CN103827718B - 用于固化光纤的具有共定位焦点的双椭圆反射器 - Google Patents

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Abstract

用于UV固化工件比如光纤上的涂层或印刷油墨的装置包括布置为具有共定位焦点的双椭圆反射器。工件在共定位焦点处居中，使得双椭圆反射器被布置在工件的相对侧上。两个单独的光源被放置在每个椭圆反射器的第二焦点处，其中从光源照射的光基本上集中在共定位焦点处的工件表面上。

Description

用于固化光纤的具有共定位焦点的双椭圆反射器
相关申请
本申请要求于2011年9月15日提交的美国专利申请号61/535,318的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
背景技术
光纤普遍地用于照明和成像应用，以及电信产业，在其中它们相比于电气线路在更长的距离上提供更高的数据传输速率。另外，光纤更柔韧、更轻质，并且可被拉伸为比金属线更细的直径，允许纤维的更高容量地成束为光缆。经由紫外线(UV)固化过程施加的表面涂层被用于保护光纤不受物理损坏和水分侵入，并且维持其性能的长期耐久性。
Carter等人(美国专利6,626,561)解决了光纤的UV固化均匀性问题，该光纤具有定位在UV固化装置焦点之外的表面，该UV固化装置利用椭圆反射器将来自放置在椭圆反射器的第二焦点处的单个UV光源的UV光引导至光纤表面。由于光纤相对于光源不精确对齐或者不规则形状的光纤可出现固化均匀性问题。为了解决这些问题，Carter利用采用椭圆反射器的UV灯结构以便用来自放置在第一椭圆反射器焦点附近的单个光源的UV光照射置于第二椭圆反射器焦点附近的光纤表面，其中光纤和灯泡二者都从焦点略微移位。以此方式，到达光纤表面的UV光线被分散，并且光学涂层的照射和固化可潜在地更加均匀。
本文的发明人已经意识到用上述方法的潜在问题。即，通过将UV光源和光纤移位远离椭圆反射器的焦点，照射光纤表面的UV光的强度被分散和减小，从而降低固化和生产速率，并且产生更高的制造成本。
发明内容
解决前述问题的一个方法包括UV固化装置，其包括具有共定位焦点并且布置在工件相对侧上的双椭圆反射器，以及两个UV光源，其中每个光源定位在每个椭圆反射器的第二焦点处。以此方式，有可能利用UV光均匀且高强度地照射光纤或其它工件，提供光纤涂层的快速并且均匀的固化。
将理解提供上面的内容以便以简化形式介绍概念的选择，其在详述中进行进一步描述。并非意味着确定所要求保护的主题的关键或必要特征，其范围仅仅由在详述之后的权利要求书限定。此外，所要求保护的主题不限于解决在上面或在本公开的任何部分中提出的任何缺点的实施。
附图简述
图1图解了双光反应性系统的实例，每一个包括电源、控制器、冷却子系统和发光子系统。
图2是图解用于具有单个光源的UV固化装置的常规椭圆反射器的截面的实例。
图3是图解布置为具有共定位焦点的两个椭圆表面的截面的实例。
图4是图解布置为具有共定位焦点的双椭圆反射器的截面的实例构型。
图5是包括双椭圆反射器和两个LED阵列光源的实例UV固化装置的平面图。
图6是利用图5中所示的实例UV固化装置UV固化工件比如光纤的实例方法的流程图。
图7是实例UV固化系统的平面图。
发明详述
本描述针对用于制造涂布的光纤、条带(ribbon)、光缆或其它工件的UV固化装置、方法和系统。可经由采用布置为具有共定位焦点的双椭圆反射器的UV固化装置UV固化光纤涂层，其中工件(例如，光纤)置于共定位焦点处，并且两个UV光源定位在每个椭圆反射器的第二焦点处。图1图解了包括UV固化装置、耦合光学器件和耦合电子器件的双UV固化装置(例如，光反应性系统)的实例。图2示出用于UV固化光纤的常规UV固化装置的单椭圆反射器耦合光学器件构型。图3图解了布置为具有共定位焦点的两个椭圆表面的实例。图4图解了UV固化装置的双椭圆反射器耦合光学器件构型，其中双椭圆反射器具有共定位焦点。图5图解了包括布置为具有共定位焦点的双椭圆反射器和配置为具有两个LED阵列光源以及用于散热的外部翅片的实例UV固化装置。图6是示出利用图5的实例UV固化装置UV固化光纤或其它工件的实例方法的步骤的流程图。图7图解了UV固化系统的实例。
UV固化装置可包括至少两个光反应性系统，其包括至少两个椭圆反射器和至少两个光源。现参考图1，其图解了包括双反应性系统10和11的实例构型的框图。在该实例中，光反应性系统被布置在UV可固化工件的相对侧上。在第一个实例中，被布置在UV可固化工件的相对侧上的光反应性系统可包括相对地或者相对于彼此以180°的定向被放置，如图1中所示。在另一个实例中，被布置在UV可固化工件的相对侧上的光反应性系统可包括以相对于彼此至少90°-270°或相对于彼此以175°-185°的定向被放置。
在一个实例中，光反应性系统10和11每一个分别包括发光子系统12和13、控制器14和15、电源16和17以及冷却子系统18和39。
发光子系统12和13可分别包括多个半导体装置19和27。半导体装置19和27可以是，例如LED装置。选择的多个半导体装置19和27可被实施以分别提供辐射输出24和25。辐射输出24可被引至工件26。返回的辐射28和29可分别从工件26(例如，经由辐射输出24和25的反射)引回发光系统12和13。
辐射输出24和25可经由耦合光学器件30和31被引至工件26。如果使用，耦合光学器件30和31可进行各种实施。作为实例，耦合光学器件可包括置于半导体装置19和27之间的一个或多个层、材料或其它结构，提供辐射输出24和25至工件26的表面。作为实例，耦合光学器件30和31可包括微透镜阵列，以便增强辐射输出24和25的收集、聚光、准直或其它品质或有效数量。作为另一个实例，耦合光学器件30和31可包括微反射器阵列。在采用这种微反射器阵列中，提供辐射输出24和25的每个半导体装置可在一对一的基础上被布置在各自的微反射器中。作为另一个实例，提供辐射输出24和25的半导体装置20和21的阵列或半导体装置20和21的多个阵列中的一个阵列可在多对一的基础上布置在宏反射器(macro-reflector)中。以此方式，耦合光学器件30可包括微反射器阵列——其中每个半导体装置在一对一的基础上布置在各自的微反射器中；和宏反射器——其中来自半导体装置的辐射输出24和25的数量和/或品质通过宏反射器被进一步增强，如上所述。
耦合光学器件30和31的每个层、材料或其它结构可具有选择的折射率。通过适当地选择每个折射率，可选择性地控制辐射输出24和25(和/或返回的辐射28，29)的路径中的层、材料和其它结构之间的界面处的反射。作为实例，通过对工件26控制这种在选择的布置在半导体装置之间的界面处的折射率的差异，可减少或增加在该界面处的反射，以便增强在该界面处用于最终输送至工件26的辐射输出的传输。例如，耦合光学器件可包括分色反射器，其中某些波长的入射光被吸收，而其它被反射并且聚焦至工件26的表面。
耦合光学器件30和31可应用于各种目的。其中，实例目的包括保护半导体装置19和27；保持与冷却子系统18和39相关的冷却流体；收集、聚光和/或准直辐射输出24和25；收集、引导或抑制返回的辐射28和29等或者单独或组合地用于其它目的。作为进一步的实例，光反应性系统10和11可采用耦合光学器件30和31以便增强辐射输出24和25的有效品质或数量，特别是当输送至工件26时。
选择的多个半导体装置19和27可经由耦合电子器件22和23耦接至控制器14和15，以便提供数据至控制器14和15。如下面进一步描述的，控制器也可被实施以便控制这种提供数据的半导体装置，例如经由耦合电子器件22和23。控制器14和15可被连接至电源16和17以及冷却子系统18和19中的每一个并且可被实施以便控制电源16和17以及冷却子系统18和19中的每一个。而且，控制器14和15可从电源16和17以及冷却子系统18和39接收数据。在进一步的实例中，控制器14和15可彼此通信(图1中未示出)以便控制光反应性系统10和11的操作。例如，控制器14和15可以以主从式级联控制算法(master-slave cascadingcontrol algorithm)操作，其中一个控制器的设定点通过另一个控制器的输出进行设定。还可使用光反应性系统10与光反应性系统11一起操作的其它控制策略。
除了电源16和17、冷却子系统18和39以及发光子系统12和13之外，控制器14和15还可连接至内部组件32和33以及外部组件34和35并且可被实施以便控制内部组件32和33以及外部组件34和35。组件32和33，如示出的，可以在光反应性系统10和11内部。组件34和35，如示出的，可以在光反应性系统10和11外部，但是可以与工件26(例如，操纵、冷却或其它外部设备)相关联或者可以以其它方式与光反应性系统10和11支持的光反应相联系。
由控制器14和15从电源16和17、冷却子系统18和39、发光子系统12和13、和/或组件32和33以及34和35中的一个或多个接收的数据可为各种类型的。作为实例，数据可代表分别与耦接的半导体装置19和27相关联的一个或多个特征。作为另一个实例，数据可代表与提供数据的各个发光子系统12和13、电源16和17、冷却子系统18和39、内部组件32和33以及外部组件34和35相关联的一个或多个特征。作为又另一个实例，数据可代表与工件26相关联的一个或多个特征(例如，代表引导至工件的辐射输出能量或光谱组成(一个或多个))。而且，数据可代表这些特征的一些组合。
已接收任何这种数据的控制器14和15可被实施以响应该数据。例如，响应于这种来自任何这种元件的数据，控制器14和15可被实施以控制电源16和17、冷却子系统18和39、发光子系统12和13(包括一个或多个这种耦接的半导体装置)、和/或组件32、33、34和35中的一个或多个。作为实例，响应于来自发光子系统的表明在与工件相关联的一个或多个点处的光能不足的数据，控制器14可被实施以便(a)增加对半导体装置的一个或多个的电源的功率供应、(b)增加发光子系统经由冷却子系统18(例如，某些发光装置，如果被冷却，则提供更大的辐射输出)的冷却、(c)增加对这种装置供应功率的时间、或者(d)上面这些的组合。
发光子系统12和13的单个半导体装置19和27(例如，LED装置)可通过控制器14和15被单独地控制。例如，控制器14和15可控制第一组的一个或多个单个的LED装置以便发出第一强度、波长等的光，同时控制第二组的一个或多个单个的LED装置以便发出不同强度、波长等的光。第一组的一个或多个单个的LED装置可以在半导体装置20和21的相同阵列内，或者可以来自半导体装置20和21的多于一个的阵列。控制器14和15可独立于由控制器14和15分别控制的发光子系统12和13中的半导体装置20和21的其他阵列来控制半导体装置20和21的阵列。例如，可控制第一阵列的半导体装置以便发出第一强度、波长等的光，同时可控制第二阵列的那些半导体装置以便发出第二强度、波长等的光。
作为进一步的实例，在第一套条件(例如，对于特定的工件、光反应和/或一套操作条件)下，控制器14和15可操作光反应性系统10和11以实施第一控制策略，而在第二套条件(例如，对于特定的工件、光反应和/或一套操作条件)下，控制器14和15可操作光反应性系统10和11以实施第二控制策略。如上所述，第一控制策略可包括操作第一组的一个或多个单个的半导体装置(例如，LED装置)以便发出第一强度、波长等的光，而第二控制策略可包括操作第二组的一个或多个单个的LED装置以便发出第二强度、波长等的光。第一组的LED装置可以是与第二组相同的LED装置组，并且可跨越LED装置的一个或多个阵列，或者可以是与第二组不同的LED装置组，但该不同的LED装置组可包括来自第二组的一个或多个LED装置的子集。
冷却子系统18和39可被实施以管理发光子系统12和13的热行为。例如，冷却子系统18和39可提供发光子系统12和13的冷却，并且更具体而言，半导体装置19和27的冷却。冷却子系统18和39还可被实施以便冷却工件26和/或工件26与光反应性系统10和11(例如，发光子系统12和13)之间的空间。例如，冷却子系统18和39可以是空气或其它流体(例如，水)冷却系统。冷却子系统还可包括冷却组件比如附接至半导体装置19和27或其阵列20和21或者附接至耦合光学器件30和31的冷却翅片。例如，冷却子系统可包括在LED反射器(例如，耦合光学器件30和31)上方吹送冷却空气，其中反射器装配有外部翅片以增强热传递。
光反应性系统10和11可用于各种应用。实例包括但不限于，范围从油墨打印到制造DVD和平版印刷的固化应用。其中可采用光反应性系统10和11的应用可具有相关联的操作参数。即，应用可具有如下的相关联的操作参数：在一段或多段时间内在一个或多个波长处施加的一个或多个水平的辐射功率的规定。为了适当地实现与应用相关联的光反应，可能需要将光学功率以或超过这些参数中的一个或多个的一个或多个的预定水平输送至工件26处或附近(和/或进行一定的时间、次数或次数的范围)。
为了遵循预期的应用的参数，提供辐射输出24和25的半导体装置19和27可根据与应用的参数诸如温度、光谱分布和辐射功率相关联的各种特征进行操作。同时，半导体装置19和27可具有某些操作规格，其可与半导体装置的制造等相关联，可被遵循以便排除破坏和/或预防装置的劣化。光反应性系统10和11的其它部件也可具有相关联的操作规格。这些规格可包括操作温度和施加的电功率的范围(例如，最大和最小)等参数规格。
因此，光反应性系统10和11可支持应用的参数的监控。另外，光反应性系统10和11可提供半导体装置19和27的监控，包括其各自的特征和规格。而且，光反应性系统10和11还可提供选择的系统10和11的其它部件的监控，包括其特征和规格。
提供这种监控能够确认系统的适当操作，以便可以可靠地评估光反应性系统10和11的操作。例如，光反应性系统10和11可能关于一个或多个应用的参数(例如，温度、光谱分布、辐射功率等)、与这些参数相关联的任何部件的特征和/或任何部件各自的操作规格不当地操作。提供监控可以是响应性的并且根据通过控制器14和15从一个或多个系统部件接收的数据进行实施。
监控还可支持系统操作的控制。例如，可经由控制器14和15实施控制策略，控制器14和15接收并响应于来自一个或多个系统部件的数据。该控制策略，如上所述，可直接(例如，基于关于部件操作的数据，通过经由针对部件的控制信号控制所述部件)或间接(例如，通过经由针对调节其它部件的操作的控制信号控制所述部件的操作)实施。做为实例，可通过针对调节施加至发光子系统12和13的动力的电源16和17的控制信号和/或通过针对调节施加至发光子系统12和13的冷却的冷却子系统18和39的控制信号而间接调节半导体装置的辐射输出。
可采用控制策略以便能够实现和/或增强系统的适当操作和/或应用的性能。在更具体的实例中，可采用控制以便能够实现和/或增强阵列的辐射输出和其操作温度之间的平衡，从而，例如排除加热半导体装置19和27或半导体装置20和21的阵列超过其规格，同时也将辐射能引导至工件26，足以适当地完成应用的光反应(一个或多个)。
在一些应用中，高辐射功率可被输送至工件26。因此，发光子系统12和13可利用发光半导体装置20和21的阵列进行实施。例如，子系统12和13可利用高密度发光二极管(LED)阵列进行实施。虽然LED阵列可被使用并且在本文中详细地描述，但应理解半导体装置19和27以及其阵列20和21在不偏离本发明原则的情况下可利用其它发光技术进行实施；其它发光技术的实例包括但不限于，有机LED、激光二极管、其它半导体激光器。
继续图1，多个半导体装置19和27可以以阵列20和21或多个阵列中的一个阵列的形式提供(例如，如图1中所示)。可实施阵列20和21以便配置半导体装置19和27中的一个或多个或大多数从而提供辐射输出。然而，同时，可实施阵列的半导体装置19和27的一个或者多个以便提供监控选择的阵列的特征。监控装置36和37可选自阵列中的装置并且，例如可具有与另一个发出装置相同的结构。例如，可通过与具体的半导体装置相关联的耦合电子器件22和23确定发出和监控之间的差异(例如，在基本形式中，LED阵列可具有监控LED装置，其中耦合电子器件提供反向电流；以及发出LED装置，其中耦合电子器件提供正向电流)。
此外，基于耦合电子器件，阵列中选择的半导体装置可以是/可同时是多功能装置和/或多模式装置，其中(a)多功能装置能够检测多于一个的特征(例如，辐射输出、温度、磁场、振动、压力、加速度以及其它机械力或变形)，并且根据应用参数或其它决定性因素在这些检测功能之间切换；以及(b)多模式装置能够发出、检测以及一些其它模式(例如，关闭(off))，并且可根据应用参数或其它决定性因素在这些模式之间切换。
如上所述的，光反应性系统10和11可配置用于接收工件26。做为实例，工件26可以是UV可固化光纤、条带或光缆。此外，工件26可分别定位在光反应性系统10和11的耦合光学器件30和31的焦点处或附近。以该方式，从光反应性系统10和11照射的UV光可经由耦合光学器件被引导至工件的表面用于UV固化和驱动此处的光反应。又进一步，光反应性系统10和11的耦合光学器件30和31可被配置为具有共定位焦点，如下面将进一步描述的。
现转向图2，其图解了单椭圆反射器200的实例。单椭圆耦合光学器件被用于常规的UV固化装置以便固化光纤工件的涂层。
椭圆是由平面以产生闭合曲线的方式交叉椎体而产生的平面曲线，并且被定义为所述平面的到两个固定点(椭圆的焦点)的距离相加为相同常量的所有点的轨迹。椭圆上的对映点或者其中点在椭圆中心处的成对点之间的距离沿其主轴或横向直径最大，并且沿其垂直的短轴或共轭直径最小。椭圆关于其主轴和短轴是对称的。椭圆的焦点是在椭圆主轴上的两个特殊点，并且与椭圆的中心点(主轴和短轴在此交叉)等距。从椭圆上的任意点到那两个焦点的距离的和是恒定的，并且等于主轴。这两个点中的每个被称为椭圆的焦点。椭圆柱体是具有椭圆横截面的柱体。
椭圆反射器200可以是具有椭圆横截面的椭圆柱体。因此椭圆反射器200具有两个焦点，其中从一个焦点照射并且沿着椭圆柱体的轴向长度的光将集中在沿着柱体的轴向长度的第二焦点处。椭圆反射器表面210是具有椭圆柱体形状和椭圆横截面的光控制装置的实例，使得从在椭圆反射器的第一焦点(例如，沿着椭圆柱体的轴的焦点)处的单个光源230放射的光线250被引导至第二焦点240(例如，沿着椭圆柱体的第二轴的焦点)。对于UV固化，椭圆反射器的内表面可以是UV反射的，以便将UV光基本上引导到位于在第二焦点240处的工件的表面上。
在具有单个光源的单椭圆反射器装置中，近场工件表面(例如，面朝光源的工件表面)可以比远场工件表面(例如，背朝光源的工件表面)以更高的强度接收光。由此，单椭圆反射器还可包括柱体背面辅助反射器(back auxiliary reflector)260以便协助聚焦从光源230放射并且被引导到工件的远场表面上的UV光线264。可利用背面辅助反射器的用途，从而提供工件的更均匀的照射。
如上所述的，常规的单个椭圆反射器200具有两个焦点，其中从在第一焦点处的光源230开始的光可基本上集中在第二焦点240处。
现转向图3，其图解了两个椭圆表面310和320的实例，所述两个椭圆表面重叠并且被连接形成两个部分椭圆表面的联合。两个部分椭圆表面被联合的末端靠近另外固化的椭圆弧的中点形成两个边缘314和324。如图3中所示，椭圆表面310和320可关于其主轴350对齐，并且被布置以便它们基本上分享共定位焦点330。椭圆表面310和320可被布置在置于大致共定位焦点处或其附近的工件的相对侧上。此外，两个或更多个光源可被放置在工件相对侧上的焦点340和346处或其附近或其周围。光源可以是，例如单个LED装置、LED装置的阵列或LED阵列的阵列。在此布置中，双椭圆表面可将从置于双椭圆反射器的焦点340和346处或其附近的光源照射的光集中到工件的表面上。
由于至少两个光源与双椭圆反射器结合使用，相对于一个光源为远场的工件表面相对于另一个光源则可以是近场。由此，双椭圆反射器设计可潜在地避免使用背面反射器，精简了系统设计和成本。以此方式，图3中举例的构型相对于常规的单椭圆反射器UV固化装置也可潜在地实现工件表面上的更高的照射强度和更均匀的照射强度。实现更高和更均匀的照射强度可潜在地允许提高的生产速率和/或更短的固化时间，从而降低产品制造成本。
双椭圆反射器相对于单椭圆反射器的进一步潜在优势在于来自两个光源的UV光可在工件的所有表面上更均匀地集中，同时相比于常规的单椭圆UV固化装置维持高强度。此外，由于使用多个光源，即使当工件与共定位焦点存在细微的不对齐或者一个或多个光源与焦点之一存在细微不对齐时，从光源照射的光也可基本上被引导到工件的表面。此外，在工件的横截面可能是不规则形状或不对称的情况中，或者在工件横截面可能较大的情况中，当结合双椭圆反射器使用多个光源时，从光源照射的光可基本上被引导到工件的表面。
使用至少两个光源还可赋予控制照射的光的强度和光谱波长的更多灵活性。例如，两个光源的强度和灯泡类型可独立地变化，或者它们可以匹配。在光源之一在操作期间失效或故障的情况下，多个光源的使用还可提供一些故障保护冗余(fail-saferedundancy)。
椭圆表面310和320可以是基本上椭圆的，或者至少部分椭圆的，其中双反射器形成基本上椭圆柱体，并且其中在焦点340和346处或其附近照射的光被反射在基本上处于共定位焦点330处的表面310和320的内部。例如，表面310和320的形状可略微偏离完美的椭圆但基本上不损害通过焦点340和346附近或位于焦点340和346处的光源照射的光的收敛在共定位焦点330处。做为进一步的实例，略微偏离完美椭圆的表面310和320的形状可包括刻面的(faceted)椭圆表面，其中反射器的大体形状可以是椭圆的，但个别截面刻面为略微偏离椭圆。对于给定的光源，刻面的或部分刻面的椭圆表面可潜在允许以增强工件表面处光均匀性或强度的方式控制反射的光。每个刻面可以是平坦的，具有连接多个平坦刻面以形成椭圆表面的角。可选地，刻面可具有弯曲表面。
现转向图4，其图解了包括双椭圆反射器480和490的UV固化装置400的耦合光学器件的实例的截面，所述双椭圆反射器480和490关于其主轴对齐并且被布置以便它们分享共定位焦点460，如在图3中两个椭圆表面310和320的布置中。UV固化装置400还可包括置于椭圆反射器480和490的其它焦点附近或其它焦点处的两个光源410和420，以及样品管470，其被放置以便其中心轴基本上关于共定位焦点居中。UV固化装置400还可包括两个以上的光源。以此方式，椭圆反射器480和490形成在椭圆反射器480和490会合处的边缘486和488处连接的两个部分椭圆柱体。UV固化装置400可被进一步配置用于接收工件450，其中工件450可在样品管470内经过，使得其轴沿着共定位焦点460的轴延伸。在此构型中，其中两个光源和双椭圆反射器被布置在工件的相对侧上，双椭圆反射器可基本上将从两个光源410和420照射的光线414和424以大致均匀的方式并且具有高强度地聚焦和引导到工件表面上。在本文中，以大致均匀的方式照射工件可以指用基本上相同的辐照度(例如，每单位面积的功率)照射UV固化装置内所含的所有工件表面。此外，由于两个光源和双椭圆反射器布置在工件的相对侧上，工件的表面包括相对于两个光源中的至少一个为近场或中场的表面。由此，远场表面可被潜在地消除，排除使用背面反射器或除双椭圆反射器的内表面之外的反射性表面以将光引导到工件上。
双椭圆反射器480和490可包括反射性内表面484和494，以便引导从光源410和420放射的光线414和424。反射性内表面484和494可以以最小的光吸收或折射反射可见的和/或UV和/或IR光线。可选地，反射性内表面484和494可以是分色的，以便可以反射某一范围的波长的光，而某一范围之外的波长的光可在反射性内表面484和494处被吸收。例如，反射性内表面484和494可被设计为反射UV和可见光线，但吸收IR光线。这种反射性内表面可以潜在地用于热敏涂层或工件，或者用于稳定(调节，moderate)工件450的表面处固化反应的速率和均匀性。另一方面，由于固化反应在更高的温度下可以更迅速地进行，所以反射性内表面484和494可优选地反射UV和IR二者。
工件450可包括具有一定范围的大小和尺寸的光纤、条带或光缆。工件450还可包括UV可固化包层(cladding)和/或表面涂层，以及印刷在其表面上的UV可固化油墨。UV可固化包层可包括一个或多个UV可固化聚合物系统，并且还可包括一个以上的UV可固化层，其在一个或多个固化阶段中可以是UV可固化的。UV可固化表面涂层可包括薄膜，或者在光纤或光纤包层表面上可固化的油墨。例如，工件可以是包括核和包层的光纤，并且包层可包括含有UV可固化聚合物比如聚酰亚胺或丙烯酸盐聚合物或另一种或更多种UV可固化聚合物的涂层。做为另一个实例，还可使用双层涂层，其中工件可涂布有内层，其当通过微曲而固化用于最小化衰减时可具有柔软和似橡胶的品质；以及外层，其可以是更硬的并且适合于保护工件(例如光纤)不被磨损和暴露于环境(例如，水分、UV)。内层和外层可包括聚合物系统，例如环氧树脂系统，其包括引发剂、单体、低聚物和其它添加剂。
在固化期间，工件450可在样品管470内沿轴向被牵引或拉伸通过UV固化装置，其中工件450关于共定位焦点460基本上轴向地居中。此外，样品管470可关于共定位焦点460轴向地居中，并且可同中心地围绕工件450。样品管470可由玻璃或石英或另一种任选的和/或UV和/或IR透明材料构成，并且尺寸可以不过厚，使得样品管470不阻碍或基本上不干扰从光源410和420照射并且从双椭圆反射器480和490的内表面引导通过样品管到工件450的表面上的光线。样品管470可具有圆形横截面，如图4中所示，或者可具有另一种合适形状的横截面。样品管470还可含有惰性气体如氮气、二氧化碳、氦气等，以便维持工件周围的惰性气氛并且减少氧抑制作用，其可能减慢UV固化反应。
光源410和420可包括半导体装置或半导体装置的阵列，比如LED光源、LED阵列光源、或微波供能的、或卤素弧光源或者其阵列中的一种或多种。此外，基本上定位在焦点482和492处的光源410和420可沿着焦点482和492的轴向长度延伸，以便沿着UV固化装置400的部分椭圆柱体反射器部分的长度延伸。光源410和420、光源的具体阵列或光源的阵列的阵列可沿着或处于沿着UV固化装置400的部分椭圆柱体反射器部分的长度的点进一步包围或延伸超过焦点482和492。以此方式，沿着双椭圆反射器的轴向长度从光源410和420照射的光沿着其整个长度基本上重新被引导到工件450的表面。
此外，光源410和420可发出可见光、UV或IR光中的一种或多种。又进一步地，光源410和420可以是相同或不同类型的光源。例如，光源410可照射UV光并且光源420可照射IR光。做为另一个实例，光源410可照射第一光谱的UV光，而光源420可照射第二光谱的UV光。由光源410和420发出的第一和第二光谱可能重叠或者可能不重叠。例如，如果第一光源420是第一类的LED光源并且第二光源是第二类的LED光源，则它们的发射光谱可能重叠或者可能不重叠。此外，由光源410和光源420照射的光的强度可以是相同的或者它们可以是不同的，并且它们的强度可以经由控制器(例如，14，15)或耦合(例如，22，23)电子器件通过操作者被独立地控制。以此方式，光源410和420的光强度和波长都可以被灵活并且独立地控制，以便实现工件的均匀UV照射和UV固化。例如，如果工件是不规则形状的和/或关于双椭圆反射器的共定位焦点不是对称的，则UV固化装置照射工件的一个部分可与照射另一部分不同，以实现均匀固化。做为另一个实例，如果施加不同的涂层或油墨至工件的表面，则UV固化装置照射工件的一个部分可与照射另一部分不同。
如图2中所示，相比于仅采用一个椭圆反射器和单个光源的常规UV固化装置，在具有双椭圆反射器480和至少两个分别置于椭圆反射器的焦点处的光源410和420的UV固化装置中，置于共定位焦点460处的工件可用UV光更均匀地并且更高强度地照射。以此方式，用双椭圆反射器480和490以及分别置于椭圆反射器的焦点处的两个光源410和420对工件进行UV固化可实现工件更快的固化速率和更均匀的固化。换言之，可在实现更快固化速率的同时实现更均匀的固化。当涂层膨胀或收缩时，不均匀或不平地涂布的工件可潜在地经受不均匀的力。对于光纤的情况，不均匀涂布的光纤可能更易较大的信号衰减。除了实现在工件(例如，光纤)周围具有恒定厚度并且在工件(例如，光纤)的施用长度上连续的同轴涂层之外，实现更均匀固化可包括反应性单体和低聚物的更高的转化百分比以及聚合物系统中更高的交联程度。
在光纤、光缆、条带等的连续或分批制造过程中实现更快的固化速率可潜在地减少制造时间和成本。此外，实现更均匀的固化可潜在地对工件赋予更高的耐久性和强度。在光纤涂层的情况中，增加的涂层均匀性可潜在地保持纤维强度，从而潜在地提高光纤关于防止由于诸如微曲变形、应力腐蚀或光纤中的其它机械损伤的现象造成的信号传输的衰减的耐久性。更高的交联程度也可潜在地提高涂层的耐化学性，防止化学渗透和化学腐蚀或损坏光纤。光纤可由于表面缺陷被严重地劣化。通过常规的UV固化装置，可实现更快的固化速率，但是仅以减小固化均匀性为代价；类似地，可实现更加均匀的固化，但是仅以降低固化速率为代价。
由此，UV固化装置可包括布置为具有共定位焦点的至少两个椭圆柱体反射器以及至少两个UV光源，其中每个光源可定位在至少两个椭圆反射器的每一个的第二焦点处。至少两个椭圆反射器可被配置用于接收UV可固化工件，并且可被布置在工件的相对侧上。至少两个椭圆柱体反射器的椭圆表面可会合并且连接以形成靠近UV固化装置中点的顶部和底部边缘。此外，椭圆表面可沿椭圆柱体反射器的轴向长度延伸，其中椭圆柱体反射器的椭圆表面可从边缘向外延伸至UV固化装置的任一侧，椭圆柱体反射器在此附接至两个或更多个光源的外壳。光源可包括电源、控制器、冷却子系统和发光子系统，所述发光子系统包含耦合电子器件、耦合光学器件和多个半导体装置。外壳可含有光源并且包括用于冷却子系统流体的进口和出口。
冷却子系统可包括用于从UV固化装置散热的循环冷却流体，并且可进一步包括安装在椭圆柱体反射器的外表面上的冷却翅片。此外，双椭圆反射器可包括分色反射器。至少两个UV光源的半导体装置可包括LED阵列，以及微波供能的UV灯，并且可发出具有不同峰值波长的UV光。
现转向图5，其图解了包含图3中上述特征的UV固化装置500的实例发光子系统。UV固化装置500包括耦合光学器件(例如，双椭圆反射器540和550)、两个光源510和520，以及置于耦合光学器件(例如，双椭圆反射器)的共定位焦点处的工件530(例如，光纤)。围绕工件的是柱体同轴样品管560。样品管560可以是例如石英样品管，并且可以用惰性气氛如氮气、二氧化碳、氦气或其它惰性气体吹扫或充填。样品管560还可包括非柱体几何形状或非石英材料，条件是UV光基本上通过样品管而不受样品管的干扰(例如，吸收或反射)，以便基本上将所有UV光引导到工件的表面。样品管560还可含有惰性气体比如氮气、二氧化碳、氦气等，以便维持工件周围的惰性气氛并且减少氧的抑制作用，其可潜在地减慢UV固化反应。
双椭圆反射器的反射性内表面544和554可以以最小的光的吸收或折射反射可见的和/或UV和/或IR光线。可选地，反射性内表面544和554可以是分色的，以便可以反射某一范围的波长的光，而某一范围之外的波长的光可在反射性内表面544和554处被吸收。例如，反射性内表面544和554可被设计为反射UV和可见光线，但可以吸收IR光线。这种反射性内表面可潜在地用于热敏涂层或工件，或者用于稳定工件530的表面处的固化反应的速率和均匀性。另一方面，由于固化反应可以在更高温度下更迅速地进行，反射性内表面544和554可优选地反射UV和IR二者。
各种工艺或方法可用于制造双椭圆反射器540和550，这取决于应用参数比如热负荷、精度、成本等。双椭圆反射器540和550可由金属加工或铸造，或者由形成有高反射涂层或与高反射涂层组合的玻璃、陶瓷和/或塑料加工或成型。此外，双椭圆反射器540和550可包括设计用于UV固化系统的传热冷却的外表面。例如，外表面可以是有棱纹的以增加热传递，并且还可包括附接至双椭圆反射器540和550的外表面的冷却翅片590。还可通过冷却空气或其它惰性流体在双椭圆反射器的一个或多个表面上的对流提供作为冷却子系统18(图5中未示出)的一部分的额外的冷却组件。
光源510和520可以是UV LED阵列光源，其从每个椭圆反射器的第二焦点发出UV光，使得发出的UV光线570通过椭圆反射器被引导到工件的表面上。光源510和520可进一步被放置在第二焦点处或附近，或者可包围或延伸超过第二焦点，以便发出的UV光线570通过椭圆反射器被基本上引导到工件的表面上。在图5中，UV LED阵列光源510和520在工件530和UV固化装置500的轴向上沿着每个椭圆反射器的第二焦点延伸，以便将均匀的高强度UV光沿着包含在UV固化装置500内的工件的整个长度引导至工件的表面上。UV固化过程可以是连续的制造过程，并且工件530(例如，光纤)的整个长度可能不包含在UV固化装置500内。例如，UV固化装置500下游的光纤部分可参与下游加工步骤，比如电缆敷设或护套的共挤出或其它加工步骤。此外，UV固化装置500上游的光纤部分可参与上游加工步骤，比如拉伸和涂布。又进一步地，光纤制造过程可包括UV固化的若干阶段，其中以线性形式布置的UV固化装置500的组被用于限定每个固化阶段。例如，在每个固化阶段之间，可有额外的涂布步骤或其它加工步骤。
光源510和520可包括LED光源、LED阵列光源、微波供能的或卤素弧光源中的一种或多种。另外，光源510和520可发出可见光、UV或IR光中的一种或多种。又进一步地，光源510和520可以是相同或不同类型的光源。例如，光源510可照射UV光并且光源520可照射IR光。做为另一个实例，光源510可照射第一光谱的UV光，而光源520可照射第二光谱的UV光。由光源510和520发出的第一和第二光谱可能重叠或可能不重叠。例如，如果第一光源520是第一类LED光源并且第二光源是第二类LED光源，则它们的发出光谱可能重叠或可能不重叠。此外，由光源510和光源520照射的光的强度可以是相同的或者它们可以是不同的，并且它们的强度可通过操作者独立地控制。以此方式，光源510和520的光强度和波长都可以被灵活并且独立地控制，以便实现工件的均匀UV照射和UV固化。例如，如果工件是不规则形状的和/或关于双椭圆反射器的共定位焦点不是对称的，则UV固化装置照射工件的一个部分可与照射另一部分不同，以实现均匀固化。作为另一个实例，如果施加不同的涂层或油墨至工件的表面，则UV固化装置照射工件的一个部分可与照射另一部分不同，以实现均匀固化。
以此方式，其中两个光源和双椭圆反射器被布置在工件的相对侧上，双椭圆反射器可将从两个光源照射的光以大致均匀的方式并且高强度地引导到工件表面上。以大致均匀的方式照射工件可包括用相同的辐照度(例如，每单位面积的功率)照射UV固化装置内所含的所有工件表面。此外，由于两个光源和双椭圆反射器被布置在工件的相对侧上，工件的表面被置于相对于两个光源中的至少一个的近场或中场。由此，远场表面可基本上消除，并且可潜在地避免使用背面反射器或除双椭圆反射器的内表面之外的反射性表面将光聚焦到工件的远场表面上，从而简化UV固化系统的设计并且降低成本。UV固化装置500还可包括图5中未示出的其它部件，比如电源。此外，光源510和520可经由光源的外壳512和522被附接至椭圆反射器540和550。例如，光源510和520的外壳512和522可经由面板机械地固定至椭圆反射器540和550，例如如图7中所示的。
因此，用于UV固化的光反应性系统可包括电源；冷却子系统；发光子系统，其包括包含具有共定位焦点的至少两个椭圆柱体反射器并且布置在工件的相对侧上的耦合光学器件，以及两个UV LED阵列光源，其中每个UV LED阵列光源基本上定位在每个双椭圆反射器的第二焦点处；以及控制器。控制器可包括可执行以从两个UV光源照射UV光的指令，其中每个UV光源定位在椭圆柱体反射器的焦点处，并且其中照射的UV光通过椭圆柱体反射器被反射并且聚焦到光纤的表面上。
耦合光学器件可进一步包括围绕工件并且关于共定位焦点轴向地居中的石英管，其中石英管用惰性气体吹扫以便减轻UV固化反应的氧化抑制作用。又进一步地，冷却子系统可包括附接至椭圆柱体反射器的外表面的冷却翅片。
现转向图6，其图解了固化工件诸如光纤、光纤涂层或另一类工件的方法600。方法600开始于步骤610，其可包括首先在光纤拉伸步骤中将光纤从预制件进行拉伸。方法600随后在步骤620继续，其中使用预定的涂布方法将纤维涂布有UV可固化涂层或聚合物系统。
接下来，方法600进行到步骤630，其中可UV固化涂布的光纤。在UV固化步骤630期间，可牵引光纤通过一个或串联线性布置的多个UV固化装置500的样品管，在此期间UV光从UV固化装置的LED阵列光源510和520照射并且通过双椭圆反射器540和550被引导到共定位焦点处的光纤的表面上。可牵引光纤的线性速度可以是非常快的，并且例如可超过20m/s。串联地布置多个UV固化装置可由此允许涂布长度的光纤接收足够长的UV暴露停留时间，以便基本完成光纤涂层的固化。光纤涂层的完全UV固化可给予物理和化学性质，比如强度、耐久性、耐化学性、疲劳强度等。不完全或不充分的固化可降低产品性能质量以及其它性质，其可潜在地引起光纤的过早失效和性能损失。在一些实例中，通过考虑光纤或工件的制造速率或拉伸或线性速度确定UV固化阶段的有效长度(例如，串联布置的UV固化装置500的数量)。因此，如果光纤线性速度较慢，则UV固化系统阶段的长度或数量可少于其中光纤线性速度较快的情况。
接下来，方法600在步骤640继续，其中确定是否需要额外的涂布阶段。在一些实例中，双层或多层涂层可被施加至工件例如光纤的表面。如上面讨论的，光纤可被制造为包括两个保护性同轴涂层。例如，还可使用双层涂层，其中工件可涂布有内层，其当通过微曲而固化用于最小化衰减时可具有柔软和似橡胶的品质；以及外层，其可以是更硬的并且适合于保护工件(例如光纤)不被磨损和暴露于环境(例如，水分、UV)。内层和外层可包括含有引发剂、单体、低聚物和其它添加剂的聚合物系统。如果要进行额外的涂布步骤，则方法600返回至步骤620，其中光纤或其它工件(现涂布有UV固化的第一层)经由额外的涂布步骤620进行涂布，然后是额外的UV固化步骤630。在图6中，出于简单的说明性目的，每个涂布步骤显示为光纤涂布步骤620，然而，每个涂布步骤可以不是相同的，以便每个涂布步骤可对工件施用不同类型的涂层、不同的涂层组合物、不同的涂层厚度并且赋予不同的涂层性质。另外，涂布加工步骤620可使用不同的加工条件(例如，温度、涂层粘度、涂布方法)。类似地，不同涂层的UV固化或步骤可包括可变的方法或加工条件。例如，在不同的UV固化步骤中，加工条件如UV光强度、UV曝光时间、UV光波长光谱、UV光源等可取决于涂层类型和/或涂层性质而改变。
在一个或多个涂布和固化步骤620和630之后，方法600在步骤650处继续。在步骤650处，UV可固化的油墨或漆可被印刷在涂布的光纤上，例如用于着色或识别目的。印刷可使用预定的印刷方法实施，并且可包括一个或更多个印刷阶段或步骤。之后，方法600在步骤660处继续，其中印刷的油墨或漆被UV固化。与一个或多个光纤涂层的UV固化步骤类似，通过将光纤牵引通过一个或串联线性布置的多个UV固化装置500的样品管UV固化印刷的油墨或漆，在此期间UV光从UV固化装置500的LED阵列光源510和520照射并且通过双椭圆反射器540和550被引导到共定位焦点处的光纤的表面上。可牵引光纤的线性速度可以是非常快的，并且例如可超过20m/s。串联地布置多个UV固化装置由此可允许沿光纤长度印刷的油墨或漆以接收足够长的UV暴露停留时间以便基本完成印刷的油墨或漆的固化。在一些实例中，通过考虑光纤或工件的制造速率或拉伸或线性速度确定UV固化阶段的有效长度(例如，串联布置的UV固化装置500的数量)。因此，如果光纤线性速度较慢，则UV固化系统阶段的长度或数量可少于其中光纤线性速度较快的情况。具体而言，使用包括具有共定位焦点的双椭圆反射器以及双光源510和520的UV固化装置500可潜在地提供更高强度以及更均匀的UV光，其被照射和引导到工件的表面上，从而提供工件更快并且更均匀的固化。以此方式，光纤涂层和/或油墨可以以更高的生产速率被UV固化，从而降低制造成本。
随后，方法600在步骤670处继续，在此确定是否需要额外的印刷阶段。例如，可能期望印刷第一层的油墨或漆用于识别目的，并且随后印刷第二层的油墨或漆以保护第一个印刷的层。如果需要额外的印刷阶段，则方法600返回步骤640，以便印刷和UV固化额外印刷的油墨和/或漆。
在图6中，出于简单的说明性目的，每个印刷步骤显示为光纤印刷步骤650，然而，每个印刷步骤可能不是相同的，以便每个印刷步骤可对工件施用不同类型的油墨或漆、不同的油墨或漆组合物、不同的油墨或漆厚度并且赋予不同的油墨或漆性质。另外，印刷加工步骤620可使用不同的加工条件(例如，温度、涂层粘度、涂布方法)。类似地，不同印刷的层的UV固化或步骤可包括可变的方法或加工条件。例如，在不同的UV固化步骤中，加工条件比如UV光强度、UV曝光时间、UV光波长光谱、UV光源等可取决于涂层的类型和/或涂层性质而改变。
如果没有额外的印刷阶段，则方法600在步骤680处继续，在此进行任何UV固化后加工步骤。作为实例，UV固化后加工步骤可包括光缆或条带构造，其中多个涂布的并且印刷的以及UV固化的光纤结合为平坦的带，或者由多个纤维或条带组成的更大直径光缆。其它UV固化后加工步骤可包括光缆和条带的外包层或护套的共挤出。
以此方式，UV固化工件的方法可包括将工件沿至少两个椭圆柱体反射器的共定位焦点拉伸，并且从布置在工件相对侧上的至少两个UV光源照射UV光，其中每个UV光源定位在椭圆柱体反射器的第二焦点处，并且其中照射的UV光被椭圆柱体反射器反射并且聚焦到工件的表面上。将工件沿共定位焦点拉伸可包括将具有UV可固化涂层、聚合物或油墨中的至少一种的光纤、条带或光缆中的至少一种拉伸经过共定位焦点。此外，照射的UV光可以从LED阵列或微波供能的UV灯照射，并且可通过椭圆柱体分色反射器反射。又进一步地，两个UV光源可发出具有不同峰值波长的UV光。
冷却翅片可安装在至少两个椭圆柱体反射器的外表面上以散热。此外，石英管可在共定位焦点周围轴向地居中，从而围绕工件，并且石英管用惰性气体吹扫以减轻UV固化反应的氧化抑制作用。
现转向图7，其图解了UV固化系统700的实例的平面图。出于说明性目的，UV固化系统700被示出为包括单个椭圆柱体反射器760，但也可包括两个或更多个椭圆柱体反射器，如图5的UV固化装置500中所示例的。光源710可包括外壳716，以及进口和出口管接头714，通过其冷却流体可循环。光源710可包括基本上沿椭圆柱体反射器的第一焦点放置的UVLED的一个或多个阵列。UV固化系统700可进一步包括安装支架718，通过其外壳716可被附接至反射器组件基板720。UV固化系统700还可包括样品管730和工件(未显示)，例如光纤，其在样品管730内被牵引或拉伸，并且基本上绕样品管730的中心纵轴放置。样品管730的纵轴可基本上沿椭圆柱体反射器的第二焦点放置，其中源自光源710的UV光可通过椭圆柱体反射器760被基本上引导经过样品管至工件的表面。样品管730可由石英、玻璃或其它材料构成，并且可具有柱体或其它几何形状，其中被引导到样品管730的外表面上的UV光可经过样品管730而基本上没有折射、反射或吸收。
反射器组件基板720可被连接至反射器组件面板724，其可被机械固定至椭圆柱体反射器760的任一端。样品管730还可被机械固定至反射器组件面板724。以此方式，安装支架718、反射器组件面板724和反射器组件基板720可用于帮助校准光源710、椭圆柱体反射器760和样品管730，其中源自光源710的光基本上绕椭圆柱体反射器760的第一焦点放置，其中样品管基本上绕椭圆柱体反射器760的第二焦点放置，并且其中源自光源710的UV光可通过椭圆柱体反射器760基本上被引导经过样品管730至工件的表面。反射器组件面板724还可包括校准机构728，其中在反射器组件面板724、反射器组件基板720、椭圆柱体反射器760和样品管730已经组装在一起之后可调节样品管730的对齐和/或位置。反射器组件基板720还可沿着一侧被连接至反射器组件安装板740。反射器组件安装板740可进一步设置有一个或多个安装槽744以及一个或多个安装孔748，通过其可安装UV固化系统700。
UV固化系统700还可包括进一步的连接口722和750用于其它目的，比如用于连接电路电路、安装传感器等。
将明白本文公开的构型本质是示例性的，并且不认为这些具体实施方式为限制的意义，因为很多变型是可能的。例如，上面的实施方式可适用于不同于光纤、光缆和条带的工件。此外，上述的UV固化装置和系统可与现有的制造设备结合，并且不针对特定光源设计。如上所述的，可使用任何合适的光引擎，比如微波供能的灯、LED、LED阵列以及汞弧灯。本公开内容的主题包括本文公开的各种构型以及其它特征、功能和/或性质的所有新的并且不明显的组合和亚组。
注意，本文所述的实例工艺流程可与各种UV固化装置和UV固化系统构型一起使用。本文所述的工艺流程可代表任意数量的加工策略中的一个或多个，比如连续的、分批的、半分批的和半连续的加工等。由此，所图解的各种活动、操作或功能可以以所图解的顺序、平行地执行，或者在一些情况中被省略。同样地，不必要求加工的顺序来实现本文所述的实例实施方式的特征和优势，而是为了方便说明和描述而被提供。所图解的行动或功能的一个或多个可被重复进行，取决于所用的具体策略。将明白本文公开的构型和历程本质上是示例性的，并且不认为这些具体实施方式以限制的意义，因为很多变型是可能的。本公开内容的主题包括本文公开的各种系统和构型以及其它特征、功能和/或性质的所有新的并且不明显的组合和亚组。
权利要求书具体指出被认为是新的并且不明显的某些组合和亚组。这些权利要求可以指“一个(an)”元件或“第一个(first)”元件或其等价物。这种权利要求被理解为包括并入一个或多个这种元件，既不需要也不排除两个或更多个这种元件。通过本权利要求书的修改或通过在本申请或相关申请中的新权利要求的陈述，可要求公开的特征、功能、元件和/或性质的其它组合和亚组。这些权利要求，无论对于原始权利要求的范围是较宽的、较窄的、相等的还是不同的，也被认为包含在本公开的主题内。

Claims (20)

1.UV固化装置，其包括：
至少两个椭圆柱体反射器，其重叠并且被连接以形成至少两个部分椭圆表面的联合，每个椭圆柱体反射器具有第一焦点和第二焦点，所述椭圆柱体反射器的所述第一焦点被共定位，所述至少两个椭圆柱体反射器的所述椭圆表面会合并被连接以形成靠近所述UV固化装置的中点的交叉的顶部边缘和底部边缘；以及
至少两个UV光源，其包括定位在所述第二焦点中的每一个处的UV光源，
其中从所述至少两个椭圆柱体反射器的内表面反射的光聚焦在共定位的第一焦点处，并且从所述至少两个UV光源照射的UV光的光强度被独立地控制。
2.权利要求1所述的UV固化装置，其中所述至少两个椭圆柱体反射器被配置以接收工件，并且所述至少两个椭圆柱体反射器被布置在所述工件的相对侧上。
3.权利要求1所述的UV固化装置，其中：
所述至少两个椭圆柱体反射器的所述椭圆表面沿着所述椭圆柱体反射器的轴向长度延伸，所述椭圆表面从所述顶部边缘和所述底部边缘向外延伸至所述UV固化装置的任一侧，在此所述椭圆柱体反射器附接至所述至少两个光源的外壳；
所述光源包括电源、控制器、冷却子系统和发光子系统，所述发光子系统包括耦合电子器件、耦合光学器件和多个半导体装置；并且
所述外壳含有所述光源并且包括用于冷却子系统流体的入口和出口。
4.权利要求3所述的UV固化装置，其中所述冷却子系统包括用于从所述UV固化装置散热的循环冷却流体。
5.权利要求3所述的UV固化装置，其中所述至少两个椭圆柱体反射器是分色反射器。
6.权利要求3所述的UV固化装置，其中所述至少两个UV光源的所述多个半导体装置包括LED阵列。
7.权利要求3所述的UV固化装置，其中所述至少两个UV光源包括微波供能的UV灯。
8.权利要求3所述的UV固化装置，其中所述至少两个UV光源发出具有不同峰值波长的UV光。
9.权利要求4所述的UV固化装置，其中所述冷却子系统进一步包括安装在所述椭圆柱体反射器的外表面上的冷却翅片。
10.UV固化工件的方法，其包括：
沿着至少两个椭圆柱体反射器的共定位焦点拉伸所述工件，所述至少两个椭圆柱体反射器重叠并且被连接以形成至少两个部分椭圆表面的联合，每个椭圆柱体反射器具有第一焦点和第二焦点，所述椭圆柱体反射器的所述第一焦点被共定位；
从布置在所述工件的相对侧上的至少两个UV光源照射UV光，所述至少两个UV光源包括定位在所述第二焦点中的每一个处的UV光源，并且其中所照射的UV光通过所述椭圆柱体反射器被反射并且沿着共定位的第一焦点聚焦在所述工件的表面上，所述至少两个UV光源发出具有不同峰值波长的UV光。
11.权利要求10所述的方法，其中沿着所述共定位的第一焦点拉伸所述工件包括拉伸具有UV可固化涂层、聚合物或油墨中的至少一种的光纤、条带或光缆中的至少一个经过所述共定位的第一焦点。
12.权利要求10所述的方法，其中所照射的UV光通过椭圆柱体分色反射器进行反射。
13.权利要求10所述的方法，其中所述UV光从LED阵列照射。
14.权利要求10所述的方法，其中所述UV光从微波供能的UV灯照射。
15.权利要求10所述的方法，进一步包括基于所述工件的形状独立地控制来自所述至少两个UV光源的光强度。
16.权利要求10所述的方法，其中经由外部翅片从所述椭圆柱体反射器的外表面散热。
17.权利要求10所述的方法，其中石英管在所述共定位的第一焦点周围轴向地居中并且围绕所述工件，其中所述石英管用惰性气体吹扫，并且其中所述至少两个椭圆柱体反射器的所述椭圆表面会合并且被连结以形成交叉的顶部边缘和底部边缘。
18.用于UV固化的光反应性系统，其包括：
电源；
冷却子系统；
发光子系统，其包括：
耦合光学器件，其包括至少两个椭圆柱体反射器，所述至少两个椭圆柱体反射器重叠并且被连接以形成至少两个部分椭圆表面的联合，每个椭圆柱体反射器具有第一焦点和第二焦点，所述椭圆柱体反射器的所述第一焦点被共定位，所述椭圆柱体反射器被布置在工件的相对侧上；和
至少两个UV LED阵列光源，其包括基本上定位在所述第二焦点中的每一个处的UV LED阵列光源；和
控制器，其包括可执行以独立地控制从所述至少两个UV LED阵列光源照射的UV光的光强度的指令，其中照射的UV光通过所述椭圆柱体反射器进行反射并且沿着共定位的第一焦点聚焦在所述工件的表面上。
19.权利要求18所述的光反应性系统，其中所述耦合光学器件进一步包括围绕所述工件并且关于所述共定位的第一焦点轴向地居中的石英管，其中所述石英管用惰性气体吹扫，并且其中所述至少两个椭圆柱体反射器的所述椭圆表面会合并且被连结以靠近所述发光子系统的中点形成交叉的顶部边缘和底部边缘。
20.权利要求19所述的光反应性系统，其中所述冷却子系统包括附接到所述椭圆柱体反射器的外表面的冷却翅片。
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010077132A1 (en) 2008-12-31 2010-07-08 Draka Comteq B.V. Uvled apparatus for curing glass-fiber coatings
EP2388239B1 (en) 2010-05-20 2017-02-15 Draka Comteq B.V. Curing apparatus employing angled UV-LEDs
US8871311B2 (en) 2010-06-03 2014-10-28 Draka Comteq, B.V. Curing method employing UV sources that emit differing ranges of UV radiation
DK2418183T3 (en) 2010-08-10 2018-11-12 Draka Comteq Bv Method of curing coated glass fibers which provides increased UVLED intensity
US9442007B2 (en) * 2013-05-06 2016-09-13 Phoseon Technology, Inc. Method and system for monitoring ultraviolet light for a fiber cure system
US9442008B2 (en) * 2013-05-06 2016-09-13 Phoseon Technology, Inc. Method and system for determining curing tube clarity
US9370046B2 (en) * 2013-07-23 2016-06-14 Phoseon Technology, Inc. Compound elliptical reflector for curing optical fibers
US9648705B2 (en) 2015-01-15 2017-05-09 Heraeus Noblelight America Llc Intelligent lamp head assemblies, light sources including intelligent lamp head assemblies, and methods of operating the same
US9644831B2 (en) 2015-01-15 2017-05-09 Heraeus Noblelight America Llc Intelligent manifold assemblies for a light source, light sources including intelligent manifold assemblies, and methods of operating the same
US9664371B2 (en) 2015-01-15 2017-05-30 Heraeus Noblelight America Llc Lamp head assemblies and methods of assembling the same
US10520251B2 (en) 2015-01-15 2019-12-31 Heraeus Noblelight America Llc UV light curing systems, and methods of designing and operating the same
US10217919B2 (en) * 2015-07-08 2019-02-26 Air Motion Systems, Inc. LED module
US10180248B2 (en) 2015-09-02 2019-01-15 ProPhotonix Limited LED lamp with sensing capabilities
JP6878762B2 (ja) * 2015-12-18 2021-06-02 ウシオ電機株式会社 光照射装置及び光照射方法
CN108367976B (zh) 2015-12-18 2021-05-04 优志旺电机株式会社 光照射装置及光照射方法
DE102016100144A1 (de) 2016-01-05 2017-07-06 J-Fiber Gmbh Vorrichtung zum Beschichten einer Faser sowie Verfahren zum Beschichten einer Faser und Faser
JP6379118B2 (ja) 2016-01-10 2018-08-22 Ｈｏｙａ Ｃａｎｄｅｏ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ株式会社 光照射装置
CN105835524B (zh) * 2016-05-03 2018-09-11 东莞市雄骏电控设备有限公司 一种光源滚压投射装置
CN106838827A (zh) * 2017-01-18 2017-06-13 深圳市润沃自动化工程有限公司 一种远距离投射的线光源件固化机
JP6660317B2 (ja) * 2017-01-31 2020-03-11 Ｈｏｙａ Ｃａｎｄｅｏ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ株式会社 光照射装置
JP6984187B2 (ja) * 2017-06-12 2021-12-17 ウシオ電機株式会社 光照射装置、光照射方法
JP6815942B2 (ja) * 2017-06-16 2021-01-20 ウシオ電機株式会社 光照射装置、光照射方法
CN108040373B (zh) * 2017-12-11 2021-03-09 东莞市庆丰电工机械有限公司 光波辐射加热箱
CN108609868B (zh) * 2018-07-17 2024-04-30 四川乐飞光电科技有限公司 新型光纤着色固化炉
US20200062643A1 (en) * 2018-08-24 2020-02-27 Corning Incorporated Methods and apparatuses for curing optical fiber coatings
US10895649B2 (en) 2018-09-20 2021-01-19 Phoseon Technology, Inc. Methods and system for thermo-optic power monitoring
CN109548222B (zh) * 2019-01-17 2024-04-12 西南石油大学 一种加热装置及用于制备长线材超导体的综合热处理系统
EP4055429A4 (en) * 2019-11-05 2023-08-16 OFS Fitel, LLC ROLLABLE OPTICAL FIBER TAPE WITH LOW ATTENUATION

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5237917A (en) * 1992-03-31 1993-08-24 At Information Products, Inc. Wire marking system and a method of marking an insulated wire
CN1272808A (zh) * 1998-06-19 2000-11-08 住友电气工业株式会社 固化紫外线固化树脂的方法和设备
WO2001034306A1 (en) * 1999-11-05 2001-05-17 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus for uv curing a coating on a filament or the like and method of manufacturing
US6345149B1 (en) * 1999-10-27 2002-02-05 Fusion Uv Systems, Inc. UV oven for curing magnet wire coatings

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3984726A (en) * 1975-04-25 1976-10-05 Ppg Industries, Inc. Ultraviolet light system having means for maintaining constant intensity light profile
US4411972A (en) 1981-12-30 1983-10-25 International Business Machines Corporation Integrated circuit photomask
JPH06104217B2 (ja) * 1984-08-31 1994-12-21 住友電気工業株式会社 紫外線照射装置
US4636405A (en) * 1985-12-24 1987-01-13 Corning Glass Works Curing apparatus for coated fiber
JP2571256Y2 (ja) * 1991-12-16 1998-05-18 ウシオ電機株式会社 紫外線発光ランプによる処理装置
US5420768A (en) 1993-09-13 1995-05-30 Kennedy; John Portable led photocuring device
JPH07104217A (ja) 1993-10-06 1995-04-21 Sumitomo Electric Ind Ltd 光学装置
CA2129397C (en) 1993-12-21 2005-03-22 Mujibar M. Rahman Process for manufacturing optical fiber ribbons
DE19619155C2 (de) 1995-12-22 1998-11-12 Heraeus Kulzer Gmbh Bestrahlungsgerät zur Aushärtung von Kunststoffen, sowie Verfahren und Verwendungen
US5857767A (en) 1996-09-23 1999-01-12 Relume Corporation Thermal management system for L.E.D. arrays
DE19721311C1 (de) 1997-05-21 1998-12-03 Eka Ges Fuer Medizinisch Tech Bestrahlungsgerät zur Polymerisation von lichthärtenden Kunststoffen
US6200134B1 (en) 1998-01-20 2001-03-13 Kerr Corporation Apparatus and method for curing materials with radiation
EP1031326A1 (fr) 1999-02-05 2000-08-30 Jean-Michel Decaudin Dispositif permettant la photo-activation de matériaux composites photosensibles utilisés notamment dans le domaine dentaire
JP2000349348A (ja) 1999-03-31 2000-12-15 Toyoda Gosei Co Ltd 短波長ｌｅｄランプユニット
IE20000263A1 (en) 1999-04-07 2000-11-15 Mv Res Ltd A system and method for the inspection of dielectric materials
US6439888B1 (en) 1999-05-03 2002-08-27 Pls Liquidating Llc Optical source and method
KR100334779B1 (ko) * 1999-08-25 2002-05-02 윤종용 광섬유 다중 인출 설비
US7320593B2 (en) 2000-03-08 2008-01-22 Tir Systems Ltd. Light emitting diode light source for curing dental composites
EP1158761A1 (en) 2000-05-26 2001-11-28 GRETAG IMAGING Trading AG Photographic image acquisition device using led chips
GB2365430B (en) 2000-06-08 2002-08-28 Ciba Sc Holding Ag Acylphosphine photoinitiators and intermediates
US6626561B2 (en) 2000-06-22 2003-09-30 Fusion Uv Systems, Inc. Lamp structure, having elliptical reflectors, for uniformly irradiating surfaces of optical fiber and method of use thereof
AU2001281074A1 (en) 2000-08-04 2002-02-18 Kerr Corporation Apparatus and method for curing materials with light radiation
DE10038213A1 (de) 2000-08-04 2002-03-07 Osram Opto Semiconductors Gmbh Strahlungsquelle und Verfahren zur Herstellung einer Linsensform
US6457823B1 (en) 2001-04-13 2002-10-01 Vutek Inc. Apparatus and method for setting radiation-curable ink
US6755647B2 (en) 2001-04-26 2004-06-29 New Photonics, Llc Photocuring device with axial array of light emitting diodes and method of curing
KR20030013752A (ko) 2001-08-09 2003-02-15 박재모 자외선 수처리기
US20030043582A1 (en) 2001-08-29 2003-03-06 Ball Semiconductor, Inc. Delivery mechanism for a laser diode array
US6586761B2 (en) 2001-09-07 2003-07-01 Intel Corporation Phase change material memory device
US6707048B2 (en) * 2001-10-11 2004-03-16 Uv Pure Technologies Inc. Method and apparatus for treating aqueous liquids
JP2003131090A (ja) * 2001-10-22 2003-05-08 Hitachi Cable Ltd 光ファイバの被覆方法及び被覆装置
US6561640B1 (en) 2001-10-31 2003-05-13 Xerox Corporation Systems and methods of printing with ultraviolet photosensitive resin-containing materials using light emitting devices
US6614028B1 (en) 2002-07-30 2003-09-02 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus for and method of treating a fluid
US20050115498A1 (en) * 2003-09-23 2005-06-02 Ingram Michael W. Reflector for UV curing systems
US7923706B2 (en) 2008-10-03 2011-04-12 Nordson Corporation Ultraviolet curing apparatus for continuous material
WO2010098848A2 (en) * 2009-02-25 2010-09-02 Air Motion Systems, Inc. An efficient irradiation system using curved reflective surfaces
US8251526B2 (en) * 2009-07-01 2012-08-28 Fusion Uv Systems, Inc Spread reflector for a lamp structure
CN102792464B (zh) * 2009-12-23 2015-08-26 熔合Uv系统公司 用于紧凑的uv固化灯组件的uv led基灯
JP5574153B2 (ja) * 2010-01-15 2014-08-20 川崎化成工業株式会社 光カチオン重合性組成物
JP2011147909A (ja) * 2010-01-25 2011-08-04 Harison Toshiba Lighting Corp 紫外線照射装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5237917A (en) * 1992-03-31 1993-08-24 At Information Products, Inc. Wire marking system and a method of marking an insulated wire
CN1272808A (zh) * 1998-06-19 2000-11-08 住友电气工业株式会社 固化紫外线固化树脂的方法和设备
US6345149B1 (en) * 1999-10-27 2002-02-05 Fusion Uv Systems, Inc. UV oven for curing magnet wire coatings
WO2001034306A1 (en) * 1999-11-05 2001-05-17 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus for uv curing a coating on a filament or the like and method of manufacturing

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