CN104073171A - 一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法 - Google Patents
一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104073171A CN104073171A CN201410291250.5A CN201410291250A CN104073171A CN 104073171 A CN104073171 A CN 104073171A CN 201410291250 A CN201410291250 A CN 201410291250A CN 104073171 A CN104073171 A CN 104073171A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- stainless steel
- polishing
- deionized water
- steel surface
- aqueous solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 50
- 239000002002 slurry Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000003754 machining Methods 0.000 title abstract 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 90
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 15
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 30
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 22
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims description 19
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229960004418 trolamine Drugs 0.000 claims description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 239000004159 Potassium persulphate Substances 0.000 claims description 6
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims description 6
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 6
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 6
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 235000019394 potassium persulphate Nutrition 0.000 claims description 6
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KGWDUNBJIMUFAP-KVVVOXFISA-N Ethanolamine Oleate Chemical compound NCCO.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O KGWDUNBJIMUFAP-KVVVOXFISA-N 0.000 claims description 5
- 229960001124 trientine Drugs 0.000 claims description 5
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- NSOXQYCFHDMMGV-UHFFFAOYSA-N Tetrakis(2-hydroxypropyl)ethylenediamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CCN(CC(C)O)CC(C)O NSOXQYCFHDMMGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JLKDVMWYMMLWTI-UHFFFAOYSA-M potassium iodate Chemical compound [K+].[O-]I(=O)=O JLKDVMWYMMLWTI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000001230 potassium iodate Substances 0.000 claims description 4
- 235000006666 potassium iodate Nutrition 0.000 claims description 4
- 229940093930 potassium iodate Drugs 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- -1 PFG-400 Chemical compound 0.000 claims description 2
- ZUGZQQPGJJKSGB-UHFFFAOYSA-M [OH-].ClC[N+](C)(C)C.[Na] Chemical compound [OH-].ClC[N+](C)(C)C.[Na] ZUGZQQPGJJKSGB-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 abstract 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 abstract 1
- 235000020354 squash Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 7
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- 241000675108 Citrus tangerina Species 0.000 description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- MLIWQXBKMZNZNF-KUHOPJCQSA-N (2e)-2,6-bis[(4-azidophenyl)methylidene]-4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound O=C1\C(=C\C=2C=CC(=CC=2)N=[N+]=[N-])CC(C)CC1=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 MLIWQXBKMZNZNF-KUHOPJCQSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 238000007613 slurry method Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPDMMXDBJGCCQC-UHFFFAOYSA-N [Na].[Cl] Chemical compound [Na].[Cl] DPDMMXDBJGCCQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 210000002615 epidermis Anatomy 0.000 description 1
- 235000019634 flavors Nutrition 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
本发明公开了一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料,按重量百分比由以下组分组成:硅溶胶90-94%,抛光加速剂0.05-2%,光亮剂0.05-3%,缓蚀剂0.05-1%,pH值调节剂0.05-2%,余量为去离子水。其制备过程包括将上述各原料分别配成溶液备料,然后按一定顺序加入搅拌的步骤。该纳米浆料可增强不锈钢抛光过程中胶体二氧化硅对不锈钢的去除速率,同时可以使钢材获得镜面。产品的可稀释比例高,稳定性强,成本较低,不污染环境及腐蚀设备。
Description
技术领域
本发明涉及抛光材料制备技术领域,特别是一种用于304不锈钢的表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法。
背景技术
不同的表面加工工艺使不锈钢表面各异,使其在应用中具有独到之处。用于不锈钢表面加工的技术大致有五类,轧制技术、机械表面加工、化学表面加工、网纹表面加工和彩色表面加工。根据经验不锈钢进行表面精加工时粗抛工序正常使用1-1.5微米的氧化铝作为磨料,而精抛过程使用的为大粒径的二氧化硅抛光液。不同的不锈钢抛光工件可以结合使用不同的抛光加工技术使不锈钢达到高表面光泽和精加工均匀性的效果。
化学抛光处理技术是目前公认的金属表面抛光的有效手段。不锈钢较铜和铝及其合金而言是较难抛光的金属,不使用带污染性的抛光液成分(如HNO3,氧化性强)抛光效果往往比较差,针对不锈钢的抛光液报道较少,环保型的不锈钢抛光液更是甚少。不锈钢抛光液大多数是化学抛光,化学抛光液存在的主要问题是多数抛光液含硝酸以及采用“三酸”抛光液,作业时产生大量NOx有害气体,污染环境危害人体健康。抛光液主要为三酸(硫酸、盐酸、硝酸)都是依靠抛光液里的化学成分起作用从而达到去除不锈钢表皮使不锈钢表面达到银亮效果。
不锈钢的抛光处理过程往往会产生严重的环境污染和危害人体健康的气体。研制环保型的不锈钢抛光液具有广阔的发展前景。
发明内容
针对上述现有技术中存在的不足,本发明提供了一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料(即抛光液)及其制备方法,该纳米浆料可增强不锈钢抛光过程中胶体二氧化硅对不锈钢的去除速率,同时可以使钢材获得镜面。产品的可稀释比例高,稳定性强,成本较低,不污染环境及腐蚀设备。
本发明提供的一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料,按重量百分比由以下组分组成:硅溶胶90-94%,抛光加速剂0.05-2%,光亮剂0.05-3%,缓蚀剂0.05-1%,pH值调节剂0.05-2%,余量为去离子水;
所述的抛光加速剂是强氧化性盐类与常规无机盐的混合物,两者的重量比为氧化性盐类:常规无机盐=1:1-5;
所述的光亮剂是甘油、PFG-400、三乙醇胺中的一种或多种的混合物;
所述的缓蚀剂是BTA、咪唑中的一种或多种的混合物;
所述的pH值调节剂是乙二胺、三乙醇胺、三乙烯四胺或乙醇胺中的一种或多种的混合物;
优选地,所述的硅溶胶是粒径40-150nm的纳米硅溶胶。
优选地,所述的强氧化性盐类是碘酸钾、过硫酸钾中的一种或多种的混合物。
优选地,所述常规无机盐是氯化钾、溴化钠、氯化钠、四甲基氢氧化铵中的一种或多种的混合物。
优选地,所述强氧化性盐类与常规无机盐的重量比为1:3。
上述不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料的制备方法,依次按如下步骤进行:在室温条件下,一边搅拌、一边将抛光加速剂加入到去离子水中,待完全溶解后,得混合水溶液;静置、冷却至室温,将混合水溶液加入硅溶胶中,边加边搅拌,控制加入流量在90-110ml/min,充分搅拌混合均匀;接着将光亮剂溶解在去离子水中,配成水溶液后加入到硅溶胶中,边加边搅拌,流量控制在90-110ml/min;再将缓蚀剂溶解在去离子水中,配成水溶液后加入到上述抛光液中;最后用pH值调节剂将抛光液的pH值控制在9.0-12.5,即成为用于不锈钢抛光的抛光液。
本发明提供的一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法,该纳米浆料,配伍及配比科学合理,增强不锈钢抛光过程中胶体二氧化硅对不锈钢的去除速率,同时可以使钢材获得镜面。此外本发明的抛光液配制方法简单,产品的可稀释比例高,稳定性强,成本较低,不污染环境及腐蚀设备。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。
实施例1
以下结合实施例,对本发明作进一步的说明。下面的说明是采用例举的方式,但本发明的保护范围不应局限于此。
实施例1:
本实施例的具体制备步骤如下:
(1)备料:分别取过硫酸钾10g、氯化钠30g、去离子水335g、BTA25g、甘油50g、纳米硅(SiO2)溶胶(40-50nm,40wt%)4500g、乙二胺50g,备用;
(2)抛光加速剂配制:将备用的过硫酸钾和氯化纳混合后,在室温条件下,一边搅拌、一边将其加入到备用的去离子水中,待完全溶解后,成为抛光加速剂溶液,备用;
(3)其他水溶液配制:将备用的甘油和BTA分别配成水溶液,备用;
(4)抛光液配制:待备用的抛光加速剂溶液静置、冷却至室温。将其加入纳米硅溶胶中,边加边搅拌,控制加入流量在100ml/min,充分搅拌混合均匀,再将光亮剂的水溶液加入至上述溶液加入方式同前,接着加入缓蚀剂。
(5)pH值调节:将备用的乙二胺加入到上述的抛光液中,此时,其pH值在11,即得5000g用于不锈钢抛光的抛光液。
使用时,取上述不锈钢抛光液,用去离子水按体积比1:1稀释,成为抛光浆料,然后将该抛光浆料在Presi-334精密研磨抛光机上用于抛光,工件为8cm*10cm的不锈钢片,抛光压力2psi,下盘及载盘转速60RPM,抛光浆料流速10ml/min;该抛光液抛光去除速率为3-4μm/min,抛光后不锈钢表面光泽度高、镜面好、无桔皮。
实施例2
(1)备料:分别取过碘酸钾50g、溴化钠50g、去离子水345g、咪唑50g、PFG-4002.5g、纳米硅(SiO2)溶胶(50-60nm,40wt%)4500g、三乙醇胺2.5g,备用;
(2)抛光加速剂配制:将备用的碘酸钾和溴化钠混合后,在室温条件下,一边搅拌、一边将其加入到备用的去离子水中,待完全溶解后,成为抛光加速剂溶液,备用;
(3)其他水溶液配制:将备用的PFG-400和咪唑分别配成水溶液,备用;
(4)抛光液配制:待备用的抛光加速剂溶液静置、冷却至室温。将其加入纳米硅溶胶中,边加边搅拌,控制加入流量在110ml/min,充分搅拌混合均匀,再将光亮剂的水溶液加入至上述溶液加入方式同前,接着加入缓蚀剂。
(5)pH值调节:将备用的三乙醇胺加入到上述的抛光液中,此时,其pH值在10,即得5000g用于不锈钢抛光的抛光液。
使用时,取上述不锈钢抛光液,用去离子水按体积比1:1稀释,成为抛光浆料,然后将该抛光浆料在Presi-334精密研磨抛光机上用于抛光,工件为8cm*10cm的不锈钢片,抛光压力2psi,下盘及载盘转速60RPM,抛光浆料流速10ml/min;该抛光液抛光去除速率为3-4μm/min,抛光后不锈钢表面光泽度高、镜面好、无桔皮。
实施例3
(1)备料:分别取过过硫酸钾1.25g、氯化钾1.25g、去离子水45g、BTA1.25g、咪唑1.25g、三乙醇胺150g、纳米硅(SiO2)溶胶(60-70nm,40wt%)4700g、三乙烯四胺100g,备用;
(2)抛光加速剂配制:将备用的过硫酸钾和氯化钾混合后,在室温条件下,一边搅拌、一边将其加入到备用的去离子水中,待完全溶解后,成为抛光加速剂溶液,备用;
(3)其他水溶液配制:将备用的三乙醇胺配成水溶液,咪唑与BTA混合物后配成水溶液,备用;
(4)抛光液配制:待备用的抛光加速剂溶液静置、冷却至室温。将其加入纳米硅溶胶中,边加边搅拌,控制加入流量在90ml/min,充分搅拌混合均匀,再将光亮剂的水溶液加入至上述溶液加入方式同前,接着加入缓蚀剂。
(5)pH值调节:将备用的三乙烯四胺加入到上述的抛光液中,此时,其pH值在10,即得5000g用于不锈钢抛光的抛光液。
使用时,取上述不锈钢抛光液,用去离子水按体积比1:1稀释,成为抛光浆料,然后将该抛光浆料在Presi-334精密研磨抛光机上用于抛光,工件为8cm*10cm的不锈钢片,抛光压力2psi,下盘及载盘转速60RPM,抛光浆料流速10ml/min;该抛光液抛光去除速率为3-4μm/min,抛光后不锈钢表面光泽度高、镜面好、无桔皮。
实施例4
(1)备料:分别取过碘酸钾10g、四甲基氢氧化铵40g、去离子水200g、BTA25g、甘油与PFG-400共75g(各37.5g)、纳米硅(SiO2)溶胶(70-150nm,40wt%)4600g、乙醇胺50g,备用;
(2)抛光加速剂配制:将备用的碘酸钾和四甲基氢氧化铵混合后,在室温条件下,一边搅拌、一边将其加入到备用的去离子水中,待完全溶解后,成为抛光加速剂溶液,备用;
(3)其他水溶液配制:将备用的甘油与PFG-400配成水溶液、BTA配成水溶液,备用;
(4)抛光液配制:待备用的抛光加速剂溶液静置、冷却至室温。将其加入纳米硅溶胶中,边加边搅拌,控制加入流量在100ml/min,充分搅拌混合均匀,再将光亮剂的水溶液加入至上述溶液加入方式同前,接着加入缓蚀剂。
(5)pH值调节:将备用的乙醇胺加入到上述的抛光液中,此时,其pH值在12,即得5000g用于不锈钢抛光的抛光液。
使用时,取上述不锈钢抛光液,用去离子水按体积比1:1稀释,成为抛光浆料,然后将该抛光浆料在Presi-334精密研磨抛光机上用于抛光,工件为8cm*10cm的不锈钢片,抛光压力2psi,下盘及载盘转速60RPM,抛光浆料流速10ml/min;该抛光液抛光去除速率为3-4μm/min,抛光后不锈钢表面光泽度高、镜面好、无桔皮。
实施例5
本实施例与实施例4基本相同,区别仅在于:
将乙醇胺替换为三乙醇胺与三乙烯四胺的混合物,两者各25g。
将本实施例中的不锈钢抛光液,用去离子水按体积比1:1稀释,成为抛光浆料,然后将该抛光浆料在Presi-334精密研磨抛光机上用于抛光,工件为8cm*10cm的不锈钢片,抛光压力2psi,下盘及载盘转速60RPM,抛光浆料流速10ml/min;该抛光液抛光去除速率为3-4μm/min,抛光后不锈钢表面光泽度高、镜面好、无桔皮。
以上对本发明所提供的种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰。这些改进和修饰也应当落入本发明权利要求的保护范围内。
Claims (6)
1.一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料,其特征在于,按重量百分比由以下组分组成:硅溶胶90-94%,抛光加速剂0.05-2%,光亮剂0.05-3%,缓蚀剂0.05-1%,pH值调节剂0.05-2%,余量为去离子水;
所述的抛光加速剂是强氧化性盐类与常规无机盐的混合物,两者的重量比为氧化性盐类:常规无机盐=1:1-5;
所述的光亮剂是甘油、PFG-400、三乙醇胺中的一种或多种的混合物;
所述的缓蚀剂是BTA、咪唑中的一种或多种的混合物;
所述的pH值调节剂是乙二胺、三乙醇胺、三乙烯四胺或乙醇胺中的一种或多种的混合物。
2.根据权利要求1所述的不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料,其特征在于,所述的硅溶胶是粒径40-150nm的纳米硅溶胶。
3.根据权利要求1所述的不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料,其特征在于,所述的强氧化性盐类是碘酸钾、过硫酸钾中的一种或多种的混合物。
4.根据权利要求1所述的不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料,其特征在于,所述常规无机盐是氯化钾、溴化钠、氯化钠、四甲基氢氧化铵中的一种或多种的混合物。
5.根据权利要求1-4任一所述的不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料,其特征在于,所述强氧化性盐类与常规无机盐的重量比为1:3。
6.一种权利要求1所述不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料的制备方法其特征在于,依次按如下步骤进行:在室温条件下,一边搅拌、一边将抛光加速剂加入到去离子水中,待完全溶解后,得混合水溶液;静置、冷却至室温,将混合水溶液加入硅溶胶中,边加边搅拌,控制加入流量在90-110ml/min,充分搅拌混合均匀;接着将光亮剂溶解在去离子水中,配成水溶液后加入到硅溶胶中,边加边搅拌,流量控制在90-110ml/min;再将缓蚀剂溶解在去离子水中,配成水溶液后加入到上述抛光液中;最后用pH值调节剂将抛光液的pH值控制在9.0-12.5,即成为用于不锈钢抛光的抛光纳米浆料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410291250.5A CN104073171B (zh) | 2014-06-24 | 2014-06-24 | 一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410291250.5A CN104073171B (zh) | 2014-06-24 | 2014-06-24 | 一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104073171A true CN104073171A (zh) | 2014-10-01 |
CN104073171B CN104073171B (zh) | 2016-03-23 |
Family
ID=51594789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410291250.5A Expired - Fee Related CN104073171B (zh) | 2014-06-24 | 2014-06-24 | 一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN104073171B (zh) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105970228A (zh) * | 2016-05-25 | 2016-09-28 | 深圳市佳欣纳米科技有限公司 | 一种铝合金抛光液及其制备方法 |
CN106086897A (zh) * | 2016-06-14 | 2016-11-09 | 吴江创源新材料科技有限公司 | 一种不锈钢导光板抛光液及其制备方法和应用 |
CN106077659A (zh) * | 2016-07-25 | 2016-11-09 | 北京工业大学 | 一种3d打印金属件表面抛光方法 |
CN106318220A (zh) * | 2016-08-18 | 2017-01-11 | 江苏锦阳不锈钢制品有限公司 | 一种不锈钢表面加工用抛光液 |
CN106318222A (zh) * | 2016-08-18 | 2017-01-11 | 江苏锦阳不锈钢制品有限公司 | 一种高精度抛光液的制备方法 |
CN106883769A (zh) * | 2017-04-17 | 2017-06-23 | 黄美香 | 一种硅溶胶抛光液 |
CN107057580A (zh) * | 2017-06-28 | 2017-08-18 | 合肥博之泰电子科技有限公司 | 一种硅溶胶抛光液及其制备方法 |
CN107418448A (zh) * | 2017-08-10 | 2017-12-01 | 深圳市佳欣纳米科技有限公司 | 一种不锈钢精密抛光液 |
CN108300330A (zh) * | 2018-01-25 | 2018-07-20 | 湖北海力天恒纳米科技有限公司 | 一种陶瓷晶片表面抛光浆料及其制备方法 |
CN112111230A (zh) * | 2020-09-21 | 2020-12-22 | 南通瑞迈斯纳米科技有限公司 | 一种混合磨料的硬质合金抛光浆料及其制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101463228A (zh) * | 2008-11-28 | 2009-06-24 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 不锈钢表面处理剂 |
CN101642893A (zh) * | 2009-08-25 | 2010-02-10 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种不锈钢衬底的精密抛光方法 |
CN101654599A (zh) * | 2009-07-03 | 2010-02-24 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 不锈钢表面抛光的化学机械抛光组合物 |
CN103450812A (zh) * | 2013-01-10 | 2013-12-18 | 湖南皓志新材料股份有限公司 | 一种用于蓝宝石衬底的抛光液 |
-
2014
- 2014-06-24 CN CN201410291250.5A patent/CN104073171B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101463228A (zh) * | 2008-11-28 | 2009-06-24 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 不锈钢表面处理剂 |
CN101654599A (zh) * | 2009-07-03 | 2010-02-24 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 不锈钢表面抛光的化学机械抛光组合物 |
CN101642893A (zh) * | 2009-08-25 | 2010-02-10 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种不锈钢衬底的精密抛光方法 |
CN103450812A (zh) * | 2013-01-10 | 2013-12-18 | 湖南皓志新材料股份有限公司 | 一种用于蓝宝石衬底的抛光液 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105970228A (zh) * | 2016-05-25 | 2016-09-28 | 深圳市佳欣纳米科技有限公司 | 一种铝合金抛光液及其制备方法 |
CN106086897A (zh) * | 2016-06-14 | 2016-11-09 | 吴江创源新材料科技有限公司 | 一种不锈钢导光板抛光液及其制备方法和应用 |
CN106077659A (zh) * | 2016-07-25 | 2016-11-09 | 北京工业大学 | 一种3d打印金属件表面抛光方法 |
CN106318220A (zh) * | 2016-08-18 | 2017-01-11 | 江苏锦阳不锈钢制品有限公司 | 一种不锈钢表面加工用抛光液 |
CN106318222A (zh) * | 2016-08-18 | 2017-01-11 | 江苏锦阳不锈钢制品有限公司 | 一种高精度抛光液的制备方法 |
CN106883769A (zh) * | 2017-04-17 | 2017-06-23 | 黄美香 | 一种硅溶胶抛光液 |
CN107057580A (zh) * | 2017-06-28 | 2017-08-18 | 合肥博之泰电子科技有限公司 | 一种硅溶胶抛光液及其制备方法 |
CN107418448A (zh) * | 2017-08-10 | 2017-12-01 | 深圳市佳欣纳米科技有限公司 | 一种不锈钢精密抛光液 |
CN108300330A (zh) * | 2018-01-25 | 2018-07-20 | 湖北海力天恒纳米科技有限公司 | 一种陶瓷晶片表面抛光浆料及其制备方法 |
CN112111230A (zh) * | 2020-09-21 | 2020-12-22 | 南通瑞迈斯纳米科技有限公司 | 一种混合磨料的硬质合金抛光浆料及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104073171B (zh) | 2016-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104073171B (zh) | 一种不锈钢表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法 | |
CN105862044B (zh) | 化学机械抛光浆液 | |
CN106281045A (zh) | 一种用于不锈钢精密抛光的纳米材料配方及其制备工艺 | |
CN104592897B (zh) | 一种含有石墨烯的化学机械抛光液 | |
CN104400624B (zh) | 固结磨料化学机械抛光铜的加工方法 | |
CN113444456A (zh) | 一种不锈钢表面加工用抛光液、制备方法及抛光工艺 | |
CN104593776B (zh) | 一种用于钛的化学机械抛光液 | |
TWI343296B (en) | Abrasive-free polishing system | |
TW201623559A (zh) | 化學機械拋光液 | |
CN108441122A (zh) | 一种用于手机不锈钢部件的抛光液及其制备方法 | |
CN104073170B (zh) | 一种铝合金表面超精密加工专用纳米浆料及其制备方法 | |
CN107418448A (zh) | 一种不锈钢精密抛光液 | |
NO130387B (zh) | ||
WO2018107312A1 (zh) | 一种铜合金表面钝化工艺 | |
CN103911617A (zh) | 一种氧化硅抛光液及其制备方法 | |
CN103668257A (zh) | 一种金属表面处理方法 | |
CN105332043A (zh) | 一种不锈钢常温电解抛光液及其制备方法 | |
CN106574170A (zh) | 钛合金材料研磨用组合物 | |
CN109054656B (zh) | 一种金属自由曲面表面抛光液及其制备方法和应用 | |
CN111534235A (zh) | 用于不锈钢精密抛光的抛光液 | |
CN115011258A (zh) | 一种双组份型抛光液及其制备方法,以及硅片抛光方法 | |
KR101507241B1 (ko) | 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 배럴 연마하면서 화성 처리하는 생산 방법 | |
CN104498952A (zh) | 一种立体纹理氧化药水 | |
CN109234714A (zh) | 一种水溶性复合钝化防护液及在钢铁湿喷砂除锈中的应用 | |
WO2017219254A1 (zh) | 钝化剂、铜件及其钝化处理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20160909 Address after: 226600 Nantong, Haian, east of the town of East China Sea Road (East), No. 18, No. Patentee after: JIANGSU HAIXUN INDUSTRY &COMMERCE GROUP Co.,Ltd. Address before: 226600 Nantong, Haian, east of the town of East China Sea Road (East), No. 18, No. Patentee before: JIANGSU TIANHENG NANO SCIENCE AND TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20160323 |