CN103969717B - 一种光扩散膜 - Google Patents

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一种光扩散膜,包括基材,还包括覆盖在基材一面的一层扩散层、覆盖在基材另一面的一层背层,扩散层和背层复合到基材上的方式为:先将基材进行双面电晕处理;再调制扩散层涂布液和背层涂布液,然后将扩散层涂布液和背层涂布液分别涂布到经双面电晕处理好的基材的两面,经干燥固化后成型。本发明在使用两张叠加的方式,辉度比单张使用时辉度提高25%左右,光线经过反射膜,导光板,光扩散膜(2张)直接形成面光源的方法,可以节省价格昂贵的增亮膜,促进背光模组朝薄型化、轻量化以及降低成本的方向发展。

Description

一种光扩散膜
技术领域
本发明涉及一种光扩散膜。
背景技术
一直以来,平板显示器广泛应用于电视、电脑显示器、笔记本电脑、手机、数码相机、掌上电脑、GPS导航仪等。这些液晶显示器的画面光源由其中的背光模组所提供,对光源的要求是均匀、高亮度。
光学扩散膜的作用在于通过折射现象将点光源或者线光源的光均匀扩散成均一、高亮度的面光源,这种光学扩散膜被广泛的应用于液晶显示器或者等离子显示器的背光模组中。
平板显示器的背光模组装置的典型结构是:光线由光源发射出来,经反射膜,导光板,下扩散膜,增亮膜和上扩散膜,扩散后形成面光源。
而平板显示器除了朝大尺寸发展以外,同时还希望可以兼顾薄型化、轻量化以及降低成本等要求,而现在的背光模组中,由于使用了增亮膜、上扩散和下扩散,其厚度和成本均无法降低,现有的光扩散膜无法取代增亮膜。
发明内容
为了克服现有光扩散膜的上述不足,本发明提供一种叠加使用后可取代增亮膜的光扩散膜。
本发明解决其技术问题的技术方案是:一种具有光扩散膜,包括基材,还包括覆盖在所述基材一面的一层扩散层、覆盖在所述基材另一面的一层背层,所述的扩散层和背层复合到基材上的方式为:先将基材进行双面电晕处理,电晕强度为3~5KV,优选3.5~4KV;
再调制扩散层涂布液和背层涂布液,然后将扩散层涂布液和背层涂布液分别涂布到经双面电晕处理好的基材的两面,经干燥固化后成型。
所述扩散层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液50~60质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:0.3~1:3,优选1:1;
光扩散粒子15~25质量份,其为有机硅粒子、PS粒子、PMMA粒子、尼龙粒子中的一种,优选PMMA粒子,光扩散粒子的粒径为5~20μm,优选8-12μm;
丙烯酸树脂或聚氨酯,优选丙烯酸树脂,20~25质量份;
作为固化剂的异氰酸酯1~3质量份;
所述背层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液55~70质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:0.3~1:3,优选1:1;
无机扩散粒子0.1~0.3质量份,其为碳酸钙粒子、二氧化硅粒子、二氧化钛粒子中的一种,优选二氧化硅粒子,无机扩散粒子的粒径为4~8μm;
丙烯酸树脂或聚氨酯,优选丙烯酸树脂,30~40质量份;
作为固化剂的异氰酸酯1~3质量份;
作为抗静电剂的纳米级氧化铟锡0.5~2质量份,该抗静电剂可以在一定范围内调制涂层膜面的表面电阻,并使涂布膜面拥有良好的硬度。
本发明中的基材从使用特性要求来讲,要具有良好表面平滑性、机械强度、耐温性以及耐候性的材料。如果基材的厚度过薄,那么气耐热稳定性下降,影响光学扩散膜的生产制造、装配加工以及耐热使用特性。如果基材厚度过厚,那么其透过率降低,势必影响光学扩散膜的透过率及雾度等光学指标,推荐所述基材的厚度为100μm~250μm。
为保证膜层具有良好的硬度,透过率和雾度,推荐所述扩散层的厚度为13~17μm,所述背层的厚度为6~8μm。
本发明的有益效果在于:在使用两张叠加的方式,辉度比单张使用时辉度提高25%左右,光线经过反射膜,导光板,光扩散膜(2张)直接形成面光源的方法,可以节省价格昂贵的增亮膜,促进背光模组朝薄型化、轻量化以及降低成本的方向发展。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细说明。
实施例一
一种具有光扩散膜,包括基材,还包括覆盖在所述基材一面的一层扩散层、覆盖在所述基材另一面的一层背层,所述的扩散层和背层复合到基材上的方式为:先将基材进行双面电晕处理,电晕强度为3.5KV;
再调制扩散层涂布液和背层涂布液,然后将扩散层涂布液和背层涂布液分别涂布到经双面电晕处理好的基材的两面,经干燥固化后成型。
所述扩散层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液55质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:1;
光扩散粒子20质量份,其为PMMA粒子,光扩散粒子的粒径为8-12μm;
丙烯酸树脂25质量份;
作为固化剂的异氰酸酯2质量份;
所述背层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液65质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:1;
无机扩散粒子0.2质量份,其为二氧化硅粒子,无机扩散粒子的粒径为4~8μm;
丙烯酸树脂35质量份;
作为固化剂的异氰酸酯2质量份;
作为抗静电剂的纳米级氧化铟锡1质量份,该抗静电剂可以在一定范围内调制涂层膜面的表面电阻,并使涂布膜面拥有良好的硬度。
本发明中的基材从使用特性要求来讲,要具有良好表面平滑性、机械强度、耐温性以及耐候性的材料。如果基材的厚度过薄,那么气耐热稳定性下降,影响光学扩散膜的生产制造、装配加工以及耐热使用特性。如果基材厚度过厚,那么其透过率降低,势必影响光学扩散膜的透过率及雾度等光学指标,推荐所述基材的厚度为100μm~250μm,
为保证膜层具有良好的硬度,透过率和雾度,推荐所述扩散层的厚度为13~17μm,所述背层的厚度为6~8μm。
本发明在使用两张叠加的方式,辉度比单张使用时辉度提高25%左右,光线经过反射膜,导光板,光扩散膜(2张)直接形成面光源的方法,可以节省价格昂贵的增亮膜,促进背光模组朝薄型化、轻量化以及降低成本的方向发展。
实施例二
一种具有光扩散膜,包括基材,还包括覆盖在所述基材一面的一层扩散层、覆盖在所述基材另一面的一层背层,所述的扩散层和背层复合到基材上的方式为:先将基材进行双面电晕处理,电晕强度为5KV;
再调制扩散层涂布液和背层涂布液,然后将扩散层涂布液和背层涂布液分别涂布到经双面电晕处理好的基材的两面,经干燥固化后成型。
所述扩散层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液50质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:3;
光扩散粒子22质量份,其为有机硅粒子,光扩散粒子的粒径为6~12μm;
聚氨酯21质量份;
作为固化剂的异氰酸酯3质量份;
所述背层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液58质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:0.4;
无机扩散粒子0.15质量份,其为碳酸钙粒子,无机扩散粒子的粒径为5~8μm;
聚氨酯30质量份;
作为固化剂的异氰酸酯3质量份;
作为抗静电剂的纳米级氧化铟锡0.5质量份,该抗静电剂可以在一定范围内调制涂层膜面的表面电阻,并使涂布膜面拥有良好的硬度。
本发明中的基材从使用特性要求来讲,要具有良好表面平滑性、机械强度、耐温性以及耐候性的材料。如果基材的厚度过薄,那么气耐热稳定性下降,影响光学扩散膜的生产制造、装配加工以及耐热使用特性。如果基材厚度过厚,那么其透过率降低,势必影响光学扩散膜的透过率及雾度等光学指标,推荐所述基材的厚度为100μm~250μm,
为保证膜层具有良好的硬度,透过率和雾度,推荐所述扩散层的厚度为13~17μm,所述背层的厚度为6~8μm。
本发明在使用两张叠加的方式,辉度比单张使用时辉度提高25%左右,光线经过反射膜,导光板,光扩散膜(2张)直接形成面光源的方法,可以节省价格昂贵的增亮膜,促进背光模组朝薄型化、轻量化以及降低成本的方向发展。
实施例三
一种具有光扩散膜,包括基材,还包括覆盖在所述基材一面的一层扩散层、覆盖在所述基材另一面的一层背层,所述的扩散层和背层复合到基材上的方式为:先将基材进行双面电晕处理,电晕强度为3KV;
再调制扩散层涂布液和背层涂布液,然后将扩散层涂布液和背层涂布液分别涂布到经双面电晕处理好的基材的两面,经干燥固化后成型。
所述扩散层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液60质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:1.5;
光扩散粒子15质量份,其为PS粒子,光扩散粒子的粒径为10~15μm;
丙烯酸树脂22质量份;
作为固化剂的异氰酸酯1质量份;
所述背层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液68质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:0.3;
无机扩散粒子0.3质量份,其为二氧化硅粒子,无机扩散粒子的粒径为4~5μm;
聚氨酯40质量份;
作为固化剂的异氰酸酯2.5质量份;
作为抗静电剂的纳米级氧化铟锡1.5质量份,该抗静电剂可以在一定范围内调制涂层膜面的表面电阻,并使涂布膜面拥有良好的硬度。
本发明中的基材从使用特性要求来讲,要具有良好表面平滑性、机械强度、耐温性以及耐候性的材料。如果基材的厚度过薄,那么气耐热稳定性下降,影响光学扩散膜的生产制造、装配加工以及耐热使用特性。如果基材厚度过厚,那么其透过率降低,势必影响光学扩散膜的透过率及雾度等光学指标,推荐所述基材的厚度为100μm~250μm,
为保证膜层具有良好的硬度,透过率和雾度,推荐所述扩散层的厚度为13~17μm,所述背层的厚度为6~8μm。
本发明在使用两张叠加的方式,辉度比单张使用时辉度提高25%左右,光线经过反射膜,导光板,光扩散膜(2张)直接形成面光源的方法,可以节省价格昂贵的增亮膜,促进背光模组朝薄型化、轻量化以及降低成本的方向发展。
实施例四
一种具有光扩散膜,包括基材,还包括覆盖在所述基材一面的一层扩散层、覆盖在所述基材另一面的一层背层,所述的扩散层和背层复合到基材上的方式为:先将基材进行双面电晕处理,电晕强度为4KV;
再调制扩散层涂布液和背层涂布液,然后将扩散层涂布液和背层涂布液分别涂布到经双面电晕处理好的基材的两面,经干燥固化后成型。
所述扩散层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液58质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:0.3;
光扩散粒子25质量份,其为尼龙粒子,光扩散粒子的粒径为5~10μm;
聚氨酯20质量份;
作为固化剂的异氰酸酯2.5质量份;
所述背层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液55质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:3;
无机扩散粒子0.1质量份,其为碳酸钙粒子,无机扩散粒子的粒径为4~7μm;
聚氨酯37质量份;
作为固化剂的异氰酸酯1质量份;
作为抗静电剂的纳米级氧化铟锡2质量份,该抗静电剂可以在一定范围内调制涂层膜面的表面电阻,并使涂布膜面拥有良好的硬度。
本发明中的基材从使用特性要求来讲,要具有良好表面平滑性、机械强度、耐温性以及耐候性的材料。如果基材的厚度过薄,那么气耐热稳定性下降,影响光学扩散膜的生产制造、装配加工以及耐热使用特性。如果基材厚度过厚,那么其透过率降低,势必影响光学扩散膜的透过率及雾度等光学指标,推荐所述基材的厚度为100μm~250μm,
为保证膜层具有良好的硬度,透过率和雾度,推荐所述扩散层的厚度为13~17μm,所述背层的厚度为6~8μm。
本发明在使用两张叠加的方式,辉度比单张使用时辉度提高25%左右,光线经过反射膜,导光板,光扩散膜(2张)直接形成面光源的方法,可以节省价格昂贵的增亮膜,促进背光模组朝薄型化、轻量化以及降低成本的方向发展。
实施例五
一种具有光扩散膜,包括基材,还包括覆盖在所述基材一面的一层扩散层、覆盖在所述基材另一面的一层背层,所述的扩散层和背层复合到基材上的方式为:先将基材进行双面电晕处理,电晕强度为4.5KV;
再调制扩散层涂布液和背层涂布液,然后将扩散层涂布液和背层涂布液分别涂布到经双面电晕处理好的基材的两面,经干燥固化后成型。
所述扩散层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液52质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:0.5;
光扩散粒子17质量份,其为PMMA粒子,光扩散粒子的粒径为15~20μm;
丙烯酸树脂23质量份;
作为固化剂的异氰酸酯1.5质量份;
所述背层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液70质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:1.5;
无机扩散粒子0.25质量份,其为二氧化钛粒子,无机扩散粒子的粒径为7~8μm;
聚氨酯38质量份;
作为固化剂的异氰酸酯1.5质量份;
作为抗静电剂的纳米级氧化铟锡0.7质量份,该抗静电剂可以在一定范围内调制涂层膜面的表面电阻,并使涂布膜面拥有良好的硬度。
本发明中的基材从使用特性要求来讲,要具有良好表面平滑性、机械强度、耐温性以及耐候性的材料。如果基材的厚度过薄,那么气耐热稳定性下降,影响光学扩散膜的生产制造、装配加工以及耐热使用特性。如果基材厚度过厚,那么其透过率降低,势必影响光学扩散膜的透过率及雾度等光学指标,推荐所述基材的厚度为100μm~250μm,
为保证膜层具有良好的硬度,透过率和雾度,推荐所述扩散层的厚度为13~17μm,所述背层的厚度为6~8μm。
本发明在使用两张叠加的方式,辉度比单张使用时辉度提高25%左右,光线经过反射膜,导光板,光扩散膜(2张)直接形成面光源的方法,可以节省价格昂贵的增亮膜,促进背光模组朝薄型化、轻量化以及降低成本的方向发展。
实施例六
一种具有光扩散膜,包括基材,还包括覆盖在所述基材一面的一层扩散层、覆盖在所述基材另一面的一层背层,所述的扩散层和背层复合到基材上的方式为:先将基材进行双面电晕处理,电晕强度为3.2KV;
再调制扩散层涂布液和背层涂布液,然后将扩散层涂布液和背层涂布液分别涂布到经双面电晕处理好的基材的两面,经干燥固化后成型。
所述扩散层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液53质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:2;
光扩散粒子24质量份,其为尼龙粒子,光扩散粒子的粒径为7~15μm;
聚氨酯24质量份;
作为固化剂的异氰酸酯1.8质量份;
所述背层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液60质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:2;
无机扩散粒子0.2质量份,其为二氧化硅粒子,无机扩散粒子的粒径为6~8μm;
丙烯酸树脂32质量份;
作为固化剂的异氰酸酯2.3质量份;
作为抗静电剂的纳米级氧化铟锡1.2质量份,该抗静电剂可以在一定范围内调制涂层膜面的表面电阻,并使涂布膜面拥有良好的硬度。
本发明中的基材从使用特性要求来讲,要具有良好表面平滑性、机械强度、耐温性以及耐候性的材料。如果基材的厚度过薄,那么气耐热稳定性下降,影响光学扩散膜的生产制造、装配加工以及耐热使用特性。如果基材厚度过厚,那么其透过率降低,势必影响光学扩散膜的透过率及雾度等光学指标,推荐所述基材的厚度为100μm~250μm,
为保证膜层具有良好的硬度,透过率和雾度,推荐所述扩散层的厚度为13~17μm,所述背层的厚度为6~8μm。
本发明在使用两张叠加的方式,辉度比单张使用时辉度提高25%左右,光线经过反射膜,导光板,光扩散膜(2张)直接形成面光源的方法,可以节省价格昂贵的增亮膜,促进背光模组朝薄型化、轻量化以及降低成本的方向发展。

Claims (2)

1.一种具有光扩散膜,包括基材,其特征在于:还包括覆盖在所述基材一面的一层扩散层、覆盖在所述基材另一面的一层背层,所述的扩散层和背层复合到基材上的方式为:先将基材进行双面电晕处理,电晕强度为3~5KV;
再调制扩散层涂布液和背层涂布液,然后将扩散层涂布液和背层涂布液分别涂布到经双面电晕处理好的基材的两面,经干燥固化后成型;
所述扩散层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液50~60质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:0.3~1:3;
光扩散粒子15~25质量份,其为有机硅粒子、PS粒子、PMMA粒子、尼龙粒子中的一种,光扩散粒子的粒径为5~20μm;
丙烯酸树脂或聚氨酯,20~25质量份;
作为固化剂的异氰酸酯1~3质量份;
所述背层涂布液的组成为:作为溶剂的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液55~70质量份,甲苯和甲基乙基酮的比例为1:0.3~1:3;
无机扩散粒子0.1~0.3质量份,其为碳酸钙粒子、二氧化硅粒子、二氧化钛粒子中的一种,无机扩散粒子的粒径为4~8μm;
丙烯酸树脂或聚氨酯,30~40质量份;
作为固化剂的异氰酸酯1~3质量份;
作为抗静电剂的纳米级氧化铟锡0.5~2质量份。
2.如权利要求1所述的光扩散膜,其特征在于:所述基材的厚度为100μm~250μm,所述扩散层的厚度为13~17μm,所述背层的厚度为6~8μm。
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