CN103974561A - 一种超厚铜电路板bga的制作方法 - Google Patents

一种超厚铜电路板bga的制作方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种超厚铜电路板BGA的制作方法,包括:将内层覆铜板上的BGA区域的铜箔蚀刻减薄至2-5盎司的BGA蚀刻步骤;采用机械钻工艺加工出位于所述BGA区域的通孔的钻孔步骤。本发明技术方案按照局部减铜的设计思想,采用将BGA区域的铜箔蚀刻减薄后再钻孔的技术方案,可以避免因铜箔厚度过大导致的容易折断钻头的技术问题,解决了现有技术中针对超厚铜电路板BGA的钻孔加工难题。

Description

一种超厚铜电路板BGA的制作方法
技术领域
本发明涉及电路板技术领域,具体涉及一种超厚铜电源板BGA的制作方法。
背景技术
目前,对于每层铜厚≥10盎司(OZ,厚度单位)的多层超厚铜箔印刷电路板(Printed Circuit Board,PCB),一般不涉及制作BGA(Ball Grid Array,球栅阵列结构的PCB),这是因为,该种电路板的各层总铜厚过厚,而BGA区域钻孔孔径又很小,导致加工时极易折断钻头。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供一种超厚铜电路板BGA的制作方法,以解决现有技术中针对超厚铜电路板BGA的钻孔加工难题。
为此,本发明实施例提供如下技术方案:
一种超厚铜电路板BGA的制作方法,包括:将内层覆铜板上的BGA区域的铜箔蚀刻减薄至2-5盎司的BGA蚀刻步骤;采用机械钻工艺加工出位于所述BGA区域的通孔的钻孔步骤。
本发明实施例按照局部减铜的设计思想,采用将BGA区域的铜箔蚀刻减薄后再钻孔的技术方案,可以避免因铜箔厚度过大导致的容易折断钻头的技术问题,解决了现有技术中针对超厚铜电路板BGA的钻孔加工难题。
附图说明
图1是本发明实施例提供的超厚铜电路板BGA的制作方法的流程图;
图2-9是本发明一个应用场景例中各个加工阶段的电路板BGA的示意图。
具体实施方式
本发明实施例提供一种超厚铜电路板BGA的制作方法,采用局部减铜的设计思想,可以避免断钻,解决现有技术中针对超厚铜电路板BGA的钻孔加工难题。以下结合附图进行详细说明。
请参考图1,本发明实施例提供一种超厚铜电路板BGA的制作方法,包括:
110、将内层覆铜板上BGA区域的铜箔蚀刻减薄至2-5盎司的BGA蚀刻步骤。
一般的,所说的超厚铜电路板BGA的每层铜厚≥10盎司。本实施例的PCB制程中,在层压步骤之前,首先对内层覆铜板进行处理,将其BGA区域的铜箔蚀刻减薄至2-5盎司。蚀刻减薄的具体数值由电路板BGA区域的总铜厚决定。
实际应用中,110所述的BGA蚀刻步骤之前还包括:在所述内层覆铜板表面制作出内层线路的步骤等。
具体应用中,该BGA蚀刻步骤可以包括:
1101、将所述内层覆铜板表面除所述BGA区域以外的部分用干膜覆盖;
1102、采用蚀刻工艺将所述BGA区域的铜箔蚀刻减薄至2-5盎司;
1103、去除所述干膜。
120、采用机械钻工艺加工出位于所述BGA区域的通孔的钻孔步骤。
该钻孔步骤中,加工出各种需要的钻孔,除了在BGA区域加工出通孔外,还根据需要加工出位于其它区域的通孔或盲孔。钻孔工艺采用机械钻工艺。
实际应用中,在110所述的BGA蚀刻步骤之后,通常还包括:在所述内层覆铜板上依次压合半固化片和外层覆铜板的层压步骤。压合的半固化片一般为适合厚度的聚丙烯(PP)。
所述的钻孔步骤一般在层压步骤之后进行,加工出的通孔不仅贯穿所述内层覆铜板,也贯穿层压的半固化片和外层覆铜板。
可选的,在钻孔步骤之后,还包括:对位于所述BGA区域的通孔,以及位于其它区域的通孔或盲孔,进行沉铜和电镀的步骤。
钻孔步骤之后,还可以包括:在所述外层覆铜板表面制作出的外层线路的步骤。该步骤可以在沉铜和电镀的步骤之后进行。
以上,本发明实施例提供了一种超厚铜电路板BGA的制作方法,该方法按照局部减铜的设计思想,采用将BGA区域这个局部的铜箔蚀刻减薄后再钻孔的技术方案,降低了钻孔区域的铜厚,可以避免因铜箔厚度过大导致的容易折断钻头的技术问题,解决了现有技术中针对超厚铜电路板BGA的钻孔加工难题;同时,还提高了钻机效率、改善了钻孔孔型和孔位精度。
请参考图2-,下面以一个具体应用场景例对上述方法进行补充描述。
本实例中,超厚铜电路板BGA的制作过程包括以下步骤:
201.下料:提供超厚铜电路板BGA所需要的各层材料,包括内层覆铜板,外层覆铜板和半固化片等。
202.第一次内层图形和内层蚀刻:如图2和图3所示,内层覆铜板310上至少包括两个区域,在内层覆铜板310的第一区域加工出内层线路3101,第二区域的则是保留的BGA区域。本步骤中,可以根据需要选择仅在内层覆铜板310的一面或者同时在两面加工内层线路;
203.第二次内层图形和内层蚀刻:如图4-6所示,将所述内层覆铜板310上除BGA区域3102以外的其他部位用干膜覆盖,采用内层蚀刻工艺,将BGA区域3102的铜厚降低到2-5OZ。本步骤中,可以根据需要选择仅蚀刻减薄内层覆铜板310一面的BGA区域,或者同时蚀刻减薄两面的BGA区域。
204.内层钻靶,内层检验,配板,层压:钻设靶标,检验无缺陷,则如图7-8所示,选择合适的半固化片320和外层铜箔330,进行层压,得到多层电路板。其中,所述的外层铜箔330可以如内层铜箔310一样,进行了BGA区域蚀刻减薄的处理。
205.钻孔:如图9所示进行钻孔,BGA钻孔和正常钻孔同步进行,除了在BGA区域加工出通孔340外,还根据需要加工出位于其它区域的通孔或盲孔。
206.沉铜,电镀,外层图形,外层蚀刻,外层检验等其他正常PCB处理流程:对钻孔进行沉铜和电镀使得孔金属化,实现电路板各层间导通,在外层覆铜板表面进行外层图形和外层蚀刻加工出外层线路,外层检验没有缺陷后,再加工焊盘以及涂覆阻焊油等,完成整个产品制程。
以上,为便于理解,按照实际的加工顺序,对本发明实施例提供的超厚铜电路板BGA的制作方法进行了补充描述。
以上对本发明实施例所提供的一种超厚铜电路板BGA的制作方法进行了详细介绍,但以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想,不应理解为对本发明的限制。本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种超厚铜电路板BGA的制作方法,其特征在于,包括:
将内层覆铜板上BGA区域的铜箔蚀刻减薄至2-5盎司的BGA蚀刻步骤;
采用机械钻工艺加工出位于所述BGA区域的通孔的钻孔步骤。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的BGA蚀刻步骤之前还包括:
在所述内层覆铜板表面制作出内层线路的步骤。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的BGA蚀刻步骤包括:
将所述内层覆铜板表面除所述BGA区域以外的部分用干膜覆盖;
采用蚀刻工艺将所述BGA区域的铜箔蚀刻减薄至2-5盎司;
去除所述干膜。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的BGA蚀刻步骤之后,钻孔步骤之前还包括:
在所述内层覆铜板上依次压合半固化片和外层覆铜板的层压步骤。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,还包括:
在所述外层覆铜板表面制作出的外层线路的步骤。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的钻孔步骤中还包括:
根据需要加工出位于其它区域的通孔或盲孔。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的钻孔步骤之后还包括:
对位于所述BGA区域的通孔进行沉铜和电镀的步骤。
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