CN103995003A - 图案检查装置及图案检查方法 - Google Patents

图案检查装置及图案检查方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103995003A
CN103995003A CN201410053224.9A CN201410053224A CN103995003A CN 103995003 A CN103995003 A CN 103995003A CN 201410053224 A CN201410053224 A CN 201410053224A CN 103995003 A CN103995003 A CN 103995003A
Authority
CN
China
Prior art keywords
pattern
light
image
light source
source portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201410053224.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103995003B (zh
Inventor
藤原成章
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Publication of CN103995003A publication Critical patent/CN103995003A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103995003B publication Critical patent/CN103995003B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects

Abstract

本发明涉及图案检查装置及图案检查方法。在该图案检查装置上设有:第一光源部(331),将光照射至透明基材(9)的形成有图案的一侧主表面(91)上;第二光源部(332),将光照射至另一侧主表面(92)上;一个第一受光部(341),接受第一光源部(331)的光中被图案反射的反射光和第二光源部(332)的光中透过了透明基材(9)的透过光。而且,一边使透明基材(9)连续移动,一边交替点亮第一光源部(331)和第二光源部(332),从而用一个第一受光部(341)获取基于图案的反射光而形成的反射图像和基于透明基材(9)的透过光而形成的透过图像。由此,能够减少图案检查装置的部件数目。

Description

图案检查装置及图案检查方法
技术领域
本发明涉及对透明基材上的图案进行检查的图案检查装置及图案检查方法。
背景技术
在制造智能手机等中利用的触摸屏时,在PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)薄膜等的透明薄膜上形成金属配线图案。作为引线的金属配线图案形成在触摸屏的外缘部上,与形成在作为触摸屏的画面的中央部上的透明电极图案相连接。近年来,为了增大触摸屏的画面,进行将外缘部上的金属配线图案的图案要素形成得更细小的研究。在该情况下,为了在与以往相同的条件下将相同大小的电流施加到金属配线图案上,通过将金属配线图案的厚度设置得比以往大(增大高宽比)来保持图案要素的截面面积。
此外,在日本特开昭62-119444号公报(文献1)、日本特开2006-72147号公报(文献2)及日本特开2006-105816号公报(文献3)中,公开了如下的检查基材上的图案的方法,即,通过获取反射图像和透过图像来检查基材上的图案,该反射图像基于照射至透明基材的一侧主表面上的光的反射光而形成,该透过图像基于照射至基材的另一侧主表面上的光的透过光而形成。
但是,金属配线图案是例如通过局部蚀刻金属薄膜来形成的。此时,根据蚀刻条件,有时图案要素的上表面变成粗糙的状态或者图案要素蚀刻得不够锐利(Sharp)。从而,对图案要素的上表面和图案要素的下端(下部)这两房进行检查的要求变高。在利用印刷电子技术(Printed Electronics)形成金属配线图案的情况下,由于图案要素的下端易变宽,因而对金属配线图案的下端检查的必要性进一步变高。
在该情况下,可以考虑应用文献1至文献3的方法来获取表示图案要素的上表面的反射图像和表示图案要素的下端的透过图像。然而,在文献1至3的装置中,需要分别用于获取反射图像及透过图像的两个撮像部。由此,导致图案检查装置的部件数目增多,从而导致装置的制造成本上升。
发明内容
本发明针对用于检查透明基材上的图案的图案检查装置,其目的在于,减少能够获取反射图像及透过图像的图案检查装置的部件数目。
本发明的图案检查装置包括:第一光源部,将光照射至在板状或薄膜状的透明基材的形成有图案的一侧主表面上;第二光源部,将光照射至所述透明基材的另一侧主表面上;一个第一受光部,接受所述第一光源部的光中被所述图案反射的反射光和所述第二光源部的光中透过了所述透明基材的透过光;移动机构,使所述透明基材在沿所述一侧主表面的移动方向上相对于所述第一光源部、所述第二光源部及所述第一受光部移动;控制部,利用所述移动机构一边使所述透明基材连续或断续地进行相对移动,一边交替点亮所述第一光源部和所述第二光源部,从而用所述第一受光部获取基于所述反射光而形成的第一反射图像和基于所述透过光而形成的透过图像;检查部,基于所述第一反射图像和所述透过图像来获取所述图案的检查结果。根据本发明,能够用一个受光部来获取反射图像及透过图像,从而能够减少图案检查装置的部件数目。
在本发明的一个优选的方式中,所述第一受光部,是用于获取在所述透明基材上与所述移动方向交叉的线状区域的图像的线传感器;由所述线传感器交替获取所述第一反射图像的线状图像和所述透过图像的线状图像。由此,能够高效地获取反射图像及透过图像。
在本发明的另一个优选的方式中,图案检查装置还具有一个第二受光部,该第二受光部接受所述第二光源部的光中被所述图案的下表面反射的反射光,由此获取第二反射图像,其中,所述图案的下表面是与所述一侧主表面接触的面。由此,能够容易地检查出图案要素的下端的变粗情况或变细情况。
优选地,所述图案由金属形成。
本发明还针对利用图案检查装置来检查透明基材上的图案的图案检查方法。
上述的目的及其他的目的、特征、方式及优点,通过下面参照附图进行的对本发明的详细说明得以明确。
附图说明
图1是示出图案检查装置的结构的图。
图2是示出图像获取单元的内部结构的图。
图3是示出检查透明基材上的图案的动作流程的图。
图4是示出透明基材上的图案的剖视图。
图5是示出了上表面反射图像及透过图像上的亮度值的变化的图。
图6是示出了图案要素的俯视图。
图7是示出了透过图像的图。
图8是示出了上表面反射图像的图。
图9是示出了透明基材上的图案的剖视图。
图10是示出了另一实施方式的图案检查装置的图像获取单元的结构的图。
图11是示出了上表面反射图像及下表面反射图像上的亮度值的变化的图。
附图标记的说明
1图案检查装置
2移动机构
9透明基材
11控制部
12检查部
81图案
91第一主表面
92第二主表面
331第一光源部
332第二光源部
341、342受光部
具体实施方式
图1是示出本发明一实施方式的图案检查装置1的结构的图。图案检查装置1是对由金属形成在树脂制透明基材9(例如,PET薄膜)上的图案进行检查的装置。图案检查装置1具有:移动机构2,使作为连续薄膜的透明基材9的连续部位向图1中的Y方向(下面,称为“移动方向”)连续移动;图像获取单元3,获取移动途中的透明基材9的图像;控制部11,负责图案检查装置1的整体控制。控制部11具有基于所获取的图像来检查图案的检查部12。此外,检查部12也可与控制部11分开设置。
移动机构2具有沿图1中的X方向(与移动方向垂直的方向)延伸的长的两个滚子21,两个滚子21隔着图像获取单元3排列在移动方向上。在两个滚子21的负Y(-Y)侧设有供给部22,供给部22用于保持检查前的透明基材9的卷材并且从该卷材送出透明基材9的各部位。在两个滚子21的正Y(+Y)侧设有卷绕部23,卷绕部23将透明基材9的进行了检查的部位以卷曲状卷绕并保持。在下面的说明中,所简称的“透明基材9”是表示,向移动方向的移动途中的透明基材9的部位(即,两个滚子21之间的透明基材9的部位)。如图1所示,在配置在两个滚子21之间的图像获取单元3中,透明基材9垂直于图1中的Z方向(即,在X方向及Y方向上)扩展。
图2是示出图像获取单元3的内部结构的图。图像获取单元3具有:第一光源部331,配置在透明基材9的正Z(+Z)侧;第一光学系统31;第一受光部341;第二光源部332,配置在透明基材9的负Z(-Z)侧;第二光学系统32。详细地,第一光源部331是多个发光二极管(LED)排成一列的LED阵列,各LED出射蓝色波段的光。来自第一光源部331的光经由第一光学系统31的准直透镜(Collimator lens)311被准直(collimated)后,被半透半反境(Half mirror)312反射而入射到物镜313。通过了物镜313的光照射至作为透明基材9的一侧((+Z)侧的)主表面的第一主表面91上。被来自第一光源部331的光照射的透明基材9上的区域,是与移动方向交叉的(优选地,与移动方向垂直)线状区域。在透明基材9的第一主表面91上形成有铜等金属的图案,来自物镜313的光中的照射在图案上的光被该图案反射,照射在其他区域的光则透过透明基材9(参照后述的图4)。
被图案表面反射的光(主要是被图案的朝向正Z(+Z)方向的面所反射的光)入射至物镜313,通过了物镜313的光经由半透半反境312及成像透镜314导入至受光部341。受光部341是多个受光元件排成一列的线传感器(line sensor),透明基材9上的线状区域上的蓝色光在多个受光元件的受光面上成像,即在线状的受光区域成像。由此,在第一光源部331处于点亮状态且第二光源部332处于熄灭状态的情况下,在受光部341获取基于来自图案上表面(即,图案的朝向正Z(+Z)方向的面)的反射光而形成的线状图像(像素排成一列的图像)。线状图像依次输出至控制部11。
第二光源部332也是与第一光源部331同样的LED阵列,各LED出射红色波段的光。来自第二光源部332的光经由第二光学系统32的透镜320照射至作为透明基材9的另一侧(负Z(-Z)侧的)主表面的第二主表面92上。被来自第二光源部332的光照射的透明基材9上的区域,是与移动方向交叉的(优选地,与移动方向垂直)线状区域,在Z方向上几乎与被来自第一光源部331的光照射的线状区域重叠。来自第二光学系统32的光中照射至与第一主表面91接触的(粘着的)图案下表面以外的区域上的光,透过透明基材9(参照后述的图4)。
透过了透明基材9的红色光,与被透明基材9反射的蓝色光同样地,经由物镜313、半透半反境312及成像透镜314导入至受光部341。由此,在第二光源部332处于点亮状态且第一光源部331处于熄灭状态的情况下,在受光部341获取基于红色的透过光而形成的线状图像。线状图像依次输出至控制部11。
如上所述,受光部341接受第一光源部331的光中被图案反射的反射光和第二光源部332的光中透过了透明基材9的透过光。此外,图案的上表面及下表面不表示重力方向上的上下方向,根据图案检查装置1的图像获取单元3的配置,图案的上表面也可以面向铅直方向的下方或水平方向。
图3是示出图案检查装置1对透明基材9上的图案进行检查的动作的流程的图。在检查图案时,首先由移动机构2开始将透明基材9向移动方向连续移动(步骤S11)。接着,通过控制部11的控制,反复交替点亮第一光源部331及第二光源部332。即,快速反复点亮第一光源部331并熄灭第二光源部332的处理和熄灭第一光源部331并点亮第二光源部332的处理。由此,与透明基材9的连续移动并行地,在受光部341交替获取基于第一光源部331的光中被图案反射的反射光而形成的线状图像和基于第二光源部332的光中透过了透明基材9的透过光而形成的线状图像。即,获取基于来自图案上表面的反射光而形成的二维图像(下面,称为“上表面反射图像”)和基于来自透明基材9的透过光而形成的二维图像(下面,称为“透过图像”)(步骤S12)。
如上所述,在图案检查装置1中,一边使透明基材9连续地移动,一边交替获取上表面反射图像的线状图像和透过图像的线状图像。从而,在将透明基材9上的与一个线状图像相对应的区域称为线状图像区域时,上表面反射图像及透过图像分别是由间隔一个线状图像区域的线状图像区域组成的图像(所谓间隔图像)。
例如,作为线传感器的受光部341具有16000个受光元件,在该线传感器的时钟频率为640兆赫(MHz)的情况下,受光部341获取一个线状图像需要25微秒(μs),因而将第一光源部331和第二光源部332以25μs间隔交替点亮。在该情况下,例如,将扫描方向上的线状图像区域的宽度设定为2微米(μm)来获取线状图像时,向透明基材9的移动方向的移动速度设定为每秒80毫米(80mm/s)。此外,在将透明基材9的移动速度设定为40mm/s的情况下,通过将线状图像区域的宽度设定为lμm,能够同样地获取间隔的上表面反射图像及透过图像。
图4是示出透明基材9上的图案81的一个例子的剖视图。本实施方式中的图案81是由金属形成的配线图案。在用于制造触摸屏的透明基材9上,图案81形成在与该触摸屏的外缘部相对应的区域,并与由ITO等在相当于中央部的区域上形成的透明电极图案相连接。即,图案81是与透明电极图案相连接的不透明图案。图案81具有多个图案要素811。各图案要素811的宽度例如是10~30μm。在图4及后述的图5的上段部分,用双点划线表示理想的图案要素811的外形(在后述的图9及图11的上段部分也同样)。在图4的图案要素811中下端较粗(根部外扩)。
图5是示出了上表面反射图像及透过图像上的亮度值的变化的图。在图5的上段部分示出图4的一部分的图案要素811,在中间部分示出,在表示该图案要素811的上表面反射图像中沿X方向(与X方向相对应的方向)的像素的亮度值的变化,在下段部分示出,在表示该图案要素811的透过图像中沿X方向的像素的亮度值变化。
在检查部12中,基于上表面反射图像和透过图像来获取图案的检查结果(步骤S13)。详细地,作为其中一个检查处理,对上表面反射图像和透过图像进行比较。在图案要素811的下端较粗的图5的上段部分的例子中,在中间部分示出的上表面反射图像中,包含在与图案要素811的上表面(即,面向相反于透明基材9的那一侧的表面)相对应的范围内的像素的亮度值变高。另一方面,在下段部分示出的透过图像中,包含在与图案要素811的下表面(即,与透明基材9接触的面)相对应的范围内的像素的亮度值变低。从而,在检查部12中,通过获取上表面反射图像示出的图案要素811上表面的边缘位置与透过图像示出的图案要素811下表面的边缘位置之间的差,来求出图案要素811的下端的变粗量W2。
将变粗量W2与规定的阈值进行比较,当变粗量W2在该阈值以上时,将图案要素811的下端超过容许范围地变粗的信息,作为图案的检查结果显示在显示部上(省略图示)。实际上,还将上表面反射图像也显示在显示部上,操作人员通过参照上表面反射图像,来确认图案要素811的上表面的状态(上表面的粗糙情况等)。
在检查部12的其他检查处理中,基于透过图像来检测图案要素811的上表面上是否有凹陷。在此,图案要素811的上表面上的凹陷还称为塌陷(Dish down),图案要素811的厚度在产生凹陷的部分变小。在数百纳米(nm)厚度的图案要素811中,当产生了凹陷的部分的图案要素811的厚度例如在70nm以下时,来自第二光源部332的红色光透过数百nm厚度的金属膜的透过率几乎为0,相对于此,透过70nm以下的厚度的金属膜的透过率则较高。
例如,在图6所示的图案要素811上由细线包围的区域812(下面,称为“塌陷区域812”)形成有凹陷的情况下,如图7所示,在透过图像上表示图案要素811的区域的大部分区域亮度值较低(暗),但在表示塌陷区域812的区域亮度值比周围更高(亮)。在图7中,通过改变平行斜线之间的间隔来表示亮度值的差异,平行斜线之间的间隔越窄则表示亮度值越低。
另外,来自第一光源部331的蓝色光透过数百nm的厚度的金属膜(例如,Cu、Ag等)以及70nm以下的厚度的金属膜的透过率均几乎为0,但反射光的方向因塌陷而发生变化,因而塌陷区域变暗一些。如图8所示,在上表面反射图像中,表示图案要素811上表面的区域的几乎全部区域亮度值变高(亮),但塌陷区域变得暗一些。从而,在检查部12中,通过以规定方法合成透过图像和上表面反射图像,来获取表示塌陷区域812的图像,即,塌陷区域812检测变得容易。在检测出规定面积以上的塌陷区域812的情况下,将图案要素811的上表面形成有凹陷的信息显示在显示部上作为图案的检查结果。此外,也可以将塌陷区域812的图像显示在显示部上。
如上所述,基于上表面反射图像及透过图像来获取图案的检查结果。每当透明基材9移动规定距离时,反复执行步骤S12、S13的处理。当对透明基材9整体的检查结束时,第一光源部331及第二光源部332停止闪烁,透明基材9停止移动,检查结束(步骤S14)。此外,在检查部12中,也可以将变粗量W2或塌陷区域812的面积等作为图案的检查结果。换句话说,也可以将图案检查装置1作为对图案的变粗量及塌陷区域812的面积等进行测定的测定装置来使用。
如上面说明的那样,在图案检查装置1中设置有:第一光源部331,其将光照射至透明基材9的第一主表面91,透明基材9在第一主表面91(仅第一主表面91)上形成有图案81;第二光源部332,其将光照射至第二主表面92上;一个受光部341,其接受第一光源部331的光中被图案81反射的反射光和第二光源部332的光中透过了透明基材9的透过光。而且,通过一边使透明基材9连续地移动,一边交替点亮第一光源部331和第二光源部332,来利用一个受光部341获取基于反射光而形成的反射图像和基于透过光而形成的透过图像。由此,能够减少图案检查装置1的部件数目,从而能够削减图案检查装置1的制造成本。
另外,在图案检查装置1中,第二光源部332出射红色波段的光,能够基于透过图像来检测出图案要素811上表面上的凹陷。进而,受光部341是用于获取透明基材9上与移动方向交叉的线状区域的图像的线传感器,利用该线传感器,来交替获取上表面反射图像的线状图像和透过图像的线状图像。由此,能够高效地获取上表面反射图像及透过图像。
但是,在如图9示出那样图案要素811的下端较细的(根部收窄)情况下,在受光部341获取的透过图像因受到图案要素811的上部的影响,而不能作为表示图案要素811的下端的图像,从而不能获取下端的变细量。下面,说明能够获取图案要素811的下端的变细量的图案检查装置1。
图10是示出了本发明的另一实施方式的图案检查装置1的图像获取单元3a的结构的图。在图10的图像获取单元3a中,相对于图2的图像获取单元3,第二光学系统32的结构不同,而且在透明基材9的负Z(-Z)侧追加了另一个受光部342。其他结构与图2的图像获取单元3同样,对相同结构标注相同附图标记。
在图10的图像获取单元3a中,来自第二光源部332的光经由第二光学系统32的准直透镜321被准直后,经由半透半反境322入射至物镜323。通过了物镜323的光照射至透明基材9的第二主表面92上。透明基材9上的被该光照射的区域是与移动方向交叉的线状区域。在来自物镜323的光中,照射至与第一主表面91接触的图案81下表面上的光,被该下表面反射,照射至其他区域上的光透过透明基材9。被图案81下表面反射的光入射至物镜323。通过了物镜323的光被半透半反境322反射,并经由成像透镜324导入至受光部342。受光部342是与受光部341同样的线传感器,线状的受光区域接受来自透明基材9上的线状区域的红色光。
另外,在由第一光源部331照射至第一主表面91上的光中,来自透明基材9的透过光经由物镜323、半透半反境322及成像透镜324导入至受光部342。如此地,受光部342接受第二光源部332的光中被图案81反射的反射光和第一光源部331的光中透过了透明基材9的透过光。从而,在第二光源部332处于点亮状态且第一光源部331处于熄灭状态的情况下,获取基于来自图案81下表面的反射光而形成的线状图像,在第一光源部331处于点亮状态且第二光源部332处于熄灭状态的情况下,获取基于来自透明基材9的透过光而形成的线状图像。
在具有图像获取单元3a的图案检查装置1中,一边利用移动机构2使透明基材9向移动方向连续移动,一边利用控制部11(参照图1)交替点亮第一光源部331和第二光源部332。由此,在受光部341交替获取基于来自图案81上表面的反射光而形成的上表面反射图像的线状图像和基于来自透明基材9的透过光而形成的第一透过图像的线状图像。另外,受光部342交替获取基于来自图案81下表面的反射光而形成的下表面反射图像的线状图像和基于来自透明基材9的透过光而形成的第二透过图像的线状图像。此外,受光部342不用一定获取第二透过图像。
图11是示出了上表面反射图像及下表面反射图像上的亮度值的变化的图。在图11的上段部分示出图9的一部分的图案要素811,在中间部分示出,在表示该图案要素811的上表面反射图像中沿X方向(与X方向相对应的方向)的像素的亮度值变化,在下段部分示出,在表示该图案要素811的下表面反射图像中沿X方向的像素的亮度值变化。
检查部12除了进行上述的检查处理之外,还进行基于上表面反射图像和下表面反射图像来的检查处理。详细地,在图案要素811的下端较细的图11的上段部分的例子中,在中间部分所示的上表面反射图像中,包含在与图案要素811的上表面相对应的范围内的像素的亮度值变高,与此相比,在下段部分所示的下表面反射图像中,包含在与图案要素811的下表面相对应的范围内的像素的亮度值变高。从而,在检查部12中,通过获取上表面反射图像示出的图案要素811上表面的边缘位置与下表面反射图像示出的图案要素811下表面的边缘位置之间的差,来求出图案要素811的下端的变细量Wl。在本实施方式中,通过求出上表面反射图像与下表面反射图像之间的差分图像,来获取变细量Wl。将变细量Wl与规定的阈值进行比较,当变细量Wl在该阈值以上时,将图案要素811的下端超过容许范围地变细的信息,作为图案的检查结果显示在显示部上。此外,也可以基于上表面反射图像和下表面反射图像来求出图案要素811的下端的变粗量W2。
如上面说明的那样,在具有图像获取单元3a的图案检查装置1上设有另一个受光部342,该受光部342接受从第二光源部332照射至第二主表面92上的光中的被图案81下表面反射的反射光,来获取下表面反射图像。而且,在检查部12中,利用基于来自图案81上表面的反射光而形成的上表面反射图像和基于来自图案81下表面的反射光而形成的下表面反射图像,来输出图案81的检查结果。由此,能够容易地检查出图案要素811下端的变细(及变粗)情况。另外,与图像获取单元3同样地,利用一个受光部341来获取上表面反射图像和透过图像,因而能够减少图案检查装置1的部件数目。
能够对上述图案检查装置1实现各种变形。在上述实施方式中,第二光源部332出射红色波段的光,但也可以出射包含在红色至红以外波长范围内的任意波段(例如,近红外线波段)的光。由此,能够容易地检测出图案要素811上表面上的凹陷。另外,在图10的图案检查装置1中,也可以使第一光源部331出射包含在上述波长范围内的任意波段的光,由此能够从受光部342获取的第二透过图像中检测出塌陷区域。根据图案检查装置1的检查对象的图案类型,第一光源部331及第二光源部332也可以出射其他波段的光。第一光源部331及第二光源部332也可以具有LED以外的发光元件或灯作为光源。
受光部341、342也可以是受光元件以二维排列的区域传感器。另外,在图案检查装置1中,也可以通过一边使透明基材9断续地相对移动一边在透明基材9的各停止位置上交替点亮第一光源部331及第二光源部332,来高精度地获取上表面反射图像及透过图像。
也可以与第一光学系统31及第二光学系统32的结构相配合地,适当变更第一光源部331及第二光源部332的配置、受光部341、342的配置。
在检查部12中,例如也可以通过将下表面反射图像与规定的基准图像进行比较,来获取图案要素811的下端的变细量及变粗量。
在图案检查装置1中,也可以设置使图像获取单元3、3a相对于透明基材9向移动方向移动的移动机构。即,通过设置使透明基材9在沿第一主表面91延伸的移动方向上相对于第一光源部331、第二光源部332及受光部341移动的移动机构,能够获取透明基材9上的宽广范围的上表面反射图像及透过图像。另外,也可以将透明基材9放置在透明的载物台(Stage)上,并通过使该载物台在移动方向上相对于图像获取单元移动,来获取上表面反射图像及透过图像。
作为图案检查装置1的检查对象物,除了是形成在薄膜状的透明基材9上的图案以外,还可以是形成在玻璃等板状的透明基材上的图案。透明基材也可以用在触摸屏以外的用途。另外,透明基材上的图案只要不透明,例如也可以是由光刻胶(Photo resist)形成的图案等。
只要不相互矛盾,能够适当组合上述实施方式及各变形例的结构。
通过详细描述说明了本发明,但上述说明仅是例示,并不是限定。从而,只要不脱离本发明的范围,能够实现多种变形及方式。

Claims (10)

1.一种图案检查装置,用于检查透明基材上的图案,其特征在于,包括:
第一光源部,将光照射至板状或薄膜状的透明基材的形成有图案的一侧主表面上;
第二光源部,将光照射至所述透明基材的另一侧主表面上;
一个第一受光部,接受所述第一光源部的光中被所述图案反射的反射光和所述第二光源部的光中透过了所述透明基材的透过光;
移动机构,使所述透明基材在沿所述一侧主表面延伸的移动方向上相对于所述第一光源部、所述第二光源部及所述第一受光部移动;
控制部,利用所述移动机构一边使所述透明基材连续或断续地进行相对移动,一边交替点亮所述第一光源部和所述第二光源部,从而用所述第一受光部获取基于所述反射光而形成的第一反射图像和基于所述透过光而形成的透过图像;
检查部,基于所述第一反射图像和所述透过图像来获取所述图案的检查结果。
2.如权利要求1所述的图案检查装置,其特征在于,
所述第一受光部,是用于获取在所述透明基材上与所述移动方向交叉的线状区域的图像的线传感器;
由所述线传感器交替获取所述第一反射图像的线状图像和所述透过图像的线状图像。
3.如权利要求1所述的图案检查装置,其特征在于,还具有一个第二受光部,该第二受光部接受所述第二光源部的光中被所述图案的下表面反射的反射光,由此获取第二反射图像,其中,所述图案的下表面是与所述一侧主表面接触的面。
4.如权利要求2所述的图案检查装置,其特征在于,还具有一个第二受光部,该第二受光部接受所述第二光源部的光中被所述图案的下表面反射的反射光,由此获取第二反射图像,其中,所述图案的下表面是与所述一侧主表面接触的面。
5.如权利要求1至4中任一项所述的图案检查装置,其特征在于,所述图案由金属形成。
6.一种图案检查方法,利用图案检查装置来检查透明基材上的图案,其特征在于,
所述图案检查装置包括:
第一光源部,将光照射至在板状或薄膜状的透明基材上形成有图案的一侧主表面上;
第二光源部,将光照射至所述透明基材的另一侧主表面上;
一个第一受光部,接受所述第一光源部的光中被所述图案反射的反射光和所述第二光源部的光中透过了所述透明基材的透过光;
移动机构,使所述透明基材在沿所述一侧主表面延伸的移动方向上相对于所述第一光源部、所述第二光源部及所述第一受光部移动;
所述图案检查方法包括如下工序:
a)工序,利用所述移动机构使所述透明基材连续或断续地相对移动,
与所述a)工序并行进行的b)工序,通过交替点亮所述第一光源部和所述第二光源部,在所述第一受光部获取基于所述反射光而形成的反射图像和基于所述透过光而形成的透过图像,
c)工序,基于所述反射图像和所述透过图像来获取所述图案的检查结果。
7.如权利要求6所述的图案检查方法,其特征在于,
所述第一受光部,是用于获取在所述透明基材上与所述移动方向交叉的线状区域的图像的线传感器;
由所述线传感器交替获取所述第一反射图像的线状图像和所述透过图像的线状图像。
8.如权利要求6所述的图案检查方法,其特征在于,还具有获取第二反射图像的工序,在该工序中,利用一个第二受光部接受所述第二光源部的光中被所述图案的下表面反射的反射光,由此获取第二反射图像,其中,所述图案的下表面是来与所述一侧主表面接触的面。
9.如权利要求7所述的图案检查方法,其特征在于,还具有获取第二反射图像的工序,在该工序中,利用一个第二受光部接受所述第二光源部的光中被所述图案的下表面反射的反射光,由此获取第二反射图像,其中,所述图案的下表面是来与所述一侧主表面接触的面。
10.如权利要求6至9中任一项所述的图案检查方法,所述图案由金属形成。
CN201410053224.9A 2013-02-15 2014-02-17 图案检查装置及图案检查方法 Expired - Fee Related CN103995003B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013-028217 2013-02-15
JP2013028217A JP2014157086A (ja) 2013-02-15 2013-02-15 パターン検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103995003A true CN103995003A (zh) 2014-08-20
CN103995003B CN103995003B (zh) 2017-04-19

Family

ID=51309226

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410053224.9A Expired - Fee Related CN103995003B (zh) 2013-02-15 2014-02-17 图案检查装置及图案检查方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2014157086A (zh)
KR (1) KR101588937B1 (zh)
CN (1) CN103995003B (zh)
TW (1) TWI504885B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105466955A (zh) * 2014-09-29 2016-04-06 斯克林集团公司 图像获取装置及图像获取方法
CN105911065A (zh) * 2015-02-23 2016-08-31 株式会社思可林集团 图案检查装置及图案检查方法
CN108267461A (zh) * 2018-03-05 2018-07-10 福建省福联集成电路有限公司 一种可变光路的光学显微镜检测设备
CN111788883A (zh) * 2018-02-26 2020-10-16 株式会社高迎科技 部件贴装状态的检查方法、印刷电路板检查装置及计算机可读记录介质

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6435858B2 (ja) * 2014-12-26 2018-12-12 株式会社サタケ 穀粒品位判別装置
JP6435847B2 (ja) * 2014-12-19 2018-12-12 株式会社サタケ 穀粒品位判別装置
KR102354193B1 (ko) * 2014-12-19 2022-01-20 가부시끼가이샤 사따께 곡립 품위 판별 장치
JP6435856B2 (ja) * 2014-12-26 2018-12-12 株式会社サタケ 穀粒品位判別装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0819933A2 (en) * 1996-07-16 1998-01-21 Orbot Instruments Limited Optical inspection method and apparatus
JP2004212159A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd テープ部材の検査装置
KR20050003988A (ko) * 2003-07-02 2005-01-12 우시오덴키 가부시키가이샤 배선 패턴 검사 장치
CN1959385A (zh) * 2005-11-03 2007-05-09 Lg电子株式会社 载带产品的检查装置及检查方法
CN101290296A (zh) * 2007-04-17 2008-10-22 优志旺电机株式会社 图案检查装置及图案检查方法
CN100578201C (zh) * 2003-11-07 2010-01-06 优志旺电机株式会社 布线图形检查方法
CN101887030A (zh) * 2009-05-15 2010-11-17 圣戈本玻璃法国公司 用于检测透明基板表面和/或其内部的缺陷的方法及系统
CN102132148A (zh) * 2008-08-25 2011-07-20 旭硝子株式会社 缺陷检查系统及缺陷检查方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0843047A (ja) * 1994-08-02 1996-02-16 Toshiba Fa Syst Eng Kk 光学検査装置
JP3418054B2 (ja) * 1996-02-16 2003-06-16 三井金属鉱業株式会社 配線パターン線幅測定装置
US6175645B1 (en) * 1998-01-22 2001-01-16 Applied Materials, Inc. Optical inspection method and apparatus
JP3378795B2 (ja) * 1998-03-27 2003-02-17 シャープ株式会社 表示装置の検査装置および検査方法
JP2001305074A (ja) * 2000-04-19 2001-10-31 Dainippon Printing Co Ltd 板状ワークの検査方法及び装置
TWI349772B (en) * 2007-11-08 2011-10-01 Chunghwa Picture Tubes Ltd Testing method

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0819933A2 (en) * 1996-07-16 1998-01-21 Orbot Instruments Limited Optical inspection method and apparatus
JP2004212159A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd テープ部材の検査装置
KR20050003988A (ko) * 2003-07-02 2005-01-12 우시오덴키 가부시키가이샤 배선 패턴 검사 장치
CN100578201C (zh) * 2003-11-07 2010-01-06 优志旺电机株式会社 布线图形检查方法
CN1959385A (zh) * 2005-11-03 2007-05-09 Lg电子株式会社 载带产品的检查装置及检查方法
CN101290296A (zh) * 2007-04-17 2008-10-22 优志旺电机株式会社 图案检查装置及图案检查方法
CN102132148A (zh) * 2008-08-25 2011-07-20 旭硝子株式会社 缺陷检查系统及缺陷检查方法
CN101887030A (zh) * 2009-05-15 2010-11-17 圣戈本玻璃法国公司 用于检测透明基板表面和/或其内部的缺陷的方法及系统

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105466955A (zh) * 2014-09-29 2016-04-06 斯克林集团公司 图像获取装置及图像获取方法
CN105911065A (zh) * 2015-02-23 2016-08-31 株式会社思可林集团 图案检查装置及图案检查方法
CN105911065B (zh) * 2015-02-23 2018-11-30 株式会社思可林集团 图案检查装置及图案检查方法
CN111788883A (zh) * 2018-02-26 2020-10-16 株式会社高迎科技 部件贴装状态的检查方法、印刷电路板检查装置及计算机可读记录介质
CN111788883B (zh) * 2018-02-26 2021-11-05 株式会社高迎科技 部件贴装状态的检查方法、印刷电路板检查装置及计算机可读记录介质
US11244436B2 (en) 2018-02-26 2022-02-08 Koh Young Technology Inc. Method for inspecting mounting state of component, printed circuit board inspection apparatus, and computer readable recording medium
US11328407B2 (en) 2018-02-26 2022-05-10 Koh Young Technology Inc. Method for inspecting mounting state of component, printed circuit board inspection apparatus, and computer readable recording medium
CN108267461A (zh) * 2018-03-05 2018-07-10 福建省福联集成电路有限公司 一种可变光路的光学显微镜检测设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014157086A (ja) 2014-08-28
KR20140103027A (ko) 2014-08-25
CN103995003B (zh) 2017-04-19
TW201439523A (zh) 2014-10-16
KR101588937B1 (ko) 2016-01-26
TWI504885B (zh) 2015-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103995003A (zh) 图案检查装置及图案检查方法
CN109416732B (zh) 能够检测指纹的显示器
CN103995008A (zh) 图案检查装置及图案检查方法
US20150347813A1 (en) Fingerprint image capturing device and fingerprint image capturing module thereof
CN107111383B (zh) 非接触输入装置及方法
KR102412975B1 (ko) 지문인식 기능을 구비한 디스플레이
US8467062B2 (en) Inspection device and producing method of wired circuit board
KR101895841B1 (ko) 디스플레이 패널을 광원으로 사용하는 지문센서 패키지 및 지문인식 기능을 구비한 전자장치
CN110736751B (zh) 一种表面缺陷检测方法及装置
KR20120123641A (ko) 기판 검사 장치, 기판 검사 방법 및 이 기판 검사 장치의 조정 방법
CN111108512A (zh) 屏下指纹识别装置及系统、背光模组和液晶显示屏
KR101855464B1 (ko) 지문센서 패키지 및 지문인식 기능을 구비한 전자장치
CN211087261U (zh) 屏下指纹识别装置及系统、背光模组和液晶显示屏
KR20150106672A (ko) 기판 검사장치
KR20180102028A (ko) 지문센서 패키지 및 지문인식 기능을 구비한 전자장치
JP2019095252A (ja) 検査対象物の境界部を検査する方法及びその検査装置
CN111723621B (zh) 图像采集装置及电子设备
KR102300366B1 (ko) 디스플레이 패널을 광원으로 사용하는 지문센서 패키지
CN112149628A (zh) 指纹感测系统
CN217955144U (zh) 指纹识别装置及电子设备
KR102610300B1 (ko) 결점 검출장치
JP5414743B2 (ja) マクロ検査装置
JP5957611B1 (ja) 非接触入力装置及び方法
CN111795643A (zh) 确定芯片方位的设备
KR20220011970A (ko) 마이크로 렌즈의 측정 장치 및 방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C53 Correction of patent of invention or patent application
CB02 Change of applicant information

Address after: Kyoto City, Kyoto Prefecture, Japan

Applicant after: Skilling Group

Address before: Kyoto City, Kyoto Prefecture, Japan

Applicant before: DAINIPPON SCREEN MFG Co.,Ltd.

COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: APPLICANT; FROM: DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD. TO: SCREEN GROUP CO., LTD.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20170419

Termination date: 20220217