CN103993270A - 真空镀膜的加热装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种真空镀膜的加热装置，包括若干个通过支架（3）与真空镀膜箱体（1）内壁连接的加热治具（2），所述加热治具（2）包括与支架（3）一端连接的反射板（4）、设置于反射板（4）前侧的可开启的挡板（6）以及设置于挡板（6）与反射板（4）两者之间的加热器（5），所述反射板（4）内侧表面设有凹凸结构，反射板（4）两端通过连接板（7）与挡板（6）两端连接，本发明布置灵活，便于安装，解决了受热不均，加热效率慢和加热结束后和镀膜的时候镀膜源发出的金属蒸汽沉积到加热器表面的问题。

Description

真空镀膜的加热装置

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜的加热装置，属于真空镀膜机械技术领域。

背景技术

真空镀膜技术作为薄膜设备的一种重要手段，在现代微电子技术和微器件设备中占有特殊重要的地位；这种技术是指在真空环境下利用物理或化学手段在工件表面沉积一层具有特殊用途膜层的表面处理方法。一般将真空镀膜技术分为两大类：一类是物理气相沉积，称为PVD；另一类是化学气相沉积，称为CVD；其中最简单最常用的就是热蒸发，即利用物质受热后的蒸发或升华将其转化为气态再沉积在基片表面。与此相应的真空镀膜设备一般包括蒸镀室、转架系统、抽气系统、进气系统、电源系统、控制系统和加热装置；所述加热装置一般包括蒸镀容器和加热器。使用时，将基片固定于转架系统上，将蒸镀材料置于蒸镀容器中，再利用加热器加热该蒸镀容器，使其内的蒸镀材料转化为气态沉积在基片表面，从而达到蒸镀成膜的目的。在实际应用中，通常需要在基片上连续蒸镀若干层不同材料的膜层，因而在一个真空镀膜设备中通常设有复数个配套的蒸镀容器和加热器，每个蒸镀容器中放置一种蒸镀材料，按照实际需求依次将各种蒸镀材料转化为气态再沉积在基片表面，从而完成基片的复数层膜层的设备。

真空镀膜机是一种比较常用的设备，尤其在半导体器件工艺的电极制作工艺中更是应用广泛。真空镀膜机分为常温镀膜及高温镀膜，在高温镀膜的工况条件下，需要在真空镀膜箱中对被镀基片加热。现在用于真空镀膜的加热装置多种多样，但是现在的用于真空镀膜的加热装置大多有加热效率不高，被镀基片受热不均等问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种真空镀膜的加热装置，该真空镀膜的加热装置布置灵活，便于安装，解决了受热不均，加热效率慢和加热结束后和镀膜的时候镀膜源发出的金属蒸汽沉积到加热器表面的问题。

为了解决上述技术问题，本发明的真空镀膜的加热装置，包括若干个通过支架与真空镀膜箱体内壁连接的加热治具，所述每个加热治具包括与支架一端连接的反射板、设置于反射板前侧的可开启的挡板以及设置于挡板与反射板两者之间的加热器，所述反射板内侧表面设有凹凸结构，反射板两端通过连接板与挡板两端连接。采用这样的真空镀膜的加热装置，由于若干个加热治具通过支架与真空镀膜箱体内壁连接，可以使被镀基片加热均匀；由于反射板内侧表面设有凹凸结构，这样可以有效提高加热器对基片的加热效率，又由于挡板是可开启的，这样在加热结束后和镀膜的时候可关闭挡板，以屏蔽镀膜源发出的金属蒸汽沉积到加热器表面。

所述加热器功率为1kW。这样加热热量分布均匀，节能损耗，节约了资源。

所述支架包括上支架片和下支架片，上支架片与真空镀膜箱体内壁连接，下支架片与反射板连接，上支架片与下支架片通过转轴连接。采用这种支架，可以通过转动来调节角度。

所述支架是绝缘材料制成。采用绝缘材料，不容易导电。

所述挡板包括框架、若干个叶片、若干根转轴，叶片两端通过转轴与框架内侧连接，采用这种挡板，开启和关闭都比较方便。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

图1是本发明真空镀膜的加热装置的整体示意图。

图2是本发明真空镀膜的加热装置的加热治具示意图。

其中有：1. 真空镀膜箱体；2.加热治具；3. 支架；4. 反射板；5. 加热器；6. 挡板；7. 连接板。

具体实施方式

图1、图2所示真空镀膜的加热装置包括若干个通过支架3与真空镀膜箱体1内壁连接的加热治具2，所述每个加热治具2包括与支架3一端连接的反射板4、设置于反射板4前侧的可开启的挡板6以及设置于挡板6与反射板4两者之间的加热器5，所述反射板4内侧表面设有凹凸结构，反射板4两端通过连接板7与挡板6两端连接，所述加热器5功率为1kW，所述支架3包括上支架片和下支架片，上支架片与真空镀膜箱体1内壁连接，下支架片与反射板4连接，上支架片与下支架片通过转轴连接，所述支架3是绝缘材料制成，所述挡板6包括框架、若干个叶片、若干根转轴，叶片两端通过转轴与框架内侧连接。

当需要调节加热治具2的角度时，只需通过转轴转动下支架片即可；当加热结束后和进行镀膜的时候，只需通过转轴转动挡板6上的叶片，使叶片闭合，这样就屏蔽了镀膜源发出的金属蒸汽沉积到加热器5表面，当进行加热时，只需通过转轴转动挡板6上的叶片，使叶片打开即可。

加热治具2可以设置于真空镀膜箱体1内部角落处，加热治具2可以设置成弧形，加热治具2的个数可以根据实际情况设置。

以上实施方式是本发明优选实施方式，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出适当变化和修饰，这些变化和修饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种真空镀膜的加热装置，其特征在于：包括若干个通过支架（3）与真空镀膜箱体（1）内壁连接的加热治具（2），所述每个加热治具（2）包括与支架（3）一端连接的反射板（4）、设置于反射板（4）前侧的可开启的挡板（6）以及设置于挡板（6）与反射板（4）两者之间的加热器（5），所述反射板（4）内侧表面设有凹凸结构，反射板（4）两端通过连接板（7）与挡板（6）两端连接。

2.按照权利要求1所述的真空镀膜的加热装置，其特征在于：所述加热器（5）功率为1kW。

3.按照权利要求1所述的真空镀膜的加热装置，其特征在于：所述支架（3）包括上支架片和下支架片，上支架片与真空镀膜箱体（1）内壁连接，下支架片与反射板（4）连接，上支架片与下支架片通过转轴连接。

4.按照权利要求1或3所述的真空镀膜的加热装置，其特征在于：所述支架（3）是绝缘材料制成。

5.按照权利要求1所述的真空镀膜的加热装置，其特征在于：所述挡板（6）包括框架、若干个叶片、若干根转轴，叶片两端通过转轴与框架内侧连接。