CN103790935A - 基于磨削凹槽的四点接触球转盘轴承 - Google Patents

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CN103790935A CN201210429626.5A CN201210429626A CN103790935A CN 103790935 A CN103790935 A CN 103790935A CN 201210429626 A CN201210429626 A CN 201210429626A CN 103790935 A CN103790935 A CN 103790935A
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李永涛
赵勇
徐敦清
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Abstract

本发明公开了一种基于磨削凹槽的四点接触球转盘轴承，包括第二密封圈58，第一密封圈68、塞子79、锥销19、隔离块06、钢珠滚子04、内圈02、外圈01。钢珠滚子04位于内圈02的外柱面和环形塞子79的内柱面之间，所述内圈02的外柱面和环形塞子79的内柱面分别开设有用于接触滚子04的V形槽，所述V形槽的V字底处开设矩形槽66。本发明在轴承的外滚道和内滚道的底部增加了一个凹槽，使两面的滚道彻底隔开，这样轴承在磨削的时候，可以同时磨削两面滚道，大大的节约了资源和时候。而且不用担心滚道磨损伤，保证了轴承的完成质量和工时。因为有个凹槽，减轻了轴承的重量，轴承在装机的时候更容易，而且不影响轴承的使用。

Description

基于磨削凹槽的四点接触球转盘轴承
技术领域
本发明涉及轴承技术领域。
背景技术
四点接触球转盘轴承的滚道因为是桃形，所以在磨削滚道的时候需要分两次磨削，这样很浪费资源和时间，也增加了轴承的成本。而且在磨削的时候，因为砂轮两面的形状不一样，砂轮很容易就触碰到另一面的滚道，导致滚道受到磨损的伤害，甚至导致轴承报废。这样浪费工时，浪费成本。
如图1所示，四点接触转盘轴承包括第二密封圈58，第一密封圈68、塞子79、锥销19、隔离块06、钢珠04、内圈02、外圈01。
发明内容
本发明旨在提供一种易加工的四点接触转盘轴承。
为了达到上述目的，本发明提供一种基于磨削凹槽的四点接触球转盘轴承，包括第二密封圈58，第一密封圈68、塞子79、锥销19、隔离块06、钢珠滚子04、内圈02、外圈01，其特征在于，钢珠滚子04位于内圈02的外柱面和环形塞子79的内柱面之间，所述内圈02的外柱面和环形塞子79的内柱面分别开设有用于接触滚子04的V形槽，所述V形槽的V字底处开设矩形槽66。
本发明在轴承的外滚道和内滚道的底部增加了一个凹槽，使两面的滚道彻底隔开，这样轴承在磨削的时候，可以同时磨削两面滚道，大大的节约了资源和时候。而且不用担心滚道磨损伤，保证了轴承的完成质量和工时。因为有个凹槽，减轻了轴承的重量，轴承在装机的时候更容易，而且不影响轴承的使用。
附图说明
图1是现有技术四点接触转盘轴承的结构示意图；
图2是图1中A处放大结构示意图。
图3是本发明四点接触转盘轴承的结构示意图；
图4是图3中A处放大结构示意图。
具体实施方式
如图3所示，四点接触转盘轴承包括第二密封圈58，第一密封圈68、塞子79、锥销19、隔离块06、钢珠04、内圈02、外圈01。本发明改进在于，如图4，对比图3所示，钢珠滚子04位于内圈02的外柱面和环形塞子79的内柱面之间，内圈02的外柱面和环形塞子79的内柱面分别开设有用于接触滚子04的V形槽，V形槽的V字底处开设矩形槽66。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明披露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (1)

1.一种基于磨削凹槽的四点接触球转盘轴承，包括第二密封圈58，第一密封圈68、塞子79、锥销19、隔离块06、钢珠滚子04、内圈02、外圈01，其特征在于，
钢珠滚子04位于内圈02的外柱面和环形塞子79的内柱面之间，所述内圈02的外柱面和环形塞子79的内柱面分别开设有用于接触滚子04的V形槽，所述V形槽的V字底处开设矩形槽66。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105114465A (zh) * 2015-09-29 2015-12-02 洛阳轴研科技股份有限公司 一种便于拆卸的四点接触球转盘轴承
CN111347178A (zh) * 2020-05-13 2020-06-30 常州奥旋重型轴承有限公司 一种用于激光切割设备上带底板的整体式轴承

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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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