渡金属化合物(不管至少部分，部分，或所有的非-卤化物金属烃基化合物的存在或缺少)和含氮化合物(不管至少部分，部分，或所有的非-卤化物金属烃基化合物的存在或缺少)混合。在还有的其他实施方式中，过渡金属化合物(不管至少部分，部分，或所有的非-卤化物金属烃基化合物的存在或缺少)和含氮化合物(不管至少部分，部分，或所有的非-卤化物金属烃基化合物的存在或缺少)可基本上同时地与包括，或基本上由不饱和有机化合物组成的组合物接触(不管至少部分，部分，或所有的非-卤化物金属烃基化合物的存在或缺少)。
在任何过渡金属化合物/含氮化合物混合物形成方面或实施方式中，可在恒定的含氮化合物的氮与过渡金属化合物的过渡金属的摩尔比(也被称为恒定的氮：过渡金属摩尔比)下，接触(不依赖于接触方法)含氮化合物(例如，吡咯化合物等)和过渡金属化合物(例如，此处描述的羧酸铬(III)C3-C25羧酸盐组合物，等)，以形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在过渡金属化合物/含氮化合物混合物实施方式中，可在可变的含氮化合物的氮与过渡金属化合物的过渡金属的摩尔比(也被称为可变的氮：过渡金属摩尔比)下，接触(不依赖于接触方法)含氮化合物(例如，吡咯化合物等)和过渡金属化合物(例如，此处描述的羧酸铬(III)C3-C25羧酸盐组合物，等)，以形成过渡金属化合物/含氮化合物混合物。
在可变的氮：过渡金属摩尔比实施方式中，可变的氮对过渡金属摩尔比可以是大约减少的氮：过渡金属摩尔比；或可替换地，减少的氮对过渡金属摩尔比。在某些可变的氮：过渡金属摩尔比实施方式中，可变的氮：过渡金属摩尔比可以是其中在含氮化合物和过渡金属化合物添加的开始上的初始氮：过渡金属摩尔比大于在含氮化合物和过渡金属化合物添加的结束时上的结束的氮：过渡金属摩尔比。
在某些可变的氮：过渡金属摩尔比实施方式中，可变的氮：过渡金属摩尔比可以是其中在含氮化合物和过渡金属化合物添加的开始上的初始氮：过渡金属摩尔比大于最终的含氮化合物：过渡金属化合物摩尔比和在含氮化合物和过渡金属化合物添加的结束时上的结束氮：过渡金属摩尔比小于最终的含氮化合物：过渡金属化合物摩尔比；或可替换地，其中在含氮化合物和过渡金属化合物添加的开始上的初始氮：过渡金属摩尔比大于是最终的含氮化合物：过渡金属化合物摩尔比和在含氮化合物的两倍，和过渡金属化合物添加的结束时上的结束氮：过渡金属摩尔比是大约0。在其他可变的氮：过渡金属摩尔比实施方式中，可变的氮：过渡金属摩尔比可以是其中第一部分的含氮化合物和过渡金属化合物的添加的初始氮：过渡金属摩尔比大于最终的氮：过渡金属摩尔比，和第二部分的含氮化合物和过渡金属化合物的添加的结束氮：过渡金属摩尔比小于最终的氮：过渡金属摩尔比；或可替换地，其中第一部分的含氮化合物和过渡金属化合物的添加的初始氮：过渡金属摩尔比是大约最终的氮：过渡金属摩尔比的两倍，和第二部分的含氮化合物和过渡金属化合物的添加的结束氮：过渡金属摩尔比是大约0。
通常，此处独立地描述氮：过渡金属摩尔比，且其可无限制地用于进一步描述与过渡金属化合物/含氮化合物混合物的形成相关的实施方式和方面(例如，作为最终的氮：过渡金属摩尔比)。在任何实施方式中，其中将含氮化合物和过渡金属化合物添加描述为在部分(例如，一半)的添加上，可进行含氮化合物和过渡金属化合物添加，其中氮：过渡金属摩尔比是在含氮化合物和过渡金属化合物添加的部分上的平均含氮化合物：过渡金属化合物摩尔比。
当列举具体的过渡金属化合物和/或含氮化合物时，过渡金属化合物和/或含氮化合物混合物可能涉及到利用各自列举的材料；例如，那么，当过渡金属化合物是羧酸铬(III)C3-C25羧酸盐组合物和含氮化合物是吡咯化合物时，过渡金属化合物和/或含氮化合物混合物可被称为羧酸铬/吡咯混合物。
在其中过渡金属化合物接触金属卤化物化合物的任何方面或实施方式中，可在接触金属卤化物化合物之前，使过渡金属化合物(作为单一成分或包括过渡金属化合物的混合物)与至少部分(可替换地，部分；或可替换地，所有的)非-卤化物金属烃基化合物接触。在其中含氮化合物接触金属卤化物化合物(作为单一成分或包括金属卤化物化合物的混合物)的方面或实施方式中，可在接触金属卤化物化合物之前，使含氮化合物与至少部分(可替换地，部分；或可替换地，所有的)非-卤化物金属烃基化合物接触。在其中过渡金属化合物/含氮化合物混合物接触金属卤化物化合物的另一个方面或实施方式中，可在接触金属卤化物化合物之前，使过渡金属化合物/含氮化合物混合物与至少部分(可替换地，部分；或可替换地，所有的)非-卤化物金属烃基化合物接触。
在某些方面中，可在过渡金属化合物接触金属烃基化合物之前，使过渡金属化合物与至少一种1)含氮化合物或2)含卤素化合物接触。在实施方式中，可在过渡金属化合物与金属烃基化合物接触之前，使过渡金属化合物与含氮化合物接触；可替换地，可在过渡金属化合物与金属烃基化合物接触之前，使过渡金属化合物与含卤素化合物接触；可替换地，可在过渡金属化合物与金属烃基化合物接触之前，使过渡金属化合物与金属卤化物接触；可替换地，可在过渡金属化合物与金属烃基化合物接触之前，使过渡金属化合物与含氮化合物和含卤素化合物接触。在其他方面中，可在金属烃基化合物接触过渡金属化合物之前，使金属烃基化合物与至少一种1)吡咯化合物或2)含卤素化合物接触。在某些实施方式中，可在金属烃基化合物与过渡金属化合物接触之前，使金属烃基化合物与含氮化合物接触；可替换地，可在金属烃基化合物与过渡金属化合物接触之前，使金属烃基化合物与含卤素化合物接触；可替换地，可在金属烃基化合物与过渡金属化合物接触之前，使金属烃基化合物与金属卤化物接触；可替换地，可在金属烃基化合物与过渡金属化合物接触之前，使金属烃基化合物与含氮化合物和含卤素化合物接触。
应该注意，在根据接触被用作催化剂体系的成分的化合物介绍制备催化剂体系的方法时，可以包括化合物的组合物替换任何一种或更多化合物，实现，含有化合物的组合物不含有与制备催化剂体系的具体的方法的特征相矛盾的材料。
在不受理论的限制的情况下，应该相信，在它与所要被三聚化的烯烃接触之前，不饱和有机化合物的存在可稳定催化剂体系。当催化剂体系的制备利用不饱和有机化合物时，不饱和有机化合物的摩尔对过渡金属化合物中过渡金属的摩尔的摩尔比(也被称为不饱和有机化合物对过渡金属摩尔比)可以是至少1：1；可替换地，至少5：1；可替换地，至少10：1；或可替换地，至少20：1。在其中将不饱和有机化合物用于催化剂体系的制备的某些实施方式中，不饱和有机化合物对过渡金属摩尔比可达到10000：1；可替换地，达到6000：1；可替换地，达到3000：1；可替换地，达到1500：1；可替换地，达到1000：1。在其中将不饱和有机化合物用于催化剂体系的制备的方面中，不饱和有机化合物对过渡金属摩尔比的范围可以是从此处公开的任何最小的不饱和有机化合物对过渡金属摩尔比至此处公开的任何最大的不饱和有机化合物对过渡金属摩尔比。在其中将不饱和有机化合物用于催化剂体系的制备的某些非限制性实施方式中，不饱和有机化合物对过渡金属摩尔比的范围可以是从1：1至10000：1；可替换地，范围可以是从20：1至10000：1；可替换地，范围可以是从5：1至6000：1；可替换地，范围可以是从10：1至3000：1；或可替换地，范围可以是从20：1至1000：1。容易地从本公开看到不饱和有机化合物对过渡金属摩尔比的其他范围。当指定具体的不饱和有机化合物属、种、或个体(或芳香烃的种)，和/或过渡金属化合物属、种、或个体(例如，铬)的过渡金属时，可根据指定的不饱和有机化合物和指定的过渡金属(例如，芳香烃：铬摩尔比)提供比率。
可在足够提供活性催化剂体系的任何条件下接触催化剂体系成分(或不饱和有机化合物-自身或结合一种或更多催化剂体系成分-和催化剂体系成分)。在方面中，可在范围为从-50℃和大约100℃的温度下接触催化剂体系成分(或不饱和有机化合物-自身或结合一种或更多催化剂体系成分-和催化剂体系成分)；可替换地，范围为从-25℃和大约80℃；可替换地，范围为从-50℃和大约70℃；可替换地，范围为从0℃和大约60℃；或可替换地，范围为从5℃和大约35℃。在方面中，可在可允许彻底接触的任何压力下接触催化剂体系成分(或不饱和有机化合物-自身或结合一种或更多催化剂体系成分-和催化剂体系成分)。在方面中，可在可维持催化剂体系液体形式的压力下接触催化剂体系成分(或不饱和有机化合物-自身或结合一种或更多催化剂体系成分-和催化剂体系成分)。在某些实施方式中，可在惰性气氛下制备催化剂体系。在某些实施方式中，惰性气氛可以是氮或氩；可替换地，氮。在某些实施方式中，惰性气氛可具有小于500ppm(按重量计算)水；可替换地，小于250ppm水；可替换地，小于100ppm水；可替换地，小于75ppm水；可替换地，小于50ppm水；可替换地，小于25ppm水；或可替换地，小于10ppm水。除了此处讨论的之外，美国专利No.6,133,495和美国专利No.7,384,886提供另外的催化剂体系和用于制备催化剂体系的方法。美国专利6,133,495和美国专利No.7,384,886全部内容包括在此以供参考。
在多个方面和实施方式中，可在不饱和有机化合物的存在下接触催化剂体系的两种或更多成分(例如，羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、金属烃基化合物，和任选地，含卤素化合物)。通常，不饱和有机化合物的不饱和性可以是以脂肪族碳-碳双键、脂肪族碳-碳三键、和/或芳香族碳-碳双键的形式；可替换地，脂肪族碳-碳双键和/或脂肪族碳-碳三键；可替换地，脂肪族碳-碳双键和/或芳香族碳-碳双键；可替换地，脂肪族碳-碳三键；或可替换地，芳香族碳-碳双键。在某些实施方式中，不饱和有机化合物可以是，包括，或基本上由，C2至C70不饱和有机化合物组成；可替换地，C2至C40不饱和有机化合物；可替换地，C2至C20不饱和有机化合物；或可替换地，C2至C15不饱和有机化合物。在其他实施方式中，不饱和有机化合物可以是，包括，或基本上由，C2至C70不饱和烃组成；可替换地，C2至C40不饱和烃；可替换地，C2至C20不饱和烃；或可替换地，C2至C15不饱和烃。
在实施方式中，不饱和有机化合物可以是，包括，或基本上由不饱和烃组成。通常，可被用作不饱和有机化合物的不饱和有机化合物可与此处描述的不饱和有机化合物具有相同的碳原子数目。在某些实施方式中，不饱和烃(不管碳数目)可以是，包括，或基本上由不饱和脂肪族烃、芳烃(芳香族烃)，或其任何组合组成；可替换地，不饱和脂肪族烃；可替换地，芳烃。在某些实施方式中，可被用作不饱和烃的不饱和脂肪族烃可具有与此处描述的不饱和有机化合物相同的碳原子数目。在某些实施方式中，可被用作不饱和烃的芳烃可以是，包括，或基本上由C6至C70芳烃；可替换地，C6至C40芳烃；可替换地，C6至C20芳烃；或可替换地，C6至C15芳烃。
在方面中，可被用作不饱和有机化合物的不饱和脂肪族烃可以是，包括，或基本上由，脂肪族烃单烯烃、脂肪族烃二烯烃、脂肪族烃三烯烃、或具有四个或更多碳-碳双键的脂肪族烃烯烃；可替换地，脂肪族烃单烯烃；可替换地，脂肪族烃二烯烃；可替换地，脂肪族烃三烯烃；或可替换地，具有四个或更多碳-碳双键的脂肪族烃烯烃。在某些实施方式中，不饱和脂肪族烃可以是，包括，或基本上由被三聚化的烯烃组成。在其他实施方式中，不饱和脂肪族烃可以是，包括，或基本上由不同于被三聚化的烯烃的烯烃组成。在某些实施方式中，不饱和脂肪族烃可以是，包括，或基本上由烯烃三聚化的产物组成。在另一个实施方式中，在某些实施方式中，不饱和脂肪族烃可以是，包括，或基本上由不同于烯烃三聚化的产物的烯烃组成。在实施方式中，不饱和脂肪族烃可以是，包括，或基本上由如下组成：烯、丙烯、丁烯、戊烯、己烯、庚烯、辛烯、壬烯、癸烯、十一碳烯、十二碳烯、十三碳烯、十四碳烯、十五碳烯、十六碳烯、十七碳烯、十八碳烯，或其任何组合；可替换地，乙烯、丙烯、丁烯、戊烯、己烯、庚烯、辛烯、壬烯、癸烯、或其任何组合；可替换地，乙烯、丁烯、己烯、辛烯、癸烯、或其任何组合；或可替换地，癸烯、十二碳烯、十四碳烯、十六碳烯、十八碳烯，或其任何组合。在其他实施方式中，不饱和脂肪族烃可以是，包括，或基本上由如下组成乙烯；可替换地，丙烯；可替换地，丁烯；可替换地，戊烯；可替换地，己烯；可替换地，庚烯；可替换地，辛烯；可替换地，癸烯；可替换地，十二碳烯；可替换地，十四碳烯；可替换地，十六碳烯；或可替换地，十八碳烯。
在方面中，可被用作不饱和有机化合物的芳烃可以是，包括，或基本上由，苯、甲苯、二甲苯、乙基苯、异丙基苯、1,3,5-三甲基苯、六甲基苯，或其任何组合组成。在实施方式中，可被用作不饱和有机化合物的芳烃可以是，包括，或基本上由甲苯、二甲苯、乙基苯、异丙基苯、1,3,5-三甲基苯、六甲基苯，或其任何组合组成；可替换地，甲苯、二甲苯、乙基苯、异丙基苯，或其任何组合组成。在某些实施方式中，可被用作不饱和有机化合物的芳烃可以是，包括，或基本上由苯；可替换地，甲苯；可替换地，二甲苯；可替换地，乙基苯；可替换地，异丙基苯；可替换地，1,3,5-三甲基苯；或可替换地，六甲基苯组成。
通常，可在用于使烯烃与催化剂体系三聚化，以便产生三聚化产物的方法内利用此处描述的催化剂体系组合物。在某些实施方式中，使烯烃与催化剂体系的方法可包括接触烯烃和催化剂体系，以产生烯烃三聚化产物；可替换地，接触烯烃、过渡金属化合物、含氮化合物和金属烃基化合物，以便产生三聚化产物；或可替换地，接触烯烃、过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和可选的，含卤素化合物，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可在接触催化剂体系和烯烃之前制备催化剂体系组合物。在其他实施方式中，可在使至少一种其他催化剂体系成分与烯烃接触之前，使至少一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、或可选的，含卤素化合物)与烯烃接触。在其他实施方式中，可利用用于催化剂体系成分的具体的接触顺序或接触方法制备用于三聚化烯烃的方法的催化剂体系。在还有的其他实施方式中，任何具体的催化剂体系成分的比率可具有此处描述的任何催化剂体系构成比率。在某些实施方式中，可在能够三聚化烯烃的条件下(也被称为三聚作用条件)产生三聚化产物。在其他实施方式中，可通过三聚化产物的特征进一步描述三聚烯烃的方法。在其他实施方式中，三聚烯烃的方法可包括另外的步骤(例如，用于制备催化剂体系的步骤或接触催化剂体系成分和烯烃的步骤，催化剂体系灭活作用步骤，三聚化产物或三聚体分离步骤，和/或三聚产物或三聚体纯化步骤，等)，通常，烯烃、催化剂体系组合物、或催化剂体系的成分(例如，过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和可选的，含卤素化合物)、催化剂体系成分的比率、制备催化剂体系或催化剂体系成分与烯烃接触的方法、能够三聚化烯烃的条件、三聚化产物的特征、和用于三聚化烯烃的方法的进一步的步骤，等特征是用于三聚化烯烃的方法的独立特征。此处独立地描述这些和其他烯烃三聚作用方法特征，且可以与用于三聚化烯烃的具体的方法的具体的特征和元素一致的任何方式利用所述特征。
通常，可被三聚化的烯烃可包括，或基本上由C2至C30烯烃组成；可替换地，C2至C16烯烃；或可替换地，C2至C10烯烃。在实施方式中，烯烃可以是，包括，或基本上由，a烯烃；可替换地，直链a烯烃；或可替换地，正a烯烃。在实施方式中，烯烃可包括，或基本上由乙烯、丙烯或它的组合组成；可替换地，乙烯；或可替换地，丙烯。
当烯烃包括，或基本上由乙烯组成时，烯烃三聚化方法可以是乙烯三聚化方法。当方法是乙烯三聚化方法时，三聚化产物可包括己烯；或可替换地，可包括1-己烯。
在非限制性实施方式中，利用催化剂体系三聚化烯烃的方法可包括接触包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃和催化剂体系，以便产生包括1-己烯的烯烃三聚化产物；可替换地，接触包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃、过渡金属化合物、含氮化合物、和金属烃基化合物，以便产生包括1-己烯的三聚化产物；或可替换地，接触包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃、过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物，和任选地，含卤素化合物，以便产生包括1-己烯的三聚化产物。在某些实施方式中，可在接触催化剂体系和包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃之前制备催化剂体系组合物。在其他实施方式中，可在使至少一种其他催化剂体系成分与包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃接触之前，使至少一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物，或可选地，含卤素化合物)与包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃接触。在其他实施方式中，可利用用于催化剂体系成分的具体的接触顺序或接触方法制备用于三聚化包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃的方法的催化剂体系。在还有的其他实施方式中，任何具体的催化剂体系成分的比率可具有此处描述的任何催化剂体系构成比率。在某些实施方式中，可在能够三聚化包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃的条件下产生包括1-己烯的三聚化产物。在其他实施方式中，可通过包括1-己烯的三聚化产物的特征进一步描述三聚包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃的方法。在其他实施方式中，三聚化包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃的方法可包括另外的步骤(例如，用于制备催化剂体系的步骤或接触催化剂体系成分和包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃的步骤，催化剂体系灭活作用步骤，用于分离三聚化产物或三聚体的步骤(例如，1-己烯)，和/或用于纯化包括三聚体的三聚产物的步骤(例如，1-己烯)，等)。通常，催化剂体系组合物、或催化剂体系的成分(例如，过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和任选的，含卤素化合物)、催化剂体系成分的比率、制备催化剂体系或催化剂体系成分与包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃接触的方法、能够三聚化包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃的条件、包括1-己烯的三聚化产物的特征、和用于三聚化包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃的方法的进一步的步骤，等特征是用于三聚化包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃的方法的独立特征。此处独立地描述这些和其他烯烃三聚作用方法特征，且可以与用于三聚化包括(或基本上由)乙烯组成的烯烃的具体的方法的具体的特征和元素一致的任何方式利用所述特征。
此处独立地描述可被用在用于三聚化烯烃的方法的催化剂体系的成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和可选的，含卤素化合物)。这些独立地描述的催化剂体系成分的方面和实施方式可以任何组合的方式用于进一步描述用于三聚化烯烃的方法。在非限制性的实施方式中，催化剂体系可包括过渡金属化合物、含氮化合物和金属烃基化合物，其中，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由，C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯化合物组成，和金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由，烷基铝化合物组成。在另一个非限制性的实施方式中，催化剂体系可包括过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和含卤素化合物，其中，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由，C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯化合物组成，和金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由，烷基铝化合物组成，和含卤素化合物可以是，包括，或基本上由，第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、第14族、或第15族金属卤化物组成；可替换地，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由，C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯化合物组成，金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由，非卤基烷基铝化合物组成，和卤基化合物可以是，包括，或基本上由，第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、第14族、或第15族无机金属卤化物组成；可替换地，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由，C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯化合物组成，金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由，非-卤基烷基铝化合物组成，和含卤素化合物可以是，包括，或基本上由烷基铝卤化物组成。容易地从本公开看到其他组合或具体的过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和可选的，含卤素化合物。
通常，此处各自独立地描述具体的C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物、非-卤基烷基铝化合物、第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、第14族、或第15族金属卤化物、第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、第14族、或第15族无机金属卤化物和烷基铝卤化物。这些独立地描述的催化剂体系成分的方面和实施方式可以任何组合的方式用于进一步描述用于三聚化烯烃的方法。
在非限制性实例中，可被用在用于三聚化烯烃的方法的催化剂体系的C3-C25羧酸铬(III)组合物可以是，包括，或基本上由，特征是ⅰ)具有KBr靶丸红外线光谱，其在100cm-1的υsym(CO2)红外线峰内具有υasym(CO2)红外线吸收峰，和具有大于或等于3：1的1516±15cm-1上的υasym(CO2)红外吸收峰对位于700±50cm-1上的红外吸收峰的红外吸收峰高度比，ⅱ)特点是，当在r范围为从1.3埃至4埃上，将C3-C25羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与单核醋酸铬(III)的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点比较时，具有至少0.6的拟合良好度检验值R2，或ⅲ)在基本上无水的和基本上无酸的条件下，通过包括接触的方法产生1)具有式CrX3Lλ的铬(III)前体，其中每一个X独立地是卤基，每一个L独立地是C2-C10醚、C2-C10硫醚、C2-C5腈、C1-C30胺、或C3-C30膦，或其任何组合，和λ的范围为从0至7，2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，和3)第一溶剂，以便形成羧酸铬(III)；可替换地，具有KBr靶丸红外线光谱，其在100cm-1的υsym(CO2)红外线峰内具有υasym(CO2)红外线吸收峰，和具有大于或等于3：1的1516±15cm-1上的υasym(CO2)红外吸收峰对位于700±50cm-1上的红外吸收峰的红外吸收峰高度比；可替换地，特点是，当在r范围为从1.3埃至4埃上，将C3-C25羧酸铬(III)组合物的高能X-射线衍射g(r)数据点与单核醋酸铬(III)的理论模型的计算的高能X-射线衍射g(r)数据点比较时，具有至少0.6的拟合良好度检验值R2；或可替换地，在基本上无水的和基本上无酸的条件下，通过包括接触的方法产生1)具有式CrX3Lλ的铬(III)前体，其中每一个X独立地是卤基，每一个L独立地是C2-C10醚、C2-C10硫醚、C2-C5腈、C1-C30胺、或C3-C30膦，或其任何组合，和λ的范围为从0至7，2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，和3)第一溶剂，以便形成羧酸铬(III)。在某些非限制性实施方式中，C3-C25羧酸铬(III)的C3-C25羧酸盐可具有式(-O2C)rR1c，其中r是从1至4的整数，和R1C是烃类基团或取代的烃类基团；或具有式-O2CR2c，其中R2C是烃基或取代的烃基。在其他非限制性实施方式中，C3-C25羧酸铬(III)的C3-C25羧酸盐可以是，包括，或基本上由，丙酸基、丁酸基、戊酸基、己酸基、庚酸基、辛酸基、壬酸基、癸酸基、十一烷酸基、十二烷酸基、十三烷酸基、十四烷酸基、十五烷酸基、十六烷酸基、十七烷酸基、十八烷酸基，或其任何组合；可替换地，2-乙基己酸盐。容易地从本公开看到可被用在用于三聚化烯烃的方法中的催化剂体系的过渡金属化合物的其他过渡金属化合物和C3-C25羧酸铬(III)。
在非限制性实例中，可被用于三聚化烯烃的方法中的催化剂体系的吡咯化合物可具有式P1。
其中，R2p、R3p、R4p和R5p独立地是氢原子或C1-C30有机基团；可替换地，具有式P5
其中R42P和R4P独立地是C1-C18烃基；或可替换地，具有式AP1
其中R2P、R3P、R4P和R5P独立地可以是氢原子或C1-C30有机基团，和R1a和R2a可以是氢或C1-C20烃基。在另一个非限制性实施方式中，可被用于三聚化烯烃的方法中的催化剂体系的吡咯化合物可以是，包括，或基本上由2,5-二甲基吡咯、2-甲基-5-乙基吡咯、2,5-二乙基吡咯、2,5-二丙基吡咯、2,5-二丁基吡咯、2,4-二甲基吡咯、2,4-二乙基吡咯、2,4-二丙基吡咯、2,4-二丁基吡咯、3,4-二甲基吡咯、3,4-二乙基吡咯、3,4-二丙基吡咯、3,4-二丁基吡咯、2,3,4-三甲基吡咯、3-乙基-2,4-二甲基吡咯、2,3,5-三甲基吡咯、2,3,4,5-四甲基吡咯、2,3,4,5-四乙基吡咯、或其任何组合组成；或可替换地，2,5-二甲基吡咯。容易地从本公开看到其他含氮化合物和可被用作用于三聚化烯烃的方法中的催化剂体系的含氮化合物的吡咯化合物。
在非限制性实施方式中，可被用于三聚化烯烃的方法中的催化剂体系的烷基铝化合物可以是，包括，或基本上由三烷基铝、烷基铝卤化物、或其任何组合组成；可替换地，三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基铝二卤化物、烷基铝倍半氯化物，或其任何组合；可替换地，三烷基铝；可替换地，二烷基铝卤化物；可替换地，烷基铝二卤化物；或可替换地，烷基铝倍半氯化物。在另一个实施方式中，烷基铝化合物可以是，包括，或基本上由三烷基铝、烷基铝氯化物、或它的组合组成；可替换地，三烷基铝、二烷基铝氯化物、烷基铝二氯化物、烷基铝倍半氯化物，或其任何组合；可替换地，三烷基铝；可替换地，二烷基铝氯化物；可替换地，烷基铝二氯化物；可替换地，烷基铝倍半氯化物；或可替换地，三乙基铝和二乙基铝氯化物的混合物。容易地从本公开看到其他金属烃基化合物和可被用作用于三聚化烯烃的方法中的催化剂体系的金属烃基化合物的烷基铝化合物。
在非限制性实施方式中，可被用于三聚化烯烃的方法中的催化剂体系的非-卤基烷基铝化合物可以是，包括，或基本上由，三烷基铝、二烷基铝氢化物、烷基铝二氢化物、二烷基铝烷基氧化物、烷基铝二烷基氧化物、或其任何组合组成；可替换地，三烷基铝、二烷基铝氢化物、烷基铝二氢化物、或其任何组合组成；或可替换地，三烷基铝。在非限制性实施方式中，可被用于三聚化烯烃的方法中的催化剂体系的含卤素化合物可以是，包括，或基本上由如下组成：第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、或第14族无机金属卤化物、烃基铝卤基、卤化烃、或其任何组合；可替换地，第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、或第14族无机金属卤化物；可替换地，烃基铝卤基；或可替换地，卤化烃。在非限制性实施方式中，包括含卤素的化合物的组合物可以是，包括，或基本上由如下组成：(ⅰ)第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、或第14族无机金属卤化物，(ⅱ)烃基铝卤基，(ⅲ)第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、或第14族无机金属卤化物和非-卤基铝烃基化合物的混合物，或(ⅳ)烃基铝卤基和非-卤基铝烃基化合物的混合物；可替换地，第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、或第14族无机金属卤化物；可替换地，烃基铝卤基；可替换地，第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、或第14族无机金属卤化物和非-卤基铝烃基化合物的混合物；可替换地，烃基铝卤化物和非-卤基铝烃基化合物的混合物。容易地从本公开看到其他非-卤基烷基铝化合物、含卤素化合物、和包括可被用作用于三聚化烯烃的方法中的催化剂体系的含卤素化合物的组合物。
此处各自独立地描述可用于三聚化烯烃的方法的催化剂体系的成分的比率。这些独立地描述的催化剂体系成分比率可以任何组合的方式用于进一步描述用于三聚化烯烃的方法。在其中过渡金属化合物可以是，包括，基本上由，或由C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由，烃基铝化合物组成的某些非限制性实施方式中，催化剂体系可具有范围为从1：1至1：150的铬：铝摩尔比(更普遍地，过渡金属：金属烃基金属摩尔比)；可替换地，1：9至1：25；可替换地，1：2至1：18；或可替换地，从1：5至1：17。在其中过渡金属化合物可以是，包括，基本上由，或由C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯化合物组成的某些非限制性实施方式中，催化剂体系可具有范围为从0.3：1至10：1的吡咯化合物氮：铬摩尔比(或更普遍地，氮：过渡金属摩尔比)；可替换地，0.3：1至5：1；可替换地，1.5：1至2.5：1；可替换地，从2.5：1至3.5：1；可替换地，从0.3：1至1.2：1；可替换地，从0.3：1至0.9：1；或可替换地，从0.3：1至0.8：1。在其中催化剂体系包含含卤素化合物和过渡金属化合物是C3-C25羧酸铬(III)组合物的某些非限制性实施方式中，催化剂体系可具有范围为从0.1：1至100：1的卤化物；铬摩尔比；可替换地，从0.5：1至50：1；或可替换地，从0.75：1至25：1。除了可用于进一步描述用于三聚化烯烃的方法的催化剂体系的其他比率之外，容易地从本公开看到其他铬：铝摩尔比，过渡金属：金属烃基金属摩尔比，吡咯化合物氮：铬摩尔比，和氮：过渡金属摩尔比。
此处独立地描述用于制备与所被三聚化的烯烃接触之前，可用于三聚化烯烃的方法的催化剂体系的方法，且其可无限制地用于进一步描述用于三聚化烯烃的方法。这些催化剂体系制备方法可无限制地用于进一步描述用于三聚化烯烃的方法。在其中过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由，C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯化合物组成，和金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由，烷基铝化合物组成(例如，三烷基铝、二烷基铝卤化物、或其任何组合)和催化剂体系制备方法利用不饱和有机化合物的某些非限制性实施方式中，制备用于三聚化烯烃的方法内的催化剂体系的方法可包括1)使吡咯化合物与烷基铝化合物接触，以形成吡咯化合物/烷基铝化合物混合物，和2)在不饱和有机化合物的存在下，接触C3-C25羧酸铬(III)组合物和吡咯化合物/烷基铝化合物混合物，以形成催化剂体系；可替换地，在不饱和有机化合物的存在下，基本上同时地接触C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物和烷基铝化合物；或可替换地，1)接触吡咯化合物和非-卤基烷基铝化合物，以便形成吡咯-金属烃基化合物(例如，具有结构AP1、AP2、AP3、AP4、或AP5)，2)在不饱和有机化合物的存在下，使吡咯-金属烃基化合物与C3-C25羧酸铬(III)组合物接触，以便形成C3-C25羧酸铬(III)组合物/吡咯-金属烃基化合物混合物，和3)使C3-C25羧酸铬(III)组合物/吡咯-金属烃基化合物混合物与烷基铝化合物接触，以便形成催化剂体系。在其中过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由，C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由，吡咯化合物组成，非-卤化物金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由，烷基铝化合物组成(例如，三烷基铝)和含卤素化合物可以是，包括，或基本上由，第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、或第14族金属卤化物化合物，或第13族、第14族、或第15族非-金属卤化物组成和催化剂体系制备方法利用不饱和有机化合物的非限制性实施方式中，制备三聚化烯烃的方法内的催化剂体系的方法可包括在不饱和有机化合物的存在下，在使C3-C25羧酸铬(III)组合物与烷基铝化合物接触之前，使C3-C25羧酸铬(III)组合物与至少一种吡咯化合物或含卤素化合物接触；可替换地，1)接触C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物和含卤素化合物，以便形成C3-C25羧酸铬(III)组合物/吡咯化合物/含卤素化合物混合物，和2)在不饱和有机化合物的存在下，使烷基铝化合物与C3-C25羧酸铬(III)组合物/吡咯化合物/含卤素化合物混合物接触；可替换地，在不饱和有机化合物的存在下，在使C3-C25羧酸铬(III)组合物与烷基铝化合物接触之前，接触C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物和含卤素化合物；可替换地，包括在使烷基铝化合物与C3-C25羧酸铬(III)组合物接触之前，使烷基铝化合物与至少一种吡咯化合物或含卤素化合物接触；可替换地，1)接触烷基铝化合物、吡咯化合物和含卤素化合物，以便形成吡咯化合物/烷基铝化合物/含卤素化合物混合物，和2)在不饱和有机化合物的存在下，使吡咯化合物/烷基铝化合物/含卤素化合物混合物与C3-C25羧酸铬(III)组合物接触；或可替换地，在不饱和有机化合物的存在下，在使C3-C25羧酸铬(III)组合物与烷基铝化合物接触之前，接触烷基铝化合物、吡咯化合物和含卤素化合物；可替换地，1)接触含吡咯化合物和含卤素化合物，以便形成含吡咯化合物/含卤素化合物混合物，2)使含吡咯化合物/含卤素化合物混合物与C3-C25羧酸铬(III)组合物接触，以便形成C3-C25羧酸铬(III)组合物/含吡咯化合物/含卤素化合物混合物，和3)在不饱和有机化合物的存在下，使C3-C25羧酸铬(III)组合物/含吡咯化合物/含卤素化合物混合物与烷基铝化合物接触；可替换地，1)接触C3-C25羧酸铬(III)组合物和含吡咯化合物，以便形成C3-C25羧酸铬(III)组合物/含吡咯化合物混合物，和2)在不饱和有机化合物的存在下，使C3-C25羧酸铬(III)组合物/含吡咯化合物混合物与烷基铝化合物/含卤素化合物混合物接触；可替换地，和3)在不饱和有机化合物的存在下，使C3-C25羧酸铬(III)组合物/含吡咯化合物混合物与烷基铝化合物/含卤素化合物混合物接触；或可替换地，在不饱和有机化合物的存在下，在使C3-C25羧酸铬(III)组合物/含吡咯化合物混合物与烷基铝化合物/含卤素化合物混合物接触之前，形成C3-C25羧酸铬(III)组合物/含吡咯化合物混合物。容易地从本公开看到可在用于三聚化烯烃的方法内利用的制备催化剂体系的其他方法和催化剂体系成分接触顺序，其中在与所被三聚化的烯烃接触之前制备催化剂体系。另外，可以此处描述的任何催化剂体系成分比率组合或接触催化剂体系成分。
在方面中，可以其中在被三聚化的烯烃的存在下，使至少一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、或任选的，含卤素化合物)与至少一种催化剂体系的其他成分接触的方式进行三聚化烯烃的方法。在另一个方面中，可以其中可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的百分比同时地任何接触)每一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和当利用时，任选的，含卤素化合物)和被三聚化的烯烃的方式进行三聚化烯烃的方法；可替换地，可使每一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和当利用时，任选的，含卤素化合物)与被三聚化的烯烃基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的百分比同时地任何接触)；或可替换地，可将每一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、和当利用时，任选的，含卤素化合物)基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的百分比同时地任何接触)添加到被三聚化的烯烃中。在还有的另一个方面中，可以其中在使至少一种其他催化剂体系成分与被三聚化的烯烃接触之前，使至少一种催化剂体系成分(过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、或任选的，含卤素化合物)的方式进行三聚化烯烃的方法。
在方面中，可以其中在不饱和有机化合物的存在下接触过渡金属化合物和金属烃基化合物的方式进行三聚化烯烃的方法。在实施方式中，可以其中在接触被三聚化的烯烃之前不接触过渡金属化合物和金属烃基化合物的方式进行三聚化烯烃的方法；可替换地，以其中在金属烃基接触被三聚化的烯烃之前，过渡金属化合物不接触烯烃的方式进行；或可替换地，以其中在过渡金属化合物接触被三聚化的烯烃之前，金属烃基化合物不接触烯烃的方式进行。在某些实施方式中，可以其中在接触过渡金属化合物和烃基化合物之前，可使过渡金属化合物与被三聚化的烯烃接触和可使金属烃基化合物与被三聚化的烯烃接触的方式进行三聚化烯烃的方法。
在其中过渡金属复合物和金属烃基化合物在烯烃的存在下彼此接触的这些方面和实施方式和任何其他合适的方面和实施方式内，可将过渡金属化合物(无论它是否已经与被三聚化的烯烃接触)添加到金属烃基化合物内(无论它是否已经与被三聚化的烯烃接触)；可替换地，可将金属烃基化合物(无论它是否已经与被三聚化的烯烃接触)添加到过渡金属化合物内(无论它是否已经与被三聚化的烯烃接触)；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物(无论它是否已经与被三聚化的烯烃接触)和金属烃基化合物(无论它是否已经与被三聚化的烯烃接触)。在其他实施方式中，可以其中可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)被三聚化的烯烃、过渡金属化合物和金属烃基化合物的方式进行三聚化烯烃的方法；可替换地，可以其中可使过渡金属化合物和金属烃基化合物与被三聚化的烯烃可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)的方式进行；或可替换地，可以其中可基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)将过渡金属化合物和金属烃基化合物添加到被三聚化的烯烃内的方式进行。
关于其中在烯烃的存在下接触过渡金属化合物和金属烃基化合物，其中在接触过渡金属化合物和烃基化合物之前，过渡金属化合物接触烯烃，或其中在接触过渡金属化合物和烃基化合物之前，金属烃基化合物接触烯烃的方面和实施方式，关于烯烃三聚化期间烯烃和/或催化剂体系成分的初始接触和烯烃和/或催化剂体系成分的任何随后单独的添加实施这些条件。然而，在其中用于三聚化烯烃的方法包含用于再生和回收催化剂体系的步骤的方面和实施方式中，这些具体的烯烃三聚化方法接触特征不一定适用。因此，在其中在烯烃的存在下接触过渡金属化合物和金属烃基化合物的特征，其中在接触过渡金属化合物和烃基化合物之前，过渡金属化合物接触烯烃的特征，或其中在接触过渡金属化合物和烃基化合物之前，金属烃基化合物接触烯烃的特征下操作的烯烃的三聚作用的方法不排除回收三聚烯烃的方法内所有或部分再生的催化剂体系的可能性。
在其中可以在被三聚化的烯烃的存在下使过渡金属化合物和金属烃基化合物彼此接触的方式进行用于三聚化烯烃的方法的任何方面或实施方式中，可在接触过渡金属化合物和金属烃基化合物之前，使过渡金属化合物与催化剂体系的任何其他成分接触(以便形成包括过渡金属化合物的混合物)；可替换地，可在接触过渡金属化合物和金属烃基化合物之前，使金属烃基化合物与催化剂体系的任何其他成分接触(以便形成包括金属烃基化合物的混合物)；或可替换地，可在过渡金属化合物和金属烃基化合物的接触之前，使过渡金属化合物与催化剂体系的任何其他成分接触(以便形成包括过渡金属化合物的混合物)和使金属烃基化合物与催化剂体系的任何其他成分接触(以便形成包括金属烃基化合物的混合物)。此处在用于制备催化剂体系的方法内描述包括过渡金属化合物的混合物和用于制备包括过渡金属化合物的混合物的方法，和可以与用于三聚化烯烃的任何方法方面或实施方式一致的任何方式利用这些混合物和方法，包含，在被三聚化的烯烃的存在下，使过渡金属化合物和金属烃基化合物彼此接触的特征。此处在用于制备催化剂体系的方法内描述包括金属烃基化合物的混合物和用于制备包括金属烃基化合物的混合物的方法，和可以与用于三聚化烯烃的任何方法的方面或实施方式一致的任何方式利用这些混合物和方法，包含，在被三聚化的烯烃的存在下过渡金属化合物和金属烃基化合物彼此接触的特征。
在非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)，烯烃，和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)烯烃，过渡金属化合物和含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；例如，将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等其他选项。在某些实施方式中，可将烯烃和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；可替换地，可将过渡金属化合物和含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入烯烃；可将烯烃和含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物。在其他实施方式中，可使烯烃和过渡金属化合物与含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将烯烃和过渡金属化合物顺序地加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)。
在非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)使含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)与烯烃接触，以便形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)，和2)使过渡金属化合物与含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)接触，以便产生三聚化产物。在实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入烯烃；可替换地，可将烯烃加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和烯烃；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物加入含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)；可替换地，可将含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)加入过渡金属化合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物，和含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)使过渡金属化合物与烯烃接触，以便形成过渡金属化合物/烯烃混合物，和2)使含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)与过渡金属化合物/烯烃混合物接触，以便产生三聚化产物。在实施方式中，可将过渡金属化合物加入烯烃；可替换地，可将烯烃加入过渡金属化合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物和烯烃；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物/烯烃混合物加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；可替换地，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入过渡金属化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/烯烃混合物和含氮化合物/金属烃基化合物混合物(或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在某些实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)，烯烃，和金属烃基化合物，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)烯烃，金属烃基化合物和过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可将烯烃和金属烃基化合物基本上同时地加入(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)；可替换地，可将金属烃基化合物和过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入烯烃；或可替换地，可将烯烃和过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物。在其他实施方式中，可使烯烃和金属烃基化合物与过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将烯烃和金属烃基化合物顺序地加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)(以任何顺序)。
在非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)使过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)与烯烃接触，以便形成过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)，和2)使金属烃基化合物与过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)接触，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)加入烯烃；可替换地，可将烯烃加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)和烯烃；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可将金属烃基化合物加入过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)；可替换地，可将过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)加入金属烃基化合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物和过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)；例如，例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)接触金属烃基化合物与烯烃，以便形成金属烃基化合物/烯烃混合物，和2)使金属烃基化合物/烯烃混合物与过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)接触，以便产生三聚化产物。在实施方式中，可将金属烃基化合物加入烯烃；或可替换地，可将烯烃加入金属烃基化合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物和烯烃；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将金属烃基化合物/烯烃混合物加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)加入金属烃基化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物/含氮化合物混合物(或过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物)；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触含氮化合物、金属烃基化合物、烯烃和过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将含氮化合物、金属烃基化合物、和烯烃加入过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可将含氮化合物、金属烃基化合物、和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)。在其他实施方式中，可使含氮化合物、金属烃基化合物和烯烃与过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将含氮化合物、金属烃基化合物和烯烃顺序地加入过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)(以任何顺序)。
在非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)使过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)与烯烃接触，以便形成过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)，和2)使过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)与含氮化合物和金属烃基化合物接触，以便产生三聚化产物；或可替换地，1)使过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)与烯烃接触，以便形成过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)，和2)使过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)与含氮化合物/金属烃基化合物混合物接触，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)加入烯烃；可替换地，可将烯烃加入过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)和烯烃；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物、金属烃基化合物，和过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在其他实施方式中，可将含氮化合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)。在还有的其他实施方式中，可使含氮化合物、金属烃基化合物与过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将含氮化合物和金属烃基化合物顺序地加入过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)(以任何顺序)。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物；或可替换地，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物加入过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/烯烃混合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物)和含氮化合物/金属烃基化合物混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)接触含氮化合物和烯烃，以便形成含氮化合物/烯烃混合物，和2)接触含氮化合物/烯烃混合物、金属烃基化合物，和过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将含氮化合物加入烯烃；可替换地，可将烯烃加入含氮化合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物和烯烃；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)、金属烃基化合物和含氮化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在其他实施方式中，可将过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)和金属烃基化合物基本上同时地加入(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/烯烃混合物。在还有的其他实施方式中，可使过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)和金属烃基化合物与含氮化合物/烯烃混合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)和金属烃基化合物顺序地加入含氮化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。
在非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)接触金属烃基化合物和烯烃，以便形成金属烃基化合物/烯烃混合物，和2)接触金属烃基化合物/烯烃混合物、含氮化合物，和过渡金属烃基化合物(或过渡金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将金属烃基化合物加入烯烃；可替换地，可将烯烃加入金属烃基化合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物和烯烃；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)、含氮化合物，金属烃基化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在其他实施方式中，可将过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)和含氮化合物基本上同时地加入(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物/烯烃混合物。在还有的其他实施方式中，可使过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)和含氮化合物与金属烃基化合物/烯烃混合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)和含氮化合物依次地加入金属烃基化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括使含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物与过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)接触，以便产生三聚化产物。在实施方式中，可通过接触含氮化合物、金属烃基化合物和烯烃，以便形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物；可替换地，1)接触含氮化合物和烯烃，以便形成含氮化合物/烯烃混合物，和2)接触含氮化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物，以便形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物；可替换地，1)接触金属烃基化合物和烯烃，以便形成金属烃基化合物/烯烃混合物，和2)接触金属烃基化合物/烯烃混合物和含氮化合物，以便形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物；或可替换地，使含氮化合物/金属烃基化合物混合物与烯烃接触，以便形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触含氮化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触金属烃基化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。在实施方式中，可通过基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物，含卤素化合物、和烯烃形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可通过将金属烃基化合物加入含氮化合物/烯烃混合物；或可替换地，将含氮化合物/烯烃混合物加入金属烃基化合物形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可通过基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物和含氮化合物/烯烃混合物形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可通过将含氮化合物加入金属烃基化合物/烯烃混合物；或可替换地，将金属烃基化合物/烯烃混合物加入含氮化合物形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可通过基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物和金属烃基化合物/烯烃混合物形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可通过将烯烃加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物；或可替换地，将含氮化合物/金属烃基化合物混合物加入烯烃形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可通过基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)烯烃和含氮化合物/金属烃基化合物混合物形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)加入含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物；或可替换地，可将含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物加入过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)。在某些实施方式中，可通过基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)和含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触过渡金属化合物、含氮化合物、烯烃、和金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含氮化合物、和烯烃加入金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)；或可替换地，可将过渡金属化合物、含氮化合物、和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)。在其他实施方式中，可使过渡金属化合物、含氮化合物和烯烃与金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物、含氮化合物和烯烃顺序地加入金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)接触过渡金属化合物和烯烃，以便形成过渡金属化合物/烯烃混合物，和2)接触过渡金属化合物/烯烃混合物、金属烃基化合物和过渡金属化合物(或过渡金属化合物/含卤素化合物混合物)，以便产生三聚化产物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触过渡金属化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。在某些实施方式中，可通过基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)、含氮化合物和过渡金属化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在其他实施方式中，可将金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)、和含氮化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/烯烃混合物。在还有的其他实施方式中，可使金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)、和含氮化合物与过渡金属化合物/烯烃混合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)、和含氮化合物顺序地加入过渡金属化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)接触含氮化合物和烯烃，以便形成含氮化合物/烯烃混合物，和2)接触含氮化合物/烯烃混合物，过渡金属化合物、和金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)，以便产生三聚化产物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触含氮化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)、过渡金属化合物、和含氮化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在其他实施方式中，可将金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)、和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/烯烃混合物。在还有的其他实施方式中，可使金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物与含氮化合物/烯烃混合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物顺序地加入含氮化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括使过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物与金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)接触，以便产生三聚化产物。在实施方式中，可通过接触过渡金属化合物、含氮化合物和烯烃，以便形成过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物形成过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物；可替换地，1)接触过渡金属化合物和烯烃，以便形成过渡金属化合物/烯烃混合物，和2)接触过渡金属化合物/烯烃混合物和含氮化合物，以便形成过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物；可替换地，1)接触含氮化合物和烯烃，以便形成含氮化合物/烯烃混合物，和2)接触含氮化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物，以便形成过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物；或可替换地，使过渡金属化合物/含氮化合物混合物与烯烃接触，以便形成过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触过渡金属化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触含氮化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。在某些实施方式中，可将含氮化合物加入过渡金属化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物和过渡金属化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物加入含氮化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物和含氮化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在还有的其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物、含氮化合物、和烯烃；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)加入过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物；可替换地，可将过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物加入金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物(或金属烃基化合物/含卤素化合物混合物)和过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触金属烃基化合物、烯烃和过渡金属化合物/含氮化合物混合物，以便产生三聚化产物。在实施方式中，可将金属烃基化合物和烯烃加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物；或可替换地，可将金属烃基化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物、烯烃和过渡金属化合物/含氮化合物混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括1)接触金属烃基化合物和烯烃，以便形成金属烃基化合物/烯烃混合物，和2)接触金属烃基化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物/含氮化合物混合物，以便产生三聚化产物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触金属烃基化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。在实施方式中，可将金属烃基化合物/烯烃混合物加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物加入金属烃基化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物混合物和金属烃基化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触金属烃基化合物、含卤素化合物、烯烃、和过渡金属化合物/含氮化合物混合物，以便产生三聚化产物。在实施方式中，可将金属烃基化合物、含卤素化合物、和烯烃加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物；或可替换地，可将金属烃基化合物、含卤素化合物、和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物、含卤素化合物、和烯烃和过渡金属化合物/含氮化合物混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、和过渡金属化合物/含氮化合物混合物，以便产生三聚化产物。在实施方式中，可通过接触金属烃基化合物、含卤素化合物、和烯烃形成金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃；可替换地，1)接触金属烃基化合物、和烯烃以便形成金属烃基化合物/烯烃混合物，和2)接触金属烃基化合物/烯烃混合物和含卤素化合物；可替换地，1)接触含卤素化合物和烯烃，以便形成含卤素化合物/烯烃混合物，和2)接触含卤素化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物；或可替换地，接触金属烃基化合物/含卤素化合物混合物和烯烃。在某些实施方式中，可通过基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物、含卤素化合物、和烯烃形成金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触金属烃基化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。在实施方式中，可将含卤素化合物加入烯烃；可替换地，可将烯烃加入含卤素化合物；或可替换地，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含卤素化合物、和烯烃。在实施方式中，可将金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物加入金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物混合物和金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括使过渡金属化合物、烯烃、和含氮化合物/金属烃基化合物混合物接触，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物和烯烃加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物；或可替换地，可将过渡金属化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物。在其他实施方式中，可使过渡金属化合物和烯烃与含氮化合物/金属烃基化合物混合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物和烯烃顺序地加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触过渡金属化合物、含卤素化合物、烯烃、和含氮化合物/金属烃基化合物混合物，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含卤素化合物和烯烃加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物；或可替换地，可将过渡金属化合物、含卤素化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物。在其他实施方式中，可使过渡金属化合物、含卤素化合物和烯烃与含氮化合物/金属烃基化合物混合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物、含卤素化合物和烯烃顺序地加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、和含氮化合物/金属烃基化合物混合物，以便产生三聚化产物。在实施方式中，可通过接触过渡金属化合物、含卤素化合物、和烯烃形成过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；可替换地，1)接触过渡金属化合物、和烯烃以形成过渡金属化合物/烯烃混合物；和2)接触过渡金属化合物/烯烃混合物和含卤素化合物；可替换地，1)接触含卤素化合物和烯烃，以形成含卤素化合物/烯烃混合物，和2)接触含卤素化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物；或可替换地，接触过渡金属化合物/含卤素化合物和烯烃。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物、含卤素化合物和烯烃以形成过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触过渡金属化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触含卤素化合物和烯烃的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。在实施方式中，可将过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物。在某些实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物加入过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物混合物和过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触过渡金属化合物、含氮化合物、烯烃和金属烃基化合物混合物，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含氮化合物和烯烃加入金属烃基化合物；或可替换地，可将过渡金属化合物、含氮化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物。在其他实施方式中，可使过渡金属化合物、含氮化合物、和烯烃与金属烃基化合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物、含氮化合物、和烯烃顺序地加入金属烃基化合物(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触过渡金属化合物/含氮化合物混合物、烯烃和金属烃基化合物，以便产生三聚化产物；可替换地，接触过渡金属化合物/烯烃混合物、含氮化合物和金属烃基化合物，以便产生三聚化产物；或可替换地，接触含氮化合物/烯烃混合物、过渡金属化合物和金属烃基化合物，以便产生三聚化产物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触过渡金属化合物和烯烃，形成过渡金属化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触含氮化合物和烯烃，形成含氮化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。在实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物、和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物、和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入烯烃；或可替换地，可将金属烃基化合物、和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物混合物、烯烃和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将过渡金属化合物/烯烃混合物和含氮化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将过渡金属化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物；或可替换地，可将金属烃基化合物和含氮化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/烯烃混合物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物/烯烃混合物和含氮化合物顺序地加入金属烃基化合物(以任何顺序)；可替换地，可将过渡金属化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物顺序地加入含氮化合物(以任何顺序)；或可替换地，可将金属烃基化合物和含氮化合物依次地加入过渡金属化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/烯烃混合物、含氮化合物和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将含氮化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将含氮化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；或可替换地，可将金属烃基化合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/烯烃混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/烯烃混合物、过渡金属化合物和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触过渡金属化合物、含氮化合物、含卤素化合物、烯烃和金属烃基化合物混合物，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含氮化合物、含卤素化合物、和烯烃加入金属烃基化合物；或可替换地，可将过渡金属化合物、含氮化合物、含卤素化合物、和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物。在其他实施方式中，在其他实施方式中，可使过渡金属化合物、含氮化合物、含卤素化合物和烯烃与金属烃基化合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物、含氮化合物、含卤素化合物和烯烃顺序地加入金属烃基化合物混合物(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物、烯烃和金属烃基化合物混合物，以便产生三聚化产物；可替换地，接触过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物、含卤素化合物和金属烃基化合物混合物，以便产生三聚化产物；可替换地，接触过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、含氮化合物和金属烃基化合物，以便产生三聚化产物；或可替换地，接触含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、过渡金属化合物和金属烃基化合物混合物，以便产生三聚化产物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。
在实施方式中，可通过接触含氮化合物、含卤素化合物、和烯烃形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；可替换地，1)接触含氮化合物和烯烃，以形成含氮化合物/烯烃混合物，和2)接触含氮化合物/烯烃混合物和含卤素化合物，以形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；可替换地，1)接触接触含卤素化合物和烯烃，以形成含卤素化合物/烯烃混合物，和2)接触含卤素化合物/烯烃混合物和含氮化合物，以形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；或可替换地，接触含氮化合物/含卤素化合物混合物和烯烃，以形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物。在实施方式中，可通过基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物、含卤素化合物和烯烃形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在某些实施方式中，可通过将含氮化合物/烯烃混合物加入含卤素化合物，以形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；可替换地，将含卤素化合物加入含氮化合物/烯烃混合物；或可替换地，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/烯烃混合物、和含卤素化合物(例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项)。在某些实施方式中，可通过将含卤素化合物/烯烃混合物加入含氮化合物形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；可替换地，将含氮化合物加入含卤素化合物/烯烃混合物；或可替换地，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含卤素化合物/烯烃混合物、和含氮化合物(例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项)。在某些实施方式中，可通过将含氮化合物/含卤素化合物混合物加入烯烃形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物；可替换地，将烯烃加入含氮化合物/含卤素化合物混合物；或可替换地，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比含氮化合物/含卤素化合物混合物、和烯烃(例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项)。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触含氮化合物和烯烃形成含氮化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触含卤素化合物和烯烃形成含卤素化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。
在实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入烯烃；或可替换地，可将金属烃基化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物。在某些实施方式中，基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物、烯烃和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物和含卤素化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含卤素化合物；或可替换地，可将金属烃基化合物和含卤素化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物、和含卤素化合物顺序地加入金属烃基化合物(以任何顺序)；可替换地，可将过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物、和金属烃基化合物顺序地加入含卤素化合物(以任何顺序)；或可替换地，可将金属烃基化合物、和含卤素化合物顺序地加入过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物/烯烃混合物、含卤素化合物和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和含氮化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物；或可替换地，可将金属烃基化合物和含氮化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、含氮化合物和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；或可替换地，可将金属烃基化合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、过渡金属化合物和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触过渡金属化合物/含氮化合物混合物、含卤素化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物，以便产生三聚化产物；可替换地，接触过渡金属化合物/含卤素化合物混合物、含氮化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物，以便产生三聚化产物；或可替换地，接触过渡金属化合物/烯烃混合物、含氮化合物/含卤素化合物混合物和金属烃基化合物，以便产生三聚化产物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成含卤素化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成含氮化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成过渡金属化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。
在实施方式中，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物和含卤素化合物/烯烃混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将过渡金属化合物/含氮化合物混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含卤素化合物/烯烃混合物；或可替换地，可将金属烃基化合物和含卤素化合物混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/含氮化合物混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含氮化合物混合物、含卤素化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将过渡金属化合物/含卤素化合物混合物和含氮化合物/烯烃混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将过渡金属化合物/含卤素化合物混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/烯烃混合物；或可替换地，可将金属烃基化合物和含氮化合物/烯烃混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/含卤素化合物混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/含卤素化合物混合物、含氮化合物/烯烃混合物、和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将过渡金属化合物/烯烃混合物和含氮化合物/含卤素化合物混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；可替换地，可将过渡金属化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/含卤素化合物混合物；或可替换地，可将金属烃基化合物和含氮化合物/含卤素化合物混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物/烯烃混合物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物/烯烃混合物和含氮化合物/含卤素化合物混合物顺序地加入金属烃基化合物(以任何顺序)；可替换地，可将过渡金属化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物顺序地加入含氮化合物/含卤素化合物混合物(以任何顺序)；或可替换地，可将金属烃基化合物和含氮化合物/含卤素化合物混合物依次地加入过渡金属化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)过渡金属化合物/烯烃混合物、含氮化合物/含卤素化合物混合物和金属烃基化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触含氮化合物、金属烃基化合物、烯烃和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将含氮化合物、金属烃基化合物和烯烃加入过渡金属化合物；或可替换地，可将含氮化合物、金属烃基化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物。在其他实施方式中，可使含氮化合物、金属烃基化合物和烯烃与过渡金属化合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将含氮化合物、金属烃基化合物、和烯烃顺序地加入过渡金属化合物(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触含氮化合物/金属烃基化合物混合物、烯烃和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物；可替换地，接触含氮化合物/烯烃混合物、金属烃基化合物和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物；或可替换地，接触金属烃基化合物/烯烃混合物、含氮化合物和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触含氮化合物和烯烃，形成含氮化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述接触金属烃基化合物和烯烃，形成金属烃基化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。在实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入烯烃；或可替换地，可将过渡金属化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物混合物、烯烃和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将含氮化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将含氮化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；或可替换地，可将过渡金属化合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/烯烃混合物、金属烃基化合物和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将金属烃基化合物/烯烃混合物和含氮化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将金属烃基化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物；或可替换地，可将过渡金属化合物和含氮化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物/烯烃混合物。在实施方式中，可将金属烃基化合物/烯烃混合物和含氮化合物依次地加入过渡金属化合物(以任何顺序)；可替换地，可将金属烃基化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物顺序地加入含氮化合物(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物和含氮化合物顺序地加入金属烃基化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物/烯烃混合物、含氮化合物和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触含氮化合物、金属烃基化合物、含卤素化合物、烯烃和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将含氮化合物、金属烃基化合物、含卤素化合物和烯烃加入过渡金属化合物；或可替换地，可将含氮化合物、金属烃基化合物、含卤素化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物。在其他实施方式中，可使含氮化合物、金属烃基化合物、含卤素化合物和烯烃与过渡金属化合物依次地接触(以任何顺序)；或可替换地，可将含氮化合物、金属烃基化合物、含卤素化合物和烯烃顺序地加入过渡金属化合物(以任何顺序)。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物、烯烃和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物；可替换地，接触含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物、含卤素化合物和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物；可替换地，接触含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、金属烃基化合物和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物；或可替换地，接触金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、含氮化合物和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。
在实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入烯烃；或可替换地，可将过渡金属化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物、烯烃和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物和含卤素化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含卤素化合物；或可替换地，可将过渡金属化合物和含卤素化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物。在某些实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物和含卤素化合物顺序地加入过渡金属化合物(以任何顺序)；可替换地，可将含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物顺序地加入含卤素化合物(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物和含卤素化合物顺序地加入含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物/烯烃混合物、含卤素化合物和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物；或可替换地，可将过渡金属化合物和金属烃基化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、金属烃基化合物和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和含氮化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物；或可替换地，可将过渡金属化合物和含氮化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物。在某些实施方式中，可将金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和含氮化合物顺序地加入过渡金属化合物(以任何顺序)；可替换地，可将金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物顺序地加入含氮化合物(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物和含氮化合物顺序地加入金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物(以任何顺序)。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)金属烃基化合物/含卤素化合物/烯烃混合物、含氮化合物和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在非限制性的实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括接触含氮化合物/金属烃基化合物混合物、含卤素化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物；可替换地，接触含氮化合物/含卤素化合物混合物、金属烃基化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物；或可替换地，接触含氮化合物/烯烃混合物、金属烃基化合物/含卤素化合物混合物和过渡金属化合物，以便产生三聚化产物。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成含卤素化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成金属烃基化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。此处在其他烯烃和催化剂体系成分接触方法内描述形成含氮化合物/烯烃混合物的方法，可在本方法内无限制地利用所述方法。
在实施方式中，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物和含卤素化合物/烯烃混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将含氮化合物/金属烃基化合物混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含卤素化合物/烯烃混合物；或可替换地，可将过渡金属化合物和含卤素化合物/烯烃混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/金属烃基化合物混合物。在某些实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/金属烃基化合物混合物、含卤素化合物/烯烃混合物、和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将含氮化合物/含卤素化合物混合物和金属烃基化合物/烯烃混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将含氮化合物/含卤素化合物混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物/烯烃混合物；或可替换地，可将过渡金属化合物和金属烃基化合物/烯烃混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/含卤素化合物混合物。在某些实施方式中，可将含氮化合物/含卤素化合物混合物和金属烃基化合物/烯烃混合物顺序地加入过渡金属化合物(以任何顺序)；可替换地，可将含氮化合物/含卤素化合物混合物和过渡金属化合物顺序地加入金属烃基化合物/烯烃混合物(以任何顺序)；或可替换地，可将过渡金属化合物和金属烃基化合物/烯烃混合物顺序地加入含氮化合物/含卤素化合物混合物(以任何顺序)。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/含卤素化合物混合物、金属烃基化合物/烯烃混合物、和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。在实施方式中，可将含氮化合物/烯烃混合物和金属烃基化合物/含卤素化合物混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入过渡金属化合物；可替换地，可将含氮化合物/烯烃混合物和过渡金属化合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入金属烃基化合物/含卤素化合物混合物；或可替换地，可将过渡金属化合物和金属烃基化合物/含卤素化合物混合物基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入含氮化合物/烯烃混合物。在其他实施方式中，可基本上同时地接触(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)含氮化合物/烯烃混合物、金属烃基化合物/含卤素化合物混合物、和过渡金属化合物；例如，可将其基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)加入反应器，或溶剂，等选项。
在另一个非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括独立地且基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)接触过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物和烯烃，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括独立地且基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)将过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物和烯烃引入反应器，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物和烯烃连续地引入反应器。
在还有的另一个非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括使过渡金属化合物、含氮化合物和金属烃基化合物独立地且基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)与烯烃接触，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物独立地且基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)引入含有烯烃的反应器。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含氮化合物和金属烃基化合物连续地引入反应器。
在另一个非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括独立地且基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)接触过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、含卤素化合物和烯烃，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括独立地且将过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、含卤素化合物和烯烃基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)引入反应器，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物、含卤素化合物和烯烃连续地引入反应器。
在还有的另一个非限制性实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可包括使过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物和含卤素化合物独立地且基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)与烯烃接触，以便产生三聚化产物。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物和含卤素化合物独立地且基本上同时地(可替换地，同时地接触；或可替换地，此处描述的任何同时地接触百分比)引入含有烯烃的反应器。在某些实施方式中，可将过渡金属化合物、含氮化合物、金属烃基化合物和含卤素化合物连续地引入反应器。
用于三聚化烯烃的方法的各个方面和实施方式可利用过渡金属化合物/含卤素化合物混合物、金属烃基化合物/含卤素化合物混合物、含氮化合物/金属烃基化合物混合物、含氮化合物/含卤素化合物混合物、过渡金属化合物/含氮化合物混合物、过渡金属化合物/含氮化合物/含卤素化合物混合物、含氮化合物/金属烃基化合物混合物、和/或含氮化合物/金属烃基化合物/含卤素化合物混合物。此处在用于制备催化剂体系的方法内描述制备混合物的方法，可以与用于三聚化烯烃的任何方法一致的任何方式利用这些混合物和方法。
在实施方式中，催化剂体系成分、催化剂体系成分混合物、催化剂体系成分/烯烃混合物、或可加入(顺序地，基本上同时地，同时地，或此处描述的任何同时地百分比)其他催化剂体系成分的催化剂体系成分混合物/烯烃混合物也可包含溶剂。在这样的情况下，催化剂体系成分、催化剂体系成分混合物、催化剂体系成分/烯烃混合物、或可加入(顺序地，基本上同时地，同时地，或此处描述的任何同时地百分比)其他催化剂体系成分的催化剂体系成分混合物/烯烃混合物可包括，或基本上由催化剂体系成分、催化剂体系成分混合物、催化剂体系成分/烯烃混合物、或可加入(顺序地，基本上同时地，同时地，或此处描述的任何同时地百分比)其他催化剂体系成分的催化剂体系成分混合物/烯烃混合物和溶剂组成。
通常，应该明白，除非另外特别说明，此处描述的任何烯烃三聚化成分或烯烃三聚化成分混合物可包括列举的烯烃三聚化成分或烯烃三聚化成分混合物的元素和同样地，可含有与用于三聚化烯烃的具体的方法一致的另外的成分。在实施方式中，除非另外特别说明，此处描述的任何烯烃三聚化成分或烯烃三聚化成分混合物可包括列举的烯烃三聚化成分或烯烃三聚化成分混合物的元素和寡聚化溶剂和同样地可含有与用于三聚化烯烃的具体的方法的特征一致的另外的成分。在某些实施方式中，此处描述的任何烯烃三聚化成分或烯烃三聚化成分混合物可基本上由列举的烯烃三聚化成分或烯烃三聚化成分混合物的元素和寡聚化溶剂组成。在其他实施方式中，此处描述的任何烯烃三聚化成分或烯烃三聚化成分混合物可基本上由列举的元素组成。
在用于三聚化烯烃方法的非限制性实施方式中，烯烃可以是，包括，或基本上由乙烯组成(通过乙烯，方法可以是用于三聚化乙烯的方法或乙烯三聚化方法)，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由吡咯化合物组成，金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由烷基铝化合物组成，和可选的含卤素化合物可以是，包括，或基本上由烷基铝卤化物或第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、第14族或第15族无机卤基组成。在用于三聚化烯烃方法的另一个非限制性实施方式中，烯烃可以是，包括，或基本上由乙烯组成(通过乙烯，方法可以是用于三聚化乙烯的方法或乙烯三聚化方法)，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由吡咯化合物组成，金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由烷基铝化合物组成(例如，三烷基铝、烷基铝二卤化物、二烷基铝卤化物、烷基铝倍半卤化物，或其任何组合)。在用于三聚化烯烃方法的还有的另一个非限制性实施方式中，烯烃可以是，包括，或基本上由乙烯组成(通过乙烯，方法可以是用于三聚化乙烯的方法或乙烯三聚化方法)，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由吡咯化合物组成，金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由非-卤化物金属烃基化合物组成(例如，三烷基铝)，和含卤素化合物可以是，包括，或基本上由第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、或第14族金属卤化物化合物、或第13族、第14族、或第15族非-金属卤化物组成。在用于三聚化烯烃方法的另一个非限制性实施方式中，烯烃可以是，包括，或基本上由乙烯组成(通过乙烯，方法可以是用于三聚化乙烯的方法或乙烯三聚化方法)，过渡金属化合物可以是，包括，或基本上由C3-C25羧酸铬(III)组合物组成，含氮化合物可以是，包括，或基本上由吡咯化合物组成，金属烃基化合物可以是，包括，或基本上由非-卤化物金属烃基化合物组成(例如，三烷基铝)，和含卤素化合物可以是，包括，或基本上由烷基铝卤化物(例如，烷基铝二卤化物、二烷基铝卤化物、烷基铝倍半卤化物，或其任何组合)组成。
可利用此处描述的催化剂体系，使用溶液、悬浮液和/或气相反应技术，和/或使用传统的器械和接触方法执行用于三聚化烯烃的方法。可通过本领域已知的任何方式影响烯烃与催化剂体系的接触。一个方便的方法是遍及三聚化方法，在有机介质中分散催化剂体系和/或搅拌或搅动混合物，以便维持有机介质中分散的催化剂体系。也可采用其他已知的接触方法。
在方面中，用于三聚化烯烃的方法可利用有机介质。在其中利用有机介质的方面中，催化剂体系可溶于(可替换地，部分地溶于；或可替换地，不可溶于)有机介质。在其他方面中，液体三聚化产物可混溶于(可替换地，部分地混溶于；或可替换地，不可混溶于)有机介质。在还有的其他方面中，固体三聚化产物可溶于(可替换地，部分地溶于；或可替换地，不可溶于)有机介质。
在非限制性方面中，连续供给的高压灭菌反应器具有适当的搅拌机制或搅动方法(例如，机械搅拌器和/或惰性气体鼓泡搅拌，等其他选项)和/或用于控制三聚化温度的方法(例如，内部传热线圈和/或外部热交换套，等其他选项)。在另一个非限制性实施方式中，可在具有机械搅拌(例如，循环泵，等其他选项)和/或可利用用于控制三聚化温度的方法(例如，内部传热线圈和/或外部热交换套，等其他选项)的循环反应器中执行用于三聚化烯烃的方法。在另一个非限制性实施方式中，可在具有用于控制三聚化温度(例如，外部热交换套，等其他选项)和/或利用其中可通过利用能够形成和/或维持湍流条件维持分散的催化剂体系的条件的插入式流动条件下，在管状反应中执行用于三聚化烯烃的方法。
在方面中，有机介质可以是，包括，或基本上由，烃或卤化烃组成；可替换地，烃；或可替换地，卤化烃。在某些实施方式中，有机介质(烃或卤化烃)可以是非-烯族的；或可替换地，烯族的。在其他实施方式中，有机介质(烃或卤化烃)可以是，包括，或基本上由脂肪族烃、脂肪族卤化烃、芳香烃、卤代芳香烃，或其任何组合组成；可替换地，脂肪族烃、脂肪族卤化烃，或其任何组合；可替换地，芳香烃、卤代芳香烃，或其任何组合；可替换地，脂肪族烃；可替换地，脂肪族卤化烃；可替换地，芳香烃；可替换地，卤代芳香烃。在实施方式中，脂肪族有机介质(烃或卤化烃)可以是烯族的或非-烯族的；可替换地，烯族的；或可替换地，非-烯族的。在实施方式中，芳香族有机介质(芳香烃或卤代芳香烃)可以是烯族的(例如，苯乙烯)或非-烯族的；可替换地，烯族的；或可替换地，非-烯族的。此处作为此处公开的各个方面和实施方式的可能的溶剂独立地公开脂肪族烃和/或卤代脂肪族烃。可将这些脂肪族烃溶剂和/或卤代脂肪族烃溶剂无限制地用作有机介质。此处作为此处公开的各个方面和实施方式的可能的溶剂独立地公开芳香族烃和/或卤代芳香族烃和/或用作可被用于催化剂体系的制备的可能的不饱和有机化合物。可将这些芳香族烃溶剂和/或卤代芳香族烃溶剂无限制地用作有机介质。此处作为可被用于催化剂体系的制备的可能的不饱和有机化合物和/或作为可被三聚化的烯烃公开烯族化合物。可将这些不饱和有机化合物和/或可三聚化的烯烃无限制地用作有机介质。应该注意，当将任何一般的或特殊的脂肪族烃溶剂和/或卤代脂肪族烃溶剂、不饱和有机化合物和/或可三聚化的烯烃用作有机介质时，作为溶剂，不饱和有机化合物或可被三聚化公开一般的或特殊的化合物的事实并不暗示，被利用的化合物具有不同于归于有机介质的任何功能。
可在能够形成三聚化产物的条件下产生三聚化产物。应该注意，能够形成三聚化产物的条件可以不同于(或可能相同于)在该条件下，催化剂体系接触烯烃或接触三聚化方法中的多种成分的条件。在实施方式中，能够形成三聚化产物的条件可包含，单独地或以任何组合，三聚化温度，三聚化压力、烯烃分压、三聚化催化剂体系浓度和/或三聚化反应时间。在另一个方面中，三聚化烯烃的方法的特征是，单独地或以任何组合，烯烃转换百分比，催化剂体系生产率、三聚物选择性、三聚化产物内的具体的部分的纯度和/或形成的聚合物的质量。
在方面中，能够产生三聚化产物的条件可包括至少-20℃的三聚化温度；可替换地，至少0℃；可替换地，至少20℃；可替换地，至少40℃；可替换地，至少60℃；或可替换地，至少80℃。在某些实施方式中，能够产生三聚化产物的条件可包括范围为从-20℃至250℃的三聚化温度；可替换地，范围为从-10℃至250℃；可替换地，范围为从0℃至225℃；可替换地，范围为从20℃至200℃；可替换地，范围为从40℃至200℃；可替换地，范围为从60℃至180℃；或可替换地，范围为从80℃至160℃。
在方面中，能够产生三聚化产物的条件可包括三聚化压力。在实施方式中，能够产生三聚化产物的条件可包括范围为从大气压力至3500psig(24.1mPa)的三聚化压力；可替换地，范围为从大气压力至3000psig(20.7mPa)；可替换地，范围为从大气压力至2000psig(13.8mPa)；可替换地，范围为从大气压力至1600psig(6.9mPa)；或可替换地，范围为从大气压力至1000psig(11.0mPa)。在另一个方面中，三聚化压力的范围为从25psig(345kPa)至3500psig(24.1mPa)；50psig(345kPa)至3000psig(20.7mPa)；可替换地，50psig(345kPa)至2500psig(17.2mPa)；可替换地，从100psig(389kPa)至2000psig(13.8mPa)；可替换地，从200psig(1.4mPa)至1600psig(6.9mPa)；或可替换地，从300psig(2.1mPa)至1000psig(6.9mPa)。当烯烃可以是在能够生产三聚化产物的温度上的气体时，能够产生三聚化产物的条件可以是范围为从20psig(138kPa)至3000psig(20.7mPa)的烯烃分压(例如，乙烯分压)；可替换地，范围为从50psig(345kPa)至2500psig(17.2mPa)；可替换地，范围为从100psig(689kPa)至2000psig(13.8mPa)；可替换地，范围为从200psig(1.4mPa)至1600psig(11.0mPa)；或可替换地，范围为从300psig(2.1mPa)至1000psig(6.9mPa)。
在方面中，能够产生三聚化产物的条件可包括催化剂体系浓度。在实施方式中，催化剂体系浓度可以是每公升三聚化溶液至少1×10-7摩尔过渡金属(例如，铬)；可替换地，每公升三聚化溶液至少1×10-6摩尔过渡金属；可替换地，每公升三聚化溶液至少1×10-5摩尔过渡金属。在某些实施方式中，催化剂体系浓度的范围可以是从每公升三聚化溶液1×10-7至0.5摩尔过渡金属；可替换地，每公升三聚化溶液1×10-6至0.2摩尔过渡金属；或可替换地，每公升三聚化溶液1×10-5至0.05摩尔过渡金属。
在方面中，能够产生三聚化产物的条件可以是三聚化反应时间。在实施方式中，三聚化反应时间可以是至少5分钟；可替换地，至少10分钟；或可替换地，至少15分钟。在某些实施方式中，三聚化反应时间的范围可以是从5分钟至120分钟；可替换地，范围为从10分钟至90分钟；或可替换地，范围为从15分钟至60分钟。在某些方面中，可在连续循环反应器中实行三聚化方法。在这样的情况下，和不同于批次反应器或插入式流动连续反应器，某些分子可在反应器中花费的时间可显著不同于其他分子在反应器中花费的时间。在这样的情况下，此处公开的三聚化反应时间可指的是平均反应时间。
在方面中，氢可存在于三聚作用期间。没有受到理论的限制，应该相信，氢的存在可加速三聚化，增加催化剂体系活性，增加催化剂体系生产率，和/或减少三聚作用期间形成的聚合物的量。在实施方式中，氢分压的范围可以是从2psi(13.8kPa)至200psi(1.4mPa)；可替换地，5psi(34.5kPa)至150psi(1.0mPa)；或可替换地，10psi(68.9kPa)至100psi(689kPa)。
可通过转变为三聚化产物的烯烃的量表征用于三聚化烯烃的方法(也被称为烯烃转变)。在实施方式中，烯烃转变可以是至少20wt.％；可替换地，30wt.％；或可替换地，40wt.％。在某些实施方式中，烯烃转变的范围可以是从20wt.％至90wt.％；可替换地，范围为从30wt.％至80wt.％；或可替换地，40wt.％至75wt.％。
在方面中，可通过催化剂体系生产率表征用于三聚化烯烃的方法。通常，催化剂体系生产率指的是利用大量催化剂体系内过渡金属化合物中的每克过渡金属产生的三聚体的克(此处被称为每克过渡金属三聚体克)。在某些实施方式中，催化剂体系生产率可以是每克过渡金属至少10000克三聚体；可替换地，每克过渡金属至少15000克三聚体；可替换地，每克过渡金属至少20000克三聚体；或可替换地，每克过渡金属至少25000克三聚体。在其他实施方式中，催化剂体系生产率的范围可以是从每克过渡金属10000至500000g三聚体；可替换地，范围为从每克过渡金属15000至400000g三聚体；可替换地，范围为从每克过渡金属20000至300000g三聚体；或可替换地，范围为从每克过渡金属25000至250000g三聚体。当烯烃是乙烯和过渡金属化合物是铬化合物时，可将这些转变表示为每克Cr的C6克数。
在方面中，可通过对含有三个烯烃单元和仅含有三个烯烃单元的产物的选择性表征用于三聚化烯烃的方法(被称为三聚体选择性)。通常，以wt.％单元表示三聚体选择性，因为它与每总三聚化产物产生的三聚体的量相关。应该注意，三聚化选择性可取决于利用的三聚化溶剂(如果利用)。当将可被三聚化的烯烃，虽然在比正在被三聚化的烯烃慢的速度上，用作三聚化溶剂时(例如，当三聚化乙烯时，1-己烯)，三聚体选择性可比当在三聚化烯烃的方法中利用非烯族溶剂时的低。在这些情况下，三聚体选择性可以是至少70wt.％；可替换地，至少75wt.％；可替换地，至少80wt.％；可替换地，至少85wt.％；可替换地，至少90wt.％。在其他类似的情况中，三聚体选择性的范围可以是从70wt.％至99.8wt.％；可替换地，从75wt.％至99.5wt.％；可替换地，从80wt.％至99wt.％；或可替换地，从85wt.％至98wt.％。在实施方式中，其中利用非烯烃三聚化溶剂，三聚体选择性可以是至少80wt.％；可替换地，至少85wt.％；可替换地，至少87.5wt.％；或可替换地，至少90wt.％。在某些实施方式中，其中利用非烯烃三聚化溶剂，三聚体选择性范围可以是从80wt.％至99.8wt.％；可替换地，从85wt.％至99.5wt.％；可替换地，从87.5wt.％至99wt.％；或可替换地，从90wt.％至98wt.％。
在另一个方面中，可通过三聚化产物的具体部分内的具体产物的量表征用于三聚化烯烃的方法(也称为纯度)。在其中烯烃包括，或基本上由乙烯组成的实施方式中，具有6个碳原子的三聚化产物可包括至少98wt.％1-己烯；可替换地，至少98.25wt.％1-己烯；可替换地，至少98.5wt.％1-己烯；可替换地，至少98.75wt.％1-己烯；可替换地，至少99wt.％1-己烯；或可替换地，至少99.25wt.％1-己烯。在其中烯烃包括，或基本上由乙烯组成的另一个实施方式中，具有6个碳原子的三聚化产物可包括从98wt.％至99.95wt.％1-己烯；可替换地，从98.25wt.％至99.95wt.％1-己烯；可替换地，从98.5wt.％至99.9wt.％1-己烯；可替换地，从98.75wt.％至99.9wt.％1-己烯；可替换地，从99wt.％至99.85wt.％1-己烯；或可替换地，从99.25wt.％至99.85wt.％1-己烯。
在另一个方面中，可通过三聚化产物中的量表征用于三聚化烯烃的方法。通常，可将聚合物的量报告为三聚化产物的重量百分数。在实施方式中，用于三聚化烯烃的方法可产生少于1wt.％聚合物；可替换地，少于0.75wt.％聚合物；可替换地，少于0.5wt.％聚合物；可替换地，少于0.4wt.％聚合物；可替换地，少于0.3wt.％聚合物；可替换地，少于0.2wt.％聚合物；或可替换地，少于0.1wt.％聚合物。
当形成了足够数量的三聚体时，可处理包括有机介质、三聚化产物(包括三聚体、非三聚体产物、聚合物和有机介质)、催化剂体系的反应器流出物，从而淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系。在实施方式中，可在从反应器流出物分离三聚体和/或有机介质之前，淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系。通常，可淬灭、灭活、和/或抑制催化剂体系，以便(1)抑制不需要的固体的生产(例如，聚合物)和/或(2)抑制由于三聚化产物分离方法中的异构化作用引起的产物纯度降解。除了此处讨论的之外，美国专利No.5,689,028、发表的美国专利申请2004/0236163 A1、发表的美国专利申请2010/0113851 A1和1999年12月29日提交的美国专利申请No.09/473688提供关于淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系的方法的另外的讨论。美国专利No.5,689,028、发表的美国专利申请2004/0236163 A1、发表的美国专利申请2010/0113851 A1、和1999年12月29日提交的美国专利申请No.09/473688全部包括在此以供参考。
在方面中，可通过将醇加入反应器流出物来灭活和/或抑制催化剂体系。在实施方式中，可将醇对金属烃基化合物的金属的摩尔比(包含可被称为含卤素化合物的金属烃基化合物)(也被称为乙醇对金属摩尔比)达到100：1的醇加入反应器流出物；可替换地，达到50：1；可替换地，达到25：1；可替换地，达到10：1；或可替换地，达到5：1。在实施方式中，可将醇对金属摩尔比范围为从0.01：1至100：1的醇加入反应器流出物；可替换地，范围为从0.1：1至50：1；或可替换地，范围为从0.5：1至25：1；可替换地，范围为从0.75：1至5：1；可替换地，范围为从1：1至4：1；或可替换地，范围为从2：1至3：1。此处公开可用于灭活和/或抑制催化剂体系的醇。这些独立地公开的醇可无限制地用于进一步描述灭活和/或抑制催化剂体系的方法。
在另一个方面中，可通过添加包括胺；或可替换地，胺和醇的组合的淬灭剂来淬灭催化剂体系。通常，可添加可淬灭催化剂体系的任何量的淬灭剂。在实施方式中，可将胺对金属烃基化合物的金属(包含可被称为含卤素化合物的金属烃基化合物)摩尔比(也被称为胺对金属摩尔比)达到100：1的胺(不管淬灭剂是否包括胺或胺和醇)加入反应器流出物，可替换地，达到50：1；可替换地，达到25：1；可替换地，达到10：1；或可替换地，达到5：1。在实施方式中，可将胺对金属摩尔比范围为从0.01：1至100：1的胺(不管淬灭剂是否包括胺或胺和醇)加入反应器流出物；可替换地，范围为从0.1：1至50：1；可替换地，范围为从0.5：1至25：1；或可替换地，范围为从0.75：1至5：1。当淬灭剂包括胺和醇时，可将醇对金属摩尔比达到100：1的醇加入反应物流出物，可替换地，达到50：1；可替换地，达到25：1；可替换地，达到10：1；或可替换地，达到5：1。在其中淬灭剂包括胺和醇的另一个实施方式中，可将醇对金属摩尔比范围为从0.01：1至100：1的醇加入反应器流出物，可替换地，范围为从0.1：1至50：1；或可替换地，范围为从0.5：1至25：1；可替换地，范围为从0.75：1至5：1；可替换地，范围为从1：1至4：1；或可替换地，范围为从2：1至3：1。此处公开可用于淬灭剂的胺和醇。这些独立地公开的胺和醇可无限制地用于进一步描述淬灭催化剂体系的方法。
在还有的另一个方面中，可在方法中灭活和/或抑制催化剂体系，包括1)使反应器流出物(包括三聚化产物(三聚体、非三聚体和聚合物)和有机介质)与抑制剂接触，以便至少部分地灭活催化剂体系，2)将反应器流出物分成一个或更多液流，其包括可能基本上缺乏至少部分地灭活的催化剂的三聚体和有机介质，和包括部分地灭活的催化剂的第二液流，和3)使第二液体流与淬灭剂接触。可执行抑制剂与反应器流出物的接触的步骤，以便在它与反应器流出物分离期间，减少催化剂体系的催化活性和/或减少用于异构化三聚体的催化剂体系的活性。可执行淬灭第二液流的步骤，以便减少或消除部分地灭活的催化剂体系的自然性能。在实施方式中，可使抑制剂对金属烃基化合物的金属(包含可被称为含卤素化合物的金属烃基化合物)的当量比(也被称为抑制剂对金属当量摩尔比)范围为从0.75：1至1.25：1的抑制剂与反应器流出物接触；可替换地，范围为从0.9：1至1.2：1；或可替换地，大约1：1。在实施方式中，可使淬灭剂对金属烃基化合物的金属(包含可被称为含卤素化合物的金属烃基化合物)的当量比(也被称为淬灭剂对金属当量摩尔比)达到25：1的淬灭剂与包括部分地灭活的催化剂的第二液流接触；可替换地，达到10：1；或可替换地，达到5：1。在某些实施方式中，可使淬灭剂对金属当量摩尔比范围为从0.5至25：1的淬灭剂与包括部分地灭活的催化剂的第二液流接触；可替换地，范围为从0.5：1至10：1；可替换地，范围为从0.5：1至5：1；可替换地，范围为从0.5：1至3：1；可替换地，范围为从0.5：1至1.5：1；可替换地，范围为从0.7：1至1.2：1；可替换地，范围为从0.8：1至1.1：1；或可替换地，大约1：1。在实施方式中，抑制剂和淬灭剂独立地可以是，包括，或基本上由，醇、和胺，或其任何组合组成；可替换地，醇；或可替换地，胺。此处独立地公开可被用作抑制剂的胺和醇和可被用作淬灭剂的醇。这些独立地公开的胺和醇可无限制地用于进一步描述淬灭催化剂体系的方法。
通常，可用于淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系的方法的醇可以是可溶于反应器流出物液流的任何醇(或包括部分地灭活的催化剂体系的第二液流)。如此处应用的，术语“醇”包含一元醇、二醇和多元醇。可通过沸点、分子量、或通过它的不能与烯烃和/或三聚体产物组成共沸物的能力选择醇。在本发明的某些实施方式中，醇可具有不同于反应器流出物中的三聚体产物的沸点。在非限制性实施方式中，醇可以是，包括，或基本上由如下组成：C4至C30醇；可替换地，C4至C20醇；或可替换地，C4至C12醇。
在另一个非限制性实施方式中，醇可以是，包括，或基本上由如下组成：一元醇、二醇、或多醇，或其任何组合；可替换地，一元醇；可替换地，二醇；或可替换地，多醇。通常，一元醇、二醇、或多醇可与此处公开的常见醇具有相同的碳原子数目。在实施方式中，一元醇可以是，包括，或基本上由如下组成：丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇、壬醇、癸醇、十一烷醇、或十二烷醇、或其任何组合。在其他实施方式中，一元醇可以是，包括，或基本上由如下组成：正己醇、2-己醇、3-己醇、2-乙基-己醇、1-庚醇、2-庚醇、3-庚醇、4-庚醇、2-甲基-3-庚醇、1-辛醇、2-辛醇、3-辛醇、4-辛醇、7-甲基-2-癸醇、1-癸醇、2-癸醇、3-癸醇、4-癸醇、5-癸醇、2-甲基-1-癸醇或其任何组合。在实施方式中，二醇可以是，包括，或基本上由如下组成：乙二醇、丙二醇、或其任何组合组成；可替换地，乙二醇；或可替换地，丙二醇。在实施方式中，多醇可以是，包括，或基本上由丙三醇。
通常，可被用于淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系的方法的胺可以是，包括，或基本上由任何胺组成。如此处应用的，术语“胺”包含一元胺、二元胺和多元胺。在某些实施方式中，胺可以是，包括，或基本上由如下组成：脂肪族胺、芳香族胺或其任何组合；可替换地，脂肪族胺；可替换地，芳香族胺。可通过沸点、分子量或通过它的不能与烯烃和/或三聚体产物组成共沸物的能力选择胺。在本发明的某些实施方式中，胺可具有不同于反应器流出物中的三聚体产物的沸点。在非限制性实施方式中，胺可以是，包括，或基本上由如下组成：C2至C40胺；可替换地，C4至C30胺；或可替换地，C4至C20胺。
在方面中，可被用于淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系的方法的胺可以是，包括，或基本上由脂肪族胺、芳香族胺、或其任何组合组成；可替换地，脂肪族胺；或可替换地，芳香族胺。在实施方式中，胺(脂肪族或芳香族)可以是环状的或非环状的；可替换地，环状的；或可替换地，非环状的。在实施方式中，胺(脂肪族或芳香族，环状的或非环状的)可以是，包括，或基本上由单烃基胺、二烃基胺、三烃基胺或其任何组合组成；可替换地，单烃基胺、二烃基胺或其任何组合；可替换地，单烃基胺；可替换地，二烃基胺；或可替换地，三烃基胺。通常在本公开内公开烃基(例如，作为用于具有式-O2CR2c的一元羧酸的R2c的选择，和/或作为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14的选择，等其他位置)。可将这些烃基无限制地用作可用于进一步描述一元烃基胺、二烃基胺和/或三烃基胺的烃基，所述胺可用于淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系的方法。
在实施方式中，可被用于淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系的方法的脂肪族胺可以是，包括，或基本上由如下组成：乙胺、异丙基胺、环己胺、二乙胺、二异丙基胺、二丁胺、二环己基胺、吡咯烷、哌啶、三乙胺、三异丙基胺、三丁基胺、或其任何组合；可替换地，乙胺、异丙基胺、环己胺、或其任何组合；可替换地，二乙胺、二异丙基胺、二丁胺、二环己基胺、吡咯烷、哌啶、或其任何组合；可替换地，二乙胺、二异丙基胺、二丁胺、二环己基胺、或其任何组合；可替换地，三乙胺、三异丙基胺、三丁基胺、或其任何组合；可替换地，乙胺；可替换地，异丙基胺；可替换地，环己胺；可替换地，二乙胺；可替换地，二异丙基胺；可替换地，二丁胺；可替换地，二环己基胺；可替换地，吡咯烷；可替换地，哌啶；可替换地，三乙胺；可替换地，三异丙基胺；可替换地，三丁基胺；可替换地，吡咯烷；可替换地，哌啶；或可替换地，吗啉。在实施方式中，可被用于淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系的方法的芳香族胺可以是，包括，或基本上由如下组成：苯胺、甲苯胺、二甲苯胺、苄胺、萘胺、二苯胺、二甲苯胺、二苄基胺、二(三甲基硅烷基)胺、吡啶、二甲基吡啶、咪唑、二氢吲哚、吲哚、喹啉、吡咯、吡唑、2,5-二甲基吡咯、3,4-二甲基吡咯、3,4-二氯吡咯、2,3,4,5-四氯吡咯、或其任何组合；可替换地，苯胺、甲苯胺、二甲苯胺、苄胺、萘胺、或其任何组合；可替换地，二苯胺、二甲苯胺、二苄基胺、二(三甲基硅烷基)胺、或其任何组合；可替换地，吡啶、二甲基吡啶、咪唑、二氢吲哚、吲哚、喹啉、吡唑、吡咯、2,5-二甲基吡咯、3,4-二甲基吡咯、3,4-二氯吡咯、2,3,4,5-四氯吡咯、或其任何组合；可替换地，吡啶、二甲基吡啶、咪唑、二氢吲哚、吲哚、喹啉、吡咯、或其任何组合；可替换地，苯胺；可替换地，甲苯胺；可替换地，二甲苯胺；可替换地，苄胺；可替换地，萘胺；可替换地，二苯胺；可替换地，二甲苯胺；可替换地，二苄基胺；可替换地，二(三甲基硅烷基)胺；可替换地，吡啶；可替换地，二甲基吡啶；可替换地，咪唑；可替换地，二氢吲哚；可替换地，吲哚；可替换地，喹啉；可替换地，吡咯；可替换地，吡唑；可替换地，2,5-二甲基吡咯；可替换地，3,4-二甲基吡咯；可替换地，3,4-二氯吡咯；或可替换地，2,3,4,5-四氯吡咯。
可将三聚体产物与包括有机介质、三聚化产物(包括三聚体、非-三聚体产物、聚合物和有机介质)的反应器流出物分离，且通过任何方便的方法淬灭、灭活和/或抑制催化剂体系。在非限制性实施方式中，可利用应用一个或更多蒸馏塔的蒸馏。美国专利No.5,750,816、美国专利No.7157612、美国专利No.7,476,775、发表的美国专利申请No.2004/0236163A1和发表的美国专利申请2010-0113851提供可用于将三聚体与反应器流出物分离的方法。美国专利No.5,750,816、美国专利No.7157612、美国专利No.7,476,775、发表的美国专利申请No.2004/0236163 A1和发表的美国专利申请2010-0113851全部内容包括在此以供参考。
在方面中，本公开提供用于制备羧酸铬组合物的合成方法。在方面中，公开的合成方法排除对醋酸铬或其他羧酸盐络合物与羧酸的反应的要求。具体地，本公开包含到达期望的羧酸铬组合物的合成路线，其中将第1族或第2族羧酸盐和铬前体合并在溶剂中。在方面中，但是不作为限制，根据等式1，本公开的方法可用于产生羧酸铬(III)。
在实施方式中，这个方法可产生副产物(例如，如等式1中示出的氯化钠)，可将其与期望的羧酸铬分离(例如，如等式1示出的羧酸铬(III))。
在方面中，本公开提供羧酸铬组合物。在实施方式中，羧酸铬组合物可以是，包括，或基本上由，产生此处描述的羧酸铬组合物的任何方法的产物组成。在另一个实施方式中，可将羧酸铬组合物描述成具有具体的光谱学特征。在某些实施方式中，羧酸铬组合物可具有具体的红外光谱特征。在其他实施方式中，羧酸铬组合物可具有具体的高能X-射线衍射光谱特征。在还有的其他实施方式中，羧酸铬组合物可具有比得上铬金属羧酸盐的理论模型的计算的高能X-射线衍射光谱的高能X-射线衍射光谱。
在方面中，本公开描述用于制备羧酸铬组合物的方法，其包括：接触1)铬前体，2)第1族或第2族金属羧酸盐，和3)溶剂，以便形成羧酸铬。在实施方式中，可在能够形成羧酸铬的条件下形成羧酸铬。在某些实施方式中，可在具体的接触条件下接触铬、第1族或第2族金属羧酸盐和溶剂。在某些实施方式中，可形成包括羧酸铬的溶液。通常，铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、溶剂、接触的步骤、接触条件、和能够形成羧酸铬的条件、等制备羧酸铬的方法的其他特征(例如，分离和/或纯化步骤或方法，等)是产生羧酸铬组合物的独立元素。此处描述的铬前体、此处描述的第1族或第2族金属羧酸盐、此处描述的溶剂、此处描述的接触的步骤、此处描述的接触条件、此处描述的能够形成羧酸铬的条件、和此处描述的制备羧酸铬的方法的其他特征(例如，分离和/或纯化步骤或方法，等)的任何此处描述的方面和/或实施方式可用于进一步描述产生羧酸铬组合物的方法。
在非限制性方面中，羧酸铬(或羧酸铬组合物)可具有具体的性能。此处独立地描述这些性能和其可用于进一步描述通过用于制备羧酸铬组合物的方法产生的产物。
在方面中，本公开描述用于制备羧酸铬(III)组合物的方法，其包括：接触1)铬(III)前体，2)第1族或第2族金属羧酸盐，和3)溶剂，以便形成羧酸铬(III)。在实施方式中，可在能够形成羧酸铬(III)的条件下形成羧酸铬(III)。在某些实施方式中，可在具体的接触条件下接触铬(III)、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂。在某些实施方式中，可形成包括羧酸铬(III)的溶液。通常，铬(III)前体、第1族或第2族金属羧酸盐、溶剂、接触的步骤、接触条件、和能够形成羧酸铬(III)的条件、等制备羧酸铬(III)的方法的其他特征(例如，分离和/或纯化步骤或方法，等)是产生羧酸铬(III)组合物的独立元素。此处描述的铬(III)前体、此处描述的第1族或第2族金属羧酸盐、此处描述的溶剂、此处描述的接触的步骤、此处描述的接触条件、此处描述的能够形成羧酸铬(III)的条件、和此处描述的制备羧酸铬(III)的方法的其他特征(例如，分离和/或纯化步骤或方法，等)的任何方面或任何实施方式可用于进一步描述产生羧酸铬(III)组合物的方法。
在非限制性方面中，羧酸铬(III)(或羧酸铬(III)组合物)可具有具体的性能。此处独立地描述这些性能和其可用于进一步描述通过用于制备羧酸铬(III)组合物的方法产生的产物。
根据本公开的方面，用于制造羧酸铬组合物的方法利用铬前体。通常，铬前体包括过渡金属络合物，其可以是中性的、阳离子的或阴离子的。当铬络合物是中性的时，铬络合物是过渡金属前体。当铬络合物是阳离子的时，铬络合物包括适当数目的铬络合物和阴离子种类，以便提供中性铬前体。当铬络合物是阴离子的时，铬络合物包括适当数目的铬络合物和阳离子种类，以便提供中性铬前体。
最低限度地，铬前体和/或铬络合物包括铬。在实施方式中，铬前体和/或铬络合物包括，基本上由，或由铬和阴离子配体组成。在另一个实施方式中，铬前体和/或铬络合物包括，基本上由，或由铬和中性配体组成。在实施方式中，铬前体可包括阴离子铬络合物；或可替换地，阳离子铬络合物。在其他实施方式中，铬前体可包括，基本上由，或由阳离子铬络合物和至少一种阴离子种类组成；可替换地，阴离子铬络合物和至少一种阳离子种类组成。在实施方式中，铬络合物(阴离子的、阳离子的、或中性的)可包括，基本上由，或由铬、阴离子配体、和中性配体组成。在某些实施方式中，铬络合物(阴离子的、阳离子的、或中性的)可包括，基本上由，或由至少一个铬和至少一个阴离子配体组成；可替换地，至少一个铬和至少一个中性配体；或可替换地，至少一个铬，至少一个阴离子配体，和至少一个中性配体。
在方面中，铬前体可具有化学式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2。通常，在铬前体内，铬可具有x的氧化态，y1代表具有x的氧化态的铬原子的数目，X代表具有y电荷的阴离子配体，x1代表具有y电荷的阴离子配体的数目，L代表中性配体，λ代表中性配体的数目，Cry1Xx1Lλ代表具有电荷m的铬络合物，q代表具有电荷m的铬络合物的数目，C代表具有电荷c的阳离子种类，m1代表具有电荷c的阳离子种类的数目，A代表具有电荷a的阴离子种类，和m2代表具有电荷a的阴离子种类的数目。此处独立地描述具有x的氧化态的铬原子，具有x的氧化态的铬原子的数目(y1)，具有y电荷的阴离子配体(X)，具有y电荷的阴离子配体的数目(x1)，中性配体(L)，中性配体的数目(λ)，铬络合物(Cry1Xx1Lλ)上的电荷(m)，铬络合物(Cry1Xx1Lλ)的数目(q)，具有电荷c的阳离子种类(C)，具有电荷c的阳离子种类的数目(m1)，具有电荷a的阴离子种类(A)，和具有电荷a的阴离子种类的数目(m2)。这些独立的描述可以任何兼容的方式和/或组合的方式用于进一步描述具有化学式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的前体。取决于x的具体的值(铬原子的氧化态)，y1(具有x的氧化态的铬原子的数目)，y(阴离子配体上的电荷，X)，x1(具有y电荷的阴离子配体的数目)，λ(中性配体的数目，L)，m(铬络合物Cry1Xx1Lλ上的电荷)，q(铬络合物Cry1Xx1Lλ的数目)，c(阳离子种类上的电荷，C)，m1(阳离子种类的数目，C)，a(阴离子种类上的电荷，A)，和m2(阴离子种类的数目，A)，可存在铬前体的其他可变的式。此处提供这些其他铬前体化学式且其可被用作此处描述的任何合适的方面和/或实施方式中的铬前体。
在实施方式中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2、[(CrLλ)m]q[Aa]m2、Cry1Xx1Lλ、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1、[(CrXxLλ)m]q[Aa]m2、CrXxLλ、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2、Cry1Xx1、[(CrXx)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXx)m]q[Cc]m1、[(CrXx)m]q[Aa]m2、或CrXx。在某些实施方式中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2、[(CrLλ)m]q[Aa]m2、Cry1Xx1Lλ、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1、[(CrXxLλ)m]q[Aa]m2、或CrXxLλ，可替换地，(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2、Cry1Xx1、[(CrXx)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXx)m]q[Cc]m1、[(CrXx)m]q[Aa]m2、或CrXx；可替换地，[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2、[(CrLλ)m]q[Aa]m2、或Cry1Xx1Lλ；可替换地，[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1、[(CrXxLλ)m]q[Aa]m2、或CrXxLλ；可替换地，(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2、Cry1Xx1，或可替换地，[(CrXx)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXx)m]q[Cc]m1、[(CrXx)m]q[Aa]m2、或CrXx。在其他实施方式中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2、[(CrLλ)m]q[Aa]m2、Cry1Xx1Lλ、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2、或Cry1Xx1；或可替换地，[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1、[(CrXxLλ)m]q[Aa]m2、CrXxLλ、[(CrXx)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXx)m]q[Cc]m1、[(CrXx)m]q[Aa]m2、或CrXx。在还有的其他实施方式中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2；可替换地，[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1；可替换地，[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2；可替换地，[(CrLλ)m]q[Aa]m2；可替换地，Cry1Xx1Lλ；可替换地，[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2；可替换地，[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1；可替换地，[(CrXxLλ)m]q[Aa]m2；可替换地，CrXxLλ；可替换地，[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2；可替换地，[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1；可替换地，[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2；可替换地，Cry1Xx1；可替换地，[(CrXx)m]q[Cc]m1[Aa]m2；可替换地，[(CrXx)m]q[Cc]m1；可替换地，[(CrXx)m]q[Aa]m2；可替换地，CrXx。
通常，铬前体的铬氧化态，n可具有铬可具有的任何阳性氧化态。在方面中，铬前体的铬可具有从1至6的氧化态。在某些实施方式中，铬前体的铬可具有2或3的氧化态；可替换地，2；或可替换地，3。应该注意，可将铬氧化态命名为跟随铬名称的插入语内的罗马数字(例如，可通过铬(III)命名具有3的氧化态的铬)。在某些非限制性实施方式中，铬前体的铬可包括，基本上由，或由铬(II)或铬(III)组成；可替换地，铬(II)；或可替换地，铬(III)。
铬前体(或铬络合物)中的铬原子的数目，y1是铬原子的氧化态、阴离子配体的电荷、阴离子配体的数目、阴离子配体的电荷，和铬络合物上的电荷的函数。通常，铬前体(或铬络合物)中的铬原子的数目，y1可以是范围为从1至3的整数；可替换地，1；可替换地，2；或可替换地，3。
当铬前体的铬络合物是阴离子的或阳离子的时(例如，具有此处描述的式，[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2、[(CrLλ)m]q[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1、[(CrXxLλ)m]q[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2、[(CrXx)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXx)m]q[Cc]m1、和/或[(CrXx)m]q[Aa]m2等，其中m≠0)，可通过等式m＝(y*x1)+(x*y1)关联具有氧化态x的铬原子的数目(y1)、具有电荷y的阴离子配体(A)的数目，和阴离子或阳离子铬络合物上的电荷。当铬前体的铬络合物是中性的时(例如，具有此处描述的式，Cry1Xx1Lλ、CrXxLλ、Cry1Xx1、和/或CrXx，等，其中，m＝0)，可通过等式x*y1＝|y*x1|关联具有氧化态x的铬原子的数目(y1)和具有电荷y的阴离子配体(A)的数目。在某些实施方式中，当铬前体的铬络合物是中性的时(例如，具有此处描述的式，Cry1Xx1Lλ、CrXxLλ、Cry1Xx1、和/或CrXx，等，其中，m＝0)，铬原子的数目，y1可通过关系，即，y1＝|y|除以x和|y|的最大公约数与铬氧化态(x)和阴离子配体(A)电荷(y)相关。
在方面中，每一个阴离子配体，X独立地可以是卤基、硝酸根、亚硝酸根、硫酸根、亚硫酸根、重硫酸根、磷酸根、氯酸根、氰基、氰酸根、硫氰酸根或异硫氰酸根。在实施方式中，每一个阴离子配体独立地可以是卤基、硝酸根、硫酸根、磷酸根；或可替换地，卤基、或硝酸根；在某些实施方式中，阴离子配体X可以是卤基；可替换地，硝酸根；可替换地，亚硝酸根；可替换地，硫酸根；可替换地，亚硫酸根；可替换地，重硫酸根；可替换地，磷酸根；可替换地，氯酸根；可替换地，氰基；可替换地，氰酸根；可替换地，硫氰酸根；或可替换地，异硫氰酸根。在实施方式中，每一个卤基独立地可以是氟化物、氯化物、溴化物或碘化物；可替换地，氟化物；可替换地，氯化物；可替换地，溴化物；或可替换地，碘化物。在实施方式中，每一个卤酸盐独立地可以是氟酸盐、氯酸根、溴酸盐或碘酸盐；可替换地，氟酸盐；可替换地，氯酸根；可替换地，溴酸盐；或可替换地，碘酸盐。在进一步的实施方式中，铬前体可包括这些配体的任何组合。在某些实施方式中，每一个阴离子配体独立地可以是一元阴离子配体。
通常，当铬前体(一般的或特殊的)包括至少一种阴离子配体时，每一个阴离子配体X的电荷y独立地可以是范围为从-1至-3的整数。在实施方式中，每一个阴离子配体上的电荷y独立地可以是-1或-2；可替换地，-1；可替换地，-2；或可替换地，-3。在实施方式中，每一个阴离子配体X可以是具有-1的电荷y的一元配体。通常，显然可通过阴离子配体的特性看出阴离子配体X的电荷。例如，卤基、硝酸根、亚硝酸根、重硫酸根、卤酸盐、氰基、氰酸根、硫氰酸根和异硫氰酸根具有-1的电荷y，硫酸根和亚硫酸根具有-2的电荷y，和磷酸根具有-3的电荷y。
铬前体(或铬络合物)中的阴离子配体的数目是铬原子的数目、铬原子的氧化态、阴离子配体的电荷y和铬络合物上的电荷的函数。通常，铬前体(或铬络合物)中的阴离子配体的数目，x1可以是从0至7的整数；可替换地，从0至6；可替换地，从0至5；可替换地，从0至4；可替换地，从0至3；可替换地，从1至7；可替换地，从1至6；可替换地，从1至5；可替换地，从1至4；可替换地，从1至3；可替换地，从2至5；可替换地，从2至4；可替换地，从2至3；或可替换地，从3至7。在某些实施方式中，铬前体(或铬络合物)中的阴离子配体的数目，x1可以是0；可替换地，1；可替换地，2；可替换地，3；可替换地，4；或可替换地，5；可替换地，6；或可替换地，7。
当铬前体的铬络合物是阴离子的或阳离子的时(例如，具有式，[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2、[(CrLλ)m]q[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1、[(CrXxLλ)m]q[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2、[(CrXx)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXx)m]q[Cc]m1、和/或[(CrXx)m]q[Aa]m2等，其中m≠0)，可通过等式m＝(y*x1)+(x*y1)关联具有氧化态x的铬原子的数目(y1)、具有电荷y的阴离子配体(A)的数目，和阴离子或阳离子铬络合物上的电荷。当铬前体的铬络合物是中性的时(例如，具有式，Cry1Xx1Lλ、CrXxLλ、Cry1Xx1和/或CrXx，等，其中，m＝0)，可通过等式x*y1＝|y*x1|关联具有氧化态x的铬原子的数目(y1)和具有电荷y的阴离子配体(X)的数目。在某些实施方式中，当铬前体的铬络合物是中性的时(例如，具有式，Cry1Xx1Lλ、CrXxLλ、Cry1Xx1和/或CrXx，等，其中，m＝0)，阴离子配体的数目，x1可通过关系，即，x1＝x除以x和|y|的做大公约数与铬氧化态(x)和阴离子配体(A)电荷(y)相关。
在方面中，当铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：可形成稳定的或可隔离的铬络合物的任何中性配体；或可替换地，可形成稳定的或可隔离的铬络合物的中性配体的任何组合。适当的中性配体包含可与铬原子配合的至少一个配合原子的Σ-供体化合物。在实施方式中，中性配体的配合原子可包含，但不限于，氧、氮、硫、磷、或其任何组合；可替换地，氧、氮、硫、或其任何组合；可替换地，氧、氮、或其任何组合；可替换地，氧、硫或其任何组合；可替换地，氧；可替换地，氮；可替换地，硫；可替换地，磷。除非另外特别说明，配合化合物不可被取代或可被取代。此处独立地描述取代基和其可无限制地用于描述可用于此处描述的任何铬前体和/或铬络合物的取代的中性配体。
在方面中，每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：非环状杂原子化合物、或杂环化合物；可替换地，非环状杂原子化合物；或可替换地，杂环化合物。在实施方式中，每一个中性配体(环状或非环状的)独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：脂肪族杂原子化合物或杂芳烃；可替换地，脂肪族杂原子化合物；或可替换地，杂芳烃。此处描述用于每一个中性配体(环状或非环状的，和/或脂肪族或芳香族的)的适当的杂原子，且其可无限制地用于进一步描述可被用作中性配体的杂原子化合物。
在实施方式中，每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：脂肪族非环状杂环化合物、取代的脂肪族非环状杂环化合物、脂肪族杂环化合物、取代的脂肪族杂环化合物、杂芳烃、或取代的杂芳烃。在某些实施方式中，每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：脂肪族非环状杂环化合物或取代的脂肪族非环状杂环化合物；可替换地，脂肪族杂环化合物或取代的脂肪族杂环化合物；可替换地，杂芳烃或取代的杂芳烃。在其他实施方式中，每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：脂肪族非环状杂环化合物、脂肪族杂环化合物、或杂芳烃；可替换地，脂肪族非环状杂环化合物；可替换地，脂肪族杂环化合物；或可替换地，杂芳烃。在实施方式中，可被用作中性配体的任何脂肪族非环状杂环化合物(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由如下组成：C2-C60脂肪族非环状杂环化合物；可替换地，C2-C45脂肪族非环状杂环化合物；可替换地，C2-C30脂肪族非环状杂环化合物；或可替换地，C2-C20脂肪族非环状杂环化合物；可替换地，C2-C10脂肪族非环状杂环化合物；或可替换地，C2-C5脂肪族非环状杂环化合物。在实施方式中，可被用作中性配体的任何脂肪族杂环化合物(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由如下组成：C3-C60脂肪族杂环化合物；可替换地，C3-C45脂肪族杂环化合物；可替换地，C3-C30脂肪族杂环化合物；可替换地，C3-C20脂肪族杂环化合物；可替换地，C3-C15脂肪族杂环化合物；或可替换地，C3-C10脂肪族杂环化合物。在实施方式中，可被用作中性配体的任何杂芳烃化合物(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由C4-C60杂芳烃组成；可替换地，C4-C45杂芳烃组成；可替换地，C4-C30杂芳烃组成；可替换地C4-C20杂芳烃组成；可替换地，C4-C15杂芳烃组成；或可替换地，C4-C10杂芳烃组成。此处公开用于取代的配合化合物的取代基，且其可无限制地用于描述可被用作中性配体的取代的脂肪族非环状杂环化合物、取代的脂肪族杂环化合物、和/或取代的杂芳烃。
在实施方式中，每一个中性配体独立地可以是，但不限于，醚、硫醚、腈、胺、膦、亚磷酸根或其任何组合；可替换地，醚；可替换地，硫醚；可替换地，腈；可替换地，胺；可替换地，膦；或可替换地，亚磷酸根。在某些实施方式中，每一个中性配体独立地可以是，但不限于，非环状醚、取代的非环状醚、环状醚、取代的环状醚、非环状硫醚、取代的非环状硫醚、环状硫醚、取代的环状硫醚、脂肪族腈、取代的脂肪族腈、芳香族腈、取代的芳香族腈、非环状胺、取代的非环状胺、环状胺、取代的环状胺、非环状膦、取代的非环状膦、环状膦、取代的环状膦、非环状亚磷酸根、取代的非环状亚磷酸根、环状亚磷酸根、取代的亚磷酸根，或其任何组合；可替换地，非环状醚、取代的非环状醚、非环状硫醚、取代的非环状硫醚、脂肪族腈、取代的脂肪族腈、非环状胺、取代的非环状胺、非环状膦、取代的非环状膦、非环状亚磷酸根、取代的非环状亚磷酸根，或其任何组合；可替换地，环状醚、取代的环状醚、环状硫醚、取代的环状硫醚、环状胺、取代的环状胺、环状膦、取代的环状膦、环状亚磷酸根、取代的亚磷酸根，或其任何组合；可替换地，非环状醚、取代的非环状醚、环状醚、或取代的环状醚；可替换地，非环状硫醚、取代的非环状硫醚、环状硫醚、或取代的环状硫醚；可替换地，脂肪族腈、取代的脂肪族腈、芳香族腈、或取代的芳香族腈；可替换地，非环状胺、取代的非环状胺、环状胺、或取代的环状胺；可替换地，非环状膦、取代的非环状膦、环状膦、或取代的环状膦；或可替换地，非环状亚磷酸根、取代的非环状亚磷酸根、环状亚磷酸根、或取代的亚磷酸根。在其他实施方式中，每一个中性配体独立地可以是，但不限于，非环状醚、环状醚、非环状硫醚、环状硫醚、脂肪族腈、芳香族腈、非环状胺、环状胺、或其任何组合；可替换地，非环状醚或取代的非环状醚；可替换地，环状醚或取代的环状醚；可替换地，非环状硫醚或取代的非环状硫醚；可替换地，环状硫醚或取代的环状硫醚；可替换地，脂肪族腈或取代的脂肪族腈；可替换地，芳香族腈或取代的芳香族腈；可替换地，非环状胺或取代的非环状胺；可替换地，环状胺或取代的环状胺；可替换地，非环状膦或取代的非环状膦；可替换地，环状膦或取代的环状膦；可替换地，非环状亚磷酸根或取代的非环状亚磷酸根；可替换地，环状亚磷酸根或取代的亚磷酸根；可替换地，非环状醚；可替换地，环状醚；可替换地，非环状硫醚；可替换地，环状硫醚；可替换地，脂肪族腈；可替换地，芳香族腈；可替换地，非环状胺；可替换地，环状胺；可替换地，非环状膦；可替换地，环状膦；可替换地，非环状亚磷酸根；或可替换地，环状亚磷酸根。在实施方式中，环状醚(取代的或非取代的)、环状硫醚(取代的或非取代的)、环状胺(取代的或非取代的)、环状膦(取代的或非取代的)和/或环状亚磷酸根(取代的或非取代的)可以是脂肪族的或芳香族的；可替换地，脂肪族的；或可替换地，芳香族的。此处独立地公开取代基(也被称为非-氢取代基或非-氢取代基团)且其可无限制地用于进一步描述可被用作中性配体的取代的醚(非环状的、环状的、脂肪族的或芳香族的)、取代的硫醚(非环状的、环状的、脂肪族的或芳香族的)、取代的腈(非环状的、环状的、脂肪族的或芳香族的)、取代的胺(非环状的、环状的、脂肪族的或芳香族的)、取代的膦(非环状的、环状的、脂肪族的或芳香族的)和/或取代的亚磷酸根(非环状的、环状的、脂肪族的或芳香族的)。
在实施方式中，可被用作中性配体的腈可具有式R1C≡N。在实施方式中，可被用作中性配体的醚可具有式R2-O-R3。在实施方式中，可被用作中性配体的硫醚可具有式R4-S-R5。在实施方式中，可被用作中性配体的胺可具有式NR6R7R8、NHR6R7、或NH2R6；可替换地，NR6R7R8；可替换地，NHR6R7；或可替换地，NH2R6。在实施方式中，可被用作中性配体的膦可具有式PR9R10R11、PHR9R10、或PH2R9；可替换地，PR9R10R11；可替换地，PHR9R10；或可替换地，PH2R9。在实施方式中，可被用作配合化合物的亚磷酸根可具有式P(OR12)(OR13)(OR14)或PH(O)(OR12)(OR13)；可替换地，P(OR12)(OR13)(OR14)；可替换地，PH(O)(OR12)(OR13)。在实施方式中，每一个R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、或R14独立地可以是C1-C20有机基团；可替换地，C1-C10有机基团；或可替换地，C1-C20有机基团。在某些实施方式中，每一个R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、或R14独立地可以是C1-C20烃基或C1-C20取代的烃基；可替换地，C1-C20烃基；或可替换地，C1-C20取代的烃基。在其他实施方式中，每一个R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、或R14独立地可以是C1-C10烃基或C1-C10取代的烃基；可替换地，C1-C10烃基；或可替换地，C1-C10取代的烃基。在还有的其他实施方式中，每一个R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14独立地可以是C1-C5烃基或C1-C5取代的烃基；可替换地，C1-C5烃基；或可替换地，C1-C5取代的烃基。
应该注意，如关于此处描述的环状醚、硫醚、胺、膦和亚磷酸根，可联结具有式R2-O-R3的醚的R2和R3，具有式R4-S-R5的硫醚的R4和R5，具有式NR6R7R8或NHR6R7的胺的R6、R7和R8的任何两个，具有式PR9R10R11、或PHR9R10的膦的R9、R10和R11的任何两个，和/或具有式P(OR12)(OR13)(OR14)或PH(O)(OR12)(OR13)的亚磷酸根的R12、R13和R14的任何两个，以便形成含有醚氧原子、硫醚硫原子、胺氮原子、膦磷原子或亚磷酸根磷原子的环，从而分别地形成环状醚、环状硫醚、环状胺、环状膦或环状亚磷酸根。
在实施方式中，每一个R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、或R14独立地可以是烷基、取代的烷基、环烷基、取代的环烷基、芳基、取代的芳基、芳烷基、或取代的芳烷基；可替换地，烷基或取代的烷基；可替换地，环烷基或取代的环烷基；可替换地，芳基或取代的芳基；可替换地，芳烷基或取代的芳烷基；可替换地，烷基、环烷基、芳基、或芳烷基；可替换地，烷基；可替换地，取代的烷基；可替换地，环烷基；可替换地，取代的环烷基；可替换地，芳基；可替换地，取代的芳基；可替换地，芳烷基；或可替换地，取代的芳烷基。通常，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14的烷基、取代的烷基、环烷基、取代的环烷基、芳基、取代的芳基、芳烷基、或取代的芳烷基可与它们的成员的有机基团或烃基具有相同的碳原子数目。
在实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的烷基(取代的或非取代的)可以是C1-C20烷基(取代的或非取代的)；可替换地，C1-C10烷基(取代的或非取代的)；或可替换地，C1-C5烷基(取代的或非取代的)。在某些实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的每一个烷基独立地可以是甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、或十九烷基；或可替换地，甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、或癸基。在其他实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、和/或R14的每一个烷基独立地可以是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基或新戊基；可替换地，甲基、乙基、异丙基、叔丁基或新戊基；可替换地，甲基；可替换地，乙基；可替换地，正丙基；可替换地，异丙基；可替换地，叔丁基；或可替换地，新戊基。在实施方式中，取代的烷基的每一个取代基独立地可以是卤基或氢羧基基团；可替换地，卤基；或可替换地，氢羧基基团。
在实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、和/或R14的环烷基(取代的或非取代的)可以是C4-C20环烷基(取代的或非取代的)；可替换地，C4-C15环烷基(取代的或非取代的)；或可替换地，C4-C10环烷基(取代的或非取代的)。在某些实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的每一个基团可以是环丁基、取代的环丁基、环戊基、取代的环戊基、环己基、取代的环己基、环庚基、取代的环庚基、环辛基或取代的环辛基；可替换地，环戊基、取代的环戊基、环己基、或取代的环己基。在其他实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的每一个基团可以是环丁基或取代的环丁基；可替换地，环戊基或取代的环戊基；可替换地，环己基或取代的环己基；可替换地，环庚基或取代的环庚基；或可替换地，环辛基或取代的环辛基；可替换地，环戊基；可替换地，取代的环戊基；可替换地，环己基；或可替换地，取代的环己基。在实施方式中，取代的环烷基的每一个取代基独立地可以是卤基、烃基、或氢羧基基团；可替换地，卤基或烃基；可替换地，卤基或氢羧基基团；可替换地，烃基、或氢羧基基团；可替换地，卤基；可替换地，烃基；或可替换地，氢羧基基团。
在实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的芳基(取代的或非取代的)可以是C6-C20芳基(取代的或非取代的)；可替换地，C6-C15芳基(取代的或非取代的)；或可替换地，C6-C10芳基(取代的或非取代的)。在某些实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的每一个基团可以是苯基、取代的苯基、萘基或取代的萘基；可替换地，苯基或取代的苯基；可替换地，萘基或取代的萘基；可替换地，苯基或萘基；可替换地，取代的苯基或取代的萘基。在实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的每一个取代的苯基可以是2-取代的苯基、3-取代的苯基、4-取代的苯基、2,4-二取代的苯基、2,6-二取代的苯基、3,5-二取代的苯基或2,4,6-三取代的苯基。在其他实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的每一个取代的苯基可以是2-取代的苯基、4-取代的苯基、2,4-二取代的苯基、或2,6-二取代的苯基；可替换地，3-取代的苯基、或3,5-二取代的苯基；可替换地，2-取代的苯基、或4-取代的苯基；可替换地，2,4-二取代的苯基、或2,6-二取代的苯基；可替换地，2-取代的苯基；可替换地，3-取代的苯基；可替换地，4-取代的苯基；可替换地，2,4-二取代的苯基；可替换地，2,6-二取代的苯基；可替换地，3,5-二取代的苯基；或可替换地，2,4,6-三取代的苯基。在实施方式中，取代的环烷基的每一个取代基独立地可以是卤基、烃基或氢羧基基团；可替换地，卤基或烃基；可替换地，卤基或氢羧基基团；可替换地，烃基、或氢羧基基团；可替换地，卤基；可替换地，烃基；或可替换地，氢羧基基团。
在某些实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的芳烷基(取代的或非取代的)可以是C7-C20芳烷基(取代的或非取代的)；可替换地，C7-C15芳烷基(取代的或非取代的)；或可替换地，C7-C10芳烷基(取代的或非取代的)。在某些实施方式中，可被用作R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14的每一个基团可以是苄基或取代的苄基；可替换地；苄基；或可替换地取代的苄基。在实施方式中，取代的环烷基的每一个取代基独立地可以是卤基、烃基、或氢羧基基团；可替换地，卤基或烃基；可替换地，卤基或氢羧基基团；可替换地，烃基、或氢羧基基团；可替换地，卤基；可替换地，烃基；或可替换地，氢羧基基团。
此处独立地公开卤基、烃基或氢羧基基团取代基(也被称为非-氢取代基或非-氢取代基团)。这些取代基可无限制地用于进一步描述此处描述的任何取代的R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和/或R14。
在实施方式中，可被用作此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)中性配体的每一个醚和/或非环状醚(取代的或非取代的)独立地可以是，包括，或基本上由C2-C40醚和/或非环状醚组成；可替换地，C2-C30醚和/或非环状醚组成；可替换地，C2-C20醚和/或非环状醚组成；可替换地，C2-C15醚和/或非环状醚组成；或可替换地，C2-C10醚和/或非环状醚组成。在实施方式中，可被用作此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)中性配体的每一个环状醚(取代的或非取代的，和/或脂肪族的或芳香族的)独立地可以是，包括，或基本上由C3-C40环状醚组成；可替换地，C4-C30环状醚组成；可替换地，C4-C20环状醚组成；可替换地，C4-C15环状醚组成；或可替换地，C4-C10环状醚组成。
在本公开的方面中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由二烃基醚或取代的二烃基醚；或可替换地，二烃基醚组成。通常在本公开内公开烃基(取代的或非取代的)(例如，作为用于具有式-O2CR2c的一元羧酸的R2c的选择，和/或作为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14的选择，等其他位置)。这些烃基(取代的或非取代的)可被无限制地用作可被用作中性配体的二烃基醚(取代的或非取代的)的烃基。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由二甲基醚、二乙基醚、二丙基醚、二丁基醚、甲基乙基醚、甲基丙基醚、甲基丁基醚或其任何组合组成；可替换地，二甲基醚；可替换地，二乙基醚；可替换地，二丙基醚；可替换地，二丁基醚；可替换地，甲基乙基醚；可替换地，甲基丙基醚；或可替换地，甲基丁基醚。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由二苯醚、取代的二苯醚、二甲苯醚、取代的二甲苯醚、或其任何组合组成；可替换地，二苯醚、二甲苯醚、或其任何组合组成。在实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由二苯醚；可替换地，取代的二苯醚；可替换地，二甲苯醚；或可替换地，取代的二甲苯醚。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由四氢呋喃、取代的四氢呋喃、2,3-二氢呋喃、取代的2,3-二氢呋喃、2,5-二氢呋喃、取代的2,5-二氢呋喃、或其任何组合组成；可替换地，四氢呋喃、2,3-二氢呋喃、2,5-二氢呋喃、或其任何组合组成；可替换地，四氢呋喃；可替换地，取代的四氢呋喃；可替换地，2,3-二氢呋喃；可替换地，取代的2,3-二氢呋喃；可替换地，2,5-二氢呋喃；或可替换地，取代的2,5-二氢呋喃。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由四氢呋喃、2-取代的四氢呋喃、3-取代的四氢呋喃、或其任何组合组成；可替换地，四氢呋喃；可替换地，2-取代的四氢呋喃；或可替换地，3-取代的四氢呋喃。在进一步的非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由四氢呋喃、2-烷基取代的四氢呋喃、3-烷基取代的四氢呋喃，或其任何组合组成；可替换地，四氢呋喃；可替换地，2-烷基取代的四氢呋喃；或可替换地，3-烷基取代的四氢呋喃。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由呋喃、取代的呋喃、苯并呋喃、取代的苯并呋喃、异苯并呋喃、取代的异苯并呋喃、二苯并呋喃、取代的二苯并呋喃或其任何组合。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、二苯并呋喃或其任何组合组成；可替换地，呋喃；可替换地，取代的呋喃；可替换地，苯并呋喃；可替换地，取代的苯并呋喃；可替换地，异苯并呋喃；可替换地，取代的异苯并呋喃；可替换地，二苯并呋喃；可替换地，取代的二苯并呋喃。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：四氢呋喃、取代的四氢呋喃、四氢吡喃、取代的四氢吡喃、3,4-二氢-2H-吡喃、取代的3,4-二氢-2H-吡喃、3,6-二氢-2H-吡喃、取代的3,6-二氢-2H-吡喃、2H-吡喃、取代的2H-吡喃、4H-吡喃、取代的4H-吡喃、1,3-二氧杂环己烷、取代的1,3-二氧杂环己烷、1,4-二氧杂环己烷、取代的1,4-二氧杂环己烷、吗啉、取代的吗啉、N-取代的吗啉、取代的N-取代的吗啉、或其任何组合；可替换地，四氢呋喃、四氢吡喃、3,4-二氢-2H-吡喃、3,6-二氢-2H-吡喃、2H-吡喃、4H-吡喃、1,3-二氧杂环己烷、1,4-二氧杂环己烷、吗啉、N-取代的吗啉或其任何组合。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：四氢呋喃、四氢吡喃、1,3-二氧杂环己烷、1,4-二氧杂环己烷、或其任何组合。在进一步的非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：四氢吡喃；可替换地，取代的四氢吡喃；可替换地，3,4-二氢-2H-吡喃；可替换地，取代的3,4-二氢-2H-吡喃；可替换地，3,6-二氢-2H-吡喃；可替换地，取代的3,6-二氢-2H-吡喃；可替换地，2H-吡喃；可替换地，取代的2H-吡喃；可替换地，4H-吡喃；可替换地，取代的4H-吡喃；可替换地，1,3-二氧杂环己烷；可替换地，取代的1,3-二氧杂环己烷；可替换地，1,4-二氧杂环己烷；可替换地，取代的1,4-二氧杂环己烷；可替换地，吗啉；可替换地，取代的吗啉；可替换地，N-取代的吗啉；或可替换地，取代的N-取代的吗啉。
此处独立地公开通用取代基(也被称为非-氢取代基或非-氢取代基团)。这些取代基可无限制地用于进一步描述可被用作中性配体的任何取代的醚、取代的非环状醚、取代的环状醚(脂肪族的或芳香族的)、取代的二苯醚、取代的二甲苯醚、取代的四氢呋喃、烷基取代的四氢呋喃、取代的呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、二苯并呋喃、取代的四氢吡喃、取代的3,4-二氢-2H-吡喃、取代的3,6-二氢-2H-吡喃、取代的4H-吡喃、取代的1,3-二氧杂环己烷、取代的1,4-二氧杂环己烷、取代的吗啉、N-烃基吗啉、和/或取代的N-烃基吗啉。
在实施方式中，可被用作中性配体的任何硫醚和/或非环状硫醚(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由C2-C40硫醚和/或非环状硫醚组成；可替换地，C2-C30硫醚和/或非环状硫醚组成；可替换地，C2-C20硫醚和/或非环状硫醚组成；可替换地，C2-C15硫醚和/或非环状硫醚组成；或可替换地，C2-C10硫醚和/或非环状硫醚组成。在实施方式中，可被用作中性配体的任何环状硫醚(取代的或非取代的，和/或脂肪族的或芳香族的)可以是，包括，或基本上由C3-C40环状硫醚组成；可替换地，C4-C30环状硫醚组成；可替换地，C4-C20环状硫醚组成；可替换地，C4-C15环状硫醚组成；或可替换地，C4-C10环状硫醚组成。
在本公开的方面中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由二烃基硫醚或取代的二烃基硫醚；或可替换地，二烃基硫醚组成。通常在本公开内公开烃基(取代的或非取代的)(例如，作为用于具有式-O2CR2c的一元羧酸的R2c的选择，和/或作为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14的选择，等其他位置)。这些烃基(取代的或非取代的)可被无限制地用作可被用作中性配体的二烃基硫醚(取代的或非取代的)的烃基。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由二甲基硫醚、二乙基硫醚、二丙基硫醚、二丁基硫醚、甲基乙基硫醚、甲基丙基硫醚、甲基丁基硫醚或其任何组合组成。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：二甲基硫醚；可替换地，二乙基硫醚；可替换地，二丙基硫醚；可替换地，二丁基硫醚；可替换地，甲基乙基硫醚；可替换地，甲基丙基硫醚；或可替换地，甲基丁基硫醚。在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：二苯基硫醚、取代的二苯基硫醚、二甲苯硫醚、取代的二甲苯硫醚、或其任何组合；可替换地，二苯基硫醚、二甲苯硫醚、或其任何组合。在实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：二苯基硫醚；可替换地，取代的二苯基硫醚；可替换地，二甲苯硫醚；或可替换地，取代的二甲苯硫醚。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由噻吩、取代的噻吩、苯并噻吩、取代的苯并噻吩或其任何组合组成。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由噻吩、苯并噻吩、或其任何组合；可替换地，噻吩；可替换地，取代的噻吩；可替换地，苯并噻吩；或可替换地，取代的苯并噻吩组成。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由四氢噻吩、取代的四氢噻吩、硫化环戊烷、取代的硫化环戊烷或其任何组合组成。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：四氢噻吩、硫化环戊烷或其任何组合；可替换地，四氢噻吩；可替换地，取代的四氢噻吩；可替换地，硫化环戊烷；或可替换地，取代的硫化环戊烷。
此处独立地公开通用取代基(也被称为非-氢取代基或非-氢取代基团)。这些取代基可无限制地用于进一步描述可被用作中性配体的任何取代的硫醚、取代的非环状硫醚、取代的环状硫醚、取代的二苯基硫醚、取代的二甲苯硫醚、取代的噻吩和/或取代的苯并噻吩。
在实施方式中，可被用作中性配体的任何腈(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由C2-C20脂肪族腈组成；可替换地，C2-C15脂肪族腈组成；可替换地，C2-C10脂肪族腈组成；或可替换地，C2-C5脂肪族腈组成。在实施方式中，可被用作中性配体的任何腈(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由C6-C20芳香族腈组成；可替换地，C6-C15芳香族腈组成；或可替换地，C6-C10芳香族腈组成。
在本公开的方面中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由烃基腈或取代的烃基腈；或可替换地，烃基腈组成。通常在本公开内公开烃基(取代的或非取代的)(例如，作为用于具有式-O2CR2c的一元羧酸的R2c的选择，和/或作为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14的选择，等其他位置)。这些烃基(取代的或非取代的)可被无限制地用作可被用作中性配体的烃基腈(取代的或非取代的)的烃基。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由乙腈、丙腈、丁腈或其任何组合组成。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由乙腈；可替换地，丙腈；可替换地，丁腈组成。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由苄腈、取代的苄腈、或其任何组合；可替换地，苄腈；或可替换地，取代的苄腈组成。在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苄腈、2-取代的苄腈、3-取代的苄腈、4-取代的苄腈、2,4-取代的苄腈、3,5-二取代的苄腈、2,4,6-三取代的苄腈或其任何组合；可替换地，2-取代的苄腈、4-取代的苄腈、2,4-取代的苄腈、2,4,6-三取代的苄腈或其任何组合组成；可替换地，2-取代的苄腈；可替换地，3-取代的苄腈；可替换地，4-取代的苄腈；可替换地，2,4-取代的苄腈；可替换地，3,5-二取代的苄腈；或可替换地，2,4,6-三取代的苄腈。在还有的其他实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苄腈、2-烷基苄腈、3-烷基苄腈、4-甲基苄腈、2,4-烷基苄腈、3,5-二烷基苄腈、2,4,6-三烷基苄腈或其任何组合组成；可替换地，2-烷基苄腈、4-烷基苄腈、2,4-烷基苄腈、2,4,6-三烷基苄腈、或其任何组合；可替换地，2-烷基苄腈；可替换地，3-烷基苄腈；可替换地，4-烷基苄腈；可替换地，2,4-烷基苄腈；可替换地，3,5-二烷基苄腈；可替换地，2,4,6-三烷基苄腈。
此处独立地公开通用取代基(也被称为非-氢取代基或非-氢取代基团)。这些取代基可无限制地用于进一步描述可被用作中性配体的任何取代的脂肪族腈、取代的芳香族腈、取代的苄腈和/或烷基取代的苄腈。
在实施方式中，可被用作中性配体的任何胺和/或非环状胺(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由C1-C60胺和/或非环状胺组成；可替换地，C1-C45胺和/或非环状胺组成；可替换地，C1-C30胺和/或非环状胺组成；可替换地，C1-C20胺和/或非环状胺组成；可替换地，C1-C15胺和/或非环状胺组成；或可替换地，C1-C10胺和/或非环状胺组成。在实施方式中，可被用作中性配体的任何环状胺(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由C3-C60环状胺组成；可替换地，C3-C45环状胺组成；可替换地，C3-C30环状胺组成；可替换地，C4-C20环状胺组成；或可替换地，C4-C15环状胺组成。
在本公开的方面中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：烃基胺、取代的烃基胺、二烃基胺、取代的二烃基胺、三烃基胺、取代的三烃基胺、或其任何组合；可替换地，烃基胺、二烃基胺、三烃基胺、或其任何组合；可替换地，烃基胺或取代的烃基胺；可替换地，二烃基胺或取代的二烃基胺；可替换地，三烃基胺或取代的三烃基胺；可替换地，烃基胺；可替换地，取代的烃基胺；可替换地，二烃基胺；可替换地，取代的二烃基胺；可替换地，三烃基胺；可替换地，取代的三烃基胺。通常在本公开内公开烃基(取代的或非取代的)(例如，作为用于具有式-O2CR2c的一元羧酸的R2c的选择，和/或作为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14的选择，等其他位置)。这些烃基(取代的或非取代的)可被无限制地用作可被用作中性配体的烃基胺(取代的或非取代的)、二烃基胺(取代的或非取代的)、三烃基胺(取代的或非取代的)的烃基。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：甲基胺、乙基胺、丙基胺、丁基胺、二甲基胺、二乙基胺、二丙基胺、二丁基胺、三甲基胺、三乙基胺、三丙基胺、三丁基胺或其任何组合。在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：甲基胺、乙基胺、丙基胺、丁基胺或其任何组合；可替换地，二甲基胺、二乙基胺、二丙基胺、二丁基胺、或其任何组合；可替换地，三甲基胺、三乙基胺、三丙基胺、三丁基胺，或其任何组合。在还有的另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：甲基胺；可替换地，乙基胺；可替换地，丙基胺；可替换地，丁基胺；可替换地，二甲基胺；可替换地，二乙基胺；可替换地，二丙基胺；可替换地，二丁基胺；可替换地，三甲基胺；可替换地，三乙基胺；可替换地，三丙基胺；可替换地，三丁基胺。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苯胺、取代的苯胺、N-烃基苯胺、取代的N-烃基苯胺、N,N-二烃基苯胺、取代的N,N-二烃基苯胺、二苯胺、二(取代的苯)胺、N-烃基二苯胺、N-烃基二(取代的苯)胺、三苯胺、取代的三苯胺、或其任何组合。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苯胺、取代的苯胺、N-烃基苯胺、取代的N-烃基苯胺、N,N-二烃基苯胺、取代的N,N-二烃基苯胺、或其任何组合；可替换地，二苯胺、二(取代的苯)胺、N-烃基二苯胺、N-烃基二(取代的苯)胺或其任何组合；或可替换地，三苯胺、取代的三苯胺、或其任何组合。在还有的另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苯胺；可替换地，取代的苯胺；可替换地，N-烃基苯胺；可替换地，取代的N-烃基苯胺；可替换地，N,N-二烃基苯胺；可替换地，取代的N,N-二烃基苯胺；可替换地，二苯胺；可替换地，二(取代的苯)胺；可替换地，N-烃基二苯胺；可替换地，N-烃基二(取代的苯)胺；可替换地，三苯胺；可替换地，取代的三苯胺。在某些非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苯胺、甲苯胺、甲苄胺、二苯胺、二甲苯胺、三苯胺、或其任何组合。在其他非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苯胺；可替换地，甲苯胺；可替换地，甲苄胺；可替换地，二苯胺；可替换地，二甲苯胺；可替换地，三苯胺。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由吡咯、取代的吡咯、吲哚、取代的吲哚、吡啶、取代的吡啶、喹啉、取代的喹啉、或其任何组合组成。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由吡咯、取代的吡咯、或其任何组合组成；可替换地，吲哚、取代的吲哚、或其任何组合组成；可替换地，吡啶、取代的吡啶、或其任何组合组成；可替换地，喹啉、取代的喹啉、或其任何组合组成；可替换地，吡咯、吲哚、吡啶、喹啉，或其任何组合组成。在还有的另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：吡咯；可替换地，取代的吡咯；可替换地，吲哚；可替换地，取代的吲哚；可替换地，吡啶；可替换地，取代的吡啶；可替换地，喹啉；或可替换地，取代的喹啉。
此处独立地公开通用取代基(也被称为非-氢取代基或非-氢取代基团)。这些取代基可无限制地用于进一步描述可被用作中性配体的任何取代的胺、取代的非环状胺、取代的环状胺、N-烃基苯胺(取代的或非取代的)、N,N-二烃基苯胺(取代的或非取代的)、取代的二苯胺、取代的三苯胺、取代的吡咯、取代的吲哚、取代的吡啶、和/或取代的喹啉。
在方面中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的中性配体独立地可以是，包括，或基本上由吡咯化合物组成。此处作为此处描述的催化剂体系的成分描述吡咯化合物。可将这些吡咯化合物无限制地用作此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的中性配体。
在实施方式中，可被用作中性配体的任何膦和/或非环状膦(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由C3-C60膦和/或非环状膦组成；可替换地，C3-C45膦和/或非环状膦组成；可替换地，C3-C30膦和/或非环状膦组成；可替换地，C3-C20膦和/或非环状膦组成；可替换地，C3-C10膦和/或非环状膦组成组成。在实施方式中，可被用作中性配体的任何环状膦(取代的或非取代的)可以是，包括，或基本上由C4-C60环状膦组成；可替换地，C4-C45环状膦组成；可替换地，C4-C30环状膦组成；可替换地，C4-C20环状膦组成；或可替换地，C4-C15环状膦组成。
在本公开的方面中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：烃基膦、取代的烃基膦、二烃基膦、取代的二烃基膦、三烃基膦、取代的三烃基膦、其任何组合；可替换地，烃基膦、二烃基膦、三烃基膦、其任何组合；可替换地，烃基膦或取代的烃基膦；可替换地，二烃基膦或取代的二烃基膦；可替换地，三烃基膦或取代的三烃基膦；可替换地，烃基膦；可替换地，取代的烃基膦；可替换地，二烃基膦；可替换地，取代的二烃基膦；可替换地，三烃基膦；或可替换地，取代的三烃基膦。通常在本公开内公开烃基(取代的或非取代的)(例如，作为用于具有式-O2CR2c的一元羧酸的R2c的选择，和/或作为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14的选择，等其他位置)。这些烃基(取代的或非取代的)可被无限制地用作可被用作中性配体的烃基膦(取代的或非取代的)、二烃基膦(取代的或非取代的)、三烃基膦(取代的或非取代的)的烃基。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由三甲基膦、三乙基膦、三丙基膦、三丁基膦或其任何组合组成。在另一个非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：三甲基膦、三乙基膦、三丙基膦、三丁基膦或其任何组合；可替换地，三甲基膦；可替换地，三乙基膦；可替换地，三丙基膦；可替换地，三丁基膦。
在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苯基膦、取代的苯基膦、二苯基膦、二(取代的苯基)膦、三苯基膦、三(取代的苯基)膦、或其任何组合；可替换地，苯基膦、取代的苯基膦、或其任何组合；可替换地，二苯基膦、二(取代的苯基)膦、或其任何组合；或可替换地，三苯基膦、三(取代的苯基)膦、或其任何组合。在非限制性的实施方式中，此处描述的任何铬络合物(一般的或特殊的)或铬前体(一般的或特殊的)的每一个中性配体独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：苯基膦；可替换地，取代的苯基膦；可替换地，二苯基膦；可替换地，二(取代的苯基)膦；可替换地，三苯基膦；可替换地，三(取代的苯基)膦。
一般取代基(也被称为非氢取代基或非氢取代基团)在本文中被独立地公开。这些取代基可非限制地用于进一步描述可用作中性配体的任意取代膦、取代非环膦、取代环膦(非环状或环状)、取代苯基膦、二(取代苯基)膦和/或三(取代苯基)膦。
在一些非限制性实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：苯基膦、甲苯基膦、二苯基膦、二甲苯基膦、三苯基膦、三甲苯基膦、甲基二苯基膦、二甲基苯基膦、乙基二苯基膦、二乙基苯基膦、或其任意组合。在其他非限制性实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：苯基膦；可选地，二苯基膦；可选地，三苯基膦；可选地，甲苯基膦；可选地，二甲苯基膦；可选地，三甲苯基膦；可选地，甲基二苯基膦；可选地，二甲基苯基膦；可选地，乙基二苯基膦；或可选地，二乙基苯基膦。
在实施方式中，可用作中性配体的任意亚膦酸酯和/或非环亚膦酸酯(取代或未取代)可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：C3-C60亚膦酸酯和/或非环亚膦酸酯；可选地，C3-C45亚膦酸酯和/或非环亚膦酸酯；可选地，C3-C30亚膦酸酯和/或非环亚膦酸酯；可选地，C3-C20亚膦酸酯和/或非环亚膦酸酯；或可选地，C3-C10亚膦酸酯和/或非环亚膦酸酯。在实施方式中，可用作中性配体的任意环亚膦酸酯(取代或未取代，和/或脂肪族或芳香族)可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：C3-C60环亚膦酸酯；可选地，C4-C45环亚膦酸酯；可选地，C4-C30环亚膦酸酯；可选地，C4-C20环亚膦酸酯；或可选地，C4-C15环亚膦酸酯。
根据本公开一方面，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：二烃基亚膦酸酯、取代二烃基亚膦酸酯、三烃基亚膦酸酯、取代三烃基亚膦酸酯、或其任意组合；可选地，二烃基亚膦酸酯、三烃基亚膦酸酯、或其任意组合；二烃基亚膦酸酯或取代二烃基亚膦酸酯；可选地，三烃基亚膦酸酯或取代三烃基亚膦酸酯；可选地，二烃基亚膦酸酯；可选地，取代二烃基亚膦酸酯；可选地，三烃基亚膦酸酯；或可选地，取代三烃基亚膦酸酯。烃基(取代或取代)在本公开中被概括地公开(例如，作为R2c的选择，用于具有式-O2CR2c的单羧酸基和/或作为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14的选择，以及其他位置)。本文所述(被具体地指明或含蓄地被本领域技术人员公认)的这些烃基可非限制地用作可用作中性配体的二烃基亚膦酸酯(取代或未取代)和/或三烃基亚膦酸酯(取代或未取代)的烃基。
在非限制性实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：三甲基亚膦酸酯、三乙基亚膦酸酯、三丙基亚膦酸酯、三丁基亚膦酸酯、甲基二苯基亚膦酸酯、二甲基苯基亚膦酸酯、乙基二苯基亚膦酸酯、二乙基苯基亚膦酸酯、二苯基亚膦酸酯、三苯基亚膦酸酯、二甲苯基亚膦酸酯、三甲苯基亚膦酸酯、或其任意组合。在另一非限制性实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：三甲基亚膦酸酯、三乙基亚膦酸酯、三丙基亚膦酸酯、三丁基亚膦酸酯、或其任意组合。
在非限制性实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：二苯基亚膦酸酯、二(取代苯基)亚膦酸酯、三苯基亚膦酸酯、三(取代苯基)亚膦酸酯、或其任意组合；可选地，二苯基亚膦酸酯、三苯基亚膦酸酯、或其任意组合。在其他非限制性实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：二苯基亚膦酸酯；可选地，二(取代苯基)亚膦酸酯；可选地，三苯基亚膦酸酯；或可选地，三(取代苯基)亚膦酸酯。
一般取代基(也被称为非氢取代基或非氢取代基团)在本文中被独立地公开。这些取代基可非限制地用于进一步描述可用作中性配体的任意取代亚膦酸酯、取代非环亚膦酸酯和/或取代环亚膦酸酯、二(取代苯基)亚膦酸酯和/或三(取代苯基)亚膦酸酯。
在另一非限制性实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：甲基二苯基亚膦酸酯、二甲基苯基亚膦酸酯、乙基二苯基亚膦酸酯、二乙基苯基亚膦酸酯、或其任意组合；可选地，二苯基亚膦酸酯、三苯基亚膦酸酯、二甲苯基亚膦酸酯、三甲苯基亚膦酸酯、或其任意组合；可选地，三苯基亚膦酸酯、三甲苯基亚膦酸酯、或其任意组合。在又一非限制性实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：二甲基苯基亚膦酸酯；可选地，乙基二苯基亚膦酸酯；可选地，二乙基苯基亚膦酸酯；可选地，二苯基亚膦酸酯；可选地，三苯基亚膦酸酯；可选地，二甲苯基亚膦酸酯；或可选地，三甲苯基亚膦酸酯。
根据本公开一方面，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：取代或未取代吖丁啶、氧杂环丁烷、环硫烷(thietane)、二氧杂环丁烷、二环硫烷、四氢吡咯、二氢吡咯、吡咯、吲哚、异吲哚、四氢呋喃、二氢呋喃、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、四氢噻吩、二氢噻吩、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、咪唑烷、吡唑、咪唑、唑烷、唑、异唑、噻唑烷、噻唑、异噻唑、苯并噻唑、二氧戊环、二硫戊环、三唑、二噻唑、哌啶、吡啶、四氢吡喃、二氢吡喃、吡喃、硫杂环戊烷、哌嗪、二嗪、嗪、噻嗪、二硫杂环戊烷、二烷、二英、三嗪、三嗪烷(triazinane)、三烷、庚因(oxepin)、吖庚因、噻庚因(thiepin)、二吖庚因、吗啉、喹啉、四氢醌、二环[3.3.1]四硅氧烷、或其任意组合；可选地，取代或未取代吖丁啶、氧杂环丁烷、环硫烷、二氧杂环丁烷、二环硫烷、四氢吡咯、四氢呋喃、四氢噻吩、咪唑烷、唑烷、唑、噻唑烷、噻唑、二氧戊环、二硫戊环、哌啶、四氢吡喃、吡喃、硫杂环戊烷、哌嗪、嗪、噻嗪、二硫杂环戊烷、二烷、二英、三嗪烷、三烷、吖庚因、噻庚因、二吖庚因、吗啉、1,2-噻唑、二环[3.3.1]四硅氧烷、或其任意组合；可选地，取代或未取代四氢吡咯、四氢呋喃、四氢噻吩、唑烷、噻唑烷、二氧戊环、二硫戊环、二噻唑、哌啶、四氢吡喃、吡喃、硫杂环戊烷、哌嗪、二硫杂环戊烷、二烷、二英、三烷、吗啉、或其任意组合；可选地，取代或未取代四氢呋喃、四氢噻吩、二氧戊环、二硫戊环、四氢吡喃、吡喃、硫杂环戊烷、二硫杂环戊烷、二烷、二英、三烷、或其任意组合；可选地，四氢呋喃、二氧戊环、四氢吡喃、二烷、三烷；或其任意组合；可选地，取代或未取代吡咯、呋喃、吡唑、咪唑、唑、异唑、噻唑、异噻唑、三唑、吡啶、二嗪、三嗪、喹啉、或其组合；可选地，取代或未取代吡咯、呋喃、咪唑、唑、噻唑、三唑、吡啶、二嗪、三嗪、或其组合；可选地，呋喃、唑、噻唑、三唑、吡啶、二嗪、三嗪、或其组合。
根据本公开一方面，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：吖丁啶、氧杂环丁烷、环硫烷、二氧杂环丁烷、二环硫烷、四氢吡咯、二氢吡咯、吡咯、吲哚、异吲哚、四氢呋喃、二氢呋喃、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、四氢噻吩、二氢噻吩、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、咪唑烷、吡唑、咪唑、唑烷、唑、异唑、噻唑烷、噻唑、异噻唑、苯并噻唑、二氧戊环、二硫戊环、三唑、二噻唑、哌啶、吡啶、四氢吡喃、二氢吡喃、吡喃、硫杂环戊烷、哌嗪、二嗪、嗪、噻嗪、二硫杂环戊烷、二烷、二英、三嗪、三嗪烷、三烷、庚因、吖庚因、噻庚因、二吖庚因、吗啉、喹啉、四氢醌、二环[3.3.1]四硅氧烷、或其任意组合；可选地，吖丁啶、氧杂环丁烷、环硫烷、二氧杂环丁烷、二环硫烷、四氢吡咯、四氢呋喃、四氢噻吩、咪唑烷、唑烷、唑、噻唑烷、噻唑、二氧戊环、二硫戊环、哌啶、四氢吡喃、吡喃、硫杂环戊烷、哌嗪、嗪、噻嗪、二硫杂环戊烷、二烷、二英、三嗪烷、三烷、吖庚因、噻庚因、二吖庚因、吗啉、1,2-噻唑、二环[3.3.1]四硅氧烷、或其任意组合；可选地，四氢吡咯、四氢呋喃、四氢噻吩、唑烷、噻唑烷、二氧戊环、二硫戊环、二噻唑、哌啶、四氢吡喃、吡喃、硫杂环戊烷、哌嗪、二硫杂环戊烷、二烷、二英、三烷、吗啉、或其任意组合；可选地，四氢噻吩、二氧戊环、二硫戊环、四氢吡喃、吡喃、硫杂环戊烷、二硫杂环戊烷、二烷、二英、三烷、或其任意组合；可选地，四氢呋喃、二氧戊环、四氢吡喃、二烷、三烷；或其任意组合；可选地，吡咯、呋喃、吡唑、咪唑、唑、异唑、噻唑、异噻唑、三唑、吡啶、二嗪、三嗪、喹啉、或其组合；可选地，吡咯、呋喃、咪唑、唑、噻唑、三唑、吡啶、二嗪、三嗪、或其组合；可选地，呋喃、唑、噻唑、三唑、吡啶、二嗪、三嗪、或其组合。
根据本公开一方面，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：取代或未取代吖丁啶、四氢吡咯、二氢吡咯、吡咯、吲哚、异吲哚、咪唑烷、吡唑、咪唑、唑烷、唑、异唑、噻唑烷、噻唑、异噻唑、三唑、苯并三唑、二噻唑、哌啶、吡啶、哌嗪、二嗪、嗪、噻嗪、三嗪、吖庚因、二吖庚因、吗啉、喹啉、四氢异喹啉、或其任意组合；可选地，取代或未取代四氢吡咯、吡咯、吲哚、异吲哚、咪唑烷、咪唑、唑烷、唑、噻唑烷、噻唑、哌啶、吡啶、哌嗪、二嗪、三嗪、吗啉、喹啉、四氢异喹啉、或其任意组合；可选地，取代或未取代四氢吡咯、吡咯、异吲哚、咪唑、唑烷、唑、噻唑烷、噻唑、哌啶、吡啶、哌嗪、二嗪、三嗪、吗啉、喹啉、或其任意组合；可选地，取代或未取代四氢吡咯、吡咯、咪唑、唑、噻唑、哌啶、吡啶、哌嗪、二嗪、三嗪、吗啉、喹啉、或其任意组合；可选地，取代或未取代四氢吡咯、吡咯、哌啶、哌嗪、吗啉、喹啉、或其任意组合；或可选地，取代或未取代咪唑、唑、噻唑、吡啶、二嗪、三嗪、或其任意组合。在一些实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：吖丁啶、四氢吡咯、二氢吡咯、吡咯、吲哚、异吲哚、咪唑烷、吡唑、咪唑、唑烷、唑、异唑、噻唑烷、噻唑、异噻唑、三唑、苯并三唑、二噻唑、哌啶、吡啶、哌嗪、二嗪、嗪、噻嗪、三嗪、吖庚因、二吖庚因、吗啉、喹啉、四氢异喹啉、或其任意组合；可选地，四氢吡咯、吡咯、吲哚、异吲哚、咪唑烷、咪唑、唑烷、唑、噻唑烷、噻唑、哌啶、吡啶、哌嗪、二嗪、三嗪、吗啉、喹啉、四氢异喹啉、或其任意组合；可选地，四氢吡咯、吡咯、异吲哚、咪唑、唑烷、唑、噻唑烷、噻唑、哌啶、吡啶、哌嗪、二嗪、三嗪、吗啉、喹啉、或其任意组合；可选地，四氢吡咯、吡咯、咪唑、唑、噻唑、哌啶、吡啶、哌嗪、二嗪、三嗪、吗啉、喹啉、或其任意组合；可选地，四氢吡咯、吡咯、哌啶、哌嗪、吗啉、喹啉、或其任意组合；或可选地，咪唑、唑、噻唑、吡啶、二嗪、三嗪、或其任意组合。
根据本公开一方面，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：取代或未取代氧杂环丁烷、二氧杂环丁烷、四氢呋喃、二氢呋喃、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、唑烷、唑、异唑、二氧戊环、四氢吡喃、二氢吡喃、吡喃、嗪、二烷、二英、三烷、庚因、吗啉、或二环[3.3.1]四硅氧烷、或其任意组合；可选地，取代或未取代氧杂环丁烷、二氧杂环丁烷、四氢呋喃、呋喃、异苯并呋喃、唑烷、唑、二氧戊环、四氢吡喃、吡喃、二烷、二英、三烷、吗啉、或其任意组合；可选地，取代或未取代四氢呋喃、唑、二氧戊环、四氢吡喃、二烷、二英、三烷、或其任意组合；或可选地，取代或未取代四氢呋喃、二氧戊环、四氢吡喃、二烷、三烷、或其任意组合。在一些实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：氧杂环丁烷、二氧杂环丁烷、四氢呋喃、二氢呋喃、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、唑烷、唑、异唑、二氧戊环、四氢吡喃、二氢吡喃、吡喃、嗪、二烷、二英、三烷、庚因、吗啉、或二环[3.3.1]四硅氧烷、或其任意组合；可选地，氧杂环丁烷、二氧杂环丁烷、四氢呋喃、呋喃、异苯并呋喃、唑烷、唑、二氧戊环、四氢吡喃、吡喃、二烷、二英、三烷、吗啉、或其任意组合；可选地，四氢呋喃、唑、二氧戊环、四氢吡喃、二烷、二英、三烷、或其任意组合；或可选地，四氢呋喃、二氧戊环、四氢吡喃、二烷、三烷或其任意组合。
根据本公开一方面，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：取代或未取代环硫烷、二环硫烷、四氢噻吩、二氢噻吩、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、噻唑烷、噻唑、异噻唑、二硫戊环、二噻唑、硫杂环戊烷、噻嗪、二硫杂环戊烷、噻庚因、或其任意组合；可选地，取代或未取代环硫烷、二环硫烷、四氢噻吩、噻吩、异苯并噻吩、噻唑烷、噻唑、二硫戊环、硫杂环戊烷、二硫杂环戊烷、或其任意组合；或可选地，取代或未取代四氢噻吩、二硫戊环、硫杂环戊烷、二硫杂环戊烷、或其任意组合。在一些实施方式中，各配位化合物独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：取代或未取代取代或未取代，环硫烷、二环硫烷、四氢噻吩、二氢噻吩、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、噻唑烷、噻唑、异噻唑、二硫戊环、二噻唑、硫杂环戊烷、噻嗪、二硫杂环戊烷、噻庚因、或其任意组合；可选地，环硫烷、二环硫烷、四氢噻吩、噻吩、异苯并噻吩、噻唑烷、噻唑、二硫戊环、硫杂环戊烷、二硫杂环戊烷、或其任意组合；或可选地，四氢噻吩、二硫戊环、硫杂环戊烷、二硫杂环戊烷、或其任意组合。
在一些实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：吖丁啶；可选地，氧杂环丁烷；可选地，环硫烷；可选地，二氧杂环丁烷；可选地，二环硫烷；可选地，四氢吡咯；可选地，二氢吡咯、可选地，吡咯；可选地，吲哚；可选地，异吲哚；可选地，四氢呋喃；可选地，二氢吡咯；可选地，呋喃；可选地，苯并呋喃；可选地，异苯并呋喃；可选地，四氢噻吩；可选地，二氢噻吩；可选地，噻吩；可选地，苯并噻吩；可选地，异苯并噻吩；可选地，咪唑烷；可选地，吡唑；可选地，咪唑；可选地，唑烷；可选地，唑；可选地，异唑；可选地，噻唑烷；可选地，噻唑；可选地，苯并噻唑；可选地，异噻唑；可选地，二氧戊环；可选地，二硫戊环；可选地，三唑；可选地，二噻唑；可选地，哌啶；可选地，吡啶；可选地，四氢吡喃；可选地，二氢吡喃；可选地，吡喃；可选地，硫杂环戊烷；可选地，哌嗪；可选地，二嗪；可选地，嗪；可选地，噻嗪；可选地，二硫杂环戊烷；可选地，二烷；可选地，二英；可选地，三嗪；可选地，三嗪烷；可选地，三烷；可选地，庚因；可选地，吖庚因；可选地，噻庚因；可选地，二吖庚因；可选地，吗啉；可选地，喹啉；可选地，四氢醌；或可选地，二环[3.3.1]四硅氧烷。
根据本公开一方面，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四氢呋喃(THF)、呋喃、甲基四氢呋喃、二氢呋喃、四氢吡喃、2,3-二氢吡喃、1,3-二烷、14-二烷、吗啉、N-甲基吗啉、乙腈、丙腈、丁腈、苄腈、吡啶、氨(NH3)、甲基胺(NH2Me)、乙基胺(NH2Et)、二甲基胺(NHMe2)、二乙基胺(NHEt2)、三甲基胺(NMe3)、三乙基胺(NEt3)、三甲基膦(PMe3)、三乙基膦(PEt3)、三苯基膦(PPh3)、三-正丁基膦(P(n-Bu)3)、三甲基亚膦酸酯(P(OMe)3)、三乙基亚膦酸酯(P(OEt)3)、三-正丁基亚膦酸酯(P(O-n-Bu)3)、甲基异腈、正丁基异腈、苯基异腈、SMe2、噻吩、或四氢噻吩(THT)。在一些实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四氢呋喃(THF)、甲基四氢呋喃、四氢吡喃、1,4-二烷、乙腈、吡啶、氨(NH3)、三甲基胺(NMe3)、三乙基胺(NEt3)、三甲基膦(PMe3)、三乙基膦(PEt3)、三苯基膦(PPh3)、SMe2、或四氢噻吩(THT)；可选地，四氢呋喃(THF)、甲基四氢呋喃、四氢吡喃、或1,4-二烷；可选地，氨(NH3)、三甲基胺(NMe3)、或三乙基胺(NEt3)；或可选地，三甲基膦(PMe3)、三乙基膦(PEt3)、三苯基膦(PPh3)。在其他实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四氢呋喃、乙腈、吡啶、氨、三甲基胺、三甲基膦、或三苯基膦；可选地，四氢呋喃、乙腈、吡啶、三甲基胺、三甲基膦、或三苯基膦；或可选地，四氢呋喃或乙腈。在再其他实施方式中，各配位化合物独立地可以是四氢呋喃(THF)；可选地，四氢吡喃；可选地，1,4-二烷；可选地，乙腈；可选地，吡啶；可选地，氨(NH3)；可选地，三甲基胺(NMe3)；可选地，三乙基胺(NEt3)；可选地，三甲基膦(PMe3)；可选地，三乙基膦(PEt3)；可选地，三苯基膦(PPh3)；可选地，SMe2；或可选地，四氢噻吩(THT)。在再其他实施方式中，本文所述任意铬络合物(一般或具体)或铬前体(一般或具体)的各中性配体(一种或多种)独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四氢呋喃、乙腈、吡啶、氨、三甲基胺、三甲基膦、或三苯基膦；可选地，四氢呋喃、乙腈、吡啶、三甲基胺、三甲基膦、或三苯基膦；或可选地，四氢呋喃或乙腈。
一般取代基(也被称为非氢取代基或非氢取代基团)在本文中被独立地公开。这些取代基可非限制地用于进一步描述可用作中性配体的任意吖丁啶、氧杂环丁烷、环硫烷、二氧杂环丁烷、二环硫烷、四氢吡咯、二氢吡咯、吡咯、吲哚、异吲哚、四氢呋喃、二氢呋喃、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、四氢噻吩、二氢噻吩、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、咪唑烷、吡唑、咪唑、唑烷、唑、异唑、噻唑烷、噻唑、异噻唑、苯并噻唑、二氧戊环、二硫戊环、三唑、二噻唑、哌啶、吡啶、四氢吡喃、二氢吡喃、吡喃、硫杂环戊烷、哌嗪、二嗪、嗪、噻嗪、二硫杂环戊烷、二烷、二英、三嗪、三嗪烷、三烷、庚因、吖庚因、噻庚因、二吖庚因、吗啉、喹啉、四氢醌、二环[3.3.1]四硅氧烷、氧杂环丁烷和/或二氧杂环丁烷。
在方面中，铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：中性铬络合物(m等于0和其中铬络合物是铬前体的情况)、阳离子铬络合物(m是正数)、或阴离子铬络合物(m是负数)；可替换地，中性铬络合物；可替换地，阳离子铬络合物；或可替换地，阴离子铬络合物。在实施方式中，阳离子铬络合物的电荷m可以是从1至4；可替换地，1；可替换地，2；可替换地，3；或可替换地，4。在实施方式中，阴离子铬络合物的电荷m可以是从-1至-4；可替换地，-1；可替换地，-2；可替换地，-3；或可替换地，-4。
此处将铬络合物描述为铬前体的成分(或可替换地，为铬前体)。在这些描述内，铬络合物可具有式(Cry1Xx1Lλ)m、(CrXx1Lλ)m、(CrLλ)m、Cry1Xx1Lλ、CrXxLλ、(Cry1Xx1)m、(CrXx1)m、Cry1Xx1、或CrXx；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m、(CrXx1Lλ)m、(CrLλ)m、(Cry1Xx1)m、或(CrXx1)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m、(CrXx1Lλ)m、或(CrLλ)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m或(CrXx1Lλ)m；可替换地，(Cry1Xx1)m或(CrXx1)m；可替换地，Cry1Xx1Lλ、CrXxLλ、Cry1Xx1、或CrXx；可替换地，Cry1Xx1Lλ或CrXxLλ；可替换地，Cry1Xx1或CrXx；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m；可替换地，(CrXx1Lλ)m；可替换地，(CrLλ)m；可替换地，Cry1Xx1Lλ；可替换地，CrXxLλ；可替换地，(Cry1Xx1)m；可替换地，(CrXx1)m；可替换地，Cry1Xx1；或可替换地，CrXx。通常，此处先前已经描述了铬的氧化态(x)、铬的数目(y1)、阴离子配体(X)、阴离子配体的电荷(y)、阴离子配体的数目(x1)、中性配体(L)、中性配体的数目(λ)、和铬络合物的电荷，和可利用适合此处描述的铬络合物特征的这些独立地描述的元素的任何相容的组合描述铬络合物。
在方面中，可存在于铬前体的铬络合物的数目的范围可以是从1至3；或可替换地，从2至3。在实施方式中，可存在于铬前体的铬络合物的数目可以是1；可替换地，2；或可替换地，3。
在非限制性的实施方式中，铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：中性铬络合物、阳离子铬络合物、或阴离子铬络合物；可替换地，中性铬络合物；可替换地，阳离子铬络合物；或可替换地，阴离子铬络合物。在某些非限制性的实施方式中，铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：中性铬(II)络合物、阳离子铬(II)络合物、阴离子铬(II)络合物、中性铬(III)络合物、阳离子铬(III)络合物、或阴离子铬(III)络合物；可替换地，中性铬(II)络合物、阳离子铬(II)络合物、或阴离子铬(II)络合物；或可替换地，中性铬(III)络合物、阳离子铬(III)络合物、或阴离子铬(III)络合物。在其他非限制性的实施方式中，铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：中性铬(II)络合物；可替换地，阳离子铬(II)络合物；可替换地，阴离子铬(II)络合物；可替换地，中性铬(III)络合物；可替换地，阳离子铬(III)络合物；或可替换地，阴离子铬(III)络合物。
在方面和在任何实施方式中，中性铬络合物(其中铬络合物将是铬前体的情况)可具有式Cry1Xx1Lλ、CrXxLλ、Cry1Xx1、或CrXx；可替换地，Cry1Xx1Lλ或CrXxLλ；可替换地，Cry1Xx1、或CrXx；可替换地，Cry1Xx1Lλ；可替换地，CrXxLλ；可替换地，Cry1Xx1；或可替换地，CrXx。通常，可利用适合此处描述的铬的氧化态(x)、此处描述的铬的数目(y1)、此处描述的阴离子配体(X)、此处描述的阴离子配体的电荷(y)、此处描述的阴离子配体的数目(x1)、此处描述的中性配体(L)、此处描述的中性配体的数目(λ)的任何相容的组合描述中性铬络合物。
在非限制性的实施方式中，中性铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：中性铬卤基、中性铬卤基烃基腈络合物、中性铬卤基三烃基胺络合物、中性铬卤基二烃基醚络合物、中性铬卤基二烃基硫化物络合物或中性铬卤基三烃基膦络合物。在某些非限制性的实施方式中，中性铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：中性铬卤基三烃基胺络合物、中性铬卤基二烃基醚络合物或中性铬卤基二烃基硫化物络合物。在某些非限制性的实施方式中，中性铬络合物可以是，包括，或基本上由中性铬卤基三烃基胺络合物、中性铬卤基四氢呋喃络合物、或中性铬卤基四氢噻吩络合物组成。在还有的其他非限制性的实施方式中，中性铬络合物可以是，包括，或基本上由中性铬卤基；可替换地，中性铬卤基氨络合物；可替换地，中性铬卤基烃基腈络合物；可替换地，中性铬卤基三烃基胺络合物；可替换地，中性铬卤基二烃基醚络合物；可替换地，中性铬卤基二烃基硫化物络合物；可替换地，中性铬卤基四氢呋喃络合物；可替换地，中性铬卤基四氢噻吩络合物；或可替换地，中性铬卤基三烃基膦络合物。通常，此处独立地描述中性铬络合物的这些非限制性的实施方式的独立元素，和其可以任何相容的组合用于进一步描述中性铬络合物。
此处独立地描述可用于描述中性铬络合物的铬氧化态，且其可以任何组合用于进一步描述可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的中性铬络合物。在非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的中性铬络合物可包含具有此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体的中性铬(II)络合物或中性铬(III)络合物；可替换地，具有此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体的中性铬(II)络合物；或可替换地，具有此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体的中性铬(III)络合物。在非限制性的实施方式中，中性过渡金属络合物可以是，包括，或基本上由，中性铬(II)络合物或中性铬(III)络合物；可替换地，中性铬(II)络合物；或可替换地，中性铬(III)络合物。
在非限制性的实施方式中，可用于此处描述的任何方面或任何实施方式的铬络合物可以是，包括，或基本上由，中性卤化铬(III)、中性铬(III)卤基烃基腈络合物、中性铬(III)卤基三烃基胺络合物、中性铬(III)卤基二烃基醚络合物、中性铬(III)卤基二烃基硫化物络合物、或中性铬(III)卤基三烃基膦络合物组成。在还有的其他非限制性的实施方式中，可用于此处描述的任何方面或任何实施方式的铬络合物可以是，包括，或基本上由，中性卤化铬(III)；可替换地，中性铬(III)卤基四氢呋喃络合物；可替换地，中性铬(III)卤基烃基腈络合物；可替换地，中性铬(III)卤基三烃基胺络合物；可替换地，中性铬(III)卤基二烃基醚络合物；可替换地，中性铬(III)卤基二烃基硫化物络合物；或可替换地，中性铬(III)卤基三烃基膦络合物组成。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式MBLλ的其他一般的或特殊的中性铬络合物。容易地看到和预期这些一般的或特殊的中性铬络合物。
在方面中，阳离子铬络合物(其中m是任何正数的铬络合物)可具有式(Cry1Xx1Lλ)m、(CrXx1Lλ)m、(CrLλ)m、(Cry1Xx1)m、或(CrXx1)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m、(CrXx1Lλ)m、(CrLλ)m、(Cry1Xx1)m、或(CrXx1)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m、(CrXx1Lλ)m、或(CrLλ)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m或(CrXx1Lλ)m；可替换地，(Cry1Xx1)m或(CrXx1)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m；可替换地，(CrXx1Lλ)m；可替换地，(CrLλ)m；可替换地，(Cry1Xx1)m；可替换地，(CrXx1)m。通常，可利用适合此处描述的铬的氧化态(x)、此处描述的铬的数目(y1)、此处描述的阴离子配体(X)、此处描述的阴离子配体的电荷(y)、此处描述的阴离子配体的数目(x1)、此处描述的中性配体(L)、此处描述的中性配体的数目(λ)和此处描述的阳离子络合物的正电荷(m)的任何相容的组合描述阳离子铬络合物。
在非限制性实施方式中，阳离子铬络合物可以是，包括，或基本上由，阳离子铬卤基、阳离子铬卤基三烃基胺络合物、阳离子铬卤基二烃基醚络合物、或阳离子铬卤基硫化物络合物组成。在某些非限制性实施方式中，阳离子铬络合物可以是，包括，或基本上由，阳离子铬卤基三烃基胺络合物、阳离子铬卤基二烃基醚络合物、或阳离子铬卤基硫化物络合物组成。在其他非限制性实施方式中，阳离子铬络合物可以是，包括，或基本上由，阳离子铬卤基氨络合物、阳离子铬卤基四氢呋喃络合物、或阳离子铬卤基四氢噻吩络合物。在还有的其他非限制性实施方式中，阳离子铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：阳离子铬卤基；可替换地，阳离子铬卤基氨络合物；可替换地，阳离子铬卤基三烃基胺络合物；可替换地，阳离子铬卤基二烃基醚络合物；可替换地，阳离子铬卤基硫化物络合物；可替换地，阳离子铬卤基四氢呋喃络合物；或可替换地，阳离子铬卤基四氢噻吩络合物。通常，此处独立地描述阳离子铬络合物的这些非限制性的实施方式的独立元素，和其可以任何相容的组合用于进一步描述阳离子铬络合物。
此处描述可用于描述阳离子铬络合物的铬氧化态，且其可以任何组合用于进一步描述可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的阳离子铬络合物。在非限制性实施方式中，阳离子铬可以是，包括，或基本上由如下组成：具有此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体的阳离子铬(II)络合物或阳离子铬(III)络合物；可替换地，具有此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体的阳离子铬(II)络合物；或可替换地，具有此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体的阳离子铬(III)络合物。在某些实施方式中，此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体可用于进一步描述阳离子铬(II)络合物或阳离子铬(III)络合物；可替换地，阳离子铬(II)络合物；或可替换地，阳离子铬(III)络合物。在非限制性的实施方式中，阳离子铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：阳离子铬(II)络合物或阳离子铬(III)络合物；可替换地，阳离子铬(II)络合物；或可替换地，阳离子铬(III)络合物。
在非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：阳离子铬(III)三烃基胺络合物、阳离子铬(III)二烃基醚络合物、或阳离子铬(III)二烃基硫化物络合物；可替换地，阳离子铬(III)三烃基胺络合物；可替换地，阳离子铬(III)二烃基醚络合物；或可替换地，阳离子铬(III)二烃基硫化物络合物。在某些非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：阳离子铬(III)氨络合物、阳离子铬(III)四氢呋喃络合物、或阳离子铬(III)四氢噻吩络合物；可替换地，阳离子铬(III)氨络合物；可替换地，阳离子铬(III)四氢呋喃络合物；或可替换地，阳离子铬(III)四氢噻吩络合物。在其他非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：阳离子卤化铬(III)、阳离子铬(III)卤基三烃基胺络合物、阳离子铬(III)卤基二烃基醚络合物、或阳离子铬(III)卤基二烃基硫化物络合物；可替换地，阳离子铬(III)卤基；可替换地，阳离子铬(III)卤基三烃基胺络合物；可替换地，阳离子铬(III)卤基二烃基醚络合物；或可替换地，阳离子铬(III)卤基二烃基硫化物络合物。在还有的其他非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：阳离子铬(III)卤基氨络合物、阳离子铬(III)卤基四氢呋喃络合物、或阳离子铬(III)卤基四氢噻吩络合物；可替换地，阳离子铬(III)卤基氨络合物；可替换地，阳离子铬(III)卤基四氢呋喃络合物；或可替换地，阳离子铬(III)卤基四氢噻吩络合物。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式MBLλ的其他一般的或特殊的阳离子铬络合物。容易地看到和预期这些一般的或特殊的阳离子铬络合物。
在方面中，阴离子铬络合物(其中m是负数的铬络合物)可具有式(Cry1Xx1Lλ)m、(CrXx1Lλ)m、(CrLλ)m、(Cry1Xx1)m、或(CrXx1)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m、(CrXx1Lλ)m、(CrLλ)m、(Cry1Xx1)m、或(CrXx1)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m、(CrXx1Lλ)m、或(CrLλ)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m或(CrXx1Lλ)m；可替换地，(Cry1Xx1)m或(CrXx1)m；可替换地，(Cry1Xx1Lλ)m；可替换地，(CrXx1Lλ)m；可替换地，(CrLλ)m；可替换地，(Cry1Xx1)m；可替换地，(CrXx1)m。通常，可利用适合此处描述的铬的氧化态(x)、此处描述的铬的数目(y1)、此处描述的阴离子配体(X)、此处描述的阴离子配体的电荷(y)、此处描述的阴离子配体的数目(x1)、此处描述的中性配体(L)、和此处描述的中性配体的数目(λ)和此处描述的阴离子络合物的负电荷(L)的任何相容的组合描述阴离子铬络合物。
在非限制性的实施方式中，阴离子铬络合物可以是，包括，或基本上由，阴离子铬卤基或阴离子铬氰化物络合物组成。在某些非限制性的实施方式中，阴离子铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：阴离子铬卤基；或可替换地，阴离子铬氰化物络合物。通常，此处独立地描述阴离子铬络合物的这些非限制性的实施方式的独立元素，和其可以任何相容的组合用于进一步描述阴离子铬络合物。
此处描述可用于描述阴离子铬络合物的铬氧化态，且其可以任何组合用于进一步描述可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的阴离子铬络合物。在非限制性实施方式中，阴离子铬可以是，包括，或基本上由如下组成：具有此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体的阴离子铬(II)络合物或阴离子铬(III)络合物；可替换地，具有此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体的阴离子铬(II)络合物；或可替换地，具有此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体的阴离子铬(III)络合物。在某些实施方式中，此处描述的任何阴离子配体和此处描述的任何中性配体可用于进一步描述阴离子铬(II)络合物或阴离子铬(III)络合物；可替换地，阴离子铬(II)络合物；或可替换地，阴离子铬(III)络合物。在非限制性的实施方式中，阴离子铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：阴离子铬(II)络合物或阴离子铬(III)络合物；可替换地，阴离子铬(II)络合物；或可替换地，阴离子铬(III)络合物。
在非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的阴离子铬络合物可以是，包括，或基本上由，阴离子铬(III)卤基络合物、或阴离子铬(III)氰化物络合物组成。在某些非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的阴离子铬络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：阴离子铬(III)卤基络合物；或可替换地，阴离子铬(III)氰化物络合物。在非限制性的实施方式中，阴离子过渡金属络合物可以是，包括，或基本上由如下组成：(CrCl4)1-、(Cr(CN)6)3-；可替换地，(CrCl4)1-；或可替换地，(Cr(CN)6)3-。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(MB)y1Xx]m和/或式[MBXx]m的其他一般的或特殊的阴离子铬络合物。容易地想到和预期这些一般的或特殊的阴离子铬络合物。
通常，当铬络合物具有负电荷(例如，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1、[(CrXx)m]q[Cc]m1[Aa]m2和/或[(CrXx)m]q[Cc]m1，等，其中m可以是负数)，可通过阳离子种类平衡铬络合物上的负电荷，从而提供中性铬前体。通常，可利用适合此处描述的铬的氧化态(x)、此处描述的铬原子的数目(y1)、此处描述的阴离子配体(X)、此处描述的阴离子配体的电荷(y)、此处描述的阴离子配体的数目(x1)、此处描述的中性配体(L)、和此处描述的中性配体的数目(λ)和此处描述的络合物的负电荷(m)、此处描述的阴离子金属络合物的数目(q)、此处描述的阳离子种类(C)、此处描述的阳离子种类上的电荷(c)、和此处描述的阳离子种类的数目(m1)的任何相容的组合描述铬前体。
通常，当铬前体(一般的或特殊的)包括至少一个阳离子种类，每一个阳离子种类C的电荷c独立地可以是范围为从1至3的整数，或可替换地，范围为从1至2的整数。在实施方式中，每一个阳离子种类C的电荷c独立地可以是1；可替换地，2；或可替换地，3。通常，通过阳离子种类的身份看到阳离子种类C的电荷c。
通常，铬前体中的阳离子种类的数目，m1可以是范围为从0至5的整数。在实施方式中，铬前体中的，m1可以是范围为从0至4的整数；可替换地，0至3；可替换地，0至2；可替换地，1至5；可替换地，1至4；可替换地，1至3；或可替换地，1至2。在实施方式中，铬前体中的，m1可以是0；可替换地，1；可替换地，2；可替换地，3；可替换地，4；或可替换地，5。
铬前体中的阳离子种类的数目，m1是铬络合物上的电荷(m)、铬络合物的数目(q)、阳离子种类、和阳离子种类上的电荷(c)的函数。当铬络合物是阴离子型的时，可通过等式|m*q|＝c*m1关联具有电荷m的阴离子铬络合物的数目(q)和具有电荷c的阳离子种类的数目(C)。在某些实施方式中，当铬络合物是阴离子型的时，阴离子铬络合物的数目，q，可通过关系，即，q＝c除以c和|m|的最大公约数与阴离子铬络合物上的电荷(m)、阳离子种类(C)，和阳离子种类电荷(c)相关。在某些实施方式中，当铬络合物是阴离子型的时，阳离子种类的数目(m1)可通过关系，即，m1＝|m|除以c和|m|的最大公约数与阴离子铬络合物上的电荷(m)、阳离子种类、和阳离子种类电荷(c)相关。
在方面中，可用于铬前体的每一个阳离子种类，C独立地可以是，包括，或基本上由，第1族金属阳离子、第2族金属阳离子、四有机铵阳离子、或四有机阳离子组成。在实施方式中，每一个阳离子种类，C独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：第1族金属阳离子或第2族金属阳离子；可替换地，四有机铵阳离子或四有机阳离子；可替换地，第1族金属阳离子；可替换地，第2族金属阳离子；可替换地，四有机铵阳离子；或可替换地，四有机阳离子。在方面中，四有机铵阳离子或四有机阳离子的每一个有机基团独立地可以是烃基或取代的烃基；可替换地，烃基；或可替换地，取代的烃基。在某些实施方式中，可用于铬前体的阳离子种类，C独立地可以是，包括，或基本上由，四烃基铵阳离子、或四烃基阳离子；可替换地，四烃基铵阳离子；或可替换地，四烃基阳离子。在其他实施方式中，可用于铬前体的阳离子种类，C可以是，包括，或基本上由，四烷基铵阳离子、或四烷基阳离子；可替换地，四烷基铵阳离子；或可替换地，四烷基阳离子。当阳离子种类是第1族金属阳离子时，阳离子种类上的四有机铵阳离子、或四有机阳离子电荷c是1。当阳离子种类是第2族金属阳离子时，阳离子种类上的电荷c是2。
在方面中，可被用作阳离子种类的每一个第1族金属阳离子独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：Li+、Na+、K+、Rb+或Cs+组成。在实施方式中，可被用作阳离子种类的每一个第1族阳离子独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：Li+；可替换地，Na+；可替换地，K+；可替换地，Rb+；或可替换地，Cs+。在方面中，可被用作阳离子种类的每一个第2族金属阳离子独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：Be2+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、或Ba2+。在实施方式中，可被用作阳离子种类的每一个第2族金属阳离子独立地可以是，包括，或基本上由如下组成：Be2+；可替换地，Mg2+；可替换地，Ca2+；可替换地，Sr2+；或可替换地，Ba2+。
在方面中，可被用作阳离子种类的每一个四有机铵阳离子独立地可具有式NR1bR2bR3bR4b。在另一个方面中，四有机铵阳离子可具有式N(R5b)4。在方面中，可被用作阳离子种类的每一个四有机阳离子独立地可具有式PR1dR2dR3dR4d。在另一个方面中，四有机阳离子可具有式P(R5d)4。在具有式NR1bR2bR3bR4b的四有机铵阳离子、具有式N(R5b)4的四有机铵阳离子、具有式PR1dR2dR3dR4d的四有机阳离子、和具有式P(R5d)4的四有机阳离子内，R1b、R2b、R3b、R4b、R5b、R1d、R2d、R3d、R4d、和/或R5d独立地可以是烃基或取代的烃基；可替换地，烃基；或可替换地，取代的烃基。通常，可被用作R1b、R2b、R3b、R4b、R5b、R1d、R2d、R3d、R4d、和/或R5d的烃基和/或取代的烃基可与可被用作R1b、R2b、R3b、R4b、R5b、R1d、R2d、R3d、R4d、和/或R5d的有机基团具有相同的碳原子数目。通常在本公开内公开烃基(取代的或非取代的)(例如，作为用于具有式-O2CR2c的一元羧酸的R2c的选择，和/或作为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13或R14的选择，等其他位置)。这些烃基(取代的或非取代的)可被无限制地用作可被用作(具有式NR1bR2bR3bR4b的四有机铵阳离子)的R1b、R2b、R3b、和R4b(具有式PR1dR2dR3dR4d的四有机磷阳离子)的R1b、R2b、R3b、和R4b(具有式N(R5b)4的四有机铵阳离子)的R5b、和(具有式P(R5d)4的四有机阳离子)的R5b的烃基。
在非限制性实施方式中，各阳离子种类独立地可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四甲基铵(NMe4 +)、四乙基铵(NEt4 +)、四丁基铵(NBu4 +)、或四苯基铵(NPh4 +)。在一些非限制性实施方式中，各阳离子种类可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四甲基铵(NMe4 +)、四乙基铵(NEt4 +)、或四丁基铵(NBu4 +)；可选地，四甲基铵(NMe4 +)；可选地，四乙基铵(NEt4 +)；可选地，四丁基铵(NBu4 +)；或可选地，四苯基铵(NPh4 +)。在其他非限制性实施方式中，各阳离子种类可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四甲基(PMe4 +)、四乙基(PEt4 +)、四丁基(PBu4 +)、或四苯基(PPh4 +)。在再其他非限制性实施方式中，各阳离子种类可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四甲基(PMe4 +)、四乙基(PEt4 +)、或四丁基(PBu4 +)；可选地，四甲基(PMe4 +)；可选地，四乙基(PEt4 +)；可选地，四丁基(PBu4 +)；或可选地，四苯基(PPh4 +)。
通常，当铬络合物具有正电荷(例如，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2、[(CrLλ)m]q[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(CrXxLλ)m]q[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2、[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2、[(CrXx)m]q[Cc]m1[Aa]m2、和/或[(CrXx)m]q[Aa]m2，等，其中m可以是正数)，可通过阴离子种类平衡铬络合物上的正电荷，从而提供中性铬前体。通常，可利用适合此处描述的铬的氧化态(x)、此处描述的铬原子的数目(y1)、此处描述的阴离子配体(X)、此处描述的阴离子配体的电荷(y)、此处描述的阴离子配体的数目(x1)、此处描述的中性配体(L)、和此处描述的中性配体的数目(λ)和此处描述的络合物的负电荷(m)、此处描述的阴离子铬络合物的数目(q)、此处描述的阳离子种类(C)、此处描述的阴离子种类上的电荷(a)、和此处描述的阴离子种类的数目(m2)的任何相容的组合描述铬前体。
通常，当铬前体(一般的或特殊的)包括至少一个阴离子种类，每一个阴离子种类A的电荷a独立地可以是范围为从-1至-3的整数，或可替换地，范围为从-1至-2的整数。在实施方式中，每一个阴离子种类A的电荷a独立地可以是-1；可替换地，-2；或可替换地，-3。通常，通过阴离子种类的身份看到阴离子种类A的电荷a。
通常，铬前体中的阴离子种类的数目，m2，可以是范围为从0至5的整数。在实施方式中，铬前体中的m2，可以是范围为从0至4的整数；可替换地，0至3；可替换地，0至2；可替换地，1至5；可替换地，1至4；可替换地，1至3；或可替换地，1至2。在实施方式中，铬前体中的m2，可以是0；可替换地，1；可替换地，2；可替换地，3；可替换地，4；或可替换地，5。
铬前体中的阴离子种类的数目，m2，可以是铬络合物上的电荷(m)、铬络合物的数目(q)、阳离子种类和阴离子种类上的电荷(a)的函数。当铬络合物是阳离子型时，可通过等式m*q＝|a*m2|关联具有电荷m的阳离子铬络合物的数目(q)和具有电荷a的阴离子种类的数目(A)。在某些实施方式中，当铬络合物是阳离子型的时，阳离子铬络合物的数目，q，可通过关系，即，q＝|a|除以|a|和m的最大公约数与阳离子铬络合物上的电荷(m)、阴离子种类(A)，和阴离子种类电荷(a)相关。在某些实施方式中，当铬络合物是阳离子型时，阴离子种类的数目(m2)可通过关系，即，m2＝|m|除以|a|和m的最大公约数与阳离子铬络合物上的电荷(m)、阴离子种类(A)、和阴离子种类电荷(a)相关。
在方面中，可用于铬前体的每一个阴离子种类A独立地可以是，但不限于，卤基、次卤酸根、亚卤酸盐、卤酸根、过卤酸根(perhalate)、硝酸根、亚硝酸根、硫酸根、亚硫酸根、重硫酸根、磷酸根、氰化物、氰酸根、硫氰酸根、六卤磷酸根(hexahalophosphate)、四卤铝酸根、六卤铝酸根、六卤硅酸根、偏硼酸根、四硼酸根、四卤硼酸根、或四有机硼酸根。在实施方式中，每一个阴离子种类A独立地可以是卤基、硝酸根、硫酸根、磷酸根、氰基、六卤磷酸根、四卤硼酸盐、或四有机硼酸根；可替换地，卤基、硝酸根、硫酸根、或磷酸根；可替换地，卤基；可替换地，次卤酸盐；可替换地，亚卤酸盐；可替换地，卤酸根；可替换地，过卤酸根；可替换地，硝酸根；可替换地，亚硝酸根；可替换地，硫酸根；可替换地，亚硫酸根；可替换地，重硫酸根；可替换地，磷酸根；可替换地，氰化物；可替换地，氰酸根；可替换地，硫氰酸根；可替换地，六卤磷酸根；可替换地，四卤铝酸根；可替换地，六卤铝酸根；可替换地，六卤硅酸根；可替换地，偏硼酸根；可替换地，四硼酸根；可替换地，四卤硼酸根；或可替换地，四有机硼酸根。当阴离子种类是卤基、次卤酸根、亚卤酸根、卤酸根、过卤酸根、硝酸根、亚硝酸根、重硫酸根、氰化物、氰酸根、硫氰酸根、四卤铝酸根、六卤铝酸根、偏硼酸根、四卤硼酸根、或四有机硼酸根时，阴离子种类上的电荷a是-1。当阴离子种类是硫酸根、亚硫酸根、六卤硅酸根、或四硼酸根时，阴离子种类上的电荷a是-2。当阴离子种类是磷酸根、或六卤铝酸盐时，阴离子种类上的电荷a是-3。
在实施方式中，卤基阴离子种类可以是，包括，或基本上由氟化物、氯化物、溴化物、或碘化物组成；可替换地，氟化物；可替换地，氯化物；可替换地，溴化物；或可替换地，碘化物。在实施方式中，次卤酸根阴离子种类可以是，包括，或基本上由次氟酸根、次氯酸根、次溴酸盐、或次碘酸根组成；可替换地，次氟酸根；可替换地，次氯酸根；可替换地，次溴酸根；或可替换地，次碘酸根。在实施方式中，亚卤酸根阴离子种类可以是，包括，或基本上由，亚氟酸根、亚氯酸根、亚溴酸根、或亚碘酸根组成；可替换地，亚氟酸根；可替换地，亚氯酸根；可替换地，亚溴酸根；或可替换地，亚碘酸根。在实施方式中，卤酸根阴离子种类可以是，包括，或基本上由，氟酸根、氯酸根、溴酸根、或碘酸根组成；可替换地，氟酸根；可替换地，氯酸根；可替换地，溴酸根；或可替换地，碘酸根。在实施方式中，过卤酸根阴离子种类可以是，包括，或基本上由，过氟酸根、过氯酸根、过溴酸根、或过碘酸根组成；可替换地，过氟酸根；可替换地，过氯酸根；可替换地，过溴酸根；或可替换地，过碘酸根。在实施方式中，六卤磷酸根阴离子可以是，包括，或基本上由，六氟磷酸根、六氯磷酸根、六溴磷酸根、或六碘磷酸根组成；可替换地，六氟磷酸根；可替换地，六氯磷酸根；可替换地，六溴磷酸根；或可替换地，六碘磷酸根。在实施方式中，六卤铝酸根阴离子可以是，包括，或基本上由，六氟铝酸根、六氯铝酸根、六溴铝酸根、或六碘铝酸根组成；可替换地，六氟铝酸根；可替换地，六氯铝酸根；可替换地，六溴铝酸根；或可替换地，六碘铝酸根。在实施方式中，六卤硅酸根阴离子可以是，包括，或基本上由，六氟硅酸根、六氯硅酸根、六溴硅酸根、或六碘硅酸根组成；可替换地，六氟硅酸根；可替换地，六氯硅酸根；可替换地，六溴硅酸根；或可替换地，六碘硅酸根。在实施方式中，四卤硼酸根阴离子可以是，包括，或基本上由，四氟硼酸根、四氯硼酸根、四溴硼酸根、或四碘硼酸根组成；可替换地，四氟硼酸根；可替换地，四氯硼酸根；可替换地，四溴硼酸根；或可替换地，四碘硼酸根。
在方面中，四有机硼酸根阴离子可具有式BR1gR2gR3gR4g。在另一个方面中，四有机化铵阳离子可具有式B(R5g)4。在具有式BR1gR2gR3gR4g的四有机硼酸根阴离子和具有式B(R5g)4的四有机硼酸根阴离子内，R1g、R2g、R3g、R4g和/或R5g独立地可以是C1-C20有机基团；可替换地，C1-C15有机基团；可替换地，C1-C10有机基团；或可替换地，C1-C5有机基团。在实施方式中，可被用作R1g、R2g、R3g、R4g、和/或R5g的每一个有机基团独立地可以是烃基或取代的烃基；可替换地，烃基；或可替换地，取代的烃基。通常，可被用作R1g、R2g、R3g、R4g、和/或R5g的烃基和/或取代的烃基独立地可与可被用作R1g、R2g、R3g、R4g、和/或R5g的有机基团具有相同的碳原子数目。通常在本公开内公开烃基(取代的或非取代的)(例如，作为用于具有式-O2CR2c的一元羧酸的R2c的选择，和/或作为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、或R14的选择，等其他位置)。这些烃基(取代的或非取代的)可被无限制地用作可被用作(具有式BR1gR2gR3gR4g的四有机硼酸根阴离子)的R1g、R2g、R3g、和R4g和(具有式N(R5b)4的四烃基铵阳离子)的R5b、和(具有式B(R5g)4的四有机硼阴离子)的R5g的烃基。
在非限制性的实施方式中，可被用作阴离子种类的每一个四有机硼酸根阴离子独立地可以是，包括，或基本上由，四苯基硼酸根、四(对甲苯)硼酸根、四[3,5-二(三氟甲基)苯基]硼酸根、或四(五氟苯基)硼酸根。在某些非限制性的实施方式中，可被用作阴离子种类的每一个四有机硼酸根阴离子独立地可以是，包括，或基本上由，四苯基硼酸根；可替换地，四(对甲苯)硼酸根；可替换地，四[3,5-二(三氟甲基)苯基]硼酸根；或可替换地，四(五氟苯基)硼酸根组成。
在方面中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2。此处独立地描述具有x的氧化态的铬原子的数目(y1)、具有y电荷的阴离子配体(X)、具有具有y电荷的阴离子配体的数目(x1)、中性配体(L)、中性配体的数目(λ)、铬络合物((Cry1Xx1Lλ)m)上的电荷(m)、铬络合物((Cry1Xx1Lλ)m)的数目(q)、具有电荷c的阳离子种类(C)、具有电荷c的阳离子种类的数目(m1)、具有电荷a的阴离子种类(A)、和具有电荷a的阴离子种类的数目(m2)。这些独立的描述可以任何相容的方式和/或组合用于进一步描述具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体。在其中铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的方面中，式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2可包含具有阴离子铬络合物(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0，m1具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m1>0，和m2＝0)、具有阳离子铬络合物(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0，m1＝0，和m2具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m2>0)、和/或具有中性铬前体(也就是，m＝0，m1＝0，和m2＝0)的一般的铬前体。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的一般的或特殊的阴离子铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的阴离子铬前体。
当具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体的每一个X是单阴离子配体时，铬前体可具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2。在其中铬前体可具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的方面中，式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2可包含具有阴离子铬络合物(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0，m1具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m1>0，和m2＝0)、具有阳离子铬络合物(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0，m1＝0，和m2具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m2>0)、和/或具有中性铬前体(也就是，m＝0，m1＝0，和m2＝0)的一般的铬前体。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的一般的或特殊的阴离子铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的阴离子铬前体。
在非限制性的实施方式中，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2或式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体可包括，或基本上由，具有阴离子铬络合物、阳离子种类、和阴离子种类之间的关系的阴离子铬络合物组成，其中m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m<0，q和c独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝c除以c和|m|的最大公约数，m1可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m1＝|m|除以c和|m|的最大公约数，和m2＝0。在另一个非限制性的实施方式中，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2或式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体可包括，或基本上由如下组成：具有阴离子铬络合物、阳离子种类和阴离子种类之间的关系的中性铬络合物，其中m＝0、m1＝0和m2＝0。在还有的另一个非限制性的实施方式中，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2或式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体可包括，或基本上由如下组成：具有阳离子铬络合物、阳离子种类、和阴离子种类之间的关系的阳离子铬络合物，其中m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m>0，q和a独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝|a|除以m和|a|的最大公约数，m1＝0、和m2可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m2＝m除以m和|a|的最大公约数。
在方面中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1。此处独立地描述具有x的氧化态的铬原子的数目(y1)、具有y电荷的阴离子配体(X)、具有y电荷的阴离子配体的数目(x1)、中性配体(L)、中性配体的数目(λ)、铬络合物((Cry1Xx1Lλ)m)上的电荷(m)、铬络合物((Cry1Xx1Lλ)m)的数目(q)、具有电荷c的阳离子种类(C)、具有电荷c的阳离子种类的数目(m1)。这些独立的描述可以任何相容的方式和/或组合用于进一步描述具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1的铬前体。在其中铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1的方面中，式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1可包含具有阴离子铬络合物(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0，m1具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m1>0)的一般的铬前体。在实施方式中，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1的铬前体可包括具有阴离子铬络合物、和阳离子种类之间的关系的阴离子铬络合物的一般铬前体，其中m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m<0，q和c独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝c除以c和|m|的最大公约数，m1可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m1＝|m|除以c和|m|的最大公约数。在实施方式中，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1的铬前体可包括具有阴离子铬络合物的一般铬前体，其中m可具有此处公开的任何值、或值范围，其中m<0，和m＝(x*y1)+(y*x1)。由于m<0和m＝(x*y1)+(y*x1)的条件，x1可以是满足等式x1>(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处公开的任何正整数和/或y1可能正整数且满足等式y1≤(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、y1和y的任何值)。在某些实施方式中，x1的范围可以是从满足等式x1>(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的最小的正整数至大于满足等式x1>(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的最小的正整数的此处提供的x1的任何值。在某些实施方式中，y1的范围可以是从此处公开的y1的任何值至满足等式y1≤(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的任何正整数。不管x1、y1和m的值，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1的铬前体中的中性配体(λ)的数目可以是此处公开的任何值、或任何值范围。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
当具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Cc]m1的铬前体的每一个X是单阴离子配体时，铬前体可具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1。在其中铬前体可具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1的方面(其中每一个X是单阴离子配体)中，式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1可包含具有阴离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0，m1具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m1>0)。在其中铬前体可具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1的方面(其中每一个X是单阴离子配体)中，式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1可包含具有阴离子铬络合物和阳离子种类之间的关系的阴离子铬络合物的一般铬前体，其中m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m<0，q和c独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝c除以c和|m|的最大公约数，m1可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m1＝|m|除以c和|m|的最大公约数。在实施方式中，具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1的铬前体(其中每一个X是单阴离子配体)可包含具有阴离子铬络合物的一般铬前体，其中m可具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0和m＝x-x1。由于m<0和m＝x-x1的条件，x1可以是满足等式x1>x(利用此处公开的x的任何值)的此处公开的任何正整数。在某些实施方式中，x1的范围可以是从满足等式x1>x(利用此处公开的x的任何值)的最小的正整数至大于满足等式x1>x(利用此处公开的x的任何值)的最小的正整数的此处提供的x1的任何值。不管m或x1的值，具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1(其中每一个X是单阴离子配体)的铬前体中的中性配体的数目(λ)可以是此处公开的任何值，或任何值范围。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Cc]m1(其中每一个X是单阴离子配体)的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
在非限制性的实施方式中，具有式的铬前体可以是，包括，或基本上由如下组成：Na3CrCl6或LiCrCl4；可替换地，Na3CrCl6；或可替换地，LiCrCl4。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Crx1Xn1Lλ)m]q1[Cc]m1和/或[(CrXn1Lλ)m]q1[Cc]m1的其他一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
在方面中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2。此处独立地描述具有x的氧化态的铬原子的数目(y1)、具有y电荷的阴离子配体(X)、具有y电荷的阴离子配体的数目(x1)、中性配体(L)、中性配体的数目(λ)、铬络合物((Cry1Xx1Lλ)m)上的电荷(m)、铬络合物((Cry1Xx1Lλ)m)的数目(q)、具有电荷a的阴离子种类(A)、具有电荷a的阴离子种类的数目(m2)。这些独立的描述可以任何相容的方式和/或组合用于进一步描述具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2的铬前体。在其中铬前体可具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2的方面中，式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2可包含具有阳离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0，m2具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m2>0)。在实施方式中，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2的铬前体可包括具有阳离子铬络合物、和阴离子种类之间的关系的阳离子铬络合物的一般铬前体，其中m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m>0，q和a独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝|a|除以m和|a|的最大公约数，和m2可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m2＝m除以m和|a|的最大公约数。在实施方式中，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2的铬前体可包含具有阳离子铬络合物的一般铬前体，其中m可具有此处公开的任何值、或值范围，其中m>0，和m＝(x*y1)+(y*x1)。由于m>0和m＝(x*y1)+(y*x1)的条件，x1可以是满足等式x1<(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处公开的任何正整数和/或y1可能正整数且满足等式y1≥(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、y1和y的任何值)。在某些实施方式中，x1的范围可以是从0，或小于满足等式x1<(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处公开的任何x1值至满足等式x1<(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处提供的x1的任何值。在某些实施方式中，y1的范围可以是从满足等式y1≥(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、y1和y的任何值)此处公开的y1的任何值至大于满足等式y1≥(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处公开的任何值。不管x1、y1、和m的值，具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2的铬前体中的中性配体(λ)的数目可以是此处公开的任何值、或任何值范围。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
当具有式[(Cry1Xx1Lλ)m]q[Aa]m2的铬前体的每一个X是单阴离子配体时，铬前体可具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Aa]m2。在其中铬前体可具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Aa]m2的方面(其中每一个X是单阴离子配体)中，式[(CrXx1Lλ)m]q[Aa]m2可包含具有阳离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0，m2具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m2>0)。在其中铬前体可具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Aa]m2的方面(其中每一个X是单阴离子配体)中，式[(CrXx1Lλ)m]q[Aa]m2可包含具有阳离子铬络合物、和阴离子种类之间的关系的阳离子铬络合物的一般铬前体，其中m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m>0，q和a独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝a(阴离子种类的电荷)除以m和|a|的最大公约数，和m2可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m2＝m除以m和|a|的最大公约数。由于m>0和m＝x-x1的条件，x1可以是满足等式x1<x(利用此处公开x的任何值)的此处公开的任何正整数。在某些实施方式中，x1的范围可以是从0，或小于满足等式x1<x(利用此处公开x的任何值)的此处公开的任何x1值至满足等式x1<x(利用此处公开x，y1和y的任何值)的此处提供的x1的任何值。不管x1和m的值，具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Aa]m2(其中每一个X是单阴离子配体)的铬前体中的中性配体的数目(λ)可以是此处公开的任何值，或任何值范围。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(CrXx1Lλ)m]q[Aa]m2(其中每一个X是单阴离子配体)的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Crx1Xn1Lλ)m]q2[Aa]m2和/或[(CrXn1Lλ)m]q[Aa]m2的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
在方面中，铬前体可具有式[(CrLλ)m]q[Aa]m2。此处独立地描述铬氧化态(x)、中性配体(L)、中性配体的数目(λ)、铬络合物((CrLλ)m)上的电荷(m)、铬络合物((CrLλ)m)的数目(q)、具有电荷a的阴离子种类(A)、和具有电荷a的阴离子种类的数目(m2)。这些独立的描述可以任何相容的方式和/或组合用于进一步描述具有式[(CrLλ)m]q[Aa]m2的铬前体。在其中铬前体可具有式[(CrLλ)m]q[Aa]m2的方面中，式[(CrLλ)m]q[Aa]m2可包含具有阳离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0，m2具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m2>0)。通常，具有式[(CrLλ)m]q[Aa]m2的铬前体可包括具有阳离子铬络合物的一般铬前体，其中m＝x和可通过等式m*q＝|a*m2|(或x*q＝|a*m2|)关联具有电荷m(或x)的阳离子铬络合物的数目(q)和具有电荷a的阴离子种类(A)的数目。在某些实施方式中，当铬前体具有式[(CrLλ)m]q[Aa]m2时，阳离子铬络合物的数目，q可通过关系，即，q＝|a|除以m(或x)和|a|的最大公约数与阳离子铬络合物(m或x)上的电荷、和阴离子种类电荷(c)关联。在某些实施方式中，当铬前体具有式[(CrLλ)m]q[Aa]m2时，阴离子种类的数目，m2可通过关系，即，m2＝m除以m和|a|的最大公约数与阳离子铬络合物(m或x)上的电荷、和阴离子种类电荷(c)关联。在实施方式中，具有式[(CrLλ)m]q[Aa]m2的铬前体可包含具有阳离子铬络合物的一般铬前体，其中m可具有此处公开的任何值、或值范围，其中m>0，和m＝x。不管m的值，具有式[(CrLλ)m]q[Aa]m2的铬前体中的中性配体(λ)的数目可以是此处公开的任何值、或任何值范围。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(CrLλ)m]q[Aa]m2的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
在非限制性的实施方式中，铬前体可以是，包括，或基本上由如下组成：[(Cr(NH3)6)3+]q[Aa]m2或[(Cr(NH3)6)2+]q[Aa]m2；可替换地，[(Cr(NH3)6)3+]q[Aa]m2；或可替换地，[(Cr(NH3)6)2+]q[Aa]m2。在这些非限制性的实施方式中，A可以是，包括，或基本上由如下组成：具有此处公开的电荷a的任何阴离子种类，q＝a(阴离子种类的电荷)除以|a|和铬络合物(CrLλ)m上的电荷m的最大公约数，和m2是铬络合物(CrLλ)m上的电荷m除以|a|和铬络合物(CrLλ)m上的电荷m的最大公约数。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(CrLλ)n]q2[Aa]m2的其他一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
在方面中，铬前体可具有式Cry1Xx1Lλ。此处独立地描述具有x的氧化态的铬原子的数目(y1)、具有y电荷的阴离子配体(X)、具有y电荷的阴离子配体的数目(x1)、中性配体(L)、和中性配体的数目(λ)。这些独立的描述可以任何相容的方式和/或组合用于进一步描述具有式Cry1Xx1Lλ的铬前体。在其中铬前体具有式Cry1Xx1Lλ的方面中，式Cry1Xx1Lλ可包含中性铬络合物的一般的铬前体(也就是，m＝0，m1＝0，和m2＝0)。当铬前体具有式Cry1Xx1Lλ时，可通过等式x*y1＝|y*x1|关联具有氧化态x的铬原子的数目(y1)和具有电荷y的阴离子配体的数目(A)。在某些实施方式中，当铬前体的铬络合物具有式Cry1Xx1Lλ时，铬的数目，y1可通过关系，即，y1＝|y|除以x和|y|的最大公约数与铬氧化态(x)和阴离子配体(X)电荷(y)关联。在某些实施方式中，当铬前体的铬络合物具有式Cry1Xx1Lλ时，阴离子配体的数目，x1可通过关系，即，x1＝x除以x和|y|的最大公约数与铬氧化态(x)和阴离子配体(X)电荷(y)关联。不管x1和y1的值，具有式Cry1Xx1Lλ的铬前体中的中性配体(λ)的数目可以是此处公开的任何值、或任何值范围。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式Cry1Xx1Lλ的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
当每一个X是单阴离子配体时，具有式Cry1Xx1Lλ的铬前体是单阴离子配体，铬前体可具有式CrXxLλ。不管x的值，具有式CrXxLλ的铬前体中的中性配体(λ)的数目可以是此处公开的任何值、或任何值范围。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式CrXxLλ的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
在非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬前体(或铬络合物)可以是，包括，或基本上由如下组成：CrCl3(NMe3)2、CrCl3(吡啶)3或CrCl3(THF)3；可替换地，CrCl3(NMe3)2；可替换地，CrCl3(吡啶)3；或可替换地，CrCl3(THF)3。在另一个实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬前体(或铬络合物)可以是，包括，或基本上由如下组成：中性铬(III)卤基四氢呋喃络合物、中性铬(III)卤基四烃基胺络合物、或中性铬(III)卤基吡啶络合物组成；可替换地，中性铬(III)卤基四氢呋喃络合物；可替换地，中性铬(III)卤基四烃基胺络合物；或可替换地，中性铬(III)卤基吡啶络合物组成。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式Cry1Xx1Lλ和/或式CrXxLλ的其他一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
在方面中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2。此处独立地描述具有x的氧化态的铬原子的数目(y1)、具有y电荷的阴离子配体(X)、具有y电荷的阴离子配体的数目(x1)、铬络合物((Cry1Xx1)m)上的电荷(m)、铬络合物((Cry1Xx1)m)的数目(q)、具有电荷c的阳离子种类(C)、具有电荷c的阳离子种类的数目(m1)、具有电荷a的阴离子种类(A)、和具有电荷a的阴离子种类的数目(m2)。这些独立的描述可以任何相容的方式和/或组合用于进一步描述具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体。在其中铬前体可具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2的方面中，式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2可包含具有阴离子铬络合物(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0，m1具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m1>0，和m2＝0)，具有阳离子铬络合物(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0，m1＝0，和m2具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m2>0)、和/或具有中性铬前体(也就是，m＝0，m1＝0，和m2＝0)的一般的铬前体。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2的其他一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
当具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体的每一个X是单阴离子配体时，铬前体可具有式[(CrXx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2。在其中铬前体可具有式[(CrXx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2的方面中，式[(CrXx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2可包含具有阴离子铬络合物(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0，m1具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m1>0，和m2＝0)，具有阳离子铬络合物(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0，m1＝0，和m2具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m2>0)、和/或具有中性铬前体(也就是，m＝0，m1＝0，和m2＝0)的一般的铬前体。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(CrXx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。在非限制性的实施方式中，具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2或式[(CrXx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体可以是，包括，或基本上由如下组成：具有阴离子铬络合物、阳离子种类、和阴离子种类之间的关系的阴离子铬络合物，其中，m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m<0，q和c独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝c除以c和|m|的最大公约数，m1可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m1＝|m|除以c和|m|的最大公约数，和m2＝0。在另一个非限制性的实施方式中，具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2或式[(CrXx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体可以是，包括，或基本上由如下组成：具有阴离子铬络合物、阳离子种类、和阴离子种类之间的关系的中性铬络合物，其中，m＝0，m1＝0，和m2＝0。在还有的另一个非限制性的实施方式中，具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2或式[(CrXx1)m]q[Cc]m1[Aa]m2的铬前体可以是，包括，或基本上由如下组成：具有阳离子铬络合物、阳离子种类、和阴离子种类之间的关系的阳离子铬络合物，其中，m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m>0，q和a独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝|a|除以m和|a|的最大公约数，m1＝0，和m2可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m2＝m除以m和|a|的最大公约数。
在方面中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1。此处独立地描述具有x的氧化态的铬原子的数目(y1)、具有y电荷的阴离子配体(X)、具有y电荷的阴离子配体的数目(x1)、铬络合物((Cry1Xx1)m)上的电荷(m)、铬络合物((Cry1Xx1)m)的数目(q)、具有电荷c的阳离子种类(C)、和具有电荷c的阳离子种类的数目(m1)。这些独立的描述可以任何相容的方式和/或组合用于进一步描述具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1的铬前体。在这个方面中，式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1可包含具有阴离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0，m1具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m1>0)。在实施方式中，具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1的铬前体可包含具有阴离子铬络合物、和阳离子种类之间的关系的阴离子铬络合物的一般的铬前体，其中，m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m<0，q和c独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝c除以c和|m|的最大公约数，和m1可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m1＝|m|除以c和|m|的最大公约数。在实施方式中，具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1的铬前体可包含具有阴离子铬络合物的一般的铬前体，其中，m可具有此处公开的任何值、或值范围，其中m<0和m＝(x*y1)+(y*x1)。由于m<0和m＝(x*y1)+(y*x1)的条件，x1可以是满足等式x1>(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处公开的任何正整数和/或y1可能正整数且满足等式y1≤(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、x1和y的任何值)。在某些实施方式中，x1的范围可以是从满足等式x1>(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的最小的正整数至大于满足等式x1>(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的最小的正整数的此处提供的x1的任何值。在某些实施方式中，y1的范围可以是从此处公开的y1的任何值至满足等式y1≤(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、x1和y的任何值)的任何正整数。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1的一般的或特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的或特殊的铬前体。
当具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1的铬前体的每一个X是单阴离子配体时，铬前体可具有式[(CrXx1)m]q[Cc]m1。在其中铬前体可具有式[(CrXx1)m]q[Cc]m1的方面(其中每一个X是单阴离子配体)中，式[(CrXx1)m]q[Cc]m1可包含具有阴离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0，m1具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m1>0)。在其中铬前体可具有式[(CrXx1)m]q[Cc]m1的方面(其中每一个X是单阴离子配体)中，式[(CrXx1)m]q[Cc]m1可包含具有阴离子铬络合物、和阳离子种类之间的关系的阴离子铬络合物的一般铬前体，其中m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m<0，q和c独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝c除以c和|m|的最大公约数，和m1可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m1＝|m|除以c和|m|的的最大公约数。在实施方式中，具有式[(CrXx1)m]q[Cc]m1铬前体(其中每一个X是单阴离子配体)可包含具有阴离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m可以是此处公开的任何值、或任何值范围，其中m<0和m＝x-x1)。由于m<0和m＝x-x1的条件，x1可以是满足等式x1>x(利用此处公开x的任何值)的此处公开的任何正整数。在某些实施方式中，x1的范围可以是从满足等式x1>x(利用此处公开的x的任何值)的最小的正整数至大于满足等式x1>x利用此处公开的x的任何值)的最小的正整数的此处提供的x1的任何值。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Cry1Xx1)m]q[Cc]m1(其中每一个X是单阴离子配体)的一般的和特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的和特殊的铬前体。
在非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬前体可以是，包括，或基本上由如下组成：[Cc]m1[(CrCl4)1-]q1、或[Cc]m1[(Cr(CN)6)3-]q1；可替换地，[Cc]m1[(CrCl4)1-]q1；或可替换地，[Cc]m1[(Cr(CN)6)3-]q1。在这些非限制性的实施方式中，C可以是具有此处描述的电荷c的任何阳离子种类，q＝c除以c和|m|的最大公约数(阴离子铬络合物上的电荷的绝对值)、和m1＝|m|除以c和|m|的最大公约数。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Crx1Xn1)m]q1[Cc]m1或[(CrXn1)m]q1[Cc]m1的其他有用的铬前体。容易地看到和预期这些一般的和特殊的铬前体。
在方面中，铬前体可具有式[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2。此处独立地描述具有x的氧化态的铬原子的数目(y1)、具有y电荷的阴离子配体(X)、具有y电荷的阴离子配体的数目(x1)、铬络合物((Cry1Xx1)m)上的电荷(m)、铬络合物((Cry1Xx1)m)的数目(q)、具有电荷a的阴离子种类(A)、和具有电荷a的阴离子种类的数目(m2)。这些独立的描述可以任何相容的方式和/或组合用于进一步描述具有式[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2的铬前体。在其中铬前体可具有式[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2的方面中，式[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2可包含具有阳离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0，和m2具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m2>0)。在实施方式中，具有式[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2的铬前体可包含具有阳离子铬络合物、和阴离子种类之间的关系的阳离子铬络合物的一般的铬前体，其中，m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m>0，q和a独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝|a|除以m和|a|的最大公约数，和m2可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m2＝m除以m和|a|的最大公约数。在实施方式中，具有式[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2的铬前体可包含具有阳离子铬络合物的一般的铬前体，其中，m可具有此处公开的任何值、或值范围，其中m>0和m＝(x*y1)+(y*x1)。由于m>0和m＝(x*y1)+(y*x1)的条件，x1可以是满足等式x1<(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处公开的任何正整数和/或y1可能正整数且满足等式y1≥(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、x1和y的任何值)。在某些实施方式中，x1的范围可以是从0，或小于满足等式x1<(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处公开的任何X1值至满足等式x1<(x*y1)/|y|(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处提供的x1的任何值。在某些实施方式中，y1的范围可以是从满足等式y1≥(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、x1和y的任何值)的此处公开的y1的任何值至大于满足等式y1≥(|y|*x1)/x(利用此处公开的x、x1和y的任何值)的此处公开的任何值。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2的一般的和特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的和特殊的铬前体。
当具有式[(Cry1Xx1)m]q[Aa]m2的铬前体的每一个X是单阴离子配体时，铬前体可具有式[(CrXx1)m]q[Aa]m2。在其中铬前体可具有式[(CrXx1)m]q[Aa]m2的方面(其中每一个X是单阴离子配体)中，式[(CrXx1)m]q[Aa]m2可包含具有阳离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0，m2具有此处公开的任何值、或任何值范围，其中m2>0)。在其中铬前体可具有式[(CrXx1)m]q[Aa]m2的方面(其中每一个X是单阴离子配体)中，式[(CrXx1)m]q[Aa]m2可包含具有阳离子过渡金属络合物、和阴离子种类之间的关系的阳离子过渡金属络合物的一般过渡金属铬前体，其中m可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m>0，q和a独立地可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中q＝|a|除以m和|a|的最大公约数，和m2可具有此处公开的任何值(或值范围)，其中m2＝m除以m和|a|的最大公约数。在实施方式中，具有式[(CrXx1)m]q[Aa]m2铬前体(其中每一个X是单阴离子配体)可包含具有阳离子铬络合物的一般的铬前体(也就是，m可以是此处公开的任何值、或任何值范围，其中m>0和m＝x-x1)。由于m>0和m＝x-x1的条件，x1可以是满足等式x1<x(利用此处公开x的任何值)的此处公开的任何正整数。在某些实施方式中，x1的范围可以是从0，或小于满足等式x1<x(利用此处公开的x的任何值)的此处公开的任何x1值至满足等式x1<x(利用此处公开的x、y1和y的任何值)的此处提供的x1的任何值。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式[(CrXx1)m]q[Aa]m2(其中每一个X是单阴离子配体)的一般的和特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的和特殊的铬前体。
在方面中，铬前体可具有式Cry1Xx1。此处独立地描述具有x的氧化态的铬原子的数目(y1)、具有y电荷的阴离子配体(X)、具有y电荷的阴离子配体的数目(x1)。这些独立的描述可以任何相容的方式和/或组合用于进一步描述具有式Cry1Xx1的铬前体。在其中铬前体可具有式Cry1Xx1的方面中，式Cry1Xx1可包含中性铬络合物的一般的铬前体(也就是，m＝0，m1＝0和m2＝0)。当铬前体具有式Cry1Xx1时，可通过等式x*y1＝|y*x1|关联具有氧化态x的铬原子的数目(y1)和具有电荷y的阴离子配体的数目(A)。在某些实施方式中，当铬前体的铬络合物具有式Cry1Xx1时，铬的数目，y1可通过关系，即，y1＝|y|除以x和|y|的最大公约数与铬氧化态(x)和阴离子配体(X)电荷(y)关联。在某些实施方式中，当铬前体的铬络合物具有式Cry1Xx1时，阴离子配体的数目，x1可通过关系，即，x1＝x除以x和|y|的最大公约数与铬氧化态(x)和阴离子配体(X)电荷(y)关联。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式Cry1Xx1的一般的和特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的和特殊的铬前体。
当具有式Cry1Xx1的铬前体的每一个X是单阴离子配体时，铬前体可具有式CrXx。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式CrXx的一般的和特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的和特殊的铬前体。
在非限制性的实施方式中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬前体(或铬络合物)可以是，包括，或基本上由如下组成：CrF3、CrCl3、CrBr3、或CrI3；可替换地，CrF3；可替换地，CrCl3；可替换地，CrBr3；或可替换地，CrI3。根据进一步的方面，铬卤基前体可以是，包括，或基本上由，铬(III)卤基组成。在一个非限制性的方面中，铬前体可以是，包括，或基本上由，CrCl3组成。可利用本公开的方面和实施方式描述具有式Cry1Xx和/或式CrXx的其他一般的和特殊的铬前体。容易地看到和预期这些一般的和特殊的铬前体。
在方面中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬前体可以是基本上无水的；或可替换地，无水的。在某些实施方式中，铬前体可具有少于或等于100ppm的水含量；可替换地，少于或等于90ppm；可替换地，少于或等于80ppm；可替换地，少于或等于70ppm；可替换地，少于或等于60ppm；可替换地，少于或等于50ppm；可替换地，少于或等于40ppm；可替换地，少于或等于30ppm；可替换地，少于或等于20ppm；可替换地，少于或等于10ppm；可替换地，少于或等于9ppm；可替换地，少于或等于8ppm；可替换地，少于或等于7ppm；可替换地，少于或等于6ppm；可替换地，少于或等于5ppm；可替换地，少于或等于4ppm；可替换地，少于或等于3ppm；可替换地，少于或等于2ppm；或可替换地，少于或等于1ppm。通常，铬前体的水含量以铬前体中的水的ppm(按重量计算)为基础。应该注意，存在于铬前体中的水可以铬前体杂质和/或铬前体中的间隙水的形式。
在方面中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的铬前体基本上可以是无酸的。在某些实施方式中，铬前体可具有少于或等于1000ppm的酸含量；可替换地，少于或等于750ppm；可替换地，少于或等于500ppm；可替换地，少于或等于250ppm。在其他实施方式中，铬前体可具有少于或等于100ppm的酸含量；可替换地，少于或等于90ppm；可替换地，少于或等于80ppm；可替换地，少于或等于70ppm；可替换地，少于或等于60ppm；可替换地，少于或等于50ppm；可替换地，少于或等于40ppm；可替换地，少于或等于30ppm；可替换地，少于或等于20ppm；可替换地，少于或等于10ppm；可替换地，少于或等于9ppm；可替换地，少于或等于8ppm；可替换地，少于或等于7ppm；可替换地，少于或等于6ppm；可替换地，少于或等于5ppm；可替换地，少于或等于4ppm；可替换地，少于或等于3ppm；可替换地，少于或等于2ppm；或可替换地，少于或等于1ppm。通常，铬前体的酸含量以铬前体中的酸的ppm(按重量计算)为基础。应该注意，存在于铬前体中的酸可以铬前体杂质和/或铬前体中的间隙酸的形式。
根据本公开的方面，用于制备羧酸铬组合物的方法可利用第1族或第2族金属羧酸盐；可替换地，第1族金属羧酸盐；或可替换地第2族金属羧酸盐。通常，第1族或第2族金属羧酸盐的羧酸盐分子可以是，包括，或基本上由如下组成：聚羧酸盐或一元羧酸盐；可替换地，聚羧酸盐；或可替换地，一元羧酸盐。此处独立地公开羧酸盐(例如，作为过渡或羧酸铬的羧酸盐)。这些独立的描述可无限制地用于进一步描述第1族或第2族金属羧酸盐。
在方面中，第1族或第2族金属羧酸盐可具有式(MA)p[(O2C)rR1c]s，其中MA代表第1族或第2族金属，p代表第1族或第2族金属羧酸盐中的金属原子的数目，(O2C)rR1c(也可以在羧酸盐分子上具有-1电荷显示-也就是，(-O2C)rR1c)代表羧酸盐基团，r代表羧酸盐基团中的羧酸盐分子的数目，s代表第1族或第2族金属羧酸盐中的羧酸盐基团的数目，和R1代表连接羧酸盐分子的基团。通常，第1族或第2族金属(MA)，第1族或第2族金属原子的数目(p)，羧酸盐基团((-O2C)rR1c)，羧酸盐基团的数目(s)，羧酸盐基团中的羧酸盐分子的数目(r)，和连接羧酸盐分子的基团(R1c)是具有式(MA)p[(O2C)rR1c]s的第1族或第2族金属羧酸盐的独立的元素，在此处独立地描述。具有式(MA)p[(O2C)rR1c]s的第1族或第2族金属羧酸盐的特征的这些独立的描述可以任何组合的方式用于描述具有式(MA)p[(O2C)rR1c]s的第1族或第2族金属羧酸盐。在另一个方面中，第1族或第2族金属羧酸盐可具有式MA(O2CR2c)s，其中MA代表第1族或第2族金属，O2CR1c(也可以在羧酸盐分子上具有-1电荷显示-也就是，-O2CR1c)代表羧酸盐基团，s代表第1族或第2族金属的氧化值。通常，第1族或第2族金属(MA)、一元羧酸盐基团(-O2CR2c)、一元羧酸酸基团的数目(s)和R2c是具有式MA(O2CR2c)s的第1族或第2族金属羧酸盐的独立元素。具有式MA(O2CR2c)s的第1族或第2族金属羧酸盐的这些独立描述可以任何组合的方式用于描述具有式MA(O2CR2c)s的第1族或第2族金属羧酸盐。此处独立地公开具有式(-O2C)rR1c和/或-O2CR2c的羧酸盐基团。这些独立的描述可无限制地用于进一步描述第1族或第2族金属羧酸盐。
在方面中，此处描述的任何第1族或第2族金属羧酸盐的第1族或第2族金属可以是，包括，或基本上由如下组成：第1族金属；或可替换地，第2族金属。在实施方式中，此处描述的任何第1族金属羧酸盐的第1族金属可以是，包括，或基本上由如下组成：Li、Na、或K；可替换地，Na、或K；可替换地，Li；可替换地，Na；或可替换地，K。在实施方式中，此处描述的任何第2族金属羧酸盐的第2族金属可以是，包括，或基本上由如下组成：Be、Mg、Ca、Sr、或Ba；可替换地，Ca或Mg；可替换地，Be；可替换地，Mg；可替换地，Ca；可替换地，Sr；或可替换地，Ba。通常，第1族金属的氧化态是1，而第2族金属的氧化态是2。
在非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：羧酸钠或钾；可选地，羧酸钠；或可选地，羧酸钾。在一些非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：草酸钠或钾、马来酸钠或钾、琥珀酸钠或钾、戊二酸钠或钾、己二酸钠或钾、邻苯二甲酸钠或钾、间苯二甲酸钠或钾、对苯二甲酸钠或钾、柠檬酸钠或钾、或其任意组合；可选地，马来酸钠或钾、琥珀酸钠或钾、戊二酸钠或钾、己二酸钠或钾、邻苯二甲酸钠或钾、间苯二甲酸钠或钾、对苯二甲酸钠或钾、或其任意组合；可选地，草酸钠、马来酸钠、琥珀酸钠、戊二酸钠、己二酸钠、邻苯二甲酸钠、间苯二甲酸钠、对苯二甲酸钠、柠檬酸钠、或其任意组合；可选地，马来酸钠、琥珀酸钠、戊二酸钠、己二酸钠、邻苯二甲酸钠、间苯二甲酸钠、对苯二甲酸钠、或其任意组合；可选地，草酸钾、马来酸钾、琥珀酸钾、戊二酸钾、己二酸钾、邻苯二甲酸钾、间苯二甲酸钾、对苯二甲酸钾、柠檬酸钾、或其任意组合；或可选地，马来酸钾、琥珀酸钾、戊二酸钾、己二酸钾、邻苯二甲酸钾、间苯二甲酸钾、对苯二甲酸钾、或其任意组合。在其他非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：草酸钠或钾；可选地，马来酸钠或钾；可选地，琥珀酸钠或钾；可选地，戊二酸钠或钾；可选地，己二酸钠或钾；可选地，邻苯二甲酸钠或钾；可选地，间苯二甲酸钠或钾；可选地，对苯二甲酸钠或钾、柠檬酸钠或钾；可选地，草酸钠；可选地，马来酸钠；可选地，琥珀酸钠；可选地，戊二酸钠；可选地，己二酸钠；可选地，邻苯二甲酸钠；可选地，间苯二甲酸钠；可选地，对苯二甲酸钠；可选地，柠檬酸钠；可选地，草酸钾；可选地，马来酸钾；可选地，琥珀酸钾；可选地，戊二酸钾；可选地，己二酸钾；可选地，邻苯二甲酸钾；可选地，间苯二甲酸钾；可选地，对苯二甲酸钾；或可选地，柠檬酸钾。
在非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：乙酸钠或钾、丙酸钠或钾、丁酸钠或钾、戊酸钠或钾、己酸钠或钾、庚酸钠或钾、辛酸钠或钾、壬酸钠或钾、癸酸钠或钾、十一烷酸钠或钾、十二烷酸钠或钾、十三烷酸钠或钾、十四烷酸钠或钾、十五烷酸钠或钾、十六烷酸钠或钾、十七烷酸钠或钾、十八烷酸钠或钾、二十烷酸钠或钾、二十二烷酸钠或钾、二十四烷酸钠或钾，苯甲酸钠或钾、取代苯甲酸钠或钾、或其任意组合；可选地，丙酸钠或钾、丁酸钠或钾、戊酸钠或钾、己酸钠或钾、庚酸钠或钾、辛酸钠或钾、壬酸钠或钾、癸酸钠或钾、十一烷酸钠或钾、十二烷酸钠或钾、十三烷酸钠或钾、十四烷酸钠或钾、十五烷酸钠或钾、十六烷酸钠或钾、十七烷酸钠或钾、十八烷酸钠或钾、二十烷酸钠或钾、二十二烷酸钠或钾、二十四烷酸钠或钾、苯甲酸钠或钾、取代苯甲酸钠或钾、或其任意组合；可选地，戊酸钠或钾、己酸钠或钾、庚酸钠或钾、辛酸钠或钾、壬酸钠或钾、癸酸钠或钾、十一烷酸钠或钾、十二烷酸钠或钾、或其任意组合。在非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：乙酸钠、丙酸钠、丁酸钠、戊酸钠、己酸钠、庚酸钠、辛酸钠、壬酸钠、癸酸钠、十一烷酸钠、十二烷酸钠、十三烷酸钠、十四烷酸钠、十五烷酸钠、十六烷酸钠、十七烷酸钠、十八烷酸钠、二十烷酸钠、二十二烷酸钠、二十四烷酸钠、苯甲酸钠、取代苯甲酸钠、或其任意组合；可选地，丙酸钠、丁酸钠、戊酸钠、己酸钠、庚酸钠、辛酸钠、壬酸钠、癸酸钠、十一烷酸钠、十二烷酸钠、十三烷酸钠、十四烷酸钠、十五烷酸钠、十六烷酸钠、十七烷酸钠、十八烷酸钠、二十烷酸钠、二十二烷酸钠、二十四烷酸钠、苯甲酸钠、取代苯甲酸钠、或其任意组合；可选地，戊酸钠、己酸钠、庚酸钠、辛酸钠、壬酸钠、癸酸钠、十一烷酸钠、十二烷酸钠、或其任意组合。在其他非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：乙酸钾、丙酸钾、丁酸钾、戊酸钾、己酸钾、庚酸钾、辛酸钾、壬酸钾、癸酸钾、十一烷酸钾、十二烷酸钾、十三烷酸钾、十四烷酸钾、十五烷酸钾、十六烷酸钾、十七烷酸钾、十八烷酸钾、二十烷酸钾、二十二烷酸钾、二十四烷酸钾、苯甲酸钾、取代苯甲酸钾、或其任意组合；可选地，丙酸钾、丁酸钾、戊酸钾、己酸钾、庚酸钾、辛酸钾、壬酸钾、癸酸钾、十一烷酸钾、十二烷酸钾、十三烷酸钾、十四烷酸钾、十五烷酸钾、十六烷酸钾、十七烷酸钾、十八烷酸钾、二十烷酸钾、二十二烷酸钾、二十四烷酸钾、苯甲酸钾、取代苯甲酸钾、或其任意组合；可选地，戊酸钾、己酸钾、庚酸钾、辛酸钾、壬酸钾、癸酸钾、十一烷酸钾、十二烷酸钾、或其任意组合。
在非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：乙酸钠或钾、丙酸钠或钾、正丁酸钠或钾、异丁酸钠或钾、戊酸钠或钾(正戊酸盐)、新戊酸钠或钾、己酸钠或钾(正己酸盐)、正庚酸钠或钾、辛酸钠或钾(正辛酸盐)、2-乙基己酸钠或钾、正壬酸钠或钾、癸酸钠或钾(正癸酸盐)、正十一烷酸钠或钾、月桂酸钠或钾(正十二烷酸盐)、硬脂酸钠或钾(正十八烷酸盐)、苯甲酸钠或钾、或其任意组合；可选地，丙酸钠或钾、正丁酸钠或钾、异丁酸钠或钾、戊酸钠或钾(正戊酸盐)、新戊酸钠或钾、己酸钠或钾(正己酸盐)、正庚酸钠或钾、辛酸钠或钾(正辛酸盐)、2-乙基己钠或钾酸盐、正壬酸钠或钾、癸酸钠或钾(正癸酸盐)、正十一烷酸钠或钾、月桂酸钠或钾(正十二烷酸盐)、硬脂酸钠或钾(正十八烷酸盐)、苯甲酸钠或钾、或其任意组合；可选地，戊酸钠或钾(正戊酸盐)、新戊酸钠或钾、己酸钠或钾(正己酸盐)、正庚酸钠或钾、辛酸钠或钾(正辛酸盐)、2-乙基己酸钠或钾、正壬酸钠或钾、癸酸钠或钾(正癸酸盐)、正十一烷酸钠或钾、月桂酸钠或钾盐(正十二烷酸盐)、或其任意组合。在一些非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：乙酸钠、丙酸钠、正丁酸钠、异丁酸钠、戊酸(正戊酸)钠、新戊酸钠、己酸(正己酸)钠、正庚酸钠、辛酸(正辛酸)钠、2-乙基己酸钠，正壬酸钠、癸酸(正癸酸)钠、正十一烷酸钠、月桂酸(正十二烷酸)钠、硬脂酸(正十八烷酸)钠、苯甲酸钠、或其任意组合；可选地，丙酸钠、正丁酸钠、异丁酸钠、戊酸(正戊酸)钠、新戊酸钠、己酸(正己酸)钠、正庚酸钠、辛酸(正辛酸)钠、2-乙基己酸钠，正壬酸钠、癸酸(正癸酸)钠、正十一烷酸钠、月桂酸(正十二烷酸)钠、硬脂酸(正十八烷酸)钠、苯甲酸钠、或其任意组合；可选地，戊酸(正戊酸)钠、新戊酸钠、己酸(正己酸)钠、正庚酸钠、辛酸(正辛酸)钠、2-乙基己酸钠，正壬酸钠、癸酸(正癸酸)钠、正十一烷酸钠、月桂酸(正十二烷酸)钠、或其任意组合。在其他非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：乙酸钾、丙酸钾、正丁酸钾、异丁酸钾、戊酸(正戊酸)钾、新戊酸钾、己酸(正己酸)钾、正庚酸钾、辛酸(正辛酸)钾、2-乙基己酸钾，正壬酸钾、癸酸(正癸酸)钾、正十一烷酸钾、月桂酸(正十二烷酸)钾、硬脂酸(正十八烷酸)钾、苯甲酸钾、或其任意组合；可选地，丙酸钾、正丁酸钾、异丁酸钾、戊酸(正戊酸)钾、新戊酸钾、己酸(正己酸)钾、正庚酸钾、辛酸(正辛酸)钾、2-乙基己酸钾，正壬酸钾、癸酸(正癸酸)钾、正十一烷酸钾、月桂酸(正十二烷酸)钾、硬脂酸(正十八烷酸)钾、苯甲酸钾、或其任意组合；或可选地，戊酸(正戊酸)钾、新戊酸钾、己酸(正己酸)钾、正庚酸钾、辛酸(正辛酸)钾、2-乙基己酸钾，正壬酸钾、癸酸(正癸酸)钾、正十一烷酸钾、月桂酸(正十二烷酸)钾、或其任意组合。在再其他非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：乙酸钠；可选地，丙酸钠；可选地，正丁酸钠；可选地，异丁酸钠；可选地，戊酸(正戊酸)钠；可选地，新戊酸钠；可选地，己酸(正己酸)钠；可选地，正庚酸钠；可选地，辛酸(正辛酸)钠；可选地，2-乙基己酸钠；可选地，正壬酸钠；可选地，癸酸(正癸酸)钠；可选地，正十一烷酸钠；可选地，月桂酸(正十二烷酸)钠；可选地，硬脂酸(正十八烷酸)钠；可选地，苯甲酸钠；可选地，乙酸钾；可选地，丙酸钾；可选地，正丁酸钾；可选地，异丁酸钾；可选地，戊酸(正戊酸)钾；可选地，新戊酸钾；可选地，己酸(正己酸)钾；可选地，正庚酸钾；可选地，辛酸(正辛酸)钾；可选地，2-乙基己酸钾；可选地，正壬酸钾；可选地，癸酸(正癸酸)钾；可选地，正十一烷酸钾；可选地，月桂酸(正十二烷酸)钾；可选地，硬脂酸(正十八烷酸)钾；或可选地，苯甲酸钾。
在非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：苯甲酸钠或钾、甲基苯甲酸钠或钾、二甲基苯甲酸钠或钾、环烷酸钠或钾、或其任意组合。在一些非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：苯甲酸钠、甲基苯甲酸钠、二甲基苯甲酸钠、环烷酸钠、或其任意组合；可选地，苯甲酸钾、甲基苯甲酸钾、二甲基苯甲酸钾、环烷酸钾、或其任意组合。在其他非限制性实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：苯甲酸钠；可选地，甲基苯甲酸钠；可选地，钠二甲基苯甲酸基；可选地，环烷酸钠；可选地，苯甲酸钾；可选地，甲基苯甲酸钾；可选地，二甲基苯甲酸钾；或可选地，环烷酸钾。
一方面，用于本文公开的任意方面或任意实施方式的第1族或第2族金属羧酸盐可以是基本上无水的；或可选地，无水的。在一些实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可具有如下水含量：小于或等于100ppm；可选地，小于或等于90ppm；可选地，小于或等于80ppm；可选地，小于或等于70ppm；可选地，小于或等于60ppm；可选地，小于或等于50ppm；可选地，小于或等于40ppm；可选地，小于或等于30ppm；可选地，小于或等于20ppm；可选地，小于或等于10ppm；可选地，小于或等于9ppm；可选地，小于或等于8ppm；可选地，小于或等于7ppm；可选地，小于或等于6ppm；可选地，小于或等于5ppm；可选地，小于或等于4ppm；可选地，小于或等于3ppm；可选地，小于或等于2ppm；或可选地，小于或等于1ppm。通常，第1族或第2族金属羧酸盐的水含量可基于第1族或第2族金属羧酸盐中水的ppm(按重量计)。应注意，存在于第1族或第2族金属羧酸盐中的水可以是第1族或第2族金属羧酸盐杂质和/或第1族或第2族金属羧酸盐中间隙水的形式。
一方面，用于本文公开的任意方面或任意实施方式的第1族或第2族金属羧酸盐可以是基本上无酸的。在一些实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可具有如下酸含量：小于或等于1000ppm；可选地，小于或等于750ppm；可选地，小于或等于500ppm；或可选地，小于或等于250ppm。在其他实施方式中，第1族或第2族金属羧酸盐可具有如下酸含量：小于或等于100ppm；可选地，小于或等于90ppm；可选地，小于或等于80ppm；可选地，小于或等于70ppm；可选地，小于或等于60ppm；可选地，小于或等于50ppm；可选地，小于或等于40ppm；可选地，小于或等于30ppm；可选地，小于或等于20ppm；可选地，小于或等于10ppm；可选地，小于或等于9ppm；可选地，小于或等于8ppm；可选地，小于或等于7ppm；可选地，小于或等于6ppm；可选地，小于或等于5ppm；可选地，小于或等于4ppm；可选地，小于或等于3ppm；可选地，小于或等于2ppm；或可选地，小于或等于1ppm。通常，第1族或第2族金属羧酸盐的酸含量可基于第1族或第2族金属羧酸盐中酸的ppm(按重量计)。应注意，存在于第1族或第2族金属羧酸盐中的酸可以是第1族或第2族金属羧酸盐杂质和/或第1族或第2族金属羧酸盐中间隙酸的的形式。
在方面中，可用于接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的步骤的溶剂可以是，包括，或基本上由，适于方法的任何溶剂组成。在实施方式中，可用于接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的步骤的溶剂可以是，包括，或基本上由，非质子溶剂组成。在某些实施方式中，可用于接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的步骤的溶剂可以是，包括，或基本上由如下组成：非极性溶剂、非质子极性溶剂，或其任何组合；可替换地，非极性溶剂和非质子极性溶剂的组合；可替换地，非极性溶剂；或可替换地，非质子极性溶剂。此处独立地描述溶剂(非质子的、非极性的、和/或非质子极性的)，且其可无限制用于进一步描述可用于接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的步骤的溶剂。
在实施方式中，非极性溶剂可以是，包括，或基本上由如下组成：烃、卤化烃，或其任何组合；可替换地，烃；可替换地，卤化烃。此处独立地描述烃和卤化烃溶剂，且其可被无限制用作接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的步骤中的溶剂。
在实施方式中，非质子极性溶剂可以是，包括，或基本上由如下组成：可被用作此处描述的中性配体的任何化合物。在某些实施方式中，非质子极性溶剂可以是，包括，或基本上由，与被用作被利用的过渡金属前体的中性配体相同的化合物组成。在其他实施方式中，非质子极性溶剂可以是，包括，或基本上由，与被用作被利用的过渡金属前体的中性配体不同的化合物组成。在方面和实施方式中，其中铬前体不具有中性配体，非质子极性溶剂可以是，包括，或基本上由，可被用作用于过渡金属前体的中性配体的此处描述的任何化合物组成。此处独立地描述可被用作中性配体的化合物，且其可被无限制用作接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的步骤中的溶剂。
在方面中，用于此处公开的任何方面或任何实施方式的溶剂可以是基本上无水的；或可替换地，无水的。在某些实施方式中，溶剂可具有少于或等于100ppm的水含量；可替换地，少于或等于90ppm；可替换地，少于或等于80ppm；可替换地，少于或等于70ppm；可替换地，少于或等于60ppm；可替换地，少于或等于50ppm；可替换地，少于或等于40ppm；可替换地，少于或等于30ppm；可替换地，少于或等于20ppm；或可替换地，少于或等于10ppm；可替换地，少于或等于9ppm；可替换地，少于或等于8ppm；可替换地，少于或等于7ppm；可替换地，少于或等于6ppm；可替换地，少于或等于5ppm；可替换地，少于或等于4ppm；可替换地，少于或等于3ppm；可替换地，少于或等于2ppm；或可替换地，少于或等于1ppm。通常，溶剂的水含量以溶剂中的水的ppm(按重量计算)为基础。
在方面中，可用于此处公开的任何方面或任何实施方式的溶剂可以是基本上无酸的。在某些实施方式中，溶剂可具有少于或等于1000ppm的酸含量；可替换地，少于或等于750ppm；可替换地，少于或等于500ppm；可替换地，少于或等于250ppm。在其他实施方式中，溶剂可具有少于或等于100ppm的酸含量；可替换地，少于或等于90ppm；可替换地，少于或等于80ppm；可替换地，少于或等于70ppm；可替换地，少于或等于60ppm；可替换地，少于或等于50ppm；可替换地，少于或等于40ppm；可替换地，少于或等于30ppm；可替换地，少于或等于20ppm；可替换地，少于或等于10ppm；可替换地，少于或等于9ppm；可替换地，少于或等于8ppm；可替换地，少于或等于7ppm；可替换地，少于或等于6ppm；可替换地，少于或等于5ppm；可替换地，少于或等于4ppm；可替换地，少于或等于3ppm；可替换地，少于或等于2ppm；或可替换地，少于或等于1ppm。通常，溶剂的酸含量以溶剂中的酸的ppm(按重量计算)为基础。
在方面中，本公开描述用于制备羧酸铬组合物的方法，其包括：接触1)铬前体，2)第1族或第2族金属羧酸盐，和3)溶剂，以便形成羧酸铬。在另一个方面中，本公开描述用于制备羧酸铬组合物的方法，其可包括：接触1)铬前体，2)第1族或第2族金属羧酸盐，和3)溶剂，以便形成包括羧酸铬的溶液。在实施方式中，用于制备羧酸铬组合物的方法可包括：a)接触1)铬前体，2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，和3)溶剂，以便形成C3-C25羧酸盐。在某些实施方式中，用于制备羧酸铬组合物的方法可包括：a)接触1)铬前体，2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，和3)溶剂，以便形成包括铬C3-C25羧酸盐的溶液。铬前体(例如，此处公开的铬(III)前体，等)、第1族或第2族金属羧酸盐(例如，此处公开的第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，等)，和溶剂是制备羧酸铬组合物的方法的独立元素。可利用铬前体、此处描述的第1族或第2族金属羧酸盐，或此处描述的溶剂的任何方面或任何实施方式的任何组合描述用于制备羧酸铬的方法。
在方面中，用于生产羧酸铬的方法的铬前体(一般的或特殊的)可以是基本上无水的铬前体，可替换地，基本上无酸的铬前体；或可替换地，基本上无水的和基本上无酸的铬前体。在实施方式中，用于生产羧酸铬的方法的铬前体(一般的或特殊的)可具有此处公开的任何铬前体水含量。在实施方式中，用于生产羧酸铬的方法的铬前体(一般的或特殊的)可具有此处公开的任何铬前体酸含量。
在方面中，用于生产羧酸铬的方法的第1族或第2族金属羧酸盐(一般的或特殊的)可以是基本上无水的第1族或第2族金属羧酸盐；可替换地，基本上无酸的第1族或第2族金属羧酸盐；或可替换地，基本上无水的和基本上无酸的第1族或第2族金属羧酸盐。在实施方式中，用于生产羧酸铬的方法的第1族或第2族金属羧酸盐(一般的或特殊的)可具有此处公开的任何第1族或第2族金属羧酸盐水含量。在实施方式中，用于生产羧酸铬的方法的第1族或第2族金属羧酸盐(一般的或特殊的)可具有此处公开的任何第1族或第2族金属羧酸盐酸含量。
在方面中，用于接触铬前体，第1族或第2族金属羧酸盐，和溶剂的步骤中的溶剂可以是基本上无水的；可替换地，基本上无酸的；或可替换地，基本上无水的和基本上无酸的。在实施方式中，用于生产羧酸铬的方法的溶剂可具有此处公开的任何溶剂水含量。在实施方式中，用于生产羧酸铬的方法的溶剂可具有此处公开的任何溶剂酸含量。
在方面中，可在基本上无水的条件下；或可替换地，在无水的条件下接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂。在另一个方面中，可在基本上无水的条件下；或可替换地，在无水的条件下形成羧酸铬。在方面中，可在基本上无酸的条件下；或可替换地，在无酸的条件下接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂。在另一个方面中，可在基本上无酸的条件下；或可替换地，在无酸的条件下形成羧酸铬。在实施方式中，铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的每一个独立地可具有此处公开的用于铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的任何水含量。在方面中，可在基本上无水的和基本上无酸的条件下；或可替换地，在无水的和无酸的条件下接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂。在另一个方面中，可在基本上无水和基本上无酸的条件下；或可替换地，在无水和无酸的条件下形成羧酸铬。在方面中，可在基本上无酸的条件下；或可替换地，在酸的条件下接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂。
在方面中，可以任何组合或顺序接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐，和溶剂。在实施方式中，可同时地接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐，和溶剂。在实施方式中，可接触铬前体和溶剂，以便形成混合物，随后使混合物与第1族或第2族金属羧酸盐接触；可替换地，可接触第1族或第2族金属羧酸盐和溶剂，以便形成混合物，随后使混合物与铬前体接触；或可替换地，1)可接触铬前体和溶剂的部分，以便形成第一混合物，2)接触第1族或第2族金属羧酸盐和溶剂的部分，以便形成第二混合物，和3)接触第一和第二混合物。在某些实施方式中，第一混合物的溶剂与第二混合物的溶剂相同。在其他实施方式中，第一混合物的溶剂与第二混合物的溶剂是不同的。
在方面中，接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐，和溶剂的步骤不限于接触或形成方法的具体的类型、具体的反应器、或任何具体的工程需要。在实施方式中，可通过分批方法或连续方法；可替换地，分批方法；或可替换地，连续方法出现羧酸铬的形成。在实施方式中，可在包括，或基本上由铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐，和溶剂组成的悬浮液或混合物中，通过分批方法出现羧酸铬的形成。
在实施方式中，可在范围为从-40℃至200℃的温度下接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐，和溶剂的任何组合；可替换地，-40℃至150℃；可替换地，-40℃至100℃；可替换地，-20℃至80℃；或可替换地，0℃至60℃。在实施方式中，在接触铬前体和溶剂的温度下，铬前体(一般的或特殊的)可不溶于溶剂；可替换地，在接触铬前体和溶剂的温度下部分地溶于溶剂；或可替换地，在接触铬前体和溶剂的温度下，是可溶的。在实施方式中，在接触第1族或第2族金属羧酸盐和溶剂的温度下，第1族或第2族金属羧酸盐(一般的或特殊的)可不溶于溶剂；可替换地，在接触第1族或第2族金属羧酸盐和溶剂的温度下部分地溶于溶剂；或可替换地，在接触第1族或第2族金属羧酸盐铬前体和溶剂的温度下，是可溶的。
在实施方式中，可以任何适当的铬前体对羧酸盐基团当量比接触铬前体和第1族或第2族金属羧酸盐。
在方面中，可在适于形成羧酸铬的条件下形成羧酸铬。能够形成羧酸铬的条件可包含，温度、时间、压力、铬前体对羧酸铬基团比率(摩尔或当量)、和/或其任何组合，等条件。此处独立地描述这些羧酸铬形成条件，且其可以任何组合用于进一步描述用于产生羧酸铬组合物的方法。
在方面中，可以任何适当的第1族或第2族金属羧酸盐的羧酸盐基团对铬前体的铬当量比(也就是，羧酸盐基团对铬当量比)接触铬前体和第1族或第2族金属羧酸盐。在实施方式中，羧酸盐基团对铬当量比可属于羧酸盐基团对铬当量比的范围。在实施方式中，羧酸盐基团对铬当量比的任何范围的最小的当量比可以是0.95：1；可替换地，1：1；可替换地，1.03：1；或可替换地，1.05：1。在实施方式中，羧酸盐基团对铬当量比的范围可以是从此处描述的任何最小的羧酸盐基团对铬当量比至此处描述的任何最大的羧酸盐基团对铬当量比。在某些非限制性实施方式中，羧酸盐基团对铬当量比的范围可以是从0.95：1至1.3：1；可替换地，1：1至1.25：1；可替换地，1：1至1.2：1；可替换地，1.03：1至1.25：1；可替换地，1.03：1至1.2：1；可替换地，1.05：1至1.2：1；或可替换地，1.05：1至1.15：1。容易地从本公开看到其他羧酸盐基团对铬当量比范围，通常，+x氧化态中的铬含有x当量过渡金属。通常，具有r羧酸盐基团的羧酸盐含有r当量羧酸盐基团。
在方面中，可在任何适当的第1族或第2族金属羧酸盐的羧酸盐基团对铬前体的铬摩尔比(也就是，羧酸盐对铬摩尔比)下接触铬前体和第1族或第2族金属羧酸盐。在实施方式中，羧酸盐基团对铬摩尔比可属于羧酸盐基团对铬摩尔比的范围。通常，通过铬前体的铬的氧化态关联羧酸盐基团对铬摩尔比和羧酸盐基团对铬当量比，因为，被利用的羧酸盐基团的摩尔的数目等于x*羧酸盐基团中的羧酸盐基团的数目对铬当量比。在实施方式中，羧酸盐基团对铬摩尔比的任何范围的最小的摩尔比可以是0.95*x：1；可替换地，1*x：1；可替换地，1.03*x：1；或可替换地，1.05*x：1。在实施方式中，羧酸盐基团对铬摩尔比的任何范围的最大的摩尔比可以是1.3*x：1；可替换地，1*x：25；可替换地，1.2*x：1；或可替换地，1.05*x：1。在实施方式中，羧酸盐基团对铬摩尔比的范围可以是从任何最小的羧酸盐基团对铬摩尔比至此处描述的任何最大的羧酸盐基团对铬摩尔比。在某些非限制性实施方式中，羧酸盐基团对铬摩尔比的范围可以是从0.95*x：1至1.3*x：1；可替换地，1*x：1至1.25*x：1；可替换地，1*x：1至1.2*x：1；可替换地，1.03*x：1至1.25*x：1；可替换地，1.03*x：1至1.2*x：1；可替换地，1.05*x：1至1.2*x：1；或可替换地，1.05*x：1至1.15*x：1。在另一个非限制性实施方式中，羧酸盐基团对铬摩尔比可以是1.1*x：1。容易地从本公开看到其他羧酸盐基团对铬摩尔比范围。
在实施方式中，可在范围为从-40℃至200℃的温度下形成羧酸铬；可替换地，-40℃至150℃；可替换地，-40℃至100℃；可替换地，-20℃至80℃；或可替换地，0℃至60℃。在实施方式中，在形成羧酸铬的温度下，铬前体(一般的或特殊的)可不溶于溶剂；可替换地，在形成羧酸铬的温度下部分地溶于溶剂；或可替换地，在可形成羧酸铬的温度下，是可溶的。在实施方式中，在可形成羧酸铬的温度下，第1族或第2族金属羧酸盐(一般的或特殊的)可不溶于溶剂；可替换地，在可形成羧酸铬的温度下部分地溶于溶剂；或可替换地，在可形成羧酸铬铬的温度下，是可溶的。可接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的任何组合的温度和羧酸铬形成温度是彼此独立的。应该注意，当接触温度和形成温度不同时，这不暗示，不可在接触温度或在接触温度和形成温度之间的温度上开始羧酸铬的形成。形成温度仅指示，在某点上，在规定的形成温度上出现羧酸铬的部分的形成。也应该注意，可在一个温度下(可缓慢地形成羧酸铬的形成的温度)接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂，和然后在第二温度上形成羧酸铬(或可替换地，包括，基本上由，或由经受羧酸铬的形成的第二温度的铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂组成的混合物)。
在方面中，羧酸铬的形成时间(或可替换地，用于铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的接触时间)可以是至少0.1小时；可替换地，至少0.15小时；可替换地，至少0.2小时；可替换地，至少0.25小时；可替换地，至少0.3小时；可替换地，至少0.35小时；可替换地，至少0.45小时；或可替换地，至少0.5小时。在实施方式中，羧酸铬的最大的形成时间(或可替换地，用于铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的接触时间)可以是168小时；可替换地，144小时；可替换地，120小时；可替换地，96小时；可替换地，72小时；可替换地，48小时；可替换地，36小时；可替换地，24小时；可替换地，18小时；可替换地，15小时；可替换地，12小时；可替换地，9小时；可替换地，8小时；或可替换地，7小时。在某些实施方式中，能够形成卤化铬(III)络合物的条件可包含范围可以是从此处公开的任何最小的羧酸铬形成时间(或可替换地，铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的接触时间)至此处描述的任何最大的羧酸铬形成时间(或可替换地，铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂接触时间)的羧酸铬形成时间(或可替换地，用于铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的接触时间)。在某些非限制性实施方式中，羧酸铬形成时间(或可替换地，铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂接触时间)可以是从0.1小时至168小时；可替换地，从0.1小时至120小时；可替换地，从0.25小时至72小时；可替换地，从0.4小时至36小时；可替换地，从0.5小时至24小时；或可替换地，从0.5小时至24小时。容易地从本公开看到其他羧酸铬形成时间(或可替换地，铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂接触时间)。
在方面中，可在能够形成羧酸铬的任何压力下形成羧酸铬。在实施方式中，能够形成羧酸铬的条件可包含大气压力(也就是，大约14.7psi或大约101kPa)。在实施方式中，能够形成羧酸铬的条件可包含使包括铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的接触混合物经受大于大气压力的压力。在某些实施方式中，能够形成羧酸铬的条件可包含至少大气压力的压力；可替换地，大于大气压力至少2psi(14kPa)；可替换地，大于大气压力至少5psi(34kPa)；可替换地，大于大气压力至少10psi(69kPa)；或可替换地，大于大气压力至少15psi(103kPa)。在某些实施方式中，能够形成羧酸铬的条件可包含能够将溶剂维持在液态的压力；可替换地，大于能够将溶剂维持在液态的压力至少2psi(14kPa)；可替换地，大于能够将溶剂维持在液态的压力至少5psi(34kPa)；可替换地，大于能够将溶剂维持在液态的压力至少10psi(69kPa)；或可替换地，大于能够将溶剂维持在液态的压力至少15psi(103kPa)。在其他实施方式中，能够形成羧酸铬的条件可包含500psi(3.4mPa)的最大压力；可替换地，400psi(2.8mPa)的最大压力；可替换地，250psi(1.7mPa)的最大压力；可替换地，200psi(1.4mPa)的最大压力；可替换地，150psi(1.0mPa)的最大压力；可替换地，100psi(689kPa)的最大压力；可替换地，50psi(345kPa)的最大压力。在还有的其他实施方式中，能够形成羧酸铬的条件可包含范围可以是从此处公开的任何最小的羧酸铬形成压力至此处描述的任何最大的羧酸铬形成压力的压力。在某些实施方式中，能够形成羧酸铬的条件可包含可包含从大气压力至500psi(3.4mPa)；可替换地，大于大气压力至少2psi(14kPa)至500psi(3.4mPa)；可替换地，大于能够将溶剂维持在液态的压力至少5psi(34kPa)至500psi(3.4mPa)。容易地从本公开看到可以是能够形成羧酸铬的其他压力范围。
在实施方式中，可在基本上干燥(或可替换地，干燥的)空气下接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂的任何组合和/或形成羧酸铬。在实施方式中，基本上干燥(或可替换地，干燥的)空气可包括氮、氩、氦、氧、或其任何组合；或可替换地，氮、氩、氦、或其任何组合。在某些实施方式中，基本上干燥的空气可以是基本上干燥的氮、基本上干燥的氩、基本上干燥的氦、或基本上干燥的空气；可替换地，基本上干燥的氮；可替换地，基本上干燥的氩；可替换地，基本上干燥的氦；或可替换地，基本上干燥的空气。在其他实施方式中，干燥的空气可以是干燥的氮、干燥的氩、干燥的氦、或干燥的空气；可替换地，干燥的氮；可替换地，干燥的氩；可替换地，干燥的氦；或可替换地，干燥的空气。在某些实施方式中，可在含有少于或等于100ppm水的空气(此处描述的任何)下接触铬前体、第1族或第2族金属羧酸盐、和溶剂和/或形成羧酸铬；可替换地，少于或等于90ppm水；可替换地，少于或等于80ppm水；可替换地，少于或等于70ppm水；可替换地，少于或等于60ppm水；可替换地，少于或等于50ppm水；可替换地，少于或等于40ppm水；可替换地，少于或等于30ppm水；可替换地，少于或等于20ppm水；可替换地，少于或等于10ppm水；可替换地，少于或等于9ppm水；可替换地，少于或等于8ppm水；可替换地，少于或等于7ppm水；可替换地，少于或等于6ppm水；可替换地，少于或等于5ppm水；可替换地，少于或等于4ppm水；可替换地，少于或等于3ppm水；可替换地，少于或等于2ppm水；可替换地，少于或等于1ppm水。通常，在按重量计算基础上提供可存在于空气中的水的量。
在方面中，方法可进一步包括蒸发溶剂，以提供羧酸铬组合物。在另一个方面中，方法可包括从包括羧酸铬的溶液蒸发溶剂，以提供羧酸铬组合物。在实施方式中，方法可进一步包括过滤包括羧酸铬的溶液，以产生滤液和然后从滤液蒸发溶剂。在实施方式中，方法可进一步包括倾注包括羧酸铬的溶液和蒸发溶剂。通常，过滤和倾注可用于去除存在于包括羧酸铬的溶液中的任何不可溶解的微粒的至少部分。溶剂的蒸发可产生羧酸铬组合物。在某些实施方式中，其中，通过此处描述的任何方法纯化羧酸铬组合物，可将这个第一羧酸铬称为粗羧酸铬组合物。如果执行多个纯化和/或分离步骤，可通过利用名称如第一、第二、第三，等等对术语“羧酸铬”加引语区别多个羧酸铬组合物。
在方面中，可纯化粗羧酸铬组合物。在某些实施方式中，可通过在溶剂中溶解羧酸铬组合物，过滤含有被溶解的羧酸铬组合物的溶液，以提供滤液，和通过蒸发溶剂从滤液分离羧酸铬组合物纯化粗羧酸铬组合物。在实施方式中，用于溶解羧酸铬组合物的溶剂可以是，包括，或基本上由如下组成：非质子的溶剂；可替换地，非质子的极性溶剂；可替换地，非极性溶剂；可替换地，非配位溶剂。在另一个方面中，可通过使羧酸铬组合物与其中羧酸铬组合物是基本上不能溶解的，而羧酸铬组合物内的杂质是可溶解的溶剂接触，和过滤溶液，以再生羧酸铬组合物纯化羧酸铬组合物。在还有的其他实施方式中，可从溶剂再结晶羧酸铬组合物。在某些实施方式中，用于羧酸铬组合物的纯化的溶剂可以是，包括，或基本上由如下组成：非质子溶剂；可替换地，非质子极性溶剂；可替换地，非质子非极性溶剂；或可替换地，非配合溶剂。通常，可利用此处描述的羧酸铬组合物纯化方法的一个或任何组合纯化羧酸铬组合物。
如用于本说明书和权利要求中的，术语“基本上不可溶解的”意味着，在接触溶剂和羧酸铬的温度下，没有超过5g的物质(例如，羧酸铬组合物)溶于200mL溶剂。如用于本说明书和权利要求中的，术语“可溶解的”意味着，在接触溶剂和羧酸铬的温度下，大于80g的物质溶于200mL溶剂。如用于本说明书和权利要求中的，术语“部分地可溶解的”意味着，从5g至80g的物质溶于200mL溶剂。
在其中蒸发溶剂的任何实施方式中，可利用本领域的技术人员已知的任何方法进行溶剂的蒸发。在某些实施方式中，可在环境温度下蒸发溶剂(15-35℃，-没有应用外部热源)。在其他实施方式中，可利用微热蒸发溶剂(例如，在范围为从25℃至100℃的温度下)。在进一步的实施方式中，可在减压下，在环境温度下蒸发溶剂。在还有的其他实施方式中，可在减压下，利用微热蒸发溶剂。在其中可在减压下蒸发溶剂的任何方面或任何实施方式中，可在低于600Torr的压力下进行蒸发；可替换地，低于500Torr；可替换地，低于400Torr；可替换地，低于300Torr；可替换地，低于200Torr；可替换地，低于150Torr；可替换地，低于100Torr；可替换地，低于75Torr；可替换地，低于50Torr；可替换地，低于25Torr；可替换地，低于20Torr；可替换地，低于15Torr；可替换地，低于10Torr；可替换地，低于5Torr；或可替换地，低于1Torr。在实施方式中，溶剂的蒸发(不管如何进行和进行多少方法的步骤)可用于去除至少50、60、70、75、80、85、90、95、96、97、98、或99重量百分比的溶剂。
在此处公开的任何方面和任何实施方式中，用于制备此处描述的任何羧酸铬组合物的方法可包含用于减少羧酸铬组合物中的第1族或第2族金属含量的步骤。在此处公开的任何方面和任何实施方式中，可通过使羧酸铬组合物与烃基甲硅烷基卤基接触减少羧酸铬组合物的第1族或第2族金属含量。在某些方面和实施方式中，可通过使羧酸铬组合物与烷基甲硅烷基卤基接触减少羧酸铬组合物的第1族或第2族金属含量。在某些实施方式中，可在溶剂中接触羧酸铬组合物和烃基甲硅烷基卤基(或烷基甲硅烷基卤基)。在实施方式中，可接触羧酸铬组合物和烃基甲硅烷基卤基的溶剂可以是，包括，或基本上由如下组成：非质子溶剂；可替换地，非质子极性溶剂；可替换地，非质子非极性溶剂；或可替换地，非配合溶剂。此处描述溶剂和可无限制地利用满足羧酸铬组合物和烃基甲硅烷基卤基(或烷基甲硅烷基卤基)的接触的适当的分类(或特殊的溶剂)。在接触羧酸铬组合物和烃基甲硅烷基卤基(或烷基甲硅烷基卤基)之后，可过滤形成的溶液，以去除第1族或第2族金属卤化物盐。在去除第1族或第2族金属卤化物盐之后，然后可分离和任选地纯化羧酸铬组合物。此处描述用于分离和/或纯化羧酸铬组合物的方法。通常，可与此处描述的任何一般的或特殊的羧酸铬组合物(例如，羧酸铬(III)组合物)一起利用用于减少羧酸铬组合物中的第1族或第2族金属含量的方法。
在实施方式中，烃基甲硅烷基卤基可以是，包括，或基本上由如下组成：烃基甲硅烷基三卤基、二烃基甲硅烷基二卤基、三烃基甲硅烷基卤基、或其任何组合；可替换地，烃基甲硅烷基三卤基；可替换地，二烃基甲硅烷基二卤基；或可替换地，三烃基甲硅烷基卤基。在某些实施方式中，烃基甲硅烷基卤基可以是，包括，或基本上由如下组成：烷基甲硅烷基三卤基、二烷基甲硅烷基二卤基、三烷基甲硅烷基卤基、或其任何组合；可替换地，烷基甲硅烷基三卤基；可替换地，二烷基甲硅烷基二卤基；可替换地，三烷基甲硅烷基卤基。此处作为用于取代的环烷基、取代的芳香烃、取代的芳基、和取代的芳烷基(等基团)的取代基团描述烃基、烷基、和卤基。这些烃基、烷基和卤基可无限制地被用作用于此处描述的任何烃基甲硅烷基卤基或烷基甲硅烷基卤基的烃基、烷基、和卤基。在非限制性的实施方式中，烷基甲硅烷基卤基可以是，包括，或基本上由三甲基氯硅烷组成。
当用于制备羧酸铬组合物的方法具有可利用溶剂的多个步骤时，可通过以术语(或利用术语的短语)“溶剂”加序言，名称第一、第二、第三、等等的利用，将用于每一个具体的步骤的溶剂彼此区分。
此处描述羧酸铬组合物的性能和其可无限制地用于描述用于制备羧酸铬组合物的方法和通过该方法产生的羧酸铬组合物。
在非限制性的方面中，本公开提供用于制备羧酸铬(III)组合物的方法。用于制备羧酸铬(III)组合物的方法可包括：接触1)铬(III)前体，2)第1族或第2族金属羧酸盐，和3)溶剂，以便形成羧酸铬(III)。在另一个实施方式中，用于制备羧酸铬(III)组合物的方法可包括：接触1)铬(III)前体，2)第1族或第2族金属羧酸盐，和3)溶剂，以便形成包括羧酸铬(III)的溶液。在其他实施方式中，用于制造羧酸铬组合物的方法可包括：a)接触1)铬(III)前体，2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，和3)溶剂，以便形成C3-C25羧酸铬(III)。在某些实施方式中，用于制造羧酸铬组合物的方法可包括：a)接触1)铬(III)前体，2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，和3)溶剂，以便形成包括C3-C25羧酸铬(III)的溶液。铬(III)前体、第1族或第2族金属羧酸盐(例如，此处公开的第1族或第2族金属C3-C25羧酸盐，等)，和溶剂是制造羧酸铬(III)组合物的方法的独立元素，和可利用任何此处描述的第1族或第2族金属羧酸盐、此处描述的铬(III)前体、此处描述的羧酸铬(III)、和/或此处描述的溶剂描述用于制造羧酸铬的方法。可利用此处描述的铬(III)前体、此处描述的第1族或第2族金属羧酸盐、和/或此处描述的溶剂的任何方面或任何实施方式的任何组合描述用于制备羧酸铬(III)组合物的方法。容易地在本公开的基础上看到，且预期用于制备其他羧酸铬组合物的方法。
在实施方式中，用于生产羧酸铬(III)(一般的或特殊的)的方法的铬(III)前体(一般的或特殊的)可具有用于铬前体的此处公开的任何水含量(包含基本上无水的和无水的)和/或用于铬前体的此处公开的任何酸含量(包含基本上无酸的和无酸的)。在另一个实施方式中，用于生产羧酸铬(III)(一般的或特殊的)的方法的第1族或第2族金属羧酸盐(一般的或特殊的)可具有用于第1族或第2族金属羧酸盐的此处公开的任何水含量(包含基本上无水的和无水的)和/或用于第1族或第2族金属羧酸盐的此处公开的任何酸含量(包含基本上无酸的和无酸的)。在还有的另一个实施方式中，用于产生羧酸铬(III)(一般的或特殊的)的方法的溶剂可具有用于溶剂的此处公开的任何水含量(包含基本上无水的和无水的)和/或用于溶剂的此处公开的任何酸含量(包含基本上无酸的和无酸的)。在实施方式中，可在任何组合方法和/或条件下出现铬(III)前体(一般的或特殊的)和第1族或第2族金属羧酸盐(一般的或特殊的)的组合，形成用于铬(III)前体(一般的或特殊的)和第1族或第2族金属羧酸盐(一般的或特殊的)和溶剂的组合的此处描述的任何混合物和/或溶液。在还有的其他实施方式中，可在用于形成羧酸铬的此处描述的任何条件下形成羧酸铬(III)。在非限制性的实施方式中，可在羧酸盐基团对铬(III)摩尔比范围为从2.85：1至3.9：1下接触铬(III)前体和第1族或第2族金属羧酸盐；可替换地，3：1至3.75：1；可替换地，3：1至3.6：1；可替换地，3.09：1至3.75：1；可替换地，3.09：1至3.6：1；可替换地，3.15：1至3.6：1；或可替换地，3.15：1至3.45：1。用于制备羧酸铬的方法的其他方面和实施方式也可无限制地适用于用于制备羧酸铬(III)组合物的方法。
在方面中，可纯化粗羧酸铬(III)组合物。在某些实施方式中，可通过在溶剂中溶解羧酸铬(III)组合物，过滤含有被溶解的羧酸铬(III)组合物的溶液，以提供滤液，和通过蒸发溶剂从滤液分离羧酸铬(III)组合物纯化羧酸铬(III)组合物。在实施方式中，用于溶解羧酸铬(III)组合物的溶剂可以是，包括，或基本上由如下组成：非质子的溶剂；可替换地，非质子的极性溶剂；可替换地，非极性溶剂；或可替换地，非配位溶剂。在某些实施方式中，可通过使羧酸铬(III)组合物与其中铬(III)金属羧酸盐组合物是基本上不能溶解的，而羧酸铬(III)组合物内的杂质是可溶解的溶剂接触，和过滤溶液，以再生羧酸铬(III)组合物纯化羧酸铬(III)组合物。在还有的其他实施方式中，可从溶剂再结晶羧酸铬(III)组合物。在某些实施方式中，用于羧酸铬(III)组合物的纯化的溶剂可以是，包括，或基本上由如下组成：非质子溶剂；可替换地，非质子极性溶剂；可替换地，非极性溶剂；或可替换地，非配位溶剂。通常，可利用此处描述的羧酸铬(III)组合物纯化方法的一个或任何组合纯化羧酸铬(III)组合物。
本文所述不同方面和实施方式涉及非氢取代基，如卤素(或卤，卤基)、烃基、氢羧基、烷基和/或烷氧基取代基等。用于取代基的任意方面或任意实施方式的非氢取代基可以是卤基、C1至C10烃基、或C1至C10氢羧基；可选地，卤基或C1至C10烃基；可选地，卤基或C1至C10氢羧基；可选地，C1至C10烃基或C1至C10氢羧基；可选地，卤基；可选地，C1至C10烃基；或可选地，C1至C10氢羧基。在其他实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的非氢取代基可以是卤基、C1至C5烃基、或C1至C5氢羧基；可选地，卤基或C1至C5烃基；可选地，卤基或C1至C5氢羧基；可选地，C1至C5烃基或C1至C5氢羧基；可选地，卤基；可选地，C1至C5烃基；或可选地，C1至C5氢羧基。
在实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的任意卤基取代基可以是氟基、氯基、溴基、或碘基；可选地，氟基或氯基。在一些实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的任意卤基取代基可以是氟基；可选地，氯基；可选地，溴基；或可选地，碘基。
在实施方式中，任意烃基取代基可以是烷基、芳基、或芳烷基；可选地，烷基；可选地，芳基；或可选地，芳烷基。通常，烷基取代基(一种或多种)、芳基取代基(一种或多种)和/或芳烷基取代基(一种或多种)可与本文公开的烃基取代基具有相同数量的碳原子。在实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的任意烷基取代基可以是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2-甲基-1-丁基、叔戊基、3-甲基-1-丁基、3-甲基-2-丁基、或新戊基；可选地，甲基、乙基、异丙基、叔丁基、或新戊基；可选地，甲基；可选地，乙基；可选地，异丙基；可选地，叔丁基；或可选地，新戊基。在实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的任意芳基取代基可以是苯基、甲苯基、二甲苯基、或2,4,6-三甲基苯基；可选地，苯基；可选地，甲苯基；可选地，二甲苯基；或可选地，2,4,6-三甲基苯基。在实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的任意芳烷基取代基可以是苄基或乙基苯基(2-苯基乙-1-基或1-苯基乙-1-基)；可选地，苄基；可选地，乙基苯基；可选地，2-苯基乙-1-基；或可选地，1-苯基乙-1-基。
在实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的任意氢羧基取代基可以是烷氧基、芳氧基、或芳烷氧基；可选地，烷氧基；可选地，芳氧基、或芳烷氧基。通常，烷氧基取代基(一种或多种)、芳氧基取代基(一种或多种)和/或芳烷氧基取代基(一种或多种)可与本文公开的氢羧基取代基具有相同数量的碳原子。在实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的任意烷氧基取代基可以是甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、2-戊氧基、3-戊氧基、2-甲基-1-丁氧基、叔戊氧基、3-甲基-1-丁氧基、3-甲基-2-丁氧基、或新戊氧基；可选地，甲氧基、乙氧基、异丙氧基、叔丁氧基、或新戊氧基；可选地，甲氧基；可选地，乙氧基；可选地，异丙氧基；可选地，叔丁氧基；或可选地，新戊氧基。在实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的任意芳氧基取代基可以是苯氧基、甲苯氧基、二甲苯氧基、或2,4,6-三甲基苯氧基；可选地，苯氧基；可选地，甲苯氧基；可选地，二甲苯氧基；或可选地，2,4,6-三甲基苯氧基。在实施方式中，用于取代基的任意方面或任意实施方式的任意芳烷氧基取代基可以是苯甲酸基。
本文所述方法可利用一种或多种溶剂。可用于本公开方面和/或实施方式的溶剂的非限制性实例非限制地包括烃、卤代烃、醚、硫醚、腈、胺、膦、亚膦酸酯、碳酸酯、酯、酮、醛、醇、或其任意组合；可选地，烃、卤代烃、醚、硫醚、腈、胺、膦、亚膦酸酯、或其任意组合。在一些方面和/或实施方式中，方法可需要极性溶剂；或可选地，非极性溶剂。可利用的极性溶剂非限制地包括醚、硫醚、腈、胺、膦、亚膦酸酯、碳酸酯、酯，酮，醛、醇、或其任意组合；可选地，醚、硫醚、腈、胺、膦、亚膦酸酯、或其任意组合；可选地，醚；可选地，硫醚；可选地，腈；可选地，胺；可选地，膦；或可选地，和亚膦酸酯。在一些方面和实施方式中，方法可需要非极性溶剂。非极性溶剂非限制地包括烃、卤代烃、或其任意组合；可选地，烃；或可选地，卤代烃。在其他方面和/或实施方式中，制备过渡金属羧酸盐组合物的方法中的不同方法步骤、分离步骤和/或纯化步骤可利用非质子溶剂。可用于本公开的不同方面和/或实施方式的非质子溶剂可包括烃、卤代烃、醚、硫醚、酯、酮、醛、腈、和其任意组合；可选地，烃、卤代烃、醚、硫醚、腈、和其任意组合；可选地，烃、卤代烃、其任意组合；可选地，醚、酯、酮、醛、腈、和其任意组合；可选地，醚、腈和其任意组合；可选地，烃；可选地，卤代烃；可选地，醚；可选地，酯；可选地，硫醚；可选地，酮；可选地，醛；或可选地，腈。在一些方面和/或实施方式中，制备过渡金属羧酸盐组合物的方法中的不同方法步骤、分离步骤和/或纯化步骤可利用非质子极性溶剂。可利用的非质子极性溶剂包括醚、硫醚、酯、酮、醛、腈和其任意组合；可选地，醚、硫醚、腈和其任意组合；可选地，酯、酮、醛和其混合物；可选地，醚；可选地，硫醚；可选地，酯；可选地，酮；可选地，醛；或可选地，腈。在一些方面中，非质子极性溶剂可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：本文公开的任意中性配体(或中性配体组合)。在一些方面和/或实施方式中，制备过渡金属羧酸盐组合物的方法中的不同方法步骤、分离步骤和/或纯化步骤可利用非极性溶剂。可用于本公开不同方面和/或实施方式的非极性溶剂可包括烃、卤代烃、或其任意组合；可选地，烃；或可选地，卤代烃。在其他方面和/或实施方式中，制备过渡金属羧酸盐组合物的方法中的不同方法步骤、分离步骤和/或纯化步骤可利用配位溶剂。可用于本公开不同方面和/或实施方式的配位溶剂可包括醚、酯、酮、醛、腈、或其混合物；可选地，醚、腈、或其混合物；可选地，醚；可选地，酯；可选地，酮；可选地，醛；或可选地，腈。在一些方面中，配位溶剂可包括下列或基本上由下列组成：本文公开的任意中性配体(或中性配体组合)。在其他方面和/或实施方式中，制备过渡金属羧酸盐组合物的方法中的不同方法步骤、分离步骤和/或纯化步骤可利用非配位溶剂。可用于本公开不同方面和/或实施方式的非配位溶剂可包括烃、卤代烃、或其混合物；可选地，烃；可选地，卤代烃。
醚、硫醚、腈、胺、膦和亚膦酸酯在本文中被描述。这些醚、腈、胺、膦、和亚膦酸酯可非限制地用作本文所述具体溶剂种类的成员。
烃和卤代烃可包括脂肪族烃、芳香族烃、石油蒸馏物、卤代脂肪族烃、卤代芳香族烃或其组合；或可选地脂肪族烃、芳香族烃、卤代脂肪族烃、卤代芳香族烃、及其组合。在一些实施方式中，烃和卤代烃可包括脂肪族烃；可选地，芳香族烃；可选地，卤代脂肪族烃；或可选地，卤代芳香族烃。
可用作一般溶剂、非极性溶剂和/或非配位溶剂的脂肪族烃包括C4至C20脂肪族烃；可选地，C4至C15脂肪族烃；或可选地，C5至C10脂肪族烃。脂肪族烃可以是环状或非环状的，和/或可以是直链或支链的，除非另外指明。可用作一般溶剂、非极性溶剂和/或非配位溶剂的适当环脂肪族烃溶剂的非限制性实例包括异丁烷、正丁烷、丁烷(正丁烷或直链和支链C4非环脂肪族烃的混合物)、戊烷(正戊烷或直链和支链C5非环脂肪族烃的混合物)，己烷(正己烷或直链和支链C6非环脂肪族烃的混合物)、庚烷(正庚烷或直链和支链C7非环脂肪族烃的混合物)、辛烷(正辛烷或直链和支链C8非环脂肪族烃的混合物)、和其任意组合；可选地，异丁烷、正丁烷、丁烷(正丁烷或直链和支链C4非环脂肪族烃的混合物)、戊烷(正戊烷或直链和支链C5非环脂肪族烃的混合物)、己烷(正己烷或直链和支链C6非环脂肪族烃的混合物)、庚烷(正庚烷或直链和支链C7非环脂肪族烃的混合物)、辛烷(正辛烷或直链和支链C8非环脂肪族烃的混合物)、和其任意组合；可选地，异丁烷、正丁烷、丁烷(正丁烷或直链和支链C4非环脂肪族烃的混合物)、戊烷(正戊烷或的混合物)、庚烷(正庚烷或直链和支链C7非环脂肪族烃的混合物)、辛烷(正辛烷或直链和支链C8非环脂肪族烃的混合物)、和其任意组合；可选地，异丁烷；可选地，正丁烷；可选地，丁烷(正丁烷或直链和支链C4非环脂肪族烃的混合物)；可选地，戊烷(正戊烷或直链和支链C5非环脂肪族烃的混合物)；可选地，己烷(正己烷或直链和支链C6非环脂肪族烃的混合物)；可选地，庚烷(正庚烷或直链和支链C7非环脂肪族烃的混合物)；或可选地，辛烷(正辛烷或直链和支链C8非环脂肪族烃的混合物)。可用作非配位溶剂的适当环脂肪族烃溶剂的非限制性实例包括环己烷、甲基环己烷和其任意组合；可选地环己烷；或可选地，甲基环己烷。
可用作一般溶剂、非极性溶剂和/或非配位溶剂的芳香族烃包括C6至C20芳香族烃；或可选地，C6至C10芳香族烃。可用作一般溶剂、非极性溶剂和/或非配位溶剂的适当芳香族烃的非限制性实例包括苯、甲苯、二甲苯(包括邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、或其混合物)和乙基苯或其任意组合；可选地，苯；可选地，甲苯；可选地，二甲苯(包括邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯或其混合物)；或可选地，乙基苯。
可用作一般溶剂、非极性溶剂和/或非配位溶剂的卤代脂肪族烃可包括C1至C15卤代脂肪族烃；可选地，C1至C10卤代脂肪族烃；或可选地，C1至C5卤代脂肪族烃。卤代脂肪族烃可以是环状或非环状的，和/或可以是直链或支链的，除非另外指明。可用作一般溶剂、非极性溶剂和/或非配位溶剂的适当卤代脂肪族烃的非限制性实例可包括亚甲基氯基、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷、三氯乙烷或其任意组合；可选地，亚甲基氯基、氯仿、二氯乙烷、三氯乙烷或任意其组合；可选地，亚甲基氯基；可选地，氯仿；可选地，四氯化碳；可选地，二氯乙烷；或可选地，三氯乙烷。可用作一般溶剂、非极性溶剂和/或非配位溶剂的卤代芳香族烃可包括C6至C20卤代芳香族烃；或可选地，C6至C10卤代芳香族烃。可用作一般溶剂、非极性溶剂和/或非配位溶剂的适当卤代芳香族烃的非限制性实例可包括氯苯、二氯苯、或其任意组合；可选地，氯苯；或可选地，二氯苯。
可用作溶剂的醚、硫醚、碳酸酯、酯、酮、醛、或醇可以是下列，包括下列，或主要由下列组成：C2至C20醚、C2至C20硫醚，C2至C20碳酸酯、C2至C20酯、C2至C20酮、C2至C20醛、或C2至C20醇；可选地，C2至C20醚、C2至C20硫醚或C2至C20碳酸酯；可选地，C2至C20醚；可选地，C2至C20硫醚；可选地，C2至C20碳酸酯；可选地，C2至C20酯；可选地，C2至C20酮；可选地，C2至C20醛；或可选地，C2至C20醇。在一些实施方式中，可用的溶剂可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：C2至C10醚、C2至C10硫醚、C2至C10碳酸酯、C2至C10酯、C2至C10酮、C2至C10醛、或C2至C10醇；可选地，C2至C10醚、C2至C10硫醚、或C2至C10碳酸酯；可选地，C2至C20醚；可选地，C2至C10硫醚；可选地，C2至C20碳酸酯；可选地，C2至C20酯；可选地，C2至C20酮；可选地，C2至C20醛；或可选地，C2至C20醇。适当的醚溶剂可以是环状或非环状的。可用作溶剂的适当醚的非限制性实例包括二甲基醚、二乙基醚、甲基乙醚、单醚或二醇的二醚(例如，二甲基二醇醚)、呋喃、取代呋喃、二氢呋喃、取代二氢呋喃、四氢呋喃(THF)、取代四氢呋喃、四氢吡喃、取代四氢吡喃、1,3-二烷、取代1,3-二烷、1,4-二烷、取代1,4-二烷或其混合物；可选地，二甲基醚、二乙基醚、甲基乙醚、单醚或二醇的二醚(例如，二甲基二醇醚)或其混合物；可选地，呋喃、取代呋喃、二氢呋喃、取代二氢呋喃、四氢呋喃(THF)、取代四氢呋喃、四氢吡喃、取代四氢吡喃、1,3-二烷、取代1,3-二烷、1,4-二烷、取代1,4-二烷、或其混合物；可选地，二甲基醚、二乙基醚、甲基乙醚或其混合物；可选地，单醚或二醇的二醚(例如，二甲基二醇醚)；可选地，四氢呋喃(THF)、取代四氢呋喃、四氢吡喃、取代四氢吡喃、1,3-二烷、取代1,3-二烷、1,4-二烷、取代1,4-二烷或其混合物；可选地，四氢呋喃(THF)、四氢吡喃、1,3-二烷、1,4-二烷或其混合物；或可选地，四氢呋喃。在实施方式中，取代呋喃、取代二氢呋喃、取代四氢呋喃、取代四氢吡喃、取代1,3-二烷、或取代1,4-二烷的各取代基可以是C1至C5烷基。C1至C5烷基取代基在本文被公开，并且可非限制地用于进一步描述可用作极性非质子溶剂的取代四氢呋喃、取代二氢呋喃、取代呋喃、取代1,3-二烷或取代14二烷。可用作溶剂的适当碳酸酯的非限制性实例包括碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、碳酸二乙酯、碳酸二乙酯、碳酸甘油酯、及其组合。可用作溶剂的适当酯的非限制性实例包括乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸异丁酯、及其组合。可用作溶剂的适当酮的非限制性实例包括丙酮、乙基甲基酮、甲基异丁基酮、及其组合。可用作溶剂的适当醇的非限制性实例可以是、包括或基本上由如下组成：甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇、苄醇、苯酚、环己醇、及类似物或其组合。
可用作溶剂的腈包括C2至C12腈；可选地，C2至C10腈；或可选地，C2至C8腈。通常，可用作溶剂的腈可以是环状或非环状的，直链或支链的，和/或脂肪族或芳香族的。可用作溶剂的腈的非限制性实例包括但不限于，乙腈、丙腈、丁腈、苄腈、或其任意组合；可选地，乙腈、丙腈、丁腈或其任意组合。在一些实施方式中，溶剂可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：乙腈。
一方面，其中过渡金属前体和第1族或第2族羧酸盐进行接触的溶剂，若被使用，可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：本文所述任意中性配体。在一些实施方式中——其中过渡金属前体包含中性配体，其中过渡金属前体和第1族或第2族羧酸盐进行接触的溶剂，若被使用，可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：存在于过渡金属前体中的任意中性配体。在其他实施方式中——其中过渡金属前体包含中性配体，其中过渡金属前体和第1族或第2族羧酸盐进行接触的溶剂，若被使用，可不同于存在于过渡金属前体中的任意中性配体。中性配体在本文中被描述，并且这些中性配体可非限制地用作用于接触过渡金属前体和第1族或第2族羧酸盐的溶剂——若被使用。
在非限制性实施方式中，极性非质子溶剂可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：单醚或二醇的二醚(例如，二甲基二醇醚)、呋喃、取代呋喃、二氢呋喃、取代二氢呋喃、四氢呋喃(THF)、取代四氢呋喃、四氢吡喃、取代四氢吡喃、1,3-二烷、取代1,3-二烷、1,4-二烷、取代1,4-二烷、或其混合物。在实施方式中，取代呋喃、取代二氢呋喃、取代四氢呋喃、取代四氢吡喃、取代1,3-二烷、或取代1,4-二烷的各取代基可以是C1至C5烷基。C1至C5烷基取代基在本文中被公开，并且可非限制地用于进一步描述可用作极性非质子溶剂的取代四氢呋喃、取代二氢呋喃、取代呋喃、取代1,3-二烷、或取代1,4二烷。在实施方式中，极性非质子溶剂可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四氢呋喃(THF)、呋喃、2-甲基四氢呋喃、3-甲基四氢呋喃、二氢呋喃、吡喃、四氢吡喃、2,3-二氢吡喃、1,3-二烷、1,4-二烷、吗啉、N-甲基吗啉、二甲基醚、二乙基醚、甲基乙醚、甲基苯基醚、甲基叔丁基醚、二异丙基醚、二-正丁基醚、1,2-二甲氧基乙烷，双(2-甲氧基乙基)醚或其任意组合。在一些实施方式中，极性非质子溶剂可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四氢呋喃(THF)、呋喃、2-甲基四氢呋喃、3-甲基四氢呋喃、二氢呋喃、吡喃、四氢吡喃、2,3-二氢吡喃、1,3-二烷、14-二烷、二甲基醚、二乙基醚、甲基乙醚、甲基苯基醚、甲基叔丁基醚、二异丙基醚、二-正丁基醚、1,2-二甲氧基乙烷，双(2-甲氧基乙基)醚或其任意组合；可选地，四氢呋喃(THF)、呋喃、2-甲基四氢呋喃、3-甲基四氢呋喃、二氢呋喃、吡喃、四氢吡喃、2,3-二氢吡喃、1,3-二烷、14-二烷或其任意组合；可选地，二甲基醚、二乙基醚、甲基乙醚、甲基苯基醚、甲基叔丁基醚、二异丙基醚、二-正丁基醚、1,2-二甲氧基乙烷，双(2-甲氧基乙基)醚或其任意组合。在其他实施方式中，极性非质子溶剂可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四氢呋喃(THF)、2-甲基四氢呋喃、3-甲基四氢呋喃、四氢吡喃、1,3-二烷、1,4-二烷、或其任意组合。在其他实施方式中，极性非质子溶剂可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：四氢呋喃(THF)。
类似地，可用作极性非质子溶剂的适当腈的实例包括但不限于，C2至C20烷基腈、或C7至C20芳基腈或其任意组合。进一步，在这方面和任意实施方式中，可用作配位第一溶剂的适当的腈包括C2至C12腈；可选地，C2至C10腈；或可选地，C2至C8腈。可用作配位第一溶剂的适当的腈溶剂可以是环状或非环状的，直链或支链的，脂肪族或芳香族的。可用作极性非质子第一溶剂的适当腈的非限制性实例包括但不限于，乙腈、丙腈、丁腈、苄腈、或其任意组合；可选地，乙腈、丙腈、丁腈、或其任意组合。在一些实施方式中，溶剂可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：乙腈。
在进一步的方面中，可用作溶剂的硫醚可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：C2至C20二烷基硫醚、C2至C20二烷基硫醚、C4至C5环硫醚、或其任意组合。在一些实施方式中，可用作溶剂的硫醚可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：噻吩、2-甲基噻吩、3-甲基噻吩、四氢噻吩或其任意组合。
以本申请的任意美国国家阶段提交为目的，本公开涉及的所有出版物和专利其全部内容均被引入本文中作为参考，用于描述和公开那些出版物中描述的、可与本公开联合应用的构思和方法。上文以及全文述及的任何出版物和专利的提供仅仅是为提供其中在本申请申请日之前的公开内容。其不被解释为承认发明人没有资格基于在先发明而早于该公开。
除非另外说明，当公开或请求保护任意类型范围——例如，摩尔比、温度及类似范围——时，意为分别公开或请求保护该范围可合理包括的每一个可能的数量，包括其中包括的任意子范围。当描述测量范围如摩尔比时，该范围可合理包括的每一个可能的数量可例如指代范围内比存在于范围端点的有效数字多一个有效数字的数值。在此实例中，1.03：1和1.12：1之间的摩尔比分别包括摩尔比1.03：1、1.04：1、1.05：1、1.06：1、1.07：1、1.08：1、1.09：1、1.10：1、1.11：1、和1.12：1。申请人的目的是描述范围的这两种方法可互换。另外，当公开或请求保护数值范围——申请人意图分别反映该范围可合理包括的每一个可能的数量——时，申请人还意图公开范围以反映公开本文包括的任何和全部子范围和子范围组合，并可与之互换。当描述其中范围端点具有不同数量的有效数字的范围时——例如，1：1至1.2：1的摩尔比，该范围可合理包括的每一个可能的数量可例如指代范围内比存在于具有最大数量的有效数字的范围端点的有效数字多一个有效数字的数值，在此情况下1.2：1。在此实例中，1：1至1.2：1的摩尔比分别包括摩尔比1.01、1.02、1.03、1.04、1.05、1.06、1.07、1.08、1.09、1.10、1.11、1.12、1.13、1.14、1.15、1.16、1.17、1.18、1.19、和1.20，全部相对于1，以及其中包括的任何和全部子范围和子范围组合。因此，申请人保留权利以限制或排除任意这种小组的任意单个成员——包括小组中的任意子范围或子范围组合——的权利，弱基于任何理由申请人选择保护小于本公开的全量，例如，考虑到申请人在提交本申请时未知的参考文献。
在美国专利商标局(United States Patent and Trademark Office)前的任何申请中，提供本申请的摘要的目的是符合37C.F.R.§1.72和37C.F.R.§1.72(b)“为了使美国专利商标局和公众一般很快从一个粗略的检查确定技术披露的性质和要旨(to enable theUnited States Patent and Trademark Office and the public generally todetermine quickly from a cursory inspection the nature and gist of thetechnical disclosure)”的规定。因此，本申请的摘要不意为用于解释权利要求的范围或限制本文公开主题的范围。另外，本文使用的任何标题均不意为用于解释权利要求的范围或限制本文公开主题的范围。任何过去式描述实例的使用，在未指明具有建设性或先见性时，不意为表示该建设性或先见性实例实际上已被实施。
关于本文公开的任意具体化合物，显示的一般结构还意为包括可由具体组取代基产生的所有构象异构体和立体异构体，除非另外说明。因此，除非另外具体说明，一般结构包括所有结构异构体(例如，丙基的指代包括正丙基和异丙基，或例如，二唑的指代包括1,2-二唑和1,3-二唑)、对映体、非对映体和其他光学异构体——无论是对映体还是消旋形式、以及立体异构体混合物，如上下文允许或要求。关于显示的任意具体式，显示的任意通式还包括可由具体组取代基产生的所有构象异构体、区域异构体、和立体异构体。另外和除非另外指明，可包括多于一种区域异构体的一般化合物或结构的公开意为包括在这种一般公开范围内的全部可能的区域异构体。例如，通过公开L可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：二吖庚因(diazepine、diazepine或diazepines)，其意为表示L可以是下列，包括下列，或基本上由下列组成：1,2-二吖庚因、1,3-二吖庚因、或1,4-二吖庚因。
本公开进一步通过下文实施例进行示例，其不以任何形式被解释为对其范围具有限制作用。相反，将清楚理解的是，在阅读本文描述后可采取多种其他方面、实施方式、改动、及其等同形式，本领域技术人员可得到这种暗示，而没有脱离本发明的精神或所附权利要求的范围。
下文实施例中提供的数据和描述被给予是为了显示公开的化合物、催化剂系统、和烯烃低聚和/或烯烃聚合方法的具体方面和实施方式，和证明其众多实践和优势。实施例的给予作为本文所述一些方面和实施方式的更详细证明，而不意为以任何方式限制本公开或权利要求。
实施例
2-乙基己酸铬(III)组合物的制备和分析
除非另外指定，所有反应均在惰性并且至少基本上干燥的气氛下进行。所有玻璃器具均在100℃的烘箱中干燥4hr，并被置入惰性和至少基本上干燥的气氛手套箱(干燥箱)中，同时加温。
起始材料CrCl3(THF)3购自Aldrich Chemical Company，并进一步如本文所述干燥。2-乙基己酸购自Aldrich，并且不经进一步纯化投入使用。所有溶剂均购自Aldrich，无水级，并且在新活化的分子筛上储存。
实施例1
在环境条件下将圆底烧瓶(250mL)装载搅拌子、氢氧化钠(13.87g，0.347mol)和甲醇(200mL)。经过30min将2-乙基己酸(50.00g，0.347mol)滴加至搅拌溶液。然后通过旋转蒸发去除溶剂，生成白色粘性固体。然后在185℃和小于25托的压力下加热该白色固体18hr，生成无水2-乙基己酸钠，其为坚硬白色固体(97％分离产率)。无水2-乙基己酸钠是非常吸湿的，在惰性并且基本上干燥的气氛下被处理。
实施例2
得自Aldrich的市售的CrCl3(THF)3包含大量水；因此，如下应用进一步干燥提供无水CrCl3(THF)3。将圆底烧瓶(50mL)装载搅拌子、CrCl3(THF)3(8g)和THF(25mL)。将三甲基甲硅烷基氯基(8mL)滴加至剧烈搅拌的溶液。使混合物搅拌过夜。通过过滤收集紫色固体，用戊烷(50mL)洗涤一次，并在动态真空下干燥，以提供产物(93％产率)。无水CrCl3(THF)3是精细粉紫色粉末，而潮湿材料是深紫色块状固体。
实施例3
将圆底烧瓶(1L)装载CrCl3(THF)3(21.01g，0.0561mol)、无水2-乙基己酸钠(27.99g，0.168mol)和THF(250mL)。使反应在23℃下搅拌96hr，并去除溶剂以生成绿色焦油状材料。将固体在真空下30℃加热2hr，然后萃取到戊烷(600mL)中，并通过助滤器过滤。溶液极具粘性，使其难以过滤。大量绿色固体在过滤后仍未溶解。去除溶剂，生成绿色膜(5.1g)。图9提供利用约3的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比生成的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱。图10提供利用约3的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比生成的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的2000cm-1至1000cm-1的展宽部分。表1提供红外峰高度和不同红外峰高度比。
实施例4
将圆底烧瓶(500mL)装载CrCl3(THF)3(7.27g，0.0194mol)和THF(100mL)。将无水2-乙基己酸钠(10.00g，0.0602mol)THF(60mL)溶液加入非均质CrCl3(THF)3溶液，同时进行搅拌。使反应混合物在25℃下搅拌24hr，然后去除溶剂，生成绿色粘性固体。然后将该绿色固体在真空下35℃加热2hr，然后将产物萃取到环己烷(400mL)中，并通过助滤器过滤。在真空下从滤液去除溶剂，生成绿色粘性固体(7.1g)。图11提供利用约3.1的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比生成的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱。图12提供利用约3.1的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比生成的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的2000cm-1至1000cm-1的展宽部分。表1提供红外峰高度和不同红外峰高度比。
实施例5
将圆底烧瓶(500mL)装载CrCl3(THF)3(20.10g，0.0537mol)。将无水2-乙基己酸钠(29.42g，0.177mol)的THF(250mL)溶液加入固体CrCl3(THF)3，同时进行搅拌。使反应混合物在23℃下搅拌72hr，然后去除溶剂，生成绿色粘性固体。将该绿色固体在真空下30℃加热2hr，然后将产物萃取到戊烷(500mL)中，并通过过滤。在真空下从滤液去除溶剂，生成绿色粘性固体(24.5g)。图13提供利用约3.3的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比生成的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱。图14提供利用约3.3的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比生成的2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的2000cm-1至1000cm-1的展宽部分。表1提供红外峰高度和不同红外峰高度比。
实施例6–钠的去除
方法A-Me3SiCl法。将20mL小瓶装载实施例5的产物(0.373g，约0.68mmol)和10mL环己烷。然后将小瓶剧烈振荡，以溶解铬络合物，生成粘性溶液。然后将Me3SiCl(0.030g，0.28mmol)加入溶液，立即形成白色沉淀。使反应混合物留置过夜，其间绿色凝胶形成，沉降，留下极浅的绿色溶液。
方法B)-2-乙基己酸法。将20mL小瓶装载CrCl3(THF)3(1.00g，2.67mmol)、2-乙基己酸钠(1.340g，8.06mmol)、2-乙基己酸(0.116g，0.80mmol)和THF(15mL)。将混合物搅拌3天，其间红紫色溶液和白色固体形成。在真空下去除溶剂，将产物用环己烷萃取，通过助滤器过滤，和在真空下干燥，生成蓝绿色油。ICP-OES：Cr，11.85wt.％；Na，0.02wt.％。
图15提供在利用约3.3的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比(实施例5)生成的2-乙基己酸铬(III)基础上利用方法A生成的无钠2-乙基己酸铬(III)的IR光谱。图16提供利用约3.3的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比(实施例5)生成的无钠2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的2000cm-1至1000cm-1的展宽部分。表1提供红外峰高度和不同红外峰高度比。
实施例7
将圆底烧瓶(500mL)装载CrCl3(THF)3(19.00g，0.0507mol)。无水的2-乙基己酸钠(34.00g，0.205mol)的THF(200mL)溶液加入固体CrCl3(THF)3，同时进行搅拌。使该反应混合物在23℃下搅拌60hr，然后去除溶剂，生成绿色泡沫状固体。将该固体在真空下30℃加热2hr，然后萃取到戊烷(200mL)中，并通过助滤器过滤两次。在真空下从滤液去除溶剂，以提供绿色膜(27.9g)。图17提供利用约4的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比生成的这种2-乙基己酸铬(III)的IR光谱。图18提供利用约4的2-乙基己酸钠与CrCl3(THF)3摩尔比生成的这种2-乙基己酸铬(III)的IR光谱的2000cm-1至1000cm-1的展宽部分。表1提供红外峰高度和不同红外峰高度比。
红外分析
利用红外分析分析两个市售的2-乙基己酸铬(III)样品和在实施例3-7中生成的四个2-乙基己酸铬(III)样品。应用下列程序制备第一市售的2-乙基己酸铬(III)样品和四个2-乙基己酸铬(III)样品，用于IR分析。在干燥箱中，通过研钵和杵将5mg样品和500mg无水KBr在一起充分地研磨。然后通过将100mg充分研磨的样品置于Spectra-Tech Econo-Press试剂盒中，形成10-mm KBr样品靶丸。然后通过密闭容器将样品转移至IR。然后在氮气吹扫下获得IR光谱。在收集预期光谱前，收集应用纯KBr靶丸的背景光谱。
利用矿物油精(mineral spirits)作为稀释剂，制备第二市售的2-乙基己酸铬(III)样品。然后和几滴第二市售的2-乙基己酸铬(III)样品置于两个盐KBr板之间，并通过密闭容器转移至IR。然后在氮气吹扫下获得IR光谱。
利用具有类2，1mW HeNe激光源，KBr分束器和DTGS检测器的 Magna-IR560傅立叶变换红外光谱仪获得IR光谱。一般实验包括64扫描(1-4cm-1分辨率)，其中在样品扫描后收集背景扫描。利用来自Thermo Fisher Scientific Inc.的7.4软件分析光谱。
表格1-原始红外基线峰高度
表2–在所示平均波长下采用原始红外基线峰高度的红外峰比
表格3-绘制红外基线(1850cm-1至1170cm-1)峰高度
表格4-在所示平均波长下采用绘制红外基线峰高度的红外峰比
高能X射线衍射分析
利用高能X射线衍射，分析第一市售的2-乙基己酸铬(III)组合物、利用实施例5的程序生成的2-乙基己酸铬(III)组合物、和根据R.T.Hart Jr.,N.A.Eckert,J.K.Ngala,A.F.Polley,C.J.Benmore,A.Clark,S.Macha,Presentation CATL20,The237th ACSNational Meeting,Salt Lake City,UT,March23,2009生成的2-乙基己酸铬(III)组合物(在下文中“Hart 2-乙基己酸铬(III)组合物”)。在Argonne National Laboratory的先进光子源(Advanced Photon Source)的站点11-ID-C，利用具有椭圆形光束轮廓的115keV的单色X射线束，收集高能X射线衍射数据，该单色X射线束具有15μm的主轴和1.5μm的次轴，用于照射距检测器约1130mm的3mm厚的样品。在此具体实例中，将足以提供3mm路径长度的量的样品(0.1mg至100mg)置于5mm O.D.管中，该管具有1mm厚的壁。在样品被置于管中后，就将管排空，用N2回填，然后火焰密封。然后通过在样品处于298°K的温度时照射115keV的单色X射线束(具有椭圆形光束轮廓，具有15μm的主轴和1.5μm的次轴)，获得管包含的样品的高能X射线衍射谱图。在距样品约1130毫米的MAR345图像板(345mm直径的图像板)上收集所得衍射谱图。X射线束源和图像板之间的角为180度，并且光束截捕器在样品和图像板之间与图像板中心排成一行。一般，图像板暴露0.5秒。通常，可调节暴露时间以获得信噪比(较长暴露时间提供较高信噪比)与图像板饱和度(较短暴露时间减少图像板检测器饱和度)之间的平衡。利用CeO2粉末的外部参考扫描，确定样品与检测器的距离、束能量和检测器定向。还分别在MAR345图像板上收集相同空管和空气的背景衍射，以提供环境和背景校正，用于样品分析。利用FIT2D(Hammersley,A.P.；Svensson,S.O.；Hanfland,M.；Fitch,A.N.；D.High Pressure Res.1996,14,235–248)12.077版(April5,2005-Internal Report(1998),ESRF98HA01T,FIT2DV9.129Reference Manual V3.1；A.P.Hammersley)和PDFgetX2(Qiu,X.；Thompson,J.W.；Billinge,S.J.L.J.Appl.Crystallogr.2004,37,678)，进行高能X射线衍射图像处理和数据分析。
利用Fit2D对原始样品图像(管中包含的样品)、环境图像(空管)、和背景图像(空气)进行校正以对齐、定向和样品与检测器距离，然后转换成动量空间强度直方图I(Q)——通过径向加和校正后的数据图像(利用标准多次散射的校正，和X射线极化——应用B Tomberli,C J Benmore,P A Egelstaff,J Neuefeind and V 2000J.Phys.:Condens.Matter,12,2597所示的PDFgetX2(第1版))。然后在PDFgetX2中将环境和背景动量空间强度直方图从原始样品动量空间强度直方图中减去，以提供纯样品动量空间强度直方图。然后将纯样品动量空间强度直方图I(Q)转换成结构函数S(Q)，然后将该结构函数S(Q)转换成对分布函数G(r)——通过结构函数的傅里叶变换 (其中Q＝4πsin(θ)/λ，ρ(r)是局部密度，和ρ0是平均密度)，上至PDFgetX2中的然后标准化对分布函数G(r)，以提供对比对分布函数(reduced pair distribution function)g(r)，其中g(r)＝G(r)/ρ0。数据点(r,g(r))被称为高能X射线衍射g(r)数据点。表5提供根据实施例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物、Hart2-乙基己酸铬(III)组合物、和第一市售的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点(1埃至6埃)。图17提供根据实施例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物和第一市售的2-乙基己酸铬(III)组合物的g(r)-与-r(1埃至6埃)的作图。图18提供根据实施例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物和Hart2-乙基己酸铬(III)组合物的g(r)-与-r(1埃至6埃)的作图。显而易见，根据实施例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物明显不同于第一市售的2-乙基己酸铬(III)组合物和Hart2-乙基己酸铬(III)组合物。
基于根据实施例5生成的2-乙基己酸铬(III)的实验径向分布函数的强相关性探试性地构建真空相单核乙酸铬(III)模型。利用由通过实施例5的方法生成的2-乙基己酸铬(III)样品的高能X射线衍射获得的合理的铬-氧键距离和Nature 205，694-695(1965年2月13日)公开的乙酸阴离子的碳-氧、碳-碳、和碳-氢键距离，构建初始单核乙酸铬(III)结构。应注意，三种高能X射线衍射分析的2-乙基己酸铬(III)组合物全都提供几乎相同的铬-氧键距离(在1埃的0.05内)。因此，不限于理论，认为这是铬-氧键距离的的良好初始起点，基于此构建气相单核乙酸铬(III)模型。然后利用SemiChem/GaussView(3.0版)，通过改变铬-氧键距离和氧-铬-氧-碳二面角同时提供在10中心原子上的D3h对称性，优化初始模型。表6提供得自SemiChem/GaussView的优化乙酸铬(III)模型的原子坐标。
表格6-优化的醋酸铬(III)模型的原子坐标
原子 X Y Z
Cr 0 0 0
C1 1.843475 -0.40852 -1.43058
O1 0.738585 -1.038881 -1.567619
O2 1.90289 0.461636 -0.494039
C2 3.026757 -0.697968 -2.303537
H1 3.586188 0.221029 -2.49448
H2 2.70492 -1.158746 -3.239287
H3 3.689716 -1.395002 -1.777323
O3 -0.772555 1.631901 -0.909192
O4 -0.481341 1.511899 1.249048
C4 -1.400219 3.584765 0.389991
C3 -0.872192 2.190556 0.236797
H4 -1.932477 3.891686 -0.511821
H5 -2.054935 3.640368 1.263653
H6 -0.55862 4.266381 0.559197
O5 0.288007 -1.521043 1.29563
O6 -1.664703 -1.059059 0.43961
C5 -0.959016 -1.79628 1.210803
C6 -1.568434 -2.912588 2.003767
H7 -2.492313 -3.252317 1.531746
H8 -1.803373 -2.543365 3.009177
H9 -0.856348 -3.735188 2.102561
然后利用PDFgui中实施的PDFFit计算优化单核铬(III)模型的对分布函数(Proffen，T.；Billinge，S.J.L.J.Appl.Crystallogr.1999，32，572–575)。表7提供优化乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点。应注意，所用程序生成径向分布函数d(r)，其是表7所示的d(r)数据点。为比较优化单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据与羧酸铬样品的高能X射线衍射g(r)数据，必须将d(r)数据点转换成g(r)数据。由PDFgui生成的高能X-射线衍射d(r)数据点和高能X-射线衍射g(r)数据点之间的关系是g(r)＝(d(r)/(4π*r*ρ0))+1。
将根据实施例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物、Hart2-乙基己酸铬(III)组合物、和第一市售的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射数据点进行比较，以通过单核乙酸铬(III)模型确定这些2-乙基己酸铬(III)组合物与单核2-乙基己酸铬(III)的相当程度。通过如下进行比较：独立地优化在预期r值范围的各2-乙基己酸铬(III)组合物与乙酸铬(III)模型之间的拟合，和如本文所述通过方程式R2＝1-(SSerr/SStot)计算相同r范围的拟合良好度检验值R2。
通过如下进行每次优化拟合：1)将单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点转换成单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点，和利用方程式g(r)＝((((d(r)/(4π*r*ρ0))+1)*fac)+C)将计算高能X射线衍射g(r)数据点成按比例变换成2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射数据点；和2)利用rho、fac和C作为按比例变换和优化变量，在单核乙酸铬(III)模型g(r)数据点的按比例变换和优化的计算高能X射线衍射g(r)数据点在r＝1.79埃时等于0的限制下，最小化单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点与2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点之间的差的平方和。在此程序中，g(r)＝(d(r)/(4π*r*ρ0))使表6所示优化单核乙酸铬(III)模型的径向分布d(r)数据点转换成g(r)数据点，该g(r)数据点可与由测试2-乙基己酸铬(III)组合物的实验获得的高能X射线衍射g(r)数据点进行比较，并且fac和C是实现单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射数据点与2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射数据点之间最佳拟合的比例系数。优化操作在 Excel电子表格程序中利用Solver函数进行，但可利用其他程序进行——该程序能够利用ρ0、fac和C作为比例函数中的变量，在单核乙酸铬(III)模型g(r)数据点(来自按比例变换操作)在r＝1.79埃时等于0的限制下，计算最小差平方和。
下列程序提供生成 Excel工作表以优化在1.3至4.0的r值范围的实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的拟合的步骤。在空白 Excel工作表中：
1.以递升顺序，将以区间0.01为间隔的1.00至6.00的r值置于单元格A10-A510中。
2.将来自表7的乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点的各R值的相应d(r)数值置于单元格B10-B510中。
3.将实施例5的其中一个2-乙基己酸铬样品的高能X射线衍射g(r)数据点的各R值的相应g(r)数值置于单元格C10-C510中。
4.将ρ0的非零初始推测值、优化常数fac的非零初始推测值和优化常数C的初始推测值分别置于单元格D4、D5和D6中。
5.将式＝((($B10/(4*PI()*$A10*$D$4))+1)*$D$5)+$D$6置于单元格D10中，然后参考复制到单元格D11-D510中(即，当参考复制时，D510中的式为＝((($B510/(4*PI()*$A510*$D$4))+1)*$D$5)+$D$6)。
6.将式＝SUM(E10：E510)置于单元格E8中。
7.将式＝(C40-D40)^2置于单元格E40中，并参考复制到E41-E310单元格中(即，当参考复制时，E310中的式为＝(C310-D310)^2)，并确保单元格E10-E39和E311-E510是空白的。
8.然后通过如下进行实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的优化：
a.打开 Excel中的Solver程序；
b.将标记“设置目标单元格”的Solver程序框输入E8；
c.选择等于最小数值的目标单元格；
d.将单元格D4、D5和D6($D$4：$D$6)输入标记“改变单元格”的Solver程序框；
e.将单元格$D$89＝0的限制输入标记“实施限制”的Solver程序框；
f.点击solve框，然后如果Solver程序成功收敛到一个解(solution)，则点击OK键(同时确保选中了保持解单选键)。
应注意，这些步骤生成包括数据点的工作表，并利用一般式、关联式和可实现适于优化在其他r值范围的实施例6的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的拟合的工作表的程序。
当实施程序以优化实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的拟合和利用ρ0＝0.1、fac＝0.1和C＝0的初始数值时，Solver程序收敛于具有ρ0＝0.0101、fac＝0.1410和C＝0.1266(四舍五入到小数点后四位)的解，和单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点与实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点之间的差的最小平方和——等于136.5504(四舍五入到小数点后四位)。应注意ρ0、fac和C的值可存在多个收敛解，其可提供单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点与2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点之间的差的相同最小平方和。通常，ρ0、fac和C的收敛值的差异可以是ρ0、fac和C初始值的选择。例如，136.5487(四舍五入到小数点后四位)的单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点与实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点之间的差的最小平方和可利用下列初始值获得：利用初始值ρ0＝0.1、fac＝0.1和C＝0.1(收敛以提供具有ρ0＝0.0203、fac＝0.2828和C＝-0.0152的解值，四舍五入到小数点后四位)，或利用初始值ρ0＝0.2、fac＝0.2和C＝0(收敛以提供具有ρ0＝0.0230、fac＝0.3207和C＝-0.0531的解值，四舍五入到小数点后四位)。因此，ρ0、fac和C的初始值和ρ0、fac和C的收敛值不特别重要，只要获得单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点与2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点之间的差的真实最小平方和。
然后通过利用方程式R2＝1-(SSerr/SStot)计算拟合良好度检验值，其中和其中r(int)是计算拟合良好度的g(r)的初始r值，在此基础上，并且r(fin)是计算拟合良好度的g(r)的最终r值。通常，可在与羧酸铬(III)组合物和乙酸铬(III)模型之间的优化相同的r值范围内来应用拟合良好度测试。但是，在一些实施例中，可需要在进行羧酸铬(III)组合物和乙酸铬(III)模型之间的优化的r值的子集来进行拟合良好度测试。
下列程序提供用于将用于优化在1.3至4.0的r值范围的实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的拟合的 Excel工作表扩展至包括计算在1.3至4.0的r值范围的实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的优化拟合之间的拟合良好度检验值R2的式的步骤。程序建立用于优化在1.3至4.0的r值范围的实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的拟合的 Excel工作表。应注意，建立工作表的步骤包括数据点，并利用一般式、关联式和使工作表易用于计算在其他r值范围的实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的优化拟合之间的拟合良好度的程序。
在被建立以优化在1.3至4.0的r值范围的实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的拟合的 Excel工作表中：
1.将式＝SUM(F10：F510)置于单元格F8中。
2.将数量1置于单元格F40至F310中(单元格相应于计算拟合良好度的r值范围——F10至F510范围的全部其他单元格均空白)。
3.将式＝SUM(G10：G510)置于单元格G8中。
4.将式＝(C40-D40)^2置于单元格G40中，然后参考复制到单元格G41-G310中(即，当参考复制时，G310中的式为＝(C310-D310)^2)。
5.将式＝SUM(H10：H510)置于单元格H8中。
6.将式＝C40置于单元格H40中，然后参考复制到单元格H41-H310中(即，当参考复制时，H310中的式为＝C310)。
7.将式＝SUM(I10：I510)置于单元格I8中。
8.将式＝(H40-(H$8/F$8))^2置于单元格I40中，然后参考复制到单元格I41-I310中(即，当参考复制时，将I31中的式为＝(H311-(H$8/F$8))^2)。
9.将式＝1-(G8/I8)置于单元格I4中，并提供拟合良好度检验值。
应注意，这些步骤建立工作表，其包括数据点和利用一般式、关联式、和通过选择适当的单元格参考和式使工作表适于计算在其他r值范围的实施例5的2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)数据点之间的优化拟合之间的拟合良好度检验值的程序。
表8提供用于比较不同r范围的根据实施例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物、第一市售2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射、和Hart2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射g(r)点的拟合良好度检验值。在各实例中，在与拟合良好度检验值的r值相同的r值范围，在表7所示2-乙基己酸铬(III)与单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射d(r)点之间进行优化。图18、19、和20提供本文所述比较根据实施例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物、第一市售2-乙基己酸铬(III)组合物、和水置换生成的乙酸铬(III)样品的高能X射线衍射g(r)数据与单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射g(r)数据(在1.3至4.0埃的r值范围优化的)的作图。拟合良好度检验值和图18、19和20显示，根据实施例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)组合物比第一市售2-乙基己酸铬(III)组合物和水置换生成的乙酸铬(III)样品更接近地类似于单核羧酸铬(III)(通过与单核乙酸铬(III)模型比较)。
表8–用于比较不同r范围的三种2-乙基己酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与单核乙酸铬(III)模型的计算高能X射线衍射g(r)点的拟合良好度检验值。
烯烃寡聚化
用于分批乙烯寡聚化的催化剂体系制备
在不含氧气和水分的干燥箱中制备用于分批乙烯寡聚化的催化剂体系溶液。改变三乙基铝(TEA)对二乙基氯化铝(DEAC)对2,5-二甲基吡咯(DMP)对铬(Cr)的摩尔比，以达到期望的TEA:DEAC:DMP:Cr比率。
将无水的，除去气体的乙苯加入到干燥的玻璃小瓶中。向这个玻璃小瓶中加入将导致5.0mg Cr/mL的催化剂体系铬浓度的期望的催化剂构成比率的量的干净的三乙基铝(TEA)和干净的二乙基氯化铝(DEAC)。混合玻璃小瓶内含物，且允许静置15分钟。然后，将2,5-二甲基吡咯(将导致5.0mg Cr/mL的催化剂体系铬浓度的期望的催化剂构成比率的量)缓慢地加入玻璃小瓶，和同样地，在大多数情况下，观察到大气体逸出。首先，在乙苯中，将选择性2-乙基己酸铬(III)组合物稀释为大约7wt％Cr，然后，将稀释后的2-乙基己酸铬(III)组合物缓慢地加入烷基铝/吡咯溶液，搅拌，以产生催化剂体系溶液。然后，利用适当量的乙苯，将催化剂体系溶液稀释为5.0mg Cr/mL的浓度。在将催化剂体系充入选择性乙烯寡聚化反应器之前，利用24.5mL环己烷稀释0.5mL乙苯稀释的催化剂溶液(2.5mgCr)，以帮助催化剂体系处理和选择性乙烯寡聚化反应器装料。
用于连续的乙烯寡聚化的催化剂体系制备
在具有可控的氦的干燥箱中(整体地保持它不含氧气和水分)制备用于连续的乙烯寡聚化的催化剂体系。改变三乙基铝(TEA)对二乙基氯化铝(DEAC)对2,5-二甲基吡咯(DMP)对铬(Cr)的摩尔比，以达到期望的TEA:DEAC:DMP:Cr比率。
将无水的，除去气体的乙苯(15.85g)加入到干燥的100mL容量瓶中。当加入类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)的4.76g2-乙基己酸铬(III)(在稍后的步骤)，向容量瓶中加入将导致期望的催化剂构成比率的量的干净的三乙基铝(TEA)和干净的二乙基氯化铝(DEAC)和混合。然后，当加入类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)的4.76g2-乙基己酸铬(III)(在稍后的步骤)时，将导致期望的催化剂构成比率的量的2,5-二甲基吡咯加入容量瓶。将类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)的2-乙基己酸铬(III)(4.76g)溶入乙苯(2.38g)。然后，将溶入2.38g乙苯的类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)的2-乙基己酸铬(III)(4.76g)的溶液加入到100mL容量瓶中。利用乙苯将体积加到100mL，且将溶液存储在惰性气体下。
分批选择性的乙烯寡聚化程序
在氮保护气氛下，准备1升高压灭菌反应器(316SS)，且通过将三乙基铝(2g)的环己烷(400mL)溶液装入高压灭菌反应器且将溶液大力地搅拌18小时干燥。然后，通过高压灭菌反应器的底阀排出反应器的内含物。然后，将干燥的环己烷(400mL)装入短暂搅拌的反应器，和然后，通过高压灭菌器反应器的底阀排出，在高压灭菌器中留下氮气氛。
将催化剂体系溶液(25mL)转移到惰性气氛干燥箱中的不绣钢(316SS)装载汽缸(50mL)。然后，从惰性气氛干燥箱移除催化剂体系装载汽缸。然后，将环己烷(200mL)装入先前准备的和干燥的高压灭菌反应器。然后，连同另外的环己烷(200mL)，将催化剂体系装载汽缸的内含物装入高压灭菌反应器。然后，将高压灭菌器反应器加热到60℃，和利用氢装载到50psig。然后，将高压灭菌器反应器加热到109℃和将高压灭菌器反应器空气排放到50psig。激活高压灭菌反应器的气动的搅拌叶轮，和通过在10分钟上，将乙烯缓慢地加入到期望的操作压力开始寡聚化。通过外部电加热套和内部蒸汽供应线圈的适当的应用，将寡聚化反应温度加到且维持在期望的温度上。按需，连续地供给乙烯，以维持期望的操作压力。
在寡聚化完成上，通过高压灭菌反应器的底部将高压灭菌反应器内含物排放到含有催化剂体系抑制剂的器皿中(正辛醇，2mL)。然后，分离、称重和通过GC-FID分析产物。
实施例8
根据此处描述的分批选择性乙烯寡聚化程序进行分批乙烯寡聚化试验，以检验效果，即，在由三乙基铝/二乙基氯化铝/2,5-二甲基吡咯/2-乙基己酸铬(III)(TEA/DEAC/DMP/Cr(EH)3)组成的烯烃寡聚化催化剂体系内的吡咯：铬摩尔比在利用根据实例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)的烯烃三聚作用催化剂体系上(流程101-103)。
在流程101-103中，改变用于利用根据实例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)的烯烃寡聚化催化剂体系的DMP:Cr摩尔比。在115℃，按需利用乙烯摄取的600-800psig乙烯压力，50psigH2，和30分钟反应停留时间上执行这些分批选择性乙烯寡聚化流程。根据用于此处描述的分批乙烯寡聚化程序的催化剂体系制备催化剂体系，以提供含有2.5mg铬和表格9中提供的催化剂体系构成比率的25mL溶液。表格9提供流程101-103的催化剂体系生产率、C6选择性和三聚化产物的C6部分中的1-己烯的量。
表格9-作为DMP:Cr摩尔比函数的乙烯寡聚化催化剂体系生产率
来自利用含有根据实例5制备的2-乙基己酸铬(III)的烯烃三聚化催化剂体系的分批乙烯寡聚化的数据在大约0.5：1的吡咯：铬摩尔比上，产生具有最高的生产率的烯烃三聚化催化剂体系(例如，g1-C6＝/gCr)。然而，应该注意，大约1：1的吡咯：铬摩尔比上的生产率(例如，g1-C6＝/gCr)是可接受的，和如果其他因素指示，它将优选(例如，由于1-己烯选择性，不期望的聚合物产物、寡聚化条件选择性，等等考虑事项)，可被利用。
实施例9
进行连续的乙烯寡聚化试验，以检验效果，即，利用类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)的2-乙基己酸铬(III)，由三乙基铝/二乙基氯化铝/2,5-二甲基吡咯/2-乙基己酸铬(III)(TEA/DEAC/DMP/Cr(EH)3)组成的烯烃三聚化催化剂烯烃内的吡咯：铬摩尔比。
在流程201-205中，改变用于利用类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)的2-乙基己酸铬(III)的烯烃三聚化催化剂体系的DMP:Cr摩尔比。在115℃，800psig，2.75ppm的反应器铬浓度，和2.10的溶剂/乙烯比率运行的1升连续的反应器中执行寡聚化反应。利用用于每一个进料元件的单独的控制装置控制进料速率。具体地，以497g/hr的乙烯进料速率，0.5L/hr的氢进料速率，和21分钟的平均停留时间执行烯烃三聚化流程201-205。经由液体取样阀(由Valco制造)控制连续的乙烯三聚化的线上样品，且供给线上气体层析仪用于分析，以确定Cr生产率、C6选择性、和C6纯度。表格10提供流程201-205的催化剂体系生产率、C6选择性和三聚化产物的C6部分中的1-己烯的量。
表格10-作为DMP:Cr摩尔比函数的乙烯寡聚化催化剂体系生产率
来自利用用于利用类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)的2-乙基己酸铬(III)的烯烃三聚化催化剂体系的连续的乙烯寡聚化的数据在3：1或更大的吡咯：铬摩尔比上产生具有最高的生产率的烯烃三聚化催化剂体系(例如，g1-C6＝/g Cr)。特别应该注意，随着吡咯：铬摩尔比从3：1减少至1.5：1，烯烃三聚化催化剂体系生产率(例如，g1-C6＝/gCr)显著地减少。
图1用图表显示烯烃三聚化催化剂体系最高的生产率(例如，g1-C6＝/g Cr)如何对利用根据实施例5的方法产生的2-乙基己酸铬(III)的分批乙烯寡聚化流程和利用类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)样品的2-乙基己酸铬(III)的连续的乙烯寡聚化的吡咯：铬摩尔比作出响应。在这个图中，显示生产率随着百分比增加或与相当的试验相比百分比增加而改变，其中吡咯：铬摩尔是3：1。这个图表清晰地显示，利用两个不同的2-乙基己酸铬(III)样品的烯烃三聚化催化剂体系具有烯烃三聚化催化剂体系的吡咯：铬摩尔比不同地响应的催化剂生产率。这个信息清晰地指示，在两个2-乙基己酸铬(III)样品之间存在基本的差异。
实施例10
根据此处描述的分批乙烯寡聚化程序进行分批乙烯寡聚化试验，以检验效果，即，在由三乙基铝/二乙基氯化铝/2,5-二甲基吡咯/2-乙基己酸铬(III)(TEA/DEAC/DMP/Cr(EH)3)组成的烯烃寡聚化催化剂体系内的吡咯：铬摩尔比在利用根据实例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)上(流程301-304)。
在流程301-304中，改变用于利用根据实施例5的程序制备的2-乙基己酸铬(III)的烯烃寡聚化催化剂体系的铝:铬摩尔比。在115℃，利用按需的乙烯摄取的600-800psig乙烯压力，50psigH2，和30分钟反应停留时间执行这些分批乙烯寡聚化流程。根据用于此处描述的分批乙烯寡聚化程序的催化剂体系制备催化剂体系，以提供含有2.5mg铬和表格11中提供的催化剂体系构成比率的25mL溶液。表格11提供流程301-304的催化剂体系生产率、C6选择性和三聚化产物的C6部分中的1-己烯的量。
表格11-乙烯寡聚化催化剂体系生产率
在流程301-304中，表格1中报道的生产率改变(％)与标准的活化作用有关，具有12:8:3:1摩尔比的TEA:DEAC:DMP:Cr(EH)3。在每一个流程中，将二甲基吡咯(DMP)对铬摩尔比维持在3：1，仅改变TEA:DEAC:Cr(EH)3比率。
来自利用含有根据实施例5制备的2-乙基己酸铬(III)的烯烃三聚化催化剂体系的分批乙烯寡聚化的数据在大约14.3:1的铝：铬摩尔比上产生具有最高的生产率的烯烃三聚化催化剂体系(例如，g1-C6＝/g Cr)。
实施例11
进行连续的乙烯寡聚化试验，以检验效果，即，利用类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)的2-乙基己酸铬(III)，由三乙基铝/二乙基氯化铝/2,5-二甲基吡咯/2-乙基己酸铬(III)(TEA/DEAC/DMP/Cr(EH)3)组成的烯烃三聚化催化剂烯烃内的铝：铬摩尔比。
通过结合在少量的乙苯(EB)中稀释的传统的Cr(EH)3、2,5-二甲基吡咯(DMP)、和在乙苯溶剂中的三乙基铝(TEA)和二乙基氯化铝(DEAC)混合物制备选择性1-己烯催化剂体系。利用不同的铝：铬摩尔比制备几个催化剂，和然后在相同的条件下，在连续的乙烯寡聚化反应系统中检验。在5mg/mL的铬浓度下，在乙苯中制备所有的催化剂。
在流程401-405中，改变用于利用类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)的2-乙基己酸铬(III)的烯烃三聚化催化剂体系的Al:Cr摩尔比。在115℃，800psig，2.75ppm的反应器铬浓度，和2.10的溶剂/乙烯比率运行的1升连续的反应器中进行寡聚化反应。利用用于每一个进料元件的单独的控制装置控制进料速率。具体地，以497g/hr的乙烯进料速率，0.5L/hr的氢进料速率，和21分钟的平均停留时间执行烯烃三聚化流程401-405。经由液体取样阀(由Valco制造)控制连续的乙烯三聚化的线上样品，且供给线上气体层析仪用于分析，以确定Cr生产率、C6选择性、和C6纯度。表格12提供流程401-405的催化剂体系生产率、C6选择性和三聚化产物的C6部分中的1-己烯的量。
表格12-乙烯寡聚化催化剂体系生产率
利用9.5的铝：铬摩尔比制备的烯烃三聚化催化剂体系产生大量的不可取的沉淀且没有在连续的乙烯寡聚化反应器中检验。剩下的四个连续的乙烯寡聚化的结果指示，根据铬和铝生产率数据，最佳的生产率出现在大约19：1的铝：铬摩尔比附近。
图2用图表显示烯烃三聚化催化剂体系最高的生产率(例如，g1-C6＝/g Cr)如何对利用根据实施例5的方法产生的2-乙基己酸铬(III)的分批乙烯寡聚化流程和利用类似于第一商业可得的2-乙基己酸铬(III)样品的2-乙基己酸铬(III)的连续乙烯寡聚化的铝：铬摩尔比作出响应。在这个图中，显示生产率随着百分比增加或与相当的试验相比百分比增加而改变，其中铝：铬摩尔是大约19：1。这个图表清晰地显示，利用两个不同的2-乙基己酸铬(III)样品的烯烃三聚化催化剂体系具有对烯烃三聚化催化剂体系的铝：铬摩尔比不同响应的催化剂生产率。这个信息清晰地指示，在两个2-乙基己酸铬(III)样品之间存在基本的差异。

Claims (53)

1.组合物，其包括：
a)C3-C25羧酸铬(III)组合物
ⅰ)具有υasym(CO2)红外吸收峰处于υsym(CO2)红外峰的110cm-1内的KBr靶丸红外光谱，并具有大于或等于3：1的处于1516±15cm-1的υasym(CO2)红外吸收峰与位于700±50cm-1的红外吸收峰的红外吸收峰高度比，
ⅱ)当将所述C3-C25羧酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与单核乙酸铬(III)理论模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点在1.3埃至4埃的r范围进行比较时，其具有至少0.6的拟合良好度检验值R2，
其中，R2＝1-(SSerr/SStot)
其中，并且
其中，r(int)是计算拟合良好度的g(r)的初始r值，并且r(fin)是计算拟合良好度的g(r)的最终r值，或
ⅲ)通过方法产生，所述方法包括
在基本上无水的和基本上无酸的条件下接触
1)具有式CrX3Ll的铬(III)前体，其中每一个X独立地是卤基，每一个L独立地是C2-C10醚、C2-C10硫醚、C2-C5腈、C1-C30胺、或C3-C30膦、或其任何组合，和l范围为从0至7，
2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸基，和
3)第一溶剂；
b)吡咯化合物；和
c)金属烃基化合物。
2.权利要求1所述的组合物，其中所述C3-C25羧酸基具有式(-O2C)rR1c，其中r是从1至4的整数，和R1c是烃类基团或取代的烃类基团。
3.权利要求1所述的组合物，其中所述C3-C25羧酸基具有式-O2CR2c，其中R2c是烃类基团或取代的烃类基团。
4.权利要求1所述的组合物，其中所述C3-C25羧酸基包括丙酸基、丁酸基、戊酸基、己酸基、庚酸基、辛酸基、壬酸基、癸酸基、十一烷酸基、十二烷酸基、十三烷酸基、十四烷酸基、十五烷酸基、十六烷酸基、十七烷酸基、十八烷酸基、或其任何组合。
5.权利要求1所述的组合物，其中所述C3-C25羧酸基包括2-乙基己酸基。
6.权利要求1所述的组合物，其中所述吡咯化合物具有式P1
其中R2p、R3p、R4p和R5p独立地是氢原子或C1-C30有机基团。
7.权利要求1所述的组合物，其中所述吡咯化合物具有式P5
其中R42p和R45p独立地是C1-C18烃基基团。
8.权利要求1所述的组合物，其中所述吡咯化合物包括2,5-二甲基吡咯、2-甲基-5-乙基吡咯、2,5-二乙基吡咯、2,5-二丙基吡咯、2,5-二丁基吡咯、2,4-二甲基吡咯、2,4-二乙基吡咯、2,4-二丙基吡咯、2,4-二丁基吡咯、3,4-二甲基吡咯、3,4-二乙基吡咯、3,4-二丙基吡咯、3,4-二丁基吡咯、2,3,4-三甲基吡咯、3-乙基-2,4-二甲基吡咯、2,3,5-三甲基吡咯、2,3,4,5-四甲基吡咯、2,3,4,5-四乙基吡咯、或其任何组合。
9.权利要求1所述的组合物，其中所述吡咯化合物包括2,5-二甲基吡咯。
10.权利要求1所述的组合物，其中所述金属烃基化合物包括第1、2、11、12、13、或14族金属烃基化合物。
11.权利要求1所述的组合物，其中所述金属烃基化合物包括三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基铝二卤化物、烷基铝倍半卤化物或其任何组合。
12.权利要求1所述的组合物，其中所述金属烃基化合物包括三乙基铝和二乙基氯化铝。
13.权利要求1所述的组合物，进一步包括含卤素化合物。
14.权利要求13所述的组合物，其中所述含卤素化合物包括第3族、第4族、第5族、排除Cr的第6族、第13族、第14族、或第15族含卤素化合物。
15.权利要求13所述的组合物，其中所述含卤素化合物包括第3族金属卤化物、第4族金属卤化物、第5族金属卤化物、排除Cr的第6族金属卤化物、第13族金属卤化物、第14族金属卤化物、第15族金属卤化物、或其任何组合。
16.权利要求15所述的组合物，其中所述含卤素化合物包括无机金属卤化物、烃基金属卤化物、或其任何组合。
17.权利要求13所述的组合物，其中所述含卤素化合物包括C1-C15卤化烃。
18.权利要求11所述的组合物，其中所述铬对铝摩尔比范围为从1：1至1：100。
19.权利要求1所述的组合物，其中所述吡咯化合物对铬摩尔比范围为从0.3：1至10：1。
20.权利要求1所述的组合物，其中
a)所述C3-C25羧酸铬(III)的C3-C25羧酸基包括丙酸基、丁酸基、戊酸基、己酸基、庚酸基、辛酸基、壬酸基、癸酸基、十一烷酸基、十二烷酸基、十三烷酸基、十四烷酸基、十五烷酸基、十六烷酸基、十七烷酸基、十八烷酸基、或其任何组合；
b)所述吡咯化合物包括2,5-二甲基吡咯、2-甲基-5-乙基吡咯、2,5-二乙基吡咯、2,5-二丙基吡咯、2,5-二丁基吡咯、2,4-二甲基吡咯、2,4-二乙基吡咯、2,4-二丙基吡咯、2,4-二丁基吡咯、3,4-二甲基吡咯、3,4-二乙基吡咯、3,4-二丙基吡咯、3,4-二丁基吡咯、2,3,4-三甲基吡咯、3-乙基-2,4-二甲基吡咯、2,3,5-三甲基吡咯、2,3,4,5-四甲基吡咯、2,3,4,5-四乙基吡咯、或其任何组合；
c)所述金属烃基化合物包括三烷基铝、二烷基铝卤化物、烷基金属二卤化物、烷基铝倍半氯化物、或其任何组合；
d)所述铬对铝摩尔比范围为从1：5至1：17；和
e)所述吡咯化合物对铬摩尔比范围为从0.3：1至2：1。
21.制备催化剂体系的方法，所述方法包括接触
a)C3-C25羧酸铬(III)组合物
ⅰ)具有υasym(CO2)红外吸收峰处于υsym(CO2)红外峰的110cm-1内的KBr靶丸红外光谱，并具有大于或等于3：1的处于1516±15cm-1的υasym(CO2)红外吸收峰与位于700±50cm-1的红外吸收峰的红外吸收峰高度比，
ⅱ)当将所述C3-C25羧酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与单核乙酸铬(III)理论模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点在1.3埃至4埃的r范围进行比较时，其具有至少0.6的拟合良好度检验值R2，
其中，R2＝1-(SSerr/SStot)
其中，并且
其中，r(int)是计算拟合良好度的g(r)的初始r值，并且r(fin)是计算拟合良好度的g(r)的最终r值，或
ⅲ)通过方法生产，所述方法包括
在基本上无水的和基本上无酸的条件下接触
1)具有式CrX3Ll的铬(III)前体，其中每一个X独立地是卤基，每一个L独立地是C2-C10醚、C2-C10硫醚、C2-C5腈、C1-C30胺、或C3-C30膦、或其任何组合，和l范围为从0至7，
2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸基，和
3)第一溶剂；
b)吡咯化合物；和
c)金属烃基化合物。
22.权利要求21所述的方法，其中在不饱和有机化合物的存在下，接触a)所述C3-C25羧酸铬(III)组合物，b)吡咯化合物，c)金属烃基化合物，和d)任选的，含卤素化合物中的两种或更多。
23.权利要求22所述的方法，其中所述不饱和有机化合物包括C2至C20不饱和脂肪族烃、C6至C20芳烃、或其任何组合。
24.权利要求22所述的方法，其中所述不饱和有机化合物包括苯、甲苯、二甲苯、乙苯、异丙基苯、1,3,5-三甲基苯、六甲基苯、或其任何组合。
25.权利要求21所述的方法，其中同时接触所述C3-C25羧酸铬(III)组合物、吡咯化合物和金属烃基化合物。
26.权利要求21所述的方法，其中将所述C3-C25羧酸铬(III)组合物或包括所述C3-C25羧酸铬(III)组合物和所述吡咯化合物的组合物加入到包括所述金属烃基化合物的组合物中。
27.权利要求21所述的方法，包括接触所述吡咯化合物和所述金属烃基化合物，以形成吡咯/金属烃基化合物混合物，和使所述吡咯化合物/金属烃基化合物混合物与所述C3-C25羧酸铬(III)组合物接触。
28.权利要求21所述的方法，其中所述催化剂体系进一步包括含有含卤素化合物的组合物。
29.权利要求21所述的方法，其中所述催化剂体系进一步包括含卤素化合物，和其中所述含卤素化合物包括无机金属卤化物、烃基金属卤化物、卤化烃、或其任何组合。
30.权利要求21所述的方法，其中所述催化剂体系进一步包括含卤素化合物，和其中所述含卤素化合物包括金属卤化物。
31.权利要求30所述的方法，包括在使所述C3-C25羧酸铬(III)组合物与所述金属烃基化合物接触之前，使所述C3-C25羧酸铬(III)组合物与所述吡咯化合物或所述金属卤化物中的至少一种接触。
32.权利要求30所述的方法，包括在使所述C3-C25羧酸铬(III)组合物与所述金属烃基化合物接触之前，使所述金属烃基化合物与所述吡咯化合物或所述金属卤化物中的至少一种接触。
33.权利要求21所述的方法，其中所述催化剂体系进一步包括含卤素化合物，和其中含所述含卤素化合物的组合物包括(ⅰ)无机金属卤化物，(ⅱ)烃基金属卤化物，(ⅲ)无机金属卤化物和非-卤化物金属烃基化合物的混合物，或(ⅳ)烃基金属卤化物和非-卤化物金属烃基化合物的混合物。
34.权利要求33所述的方法，其中在接触所述含所述含卤素化合物的组合物之前，使所述C3-C25羧酸铬(III)组合物、所述吡咯化合物、或包括所述C3-C25羧酸铬(III)组合物和所述吡咯化合物的组合物与非-卤化物金属烃基化合物接触。
35.权利要求29所述的方法，其中在使所述吡咯化合物或所述C3-C25羧酸铬(III)组合物与包含所述含卤素化合物的组合物接触之前，接触所述C3-C25羧酸铬(III)组合物和所述吡咯化合物。
36.权利要求29所述的方法，其中(1)接触所述吡咯化合物、含所述含卤素化合物的组合物，和任选地，所述C3-C25羧酸铬(III)组合物，以形成混合物，和(2)使所述混合物与非-卤化物金属烃基化合物接触。
37.权利要求21所述的方法，包括(1)接触所述吡咯化合物、所述金属烃基化合物，和任选地，含卤素化合物，以形成混合物，和(2)使所述混合物与所述C3-C25羧酸铬(III)组合物接触。
38.用于在催化剂体系存在下三聚化烯烃的方法：
所述催化剂体系包括：
1)C3-C25羧酸铬(III)组合物，即
ⅰ)特征在于具有υasym(CO2)峰红外吸收峰处于υsym(CO2)红外吸收峰的110cm-1内的KBr靶丸红外光谱，并具有大于或等于3：1的处于1516±15cm-1的υasym(CO2)红外吸收峰与位于700±50cm-1的红外吸收峰的红外吸收峰高度比，
ⅱ)特征在于当将所述C3-C25羧酸铬(III)组合物的高能X射线衍射g(r)数据点与单核乙酸铬(III)理论模型的计算高能X射线衍射g(r)数据点在1.3埃至4埃的r范围进行比较时，其具有至少0.6的拟合良好度检验值R2，
其中，R2＝1-(SSerr/SStot)
其中，并且
其中，r(int)是计算拟合良好度的g(r)的初始r值，并且r(fin)是计算拟合良好度的g(r)的最终r值，或
ⅲ)通过方法生产，所述方法包括
在基本上无水的和基本上无酸的条件下接触
(1)具有式CrX3Ll的铬(III)前体，其中每一个X独立地是卤基，每一个L独立地是C2-C10醚、C2-C10硫醚、C2-C5腈、C1-C30胺、或C3-C30膦、或其任何组合，和l范围为从0至7，
(2)第1族或第2族金属C3-C25羧酸基，和
(3)第一溶剂；
2)吡咯化合物；和
3)金属烃基化合物；和
所述方法包括接触包括乙烯的烯烃、所述C3-C25羧酸铬(III)组合物、所述吡咯化合物、和所述金属烃基化合物，以产生三聚化产物。
39.权利要求38所述的方法，其中所述方法包括：
a)接触所述C3-C25羧酸铬(III)组合物、所述吡咯化合物、和所述金属烃基化合物，以形成所述催化剂体系；
b)使所述催化剂体系与所述烯烃接触；和
c)在三聚化条件下，产生烯烃三聚化产物。
40.权利要求38所述的方法，其中在接触所述烯烃之前，没有接触所述C3-C25羧酸铬(III)组合物和所述金属烃基化合物。
41.权利要求38所述的方法，其中在接触所述金属烃基化合物或所述C3-C25羧酸铬(III)接触所述烯烃之前，没有接触所述C3-C25羧酸铬(III)组合物和所述金属烃基化合物。
42.权利要求38所述的方法，其中所述烯烃包括乙烯，并且所述C3-C25羧酸铬(III)组合物和所述金属烃基化合物基本上同时地接触乙烯。
43.权利要求38所述的方法，其中所述烯烃包括乙烯，和在使所述C3-C25羧酸铬(III)组合物与乙烯接触之前，使所述C3-C25羧酸铬(III)组合物与所述吡咯化合物接触，以形成C3-C25羧酸铬(III)组合物/吡咯混合物。
44.权利要求38所述的方法，其中所述烯烃包括乙烯和在使所述金属烃基化合物与所述烯烃接触之前，使所述金属烃基化合物与所述吡咯化合物接触，以形成金属-吡咯混合物。
45.权利要求38所述的方法，其中所述催化剂体系进一步包括含有含卤素化合物的组合物。
46.权利要求45所述的方法，其中所述含卤素化合物包括无机金属卤化物、烃基金属卤化物、卤化烃、或其任何组合。
47.权利要求38所述的方法，其中所述三聚化条件包括烃溶剂的存在。
48.权利要求38所述的方法，其中所述烯烃包括乙烯和所述三聚化条件包括范围为从20psi至2500psi的乙烯分压。
49.权利要求48所述的方法，其中所述三聚化条件进一步包括至少一个ⅰ)范围为从60℃至200℃的温度，ⅱ)范围为从2psi至100psi的氢分压；或ⅲ)其任何组合。
50.权利要求38所述的方法，其中通过利用灭活剂处理反应器流出物来灭活所述催化剂体系。
51.权利要求50所述的方法，其中所述灭活剂包括ⅰ)醇，ⅱ)胺，或ⅲ)其任何组合。
52.权利要求50所述的方法，其中所述烯烃包括乙烯和所述三聚化产物包括至少90重量百分数的每一个分子具有6个碳原子的三聚化产物。
53.权利要求50所述的方法，其中所述烯烃包括乙烯和所述每一个分子具有6个碳原子的三聚化产物包括至少98.5重量百分数的1-己烯。
CN201280069248.2A 2011-12-12 2012-11-15 烯烃寡聚化催化剂的制备 Active CN104105545B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/323,328 US9956548B2 (en) 2011-12-12 2011-12-12 Preparation of an olefin oligomerization catalyst
US13/323,328 2011-12-12
PCT/US2012/065285 WO2013089962A1 (en) 2011-12-12 2012-11-15 Preparation of an olefin oligomerization catalyst

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104105545A CN104105545A (zh) 2014-10-15
CN104105545B true CN104105545B (zh) 2017-07-04

Family

ID=47226490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280069248.2A Active CN104105545B (zh) 2011-12-12 2012-11-15 烯烃寡聚化催化剂的制备

Country Status (13)

Country Link
US (1) US9956548B2 (zh)
EP (1) EP2790828B1 (zh)
JP (1) JP6360436B2 (zh)
KR (1) KR102024402B1 (zh)
CN (1) CN104105545B (zh)
AU (1) AU2012352855B2 (zh)
BR (2) BR122015028746A2 (zh)
CA (1) CA2858538C (zh)
MX (1) MX361546B (zh)
RU (1) RU2628078C2 (zh)
SG (2) SG10201604235VA (zh)
WO (1) WO2013089962A1 (zh)
ZA (1) ZA201404265B (zh)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9956548B2 (en) 2011-12-12 2018-05-01 Chevron Phillips Chemical Company Lp Preparation of an olefin oligomerization catalyst
US8957235B2 (en) * 2011-12-12 2015-02-17 Chevron Phillips Chemical Company Lp Preparation of transition metal carboxylates
CN104163906B (zh) * 2014-03-07 2018-01-05 华东理工大学 一种用于异氰酸酯三聚，异氰酸酯与环氧成环反应的催化剂及其应用
US9175109B1 (en) 2014-05-20 2015-11-03 Chevron Phillips Chemical Company Lp Oligomerization processes and polymer compositions produced therefrom
US9505675B2 (en) 2015-02-09 2016-11-29 Chevron Phillips Chemical Company Lp Deactivation of a process by-product
KR101679515B1 (ko) * 2015-02-12 2016-11-24 주식회사 엘지화학 올리고머화 촉매계의 제조방법 및 이에 의해 제조된 올리고머화 촉매계
WO2017010998A1 (en) 2015-07-14 2017-01-19 Chevron Phillips Chemical Company Lp Olefin compositions
US10513473B2 (en) 2015-09-18 2019-12-24 Chevron Phillips Chemical Company Lp Ethylene oligomerization/trimerization/tetramerization reactor
US10519077B2 (en) 2015-09-18 2019-12-31 Chevron Phillips Chemical Company Lp Ethylene oligomerization/trimerization/tetramerization reactor
KR101735687B1 (ko) 2015-09-23 2017-05-15 롯데케미칼 주식회사 올레핀 올리고머화용 촉매계 및 이를 이용한 올레핀 올리고머화 방법
KR101841444B1 (ko) * 2016-09-08 2018-03-23 주식회사 유피케미칼 5족 금속 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 막 증착용 전구체 조성물, 및 이를 이용하는 막의 증착 방법
CN109715587A (zh) * 2016-09-21 2019-05-03 乐天化学株式会社 烯烃低聚的催化剂体系和使用其制备烯烃低聚物的方法
CN111212822B (zh) * 2017-10-11 2023-04-21 乐天化学株式会社 用于烯烃低聚的催化剂体系及利用其的烯烃低聚物制备方法
WO2021045641A1 (en) * 2019-09-06 2021-03-11 Public Joint Stock Company "Sibur Holding" Method for preparing catalytic system for olefin oligomerization
CN114716309A (zh) * 2022-04-21 2022-07-08 烟台远东精细化工有限公司 一种生产异丁酸铬的工艺方法及工艺装置
US11878952B1 (en) 2022-11-14 2024-01-23 Chevron Phillips Chemical Company Lp Oligomerization catalyst system deactivation and related ethylene oligomerization processes

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5856257A (en) * 1997-05-16 1999-01-05 Phillips Petroleum Company Olefin production
CN101291733A (zh) * 2005-08-19 2008-10-22 切夫里昂菲利普化学有限责任公司 烯烃低聚催化剂的制备方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL256332A (zh) 1960-09-28
GB1326012A (en) 1969-07-14 1973-08-08 Johnson Matthey Co Ltd Catalyst compositions
US4017429A (en) 1973-08-17 1977-04-12 Aerojet-General Corporation Preparation of 2-hydroxyalkyl esters
US3932285A (en) 1973-10-03 1976-01-13 Tenneco Chemicals, Inc. Chromium salt compositions and a process for their production
SU1167176A1 (ru) * 1983-04-01 1985-07-15 Кузбасский Политехнический Институт Способ получени нафтената или 2-этилгексаноата хрома
US4853356A (en) 1986-03-14 1989-08-01 Union Carbide Corporation Process for trimerization
US4668838A (en) 1986-03-14 1987-05-26 Union Carbide Corporation Process for trimerization
JPS63265237A (ja) * 1987-04-22 1988-11-01 Canon Inc 画像形成装置
US5376612A (en) * 1989-08-10 1994-12-27 Phillips Petroleum Company Chromium catalysts and process for making chromium catalysts
CA2134503C (en) 1994-02-18 2001-04-10 Mark E. Lashier Olefin production
KR100414008B1 (ko) 1995-03-02 2004-04-29 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 α-올레핀올리고머의제조방법
US5591878A (en) 1995-09-19 1997-01-07 Kemin Industries, Inc. Catalyzed process for producing metal carboxylates for use as animal feed supplements
WO1997033924A1 (fr) 1996-03-14 1997-09-18 Mitsubishi Chemical Corporation PROCEDE DE PRODUCTION D'OLIGOMERS D'α-OLEFINES
US20020182124A1 (en) 1997-10-14 2002-12-05 William M. Woodard Olefin production process
US6455648B1 (en) 1999-12-29 2002-09-24 Chevron Phillips Chemical Company Lp Olefin production
GB0016895D0 (en) * 2000-07-11 2000-08-30 Bp Chem Int Ltd Olefin oligomerisation
CN1186305C (zh) 2001-12-07 2005-01-26 北京燕山石油化工公司研究院 活性有机酸铬的制备方法
TW200502038A (en) 2003-03-14 2005-01-16 Chevron Phillips Chemical Co Process to decrease or eliminate corrosion from the decomposition of halide containing olefin catalysts
US7384886B2 (en) * 2004-02-20 2008-06-10 Chevron Phillips Chemical Company Lp Methods of preparation of an olefin oligomerization catalyst
EP2287144B1 (en) * 2004-02-20 2018-04-11 Chevron Phillips Chemical Company LP Methods of preparation of an olefin oligomerization catalyst
US7476775B2 (en) 2004-03-03 2009-01-13 Chevron Phillips Chemical Company Lp Method and system for separating an oligomerization reactor effluent
KR100619751B1 (ko) 2004-10-23 2006-09-13 엘지전자 주식회사 셰이딩 코일형 단상 동기/유도 전동기
CN100567438C (zh) 2007-08-20 2009-12-09 黑龙江省石油化学研究院 耐酸环氧树脂灌封剂及其制备方法
SG194380A1 (en) 2008-10-31 2013-11-29 Chevron Phillips Chemical Co Compositions and catalyst systems of metal precursors and olefinic diluents
US8957235B2 (en) * 2011-12-12 2015-02-17 Chevron Phillips Chemical Company Lp Preparation of transition metal carboxylates
US9956548B2 (en) 2011-12-12 2018-05-01 Chevron Phillips Chemical Company Lp Preparation of an olefin oligomerization catalyst

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5856257A (en) * 1997-05-16 1999-01-05 Phillips Petroleum Company Olefin production
CN101291733A (zh) * 2005-08-19 2008-10-22 切夫里昂菲利普化学有限责任公司 烯烃低聚催化剂的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CA2858538C (en) 2020-01-14
BR112014014158A2 (pt) 2017-06-13
MX2014006979A (es) 2014-08-01
US9956548B2 (en) 2018-05-01
AU2012352855B2 (en) 2017-02-02
KR102024402B1 (ko) 2019-09-23
KR20140103112A (ko) 2014-08-25
ZA201404265B (en) 2018-11-28
RU2628078C2 (ru) 2017-08-14
CA2858538A1 (en) 2013-06-20
US20130150642A1 (en) 2013-06-13
BR122015028746A2 (pt) 2019-08-27
WO2013089962A1 (en) 2013-06-20
JP6360436B2 (ja) 2018-07-18
MX361546B (es) 2018-12-10
JP2015507524A (ja) 2015-03-12
EP2790828A1 (en) 2014-10-22
SG11201403181TA (en) 2014-07-30
EP2790828B1 (en) 2018-09-19
SG10201604235VA (en) 2016-07-28
AU2012352855A1 (en) 2014-07-03
CN104105545A (zh) 2014-10-15
RU2014128346A (ru) 2016-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104105545B (zh) 烯烃寡聚化催化剂的制备
JP6162715B2 (ja) 遷移金属カルボン酸塩の調製
CN102869445B (zh) 低聚催化剂系统以及低聚烯烃的方法
CN101654391B (zh) 制备烯烃低聚合催化剂的方法
CN104394986B (zh) 氧膦基胍化合物、金属盐络合物、催化剂系统以及它们用于低聚或聚合烯烃的用途
CN101291733B (zh) 烯烃低聚催化剂的制备方法
CN103464204B (zh) 制备烯烃低聚合催化剂的方法
CN104941682B (zh) 催化组合物及用于使乙烯低聚成1-己烯的方法
CN107810057A (zh) 防污低聚催化剂系统
CN102164672A (zh) 低聚催化剂系统和低聚烯烃的方法
CN103183700A (zh) 烯烃聚合的催化剂组合物
CN108025995A (zh) 乙烯低聚/三聚/四聚反应器的改良设计
CN107207383A (zh) 制备烯烃的低聚物的方法
Suttil et al. Preparation and structures of aryloxy–and alkoxy–Ti (iv) complexes and their evaluation in ethylene oligomerisation and polymerisation
CN104995199B (zh) 产生四(氟芳基)硼酸盐的方法
KR20150002549A (ko) 촉매 조성물 및 알파-올레핀의 제조 방법
CN106927988A (zh) 癸烯的制备方法
Ismail Simple synthetic methods towards reactive low valent germanium compounds
CN109092366A (zh) 催化剂组合物及2-丁烯酸的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant