CN103773263A - 传导薄层缓冲片材及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及传导薄层缓冲片材及其制备方法。本发明涉及一种传导薄层缓冲片材,包括:垂直载流薄层缓冲垫;聚酯网丝或聚酯织物;以及无机黑色传导压力敏感胶带。本发明的传导薄层缓冲片材具有良好表面条件、均匀电导率、高电磁屏蔽效能、优良电磁干扰(EMI)和静电放电功能、冲击吸收功能、抗振动特性、装配粘合性、光屏蔽特性、缓冲特性和与物体粘合性,以及高体积导电性能。

Description

传导薄层缓冲片材及其制备方法
技术领域
本发明涉及具有优良冲击吸收和电磁屏蔽功能的传导薄层缓冲片材(cushion sheet),以及其制备方法,更具体地,涉及具有良好表面条件、均匀电导率、高电磁屏蔽效能、优良电磁干扰(EMI)和静电放电(ESD)功能、冲击吸收功能、抗振动特性、装配接触特性、光屏蔽特性、缓冲特性,和与物体的粘合性,以及高体积导电性能的传导薄层缓冲片材,以及其制备方法。
背景技术
趋向更小和更轻的PC、便携式电话或数字装置的迅速和广泛传播,导致到处存在大量电磁波,例如工作场所和家里,这增加了伴随电子工业发展的危险电磁干扰(EMI)。
各处发现了此类电磁干扰(EMI),从而引起各种问题,例如计算机的故障,或者由于起火引起工厂全部毁灭。此外,显示电磁波不利地影响人体的研究发现持续呈现,并且导致增加了对健康的关注和担忧。然而,许多发达国家努力严厉关于电磁干扰的限制,并且提供了解决电磁干扰问题的措施。因此,用于各种电力和电子产品的电磁屏蔽技术已经作为电子工业内的关键技术涌现。
金属是最广泛用于电磁屏蔽的材料,然而其存在关于价格高和重量重的缺点。由于其优良的比强度、比刚度、弯曲特性以及重量轻,纤维增强的复合材料被广泛用作电子装置的外壳材料,然而基于聚合物的复合材料作为电绝缘体,具有很小的电磁屏蔽作用。
韩国专利已公开的公告号1997-0019202公开了用于便携式电话的电磁屏蔽罩,其呈电磁屏蔽纺织织物制成的小网的形式,其中电磁屏蔽罩包括天然或人造皮革制成的外壳和内壳。在这点上,电磁屏蔽纺织织物是通过在聚酯、丙烯酸类或尼龙制成的正常纺织织物进行蚀刻,将使用络盐的催化剂添加到蚀刻工艺形成的细孔中,进行非电解Co和Ni镀,从而通过自我催化沉积金属,然后通过涂覆在镀有镍的侧涂以(apply)树脂。
韩国专利号0874302公开了具有基底薄膜和固化传导粘合层“I”的电磁屏蔽粘合薄膜。其中除了具有羧基基团的二醇化合物和有机二异氰酸酯“c”反应之外,固化传导粘合层“I”是通过具有羧基基团的二醇化合物与数均分子量为500至8,000的多元醇“b”反应制备的;并且电磁屏蔽粘合薄膜包含聚氨酯多尿树脂A和环氧树脂B以及传导填充剂,其中聚氨酯多尿树脂A是通过具有异氰酸酯末端基团的聚氨酯预聚物“d”与聚氨基化合物“e”反应制备的,环氧树脂B具有至少两个环氧基团。
韩国专利号1145009描述了用于保护平板显示面板的缓冲元件,其包括具有下部缓冲元件和上部缓冲元件,下部缓冲元件具有底部部分和两侧部分,其中底部部分具有用于插入多个平板显示面板的多个内部形成的凹液,以及在凹液之间形成从而引导平板显示面板插入并且支撑平板显示面板的凸纹(rib),其中两侧部分具有与底部部分大致相同的内部形状,并且从底部部分的两个末端向上延伸预定的长度;上部缓冲元件具有顶部部分和两侧部分,其中顶部部分与下部缓冲元件的底部部分对称,并且两侧下部缓冲元件部分与下部缓冲元件的两侧部分对称,其中上部缓冲元件与下部缓冲元件具有有大致相同的内部形状。
韩国专利已公开的公告号2008-0023641公开了钝化压力敏感粘合薄膜,其包括设置在具有硬涂覆层的薄膜基底支撑的硬涂覆薄膜上的压力敏感粘合层,其中薄膜基底的弹性模数为3至GPa,厚度为38至100μm;硬涂覆层的厚度为5至25μm;应涂覆薄膜的硬涂覆层表面的铅笔硬度为3H或更高;并且压力敏感粘合层的厚度为5至20μm,其导致总厚度为60至150μm,根据1Hz的动态粘弹谱在80℃下储存弹性模数为1.0×105Pa或更大。
因为传统电磁屏蔽缓冲材料如果仅仅设置有聚氨酯(urethane)泡沫,容易断裂或拉长,所以PET薄膜联接到聚氨酯泡沫上作为支撑层,用于将缓冲材料固定在镀覆工具上进行湿镀。直接镀覆方法对于粘合性和传导层并非良好的。因此,通常在真空下溅射或沉积之后进行镀覆(plating),从而形成传导层。
然而在将海绵弹性层层压在PET薄膜上时,该方法经常会导致产生不合格产品,结果镀覆工艺之后产品的不合格率相当高。进一步,在起支撑层作用的PET薄膜上很难进行湿镀工艺,但是真空下溅射或沉积将以生产成本大量增加而告终。
为了解决现有技术的问题,本发明的发明者已经做出了持续的研究,从而开发出了传导薄层缓冲片材,其有效地降低生产成本,并且适用于移动装置、OLED TVs、柔性显示器等,从而提供冲击吸收功能、电磁噪音减低接地(reduction grounding)功能和ESD功能。
发明内容
本发明的目的是提供传导薄层缓冲片材以及其制备方法,其中传导薄层缓冲片材包括层压的体积导电性薄层缓冲垫(volume electricalconductivity thin layer cushion);聚酯网丝(mesh)或聚酯织物;无机黑色传导压力敏感胶带;和离型纸(release paper)。在这点上,体积导电性薄层缓冲垫具有半开口的小室型内部微观结构,其具有微观的垂直(up-and-down)渗透通道结构,其消除了在结合的(整体的)薄层缓冲垫上进行刺穿工艺的需要。聚氨酯树脂(urethane resin)或丙烯酸类树脂(acryl resin)在毡丝网(felt mesh)或毡织物(felt fabric)的一侧上发泡,从而制备与基底层结合的均匀、透气的垂直载流薄层,完成垂直薄层缓冲垫。层压的垂直薄层缓冲垫是通过聚酯丝网或聚酯织物层压具有体积导电性结构的薄层缓冲垫形成的。
本发明的另一个目的是提供制备传导薄层缓冲片材的方法,其包括刺穿工艺从而提供具有良好表面条件、均匀电导率、高电磁屏蔽效能、优良冲击吸收功能、缓冲特性、对物体具有粘合性以及高体积导电性能的传导薄层缓冲片材。
为了实现本发明的上述目的,提供了传导薄层缓冲片材,其包括:垂直载流薄层缓冲垫(up-and-down current-carrying thin layer cushion);聚酯丝网或聚酯织物;以及无机黑色传导压力敏感胶带(inorganic blackconductive pressure-sensitive adhesive tape)。
根据该实施方式的垂直载流薄层缓冲垫可以是通过使丙烯酸类树脂(acryl resin)或聚氨酯树脂(urethane resin)发泡制备的薄层缓冲垫。
根据该实施方式的垂直载流薄层缓冲垫可以具有以半开口小室形式成型的内部微结构以及在Z轴方向上延伸的微观的垂直渗透通道结构(上下渗透通道结构)。
根据该实施方式,垂直载流薄层缓冲垫和聚酯丝网或聚酯织物可以通过经化学粘合通过层压结合在一起。
该实施方式的传导薄层缓冲片材可以进一步包括离型纸。
根据该实施方式,垂直载流薄层缓冲片材可以通过直接发泡以与聚酯网丝或聚酯织物的整体形式(integrated form)制备(制备成整体形式)。
本发明还提供了用于制备传导薄层缓冲片材的方法,其包括:使聚氨酯树脂或丙烯酸类树脂发泡从而制备具有微观的垂直渗透通道结构的垂直载流薄层缓冲垫;在垂直载流薄层缓冲垫上层压聚酯网丝或聚酯织物;在层压有聚酯网丝或聚酯织物的垂直载流薄层缓冲垫上进行湿镀(wetplating);以及在层压有聚酯网丝或聚酯织物的垂直载流薄层缓冲垫的一侧或两侧上形成无机黑色传导压力敏感胶带。
本实施方式的垂直载流薄层缓冲垫可以具有以半开口小室形式成型的内部微观结构,以及在Z轴方向上延伸的微观的垂直渗透通道结构。
根据本实施方式的用于制备传导薄层缓冲片材的方法可以进一步包括:在无机黑色传导压力敏感胶带上进行冲裁工艺(blanking process),以适合移动(电话)窗户面板或显示器BLU模块结构,以及在垂直载流薄层缓冲垫的一侧上层压冲裁的无机黑色传导压力敏感胶带。
本发明还提供了触摸屏面板,其包括该传导薄层缓冲片材,作为用于保护触摸屏面板的缓冲片材。
本发明还提供了移动装置,其包括该传导薄层缓冲片材,作为用于保护触摸屏面板的缓冲片材。
本发明还提供了显示装置,其包括该传导薄层缓冲片材,作为用于保护触摸屏面板的缓冲片材。
本发明还提供了用于制备传导薄层缓冲片材的方法,其包括:使聚氨酯泡沫(urethane foam)发泡成为结合的聚氨酯记忆泡沫层(integratedurethane memory foam layer),以及在聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层的一侧上层压结合的聚氨酯记忆泡沫层;刺穿结合的聚氨酯记忆泡沫层,从而形成导电线通道;聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层以及发泡层的结合结构的一侧或两侧上,形成电解或非电解镀层;以及在电解或非电解镀层的一侧或两侧上形成防指纹和抗磨损涂覆层,其中在刺穿的聚氨酯记忆泡沫层上形成电解或非电解镀层之前,进行化学界面处理工艺(chemical interface treatment process)。
本实施方式的化学界面处理工艺可以依次包括:苛性钠蚀刻/超声波清洁、水洗、酸处理、水洗、钯催化处理、水洗、硫酸活化和水洗。
本实施方式的电解或非电解镀层可以通过镀覆选自铜、镍、金、银、锡、铝、不锈钢和钴组成的组中的至少一种金属形成。
本实施方式的电解或非电解镀层可以通过镀覆铜层或镍层形成。
本实施方式的防指纹和抗磨损涂覆层是由水溶性聚氨酯形成的。
本发明提供了传导薄层缓冲片材以及其制备方法,其中传导薄层缓冲片材具有良好的表面条件、均匀的导电性、高的电磁屏蔽效能、优良的冲击吸收功能、缓冲特性,和与物体的粘合性,以及高体积导电性能,并且其适用于智能手机和平板电脑、数字电视,例如LED电视或OLED电视、柔性显示器等的移动终端,从而提高与此类物体的粘合性、冲击吸收功能、电磁噪音降低接地功能以及ESD功能。
附图说明
图1、2和3是根据本发明不同实施方式的传导薄层缓冲片材的示意横截面图,其中传导薄层缓冲片材是没有进行刺穿工艺而制备的。
图4是根据本发明的传导薄层缓冲片材的示意横截面他,其中传导薄层缓冲片材是通过进行刺穿工艺制备的。
图5是显示在本发明的一个实施方式中,在刺穿的聚氨酯记忆泡沫层的一侧或两侧上形成电解或非电解镀层之前,进行的化学界面处理工艺的示意流程图。
图6是显示根据本发明一种实施方式(实施例6)的传导薄层缓冲片材的电磁屏蔽效能的图。
图7是显示根据本发明另一种实施方式(实施例7)的传导薄层缓冲片材的电磁屏蔽效能的图。
具体实施方式
下文中,将详细地描述本发明。
本发明涉及传导薄层缓冲片材,其包括垂直载流薄层缓冲垫;聚酯丝网或聚酯织物;以及无机黑色传导压力敏感胶带。传导薄层缓冲片材能够根据下面的方法制备。
首先,使聚氨酯树脂或丙烯酸类树脂发泡,从而制备均匀、透气的垂直载流薄层缓冲垫,其具有半开口小室型内部微观结构,以及在Z轴方向上的微观的垂直渗透通道结构,其用于优良的透气性。
在本发明中,术语“半开口小室”内在地指在缓冲片材的表面或内部结构上存在大约30%几乎看不见的开口孔;术语“Z轴方向”内在地指具有垂直渗透孔的立体结构。
然后,聚酯网丝或聚酯织物与垂直载流薄层缓冲垫层压。
在本发明中,通过化学粘合,将垂直载流薄层缓冲垫和聚酯网丝或聚酯织物层压在一起,所得到的结合结构用作基底。
随后,进行湿镀工艺,从而在没有进行确保垂直载流特性的单独的刺穿工艺的情况下,完成具有良好表面条件和优良的垂直载流特性的薄层缓冲垫。
在垂直载流薄层缓冲垫上进行湿镀工艺,从而形成铜层和镍层。更具体地,发泡的聚氨酯缓冲泡沫或丙烯酸类缓冲泡沫在80℃下经过包含10至15wt%苛性钠的蚀刻液,然后用水清洗。随后,在50至70℃下,用包含15至25wt%HCl的水溶液中和缓冲泡沫,并且用水清洗。缓冲泡沫经过包含氯化钯和氯化锡混合溶液的钯催化液,其允许织物吸附钯离子,然后用水清洗。为了除去吸附的锡离子,而不除去钯离子,缓冲泡沫浸渍在包含15至20wt%硫酸的活化液中,并且用水清洗,这保留了织物上的钯离子。
当传导金属化学地生长在聚氨酯缓冲泡沫或丙烯酸类缓冲泡沫上形成的钯催化剂上时,能够达到更稳定的镀覆工艺。进一步,另外进行微凹版涂覆或刮刀滚筒式涂覆工艺,从而在传导金属镀覆工艺之后施加水溶性聚氨酯,以防止外来物质的污染以及提供抗磨损性,因此很大地降低生产成本,并且避免对很大提高的导电特性的不利影响。
化学界面处理工艺之后,实施使用传导金属的镀覆工艺。
在本发明中,电解或非电解镀层包括至少一层选自铜、镍、金、银、锡、铝、不锈钢和钴组成的组中的至少一种金属。
在本发明的一个实施方式中,电解或非电解镀层可以依次包括,第一镍层、在镍层上形成的铜层,以及在铜层上形成的第二镍层。
更具体地,传导金属镀覆工艺优选地通过电解镀覆方法或非电解镀覆方法进行,更优选地通过非电解镀覆方法进行。例如,对于镀铜而言,将薄层缓冲垫浸渍在包含3.5至45g/l硫酸铜、8至12g/l苛性钠,和5.5至6.0g/l福尔马林混合物的镀铜液中,使铜沉积,并且形成第二镀覆铜层,然后用水清洗。铜容易迅速氧化。因此,为了防止氧化,将薄层缓冲垫浸渍在包含25至35g/l硫酸镍、15至25g/l次磷酸钠和35至45g/l柠檬酸钠混合物的非电解镀镍液中,从而形成第二镀覆镍层,然后用水清洗。但是本发明不是特定地限于该方法。
本发明的传导薄层缓冲片材中使用的垂直载流薄层缓冲垫,是通过使聚氨酯树脂或丙烯酸类树脂发泡而制备的薄层缓冲垫,从而具有垂直的渗透微观通道结构,用于优良的透气性。具有垂直的渗透微观通道结构的此类薄层缓冲垫用聚酯网丝或聚酯织物层压,该方法不仅通过去除了进行单独刺穿工艺的需要降低了生产成本和工艺,并且确保了非常均匀和优良的垂直载流特性和表面传导特性。
进一步,本发明涉及通过化学粘合用聚酯网丝或聚酯织物层压垂直载流薄层缓冲垫,该方法导致比使用胶带的传统层压方法更优良的粘附性。
随后,在用聚酯网丝或聚酯织物层压的垂直载流薄层缓冲垫的一侧或两侧上,形成无机黑色传导压力敏感胶带。
在本发明中,通过在层压有聚酯网丝或聚酯织物的垂直载流薄层缓冲垫的一侧或两侧上,形成无机黑色传导压力敏感胶带,能够提高导电性、粘附性和光屏蔽特性。
通过用在垂直载流薄层缓冲垫的一侧或两侧上形成的无机黑色传导压力敏感胶带接地,而不是根据现有技术在垂直载流薄层缓冲垫的一侧或两侧上层压薄层传导织物,本发明还确保了优良的ESD功能,并且降低了工艺的损耗。
在本发明中,以适合窗户结构和显示器BLU模块结构的形状,形成无机黑色传导压力敏感胶带。
根据本发明的一个实施方式,如图1所示,在用聚酯网丝2层压的垂直载流薄层缓冲垫1的两侧上,形成无机黑色传导压力敏感胶带3,从而完成传导薄层缓冲片材。
根据本发明的另一个实施方式,如图2所示,在用聚酯网丝2层压的垂直载流薄层缓冲垫1的一侧上,形成无机黑色传导压力敏感胶带3,然后在无机黑色传导压力敏感胶带3上形成离型纸4,从而完成传导薄层缓冲片材。
根据本发明的另一个实施方式,如图3所示,在用聚酯网丝2层压的垂直载流薄层缓冲垫1的两侧上,形成无机黑色传导压力敏感胶带3,然后在两个无机黑色传导压力敏感胶带3上形成离型纸4,从而完成传导薄层缓冲片材。
另一方面,本发明提供了通过进行单独的刺穿工艺,用于制备具有良好表面条件、均匀电导率、高电磁屏蔽效能、优良冲击吸收特性、缓冲特性、与物体良好粘合性以及高体积导电性能的传导薄层缓冲片材的方法。
参考图4,根据本发明具有优良冲击吸收和电磁屏蔽特性的传导薄层缓冲片材包括:聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10;通过在聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10的一侧上施加聚氨酯泡沫,与聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10结合的聚氨酯记忆泡沫层20;在聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层和聚氨酯记忆泡沫层的结合结构的一侧或两侧上,形成的电解或非电解镀层30;以及在电解或非电解镀层30的一侧或两侧上形成的防指纹和抗磨损涂覆层40。
在本发明中,聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10用作安装镀覆装置的支撑层,从而通过镀覆在聚氨酯记忆泡沫层20上形成电磁屏蔽金属层。
在本发明中,通过在聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10的一侧上施加聚氨酯泡沫,聚氨酯记忆泡沫层20与聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10结合。
本发明的聚氨酯记忆泡沫层20用来提高与物体的粘合性,例如与智能手机、平板电脑、数字电视,例如LED TV或OLED TV、柔性显示器等等的移动终端的粘合性。聚氨酯记忆泡沫层20的厚度优选地在50至1,000μm的范围内。
刺穿通过在聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10的一侧上施加聚氨酯泡沫,与聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10结合的聚氨酯记忆泡沫层20,从而形成导电线通道70,允许垂直的电流流动。
为了实现本发明的传导薄层缓冲片材的垂直导电性,刺穿通过在聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10的一侧上施加聚氨酯泡沫,与聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层10结合的聚氨酯记忆泡沫层20,从而形成导电线通道70,然后进行电解或非电解镀,从而形成穿过导电线通道70的镀液,这允许垂直的电流流动。
在本发明中,在聚氨酯记忆泡沫层20的一侧或两侧上,形成电解或非电解镀层30,并且其用来提供电磁屏蔽功能。
在本发明中,通过用选自铜、镍、金、银、锡、铝、不锈钢和钴组成的组中的具有优良导电特性的至少一种金属镀覆,形成电解或非电解镀层30。
在本发明的一个实施方式中,电解或非电解镀层30依次包括,第一镍层、在镍层上形成的铜层,以及在铜层上形成的第二镍层,考虑到提供与物体的粘合性,该层顺序是优选的。在电解或非电解镀层30中,铜层提高了导电特性,然后易于氧化。于是,由于其电离倾向,优选地在铜层上形成较少易于氧化的镍层。
在本发明中,在电解或非电解镀层30的一侧或两侧上形成防指纹和抗磨损涂覆层40,从而防止下层的电解或非电解镀层30暴露后可能发生的磨损,以及避免形成指纹的可能性。
防指纹和抗磨损涂覆层30优选地由环氧树脂、不饱和聚酯、烷基或烷化物树脂、聚氨酯树脂、硬橡胶、脲醛树脂、三聚氰胺树脂、苯酚树脂等形成。在这些之中,聚氨酯树脂优选地用作防指纹和抗磨损涂覆层30。
在本发明中,优选地,形成的防指纹和抗磨损涂覆层30的厚度为100nm至3μm。
本发明的传导薄层缓冲片材是适于移动终端的产品如智能手机和平板电脑、数字电视,例如LED TV或OLED TV、柔性显示器等等,从而实现冲击吸收和电磁屏蔽特性、与物体的良好粘合性以及通过接地的良好防静电功能。
下文中,关于用于制备根据本发明的具有优良冲击吸收和电磁屏蔽特性的传导薄层缓冲片材的方法,将给出明确详细的描述。
首先,在选自聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物和网丝层组成的组中的至少一个基底的一侧上,使聚氨酯泡沫发泡,从而形成结合的聚氨酯记忆泡沫层。
然后,层压通过在聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物和网丝层的一侧上使聚氨酯泡沫发泡而制备的结合的聚氨酯记忆泡沫层,然后对其刺穿,从而形成导电线通道。
然后,在刺穿的聚氨酯记忆泡沫层的一侧或两侧上,形成电解或非电解镀层,从而确保刺穿的聚氨酯记忆泡沫层的一侧或两侧的导电特性。
通过在上述刺穿的聚氨酯记忆泡沫层上,用选自铜、镍、金、银、锡、铝、不锈钢和钴组成的组中的至少一种金属进行电解或非电解镀覆,制备电解或非电解镀层。
在本发明的一个实施方式中,优选地,在刺穿的聚氨酯记忆泡沫层的一侧或两侧上形成电解或非电解镀覆之前,进行化学界面处理工艺。
化学界面处理工艺通过蚀刻和吸附钯离子提供了表面粗糙度,并且进行更有效地镀以传导金属。
参考图5,化学界面处理工艺可以依次包括,苛性钠蚀刻/超声波清洁(提供亲水性)、水洗、酸处理(中和)、水洗、钯催化处理(吸附钯离子)、水洗、硫酸活化和水洗。
首先,刺穿的聚氨酯记忆泡沫层在80℃下经过包含10至15wt%苛性钠的蚀刻液,然后经过水洗液。随后,在50至70℃下,用包含15至25wt%HCl的水溶液中和记忆泡沫层,并且用水清洗。记忆泡沫层经过包含氯化钯和氯化锡混合溶液的钯催化液,其允许织物吸附钯离子,然后用水清洗。为了除去吸附的锡离子,而不除去钯离子,记忆泡沫层浸渍在包含15至20wt%硫酸的活化液中,并且用水清洗,这使得仅仅钯离子保留在织物上。
当传导金属化学生长在刺穿的聚氨酯泡沫弹性层上形成的钯催化剂上时,能够实现更稳定的镀覆工艺。进一步,另外可以进行包括用水溶性聚氨酯浸渍的后处理工艺,从而防止外来物质的污染,并且提高抗磨损性,该方法很大地降低了生产成本,并且避免了对很大提高的导电特性的不利影响。
化学界面处理工艺之后,进行使用传导金属的镀覆工艺。
在本发明中,电解或非电解镀层可以包括至少一层选自铜、镍、金、银、锡、铝、不锈钢和钴组成的组中的至少一种金属。
在本发明的一个实施方式中,电解或非电解镀层可以依次包括,镍层、在镍层上形成的铜层,以及在铜层上形成的第二镍层。
更具体地,优选地通过电解镀覆方法或非电解镀覆方法,进行传导金属镀覆工艺,更优选地,通过非电解镀覆工艺进行传导金属镀覆工艺。对于镀铜而言,将聚氨酯泡沫层浸渍在包含3.5至45g/l硫酸铜、8至12g/l苛性钠,和5.5至6.0g/l福尔马林混合物的镀铜液中,使铜沉积,并且形成第二镀覆铜层,然后用水清洗。铜容易迅速氧化。因此,为了防止氧化,将聚氨酯泡沫层浸渍在包含25至35g/l硫酸镍、15至25g/l次磷酸钠和35至45g/l柠檬酸钠混合物的非电解镀镍液中,从而形成第二镀覆镍层,然后用水清洗。但是本发明不是特定地限于该方法。
最后,在电解或非电解镀层的一侧或两侧上形成防指纹和抗磨损涂覆层。
形成镀层之后,形成包含树脂,例如聚氨酯树脂的防指纹和抗磨损涂覆层,用来预防外来物质的污染。在这点上,可以在传导织物层的两侧上形成防指纹和抗磨损涂覆层。
下文中,参考优选的实施方式,关于本发明将给出更详细的描述,提供优选实施方式是作为本发明的实施例的说明目的,而不是限制本发明的保护范围。并且本领域内技术人员应该明白,在本发明的保护范围内可以做出各种改变和修改。
本发明的传导薄层缓冲片材可以用作保护触摸屏平板的缓冲片材,并且适用于移动装置的显示装置等以及触摸屏平板。
实施例1
通过化学粘合,将200μm厚的聚氨酯泡沫和90μm厚的聚酯网丝结合在一起,从而形成具有网丝基底的聚氨酯泡沫片材。所得到的弹性层在80℃下经过包含12wt%苛性钠水溶液的蚀刻液,并且用水清洗。然后,在60℃下,用包含20wt%HCl的水溶液中和弹性层,并且用水清洗。随后,弹性层经过包含混合有氯化锡的0.8wt%氯化钯的钯催化液,其允许织物吸附钯离子,并且用水清洗。然后,弹性层浸渍在包含18wt%硫酸的活化液中,并且用水清洗,从而使得仅仅钯离子保留在织物上。
随后,将弹性层浸渍在包含4.0g/l硫酸铜、10g/l苛性钠,和6.0g/l福尔马林混合物的镀铜液中,从而使铜沉积,并且形成镀铜层。然后,将弹性层浸渍在包含25g/l硫酸镍、20g/l次磷酸钠和40g/l柠檬酸钠混合物的非电解镀镍液中,从而形成镀镍层,以完成传导弹性层。随后,用包含异丙醇和乙醇(体积比为50:50)的有机溶剂将聚氨酯树脂稀释至40wt%的浓度,从而制备用于形成防指纹和抗磨损涂覆层的组合物。该组合物涂以在上面获得的传导织物层上至厚度为1μm,使涂覆物干燥从而获得防指纹和抗磨损涂覆层,完成本发明的传导薄层缓冲片材。
实施例2
直接在100μm厚的PET高密度纺织织物上形成聚氨酯泡沫,从而形成与PET基底结合的弹性片材。所得到的弹性层在80℃下经过包含12wt%苛性钠水溶液的蚀刻液,并且用水清洗。然后,在60℃下,用包含20wt%HCl的水溶液中和弹性层,并且用水清洗。随后,织物经过包含混合有氯化锡的0.8wt%氯化钯的钯催化液,其允许织物吸附钯离子,并且用水清洗。然后,将织物浸渍在包含18wt%硫酸的活化液中,并且用水清洗,从而使得仅仅钯离子保留在织物上。
随后,将结合的弹性片材浸渍在包含4.0g/l硫酸铜、10g/l苛性钠,和6.0g/l福尔马林混合物的镀铜液中,从而使铜沉积,并且形成镀铜层。然后,将弹性片材浸渍在包含25g/l硫酸镍、20g/l次磷酸钠和40g/l柠檬酸钠混合物的非电解镀镍液中,从而形成镀镍层,以完成传导弹性片材。随后,用包含异丙醇和乙醇(体积比为50:50)的有机溶剂将聚氨酯树脂稀释至40wt%的浓度,从而制备用于形成防指纹和抗磨损涂覆层的组合物。该组合物施加在上面获得的传导织物层上至厚度为1μm,使涂覆物干燥从而形成防指纹和抗磨损涂覆层,完成本发明的传导薄层缓冲片材。
实验实施例:电磁屏蔽效能的测量
根据ASTM D4935标准测试方法,测量实施例1和2中制备的传导薄层缓冲片材的电磁屏蔽效能。结果分别呈现在图6和7中。参考图6和7,本发明的传导薄层缓冲片材具有79至90dB的高电磁屏蔽效能。
1:垂直导电的薄层缓冲垫
2:聚酯网丝
3:无机黑色传导压力敏感胶带
4:离型纸
10:聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层
20:聚氨酯记忆泡沫层
30:电解或非电解的镀层
40:防指纹和抗磨损涂覆层
70:导电线通道

Claims (17)

1.一种传导薄层缓冲片材,包括:
垂直载流薄层缓冲垫;
聚酯网丝或聚酯织物;以及
无机黑色传导压力敏感胶带。
2.如权利要求1所述的传导薄层缓冲片材,其中所述垂直载流薄层缓冲垫是通过使丙烯酸类树脂或聚氨酯树脂发泡制备的薄层缓冲垫。
3.如权利要求2所述的传导薄层缓冲片材,其中所述垂直载流薄层缓冲垫具有以半开口小室形式成型的内部微结构,以及在Z轴方向上延伸的微观的垂直渗透通道结构。
4.如权利要求1所述的传导薄层缓冲片材,其中所述垂直载流薄层缓冲垫和所述聚酯网丝或聚酯织物经化学粘合通过层压结合在一起。
5.如权利要求1所述的传导薄层缓冲片材,其进一步包括离型纸。
6.如权利要求1所述的传导薄层缓冲片材,其中所述垂直载流薄层缓冲片材是通过直接发泡与所述聚酯网丝或聚酯织物制备成整体形式。
7.一种用于制备传导薄层缓冲片材的方法,其包括:
使聚氨酯树脂或丙烯酸类树脂发泡,从而制备具有微观的垂直渗透通道结构的垂直载流薄层缓冲垫;
在所述垂直载流薄层缓冲垫上层压聚酯网丝或聚酯织物;
在层压有所述聚酯网丝或聚酯织物的所述垂直载流薄层缓冲垫上进行湿镀;以及
在层压有所述聚酯网丝或聚酯织物的所述垂直载流薄层缓冲垫的一侧或两侧上,形成无机黑色传导压力敏感胶带。
8.如权利要求7所述的方法,其中所述垂直载流薄层缓冲垫具有以半开口小室形式成型的内部微观结构,以及在Z轴方向上延伸的微观的垂直渗透通道。
9.如权利要求7所述的方法,其进一步包括:
在所述无机黑色传导压力敏感胶带上进行冲裁工艺,以适合移动窗户面板或显示器BLU模块结构,以及使冲裁的所述无机黑色传导压力敏感胶带层压在所述垂直载流薄层缓冲垫的一侧上。
10.一种触摸屏面板,包括如权利要求1至6中任一项所述的传导薄层缓冲片材作为保护触摸屏面板的缓冲片材。
11.一种移动装置,包括如权利要求1至6中任一项所述的传导薄层缓冲片材作为保护触摸屏面板的缓冲片材。
12.一种显示装置,包括如权利要求1至6中任一项所述的传导薄层缓冲片材作为保护触摸屏面板的缓冲片材。
13.一种用于制备传导薄层缓冲片材的方法,其包括:
使聚氨酯泡沫发泡,成为结合的聚氨酯记忆泡沫层,并且在聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层的一侧上层压所述结合的聚氨酯记忆泡沫层;
刺穿所述结合的聚氨酯记忆泡沫层,从而形成导电线通道;
在所述聚对苯二甲酸乙二酯膜、无纺织物、纺织织物或网丝层和所述发泡层的所述结合结构的一侧或两侧上,形成电解或非电解的镀层;以及
在所述电解或非电解的镀层的一侧或两侧上形成防指纹和抗磨损涂覆层,
其中在刺穿的所述聚氨酯记忆泡沫层上形成所述电解或非电解镀层之前,进行化学界面处理工艺。
14.如权利要求13所述的方法,其中所述化学界面处理工艺依次包括:苛性钠蚀刻/超声波清洁、水洗、酸处理、水洗、钯催化处理、水洗、硫酸活化和水洗。
15.如权利要求13所述的方法,其中通过用选自铜、镍、金、银、锡、铝、不锈钢和钴组成的组中的至少一种金属镀覆,形成所述电解或非电解镀层。
16.如权利要求13所述的方法,其中通过镀覆铜层或镍层,形成所述电解或非电解镀层。
17.如权利要求13所述的方法,其中所述防指纹和抗磨损涂覆层由水溶性聚氨酯形成。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6388893B1 (en) * 1999-01-22 2002-05-14 Sony Corporation Foam cushion with conductive foil for grounding in an EMI shield and method of using the same
KR100736467B1 (ko) * 2007-01-16 2007-07-09 최철수 전도성 고분자 쿠션시트의 제조방법
KR100898605B1 (ko) * 2009-02-04 2009-05-21 두성산업 주식회사 글래스 패널 보호 및 대전방지 쿠션시트

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6388893B1 (en) * 1999-01-22 2002-05-14 Sony Corporation Foam cushion with conductive foil for grounding in an EMI shield and method of using the same
KR100736467B1 (ko) * 2007-01-16 2007-07-09 최철수 전도성 고분자 쿠션시트의 제조방법
KR100898605B1 (ko) * 2009-02-04 2009-05-21 두성산업 주식회사 글래스 패널 보호 및 대전방지 쿠션시트

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