CN106908873A - 一种高雾度高透过率扩散膜的制备方法 - Google Patents
一种高雾度高透过率扩散膜的制备方法 Download PDFInfo
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Abstract
一种高雾度高透过率扩散膜的制备方法,该扩散膜包括基膜,在所述的基膜表面涂布一层光扩散层,通过加热进行热固化成型,最后收卷,放入熟化室熟化;所述的光扩散层由下列组分组成:硅藻土颗粒、有机粒子、热固性丙烯酸树脂、固化剂、抗静电剂、流平剂、有机溶剂。本发明采用了具有多孔结构的硅藻土颗粒涂布于扩散膜的膜上,可同时提高雾度和透过率。
Description
技术领域
本发明涉及一种扩散膜的制备方法。
背景技术
液晶显示器件的优异特性决定了它在各类显示器件中的地位。只有20余年液晶显示就改变了几百年的钟表计时行业,电子计算器已经人人必备,智能化仪器仪表使用了液晶显示,使它可以成为便携式。各种电脑改变了人类生活方式,甚至改变了战争形式。液晶作为一种特殊的功能材料,具有极其广泛的应用价值。随着以液晶显示器件为主的各类液晶产品的出现和发展,液晶已经深入到各行各业以及社会生活的各个角落。人类开发了液晶,液晶改变着人类生活。
背光模组是液晶模组的主要零部件,因此背光模组的销售量与液晶面板的销售量息息相关。随着智能手机、移动显示、平板触摸电脑、3D电视、互联网电视等液晶显示产品持续热销,Samsung更是预计2016年液晶面板市场能够扩大到2000亿美元,而占据液晶面板成本三分之一的背光模组也必将获得快速发展。
在LCD背光源的材料组成中,扩散膜几乎是必不可少的材料之一。扩散膜按制作方法分类,有涂布式及非涂布式两种。其中涂布式扩散膜具有透光率较高雾度调节范围大,外观质量好,为高端背光源产品的扩散膜首选品种。
光扩散薄膜,指的是可以透过光线、又能够使光线发生散射的薄膜。光扩散薄膜可以将点、线状的光源转化为面状的光源,其散射范围较大、透光性良好,且光线分布均匀。光扩散现象的产生是媒质的均匀性遭到破坏的结果,即尺寸达到波长数量级的临近媒质小块之间在光学性质上(如折射率)有较大差异,在入射光的作用下,它们作为次级波源将辐射振幅大小不同的次波,彼此的相位也有差别。这样,由于次波的相干迭加,除了部分光波仍沿着几何光学规定的方向传播外,在其他方向不能抵消,造成散射。
评价光扩散薄膜性能的两个重要指标是光线透过率和雾度,前者代表着一种
材料的透明程度,而后者代表着材料散射光线能力的强弱。透光率是指透过试样
的光通量和射到试样上的光通量之比,它是表征透明高分子材料透明程度的一个
重要性能指标。一种高分子材料的透光率越高,其透明性就越好。雾度又称浊度,
是透过试样而偏离入射光方向的散射光与透射光通量之比,它衡量一种透明或半
透明材料不清晰或者浑浊的程度,雾度大小是材料内部或表面上的不连续性或不
规则性所造成的。通常用雾度表征光散射材料的光散射强弱。现有光扩散膜无法兼顾雾度和透过率。
发明内容
为了克服现有现有光扩散膜无法兼顾雾度和透过率的不足,本发明提供一种高雾度高透过率扩散膜的制备方法,制备出来的扩散膜同时具有高雾度和高透过率。
本发明解决其技术问题的技术方案是:一种高雾度高透过率扩散膜的制备方法,该扩散膜包括基膜,在所述的基膜表面涂布一层光扩散层,通过加热进行热固化成型,最后收卷,放入熟化室熟化;
所述的光扩散层由下列组分组成:
硅藻土颗粒:5-15质量份;
有机粒子:5-15质量份;
热固性丙烯酸树脂:60-80质量份;
固化剂:2-5质量份;
抗静电剂:0.5-3质量份;
流平剂:0.1-1质量份;
有机溶剂:60-80质量份。
优选的,所述的硅藻土颗粒孔隙大小在300~1000nm,粒径在1~5μm。
优选的,所述的有机粒子为PMMA粒子或PBMA粒子或PS粒子或PA粒子,所述有机粒子的粒径在5~20μm。
优选的,所述的丙烯酸树脂为丙烯酸甲酯或丙烯酸乙酯或丙烯酸正丁酯或甲基丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸正丁酯。
优选的,所述的固化剂为脂肪族胺类固化剂或芳族胺类固化剂。
优选的,所述的抗静电剂为阳离子型抗静电剂或阴离子型抗静电剂或非离子型抗静电剂。
优选的,所述的流平剂为硅油或聚二甲基硅氧烷或聚醚聚酯改性有机硅氧烷。
优选的,所述的有机溶剂为丁酮或甲苯或环己酮。
优选的,在进行热固化成型时,通过烘箱进行加热,烘箱具有五个加热段,由前自后的烘箱段温度分别为90℃、110℃、120℃、100℃、90℃。
本发明的有益效果在于:采用了具有多孔结构的硅藻土颗粒涂布于扩散膜的膜上,可同时提高雾度和透过率。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细说明。
实施例一
一种高雾度高透过率扩散膜的制备方法,该扩散膜包括PET基膜,在所述的PET基膜表面涂布一层光扩散层,通过加热进行热固化成型,最后收卷,放入熟化室熟化。在进行热固化成型时,通过烘箱进行加热,烘箱具有五个加热段,由前自后的烘箱段温度分别为90℃、110℃、120℃、100℃、90℃。
所述的光扩散层由下列组分组成:
硅藻土颗粒:10质量份;
有机粒子:8质量份;
热固性丙烯酸树脂:70质量份;
固化剂:3质量份;
抗静电剂:1质量份;
流平剂:0.5质量份;
有机溶剂:70质量份。
其中,硅藻土颗粒孔隙大小控制在300~1000nm之间(包含300 nm 和1000nm),粒径控制在1~5μm之间(1μm ~5μm)。
其中,所述的有机粒子选用PMMA粒子或PBMA粒子或PS粒子或PA粒子,所述有机粒子的粒径控制在5~20μm之间(5μm ~20μm)。
其中,所述的丙烯酸树脂选用丙烯酸甲酯或丙烯酸乙酯或丙烯酸正丁酯或甲基丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸正丁酯。
其中,所述的固化剂选用脂肪族胺类固化剂或芳族胺类固化剂。选用脂肪族胺类固化剂时,脂肪族胺类固化剂选用乙烯基三胺或二氨基环己烷或乙二胺E或二乙烯三胺或HDI三聚体;选用芳族胺类固化剂时,芳族胺类固化剂选用间苯二胺m-PDA MPD或间苯二甲胺或二氨基二苯基甲烷DDM HT-972 DEH-50。
其中所述的抗静电剂选用阳离子型抗静电剂或阴离子型抗静电剂或非离子型抗静电剂。选用阳离子型抗静电剂时,阳离子型抗静电剂选用长链的烷基季铵或磷盐;选用阴离子型抗静电剂时,阴离子型抗静电剂选用烷基磺酸或磷酸或二硫代氨基甲酸的碱金属盐;选用非离子型抗静电剂时,非离子型抗静电剂选用乙氧基化脂肪族烷基胺或乙氧基化烷基酸胺或乙氧基月桂酷胺。
其中,所述的流平剂选用硅油或聚二甲基硅氧烷或聚醚聚酯改性有机硅氧烷。
其中,所述的有机溶剂选用丁酮或甲苯或环己酮。
实施例二
所述的光扩散层由下列组分组成:
硅藻土颗粒:5质量份;
有机粒子:6质量份;
热固性丙烯酸树脂:80质量份;
固化剂:2.5质量份;
抗静电剂:0.8质量份;
流平剂:0.2质量份;
有机溶剂:60质量份。
其余实施方式与实施例一相同。
实施例三
所述的光扩散层由下列组分组成:
硅藻土颗粒:15质量份;
有机粒子:12质量份;
热固性丙烯酸树脂:65质量份;
固化剂:4质量份;
抗静电剂:3质量份;
流平剂:0.1质量份;
有机溶剂:75质量份。
其余实施方式与实施例一相同。
实施例四
所述的光扩散层由下列组分组成:
硅藻土颗粒:13质量份;
有机粒子:15质量份;
热固性丙烯酸树脂:60质量份;
固化剂:5质量份;
抗静电剂:0.5质量份;
流平剂:1质量份;
有机溶剂:65质量份。
其余实施方式与实施例一相同。
实施例五
所述的光扩散层由下列组分组成:
硅藻土颗粒:7质量份;
有机粒子:5质量份;
热固性丙烯酸树脂:73质量份;
固化剂:2质量份;
抗静电剂:1.5质量份;
流平剂:0.7质量份;
有机溶剂:80质量份。
其余实施方式与实施例一相同。
实施例六
所述的光扩散层由下列组分组成:
硅藻土颗粒:12质量份;
有机粒子:11质量份;
热固性丙烯酸树脂:75质量份;
固化剂:3.5质量份;
抗静电剂:2质量份;
流平剂:0.8质量份;
有机溶剂:63质量份。
其余实施方式与实施例一相同。
Claims (10)
1.一种高雾度高透过率扩散膜的制备方法,该扩散膜包括基膜,其特征在于:在所述的基膜表面涂布一层光扩散层,通过加热进行热固化成型,最后收卷,放入熟化室熟化;
所述的光扩散层由下列组分组成:
硅藻土颗粒:5-15质量份;
有机粒子:5-15质量份;
热固性丙烯酸树脂:60-80质量份;
固化剂:2-5质量份;
抗静电剂:0.5-3质量份;
流平剂:0.1-1质量份;
有机溶剂:60-80质量份。
2.如权利要求1所述的高雾度高透过率扩散膜的制备方法,其特征在于:所述的硅藻土颗粒孔隙大小在300~1000nm,粒径在1~5μm。
3.如权利要求1所述的高雾度高透过率扩散膜的制备方法,其特征在于:所述的有机粒子为PMMA粒子或PBMA粒子或PS粒子或PA粒子,所述有机粒子的粒径在5~20μm。
4.如权利要求1所述的高雾度高透过率扩散膜的制备方法,其特征在于:所述的丙烯酸树脂为丙烯酸甲酯或丙烯酸乙酯或丙烯酸正丁酯或甲基丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸正丁酯。
5.如权利要求1所述的高雾度高透过率扩散膜的制备方法,其特征在于:所述的固化剂为脂肪族胺类固化剂或芳族胺类固化剂。
6.如权利要求1所述的高雾度高透过率扩散膜的制备方法,其特征在于:所述的抗静电剂为阳离子型抗静电剂或阴离子型抗静电剂或非离子型抗静电剂。
7.如权利要求1所述的高雾度高透过率扩散膜的制备方法,其特征在于:所述的流平剂为硅油或聚二甲基硅氧烷或聚醚聚酯改性有机硅氧烷。
8.如权利要求1所述的高雾度高透过率扩散膜的制备方法,其特征在于:所述的有机溶剂为丁酮或甲苯或环己酮。
9.如权利要求1-8之一所述的高雾度高透过率扩散膜的制备方法,其特征在于:在进行热固化成型时,通过烘箱进行加热,烘箱具有五个加热段,由前自后的烘箱段温度分别为90℃、110℃、120℃、100℃、90℃。
10.如权利要求1-8之一所述的高雾度高透过率扩散膜的制备方法,其特征在于:在进行热固化成型时,通过烘箱进行加热,烘箱具有五个加热段,由前自后的烘箱段温度分别为90℃、110℃、120℃、100℃、90℃。
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