CN103715101A - 直接覆铜陶瓷基板的热压方法 - Google Patents
直接覆铜陶瓷基板的热压方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103715101A CN103715101A CN201310718944.8A CN201310718944A CN103715101A CN 103715101 A CN103715101 A CN 103715101A CN 201310718944 A CN201310718944 A CN 201310718944A CN 103715101 A CN103715101 A CN 103715101A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- hot pressing
- hot
- base board
- press method
- ceramic substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/06—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the heating method
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/10—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the pressing technique, e.g. using action of vacuum or fluid pressure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/005—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B9/041—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/40—Symmetrical or sandwich layers, e.g. ABA, ABCBA, ABCCBA
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/546—Flexural strength; Flexion stiffness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/14—Semiconductor wafers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法,包括如下步骤:第一步,将铜覆在陶瓷基材的上、下两个面上并进行烧结;第二步,将烧结得到的DCB基板置于热压模具内,在保护气氛或真空中,通过热压模具对DCB基板进行热压。本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法通过对烧结之后的DCB基板进行再处理,通过在一定温度下施加不同的压力,有效解决由DBC基板翘曲问题,翘曲率将达到0.4%以下。
Description
技术领域
本发明属于半导体制造领域,特别是一种直接覆铜陶瓷基板的加工方法。
背景技术
直接敷铜陶瓷基板(以下简称DCB基板)由于具有优良的电绝缘性能、高导热性、较好的热循环性能、优异的软钎焊性、高的附着强度,并且能像PCB板一样刻蚀出各种图形,因此已广泛应用于半导体制冷器、功率半导体模块、固体继电器、高频电源开关、混合动力汽车、大功率LED等领域。对应用于高端功率器件的DCB基板而言,外观性能要求也在逐步提高。特别是对基板的翘曲,因其直接影响芯片的焊接性能,故对于基板的翘曲方向以及翘曲率都有相应的要求。然而因铜和陶瓷,以及结合层之间的热膨胀系数差异导致烧结后的DCB基板发生翘曲,特别是如果DCB基板两侧铜厚有差异的情况下翘曲就会更难控制。
发明内容
本发明的目的在于提供一种有效解决由DBC基板翘曲问题的直接覆铜陶瓷基板的热压方法。
为解决上述技术问题,本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法,包括如下步骤:
第一步,将铜覆在陶瓷基材的上、下两个面上并进行烧结;
第二步,将烧结得到的DCB基板置于热压模具内,在保护气氛或真空中,通过热压模具对DCB基板进行热压。
所述热压的温度为200℃~950℃。
所述热压的时间为1分钟~100小时。
所述热压的压力为单位面积10Pa~200MPa。
所述保护气氛为惰性气体。
所述保护气氛为N2或Ar或He。
所述热压模具的材料为不锈钢或铁或氧化铝或氮化铝或氮化硅或碳化硅或它们的两种或多种的组合。
本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法通过对烧结之后的DCB基板进行再处理,通过在一定温度下施加不同的压力,有效解决由DBC基板翘曲问题,翘曲率将达到0.4%以下。
附图说明
图1为本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法实施例一烧结示意图;
图2为本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法实施例一热压示意图;
图3为本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法实施例二烧结示意图;
图4为本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法实施例二热压示意图;
图5为本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法实施例三烧结示意图;
图6为本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法实施例三热压示意图。
本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法附图中附图标记说明:
1-陶瓷基材 2-上覆铜 3-下覆铜
4-热压模具
具体实施方式
下面结合附图对本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法作进一步详细说明。
施例一,采用0.3毫米的上覆铜2、0.32毫米的Al2O3陶瓷基材1、0.2毫米的下覆铜3。
首先采用正常烧结工艺,如图1所示,烧结温度设定为1060℃~
1075℃,烧结时间为10分钟~25分钟,气氛为氮气保护的弱氧气氛,氧含量为5ppm~40ppm,先烧0.3毫米的上覆铜2,再烧0.2毫米的下覆铜3,形成DBC基板,保证DBC基板整体呈正向翘曲。
然后进行热压,如图2所示,将DBC基板反向置于氧化铝材质的热压模具4内,单位面积施加的压力为500Pa,在N2保护气氛下,加热至800℃,热压90秒,并随炉冷却。
施例二,采用0.25毫米的上覆铜2、0.25毫米的Al2O3陶瓷基材1、0.2毫米的下覆铜3。
首先采用正常烧结工艺,如图3所示,烧结温度设定为1068℃~
1075℃,烧结时间为10分钟~25分钟,气氛为氮气保护的弱氧气氛,氧含量为70ppm~100ppm,先烧0.2毫米的下覆铜3,再烧0.25毫米的上覆铜2,形成DBC基板,保证DBC基板整体呈正向翘曲。
然后进行热压,如图4所示,将DBC基板反向置于不锈钢材质的热压模具4内,单位面积施加的压力为500Pa,在N2保护气氛下,加热至700℃,热压30分钟,并随炉冷却。
施例三,采用0.3毫米的上覆铜2、0.635毫米的AlN陶瓷基材1、0.2毫米的下覆铜3。
首先采用正常烧结工艺,如图5所示,烧结温度设定为1068℃~1075℃,烧结时间为10分钟~25分钟,气氛为氮气保护的弱氧气氛,氧含量为70ppm~100ppm,先烧0.3毫米的上覆铜2,再烧0.2毫米的下覆铜3,形成DBC基板,保证DBC基板整体呈正向翘曲。
然后进行热压,如图6所示,将DBC基板反向置于碳化硅材质的热压模具4内,单位面积施加的压力为300Pa,在真空环境下,加热至900℃,热压60分钟,并随炉冷却。
本发明直接覆铜陶瓷基板的热压方法通过对烧结之后的DCB基板进行再处理,通过在一定温度下施加不同的压力,有效解决由DBC基板翘曲问题,翘曲率将达到0.4%以下。
以上已对本发明创造的较佳实施例进行了具体说明,但本发明创造并不限于所述实施例,熟悉本领域的技术人员在不违背本发明创造精神的前提下还可作出种种的等同的变型或替换,这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (7)
1.直接覆铜陶瓷基板的热压方法,其特征在于,包括如下步骤:
第一步,将铜覆在陶瓷基材的上、下两个面上并进行烧结;
第二步,将烧结得到的DCB基板置于热压模具内,在保护气氛或真空中,通过热压模具对DCB基板进行热压。
2.根据权利要求1所述的直接覆铜陶瓷基板的热压方法,其特征在于,所述热压的温度为200℃~950℃。
3.根据权利要求1所述的直接覆铜陶瓷基板的热压方法,其特征在于,所述热压的时间为1分钟~100小时。
4.根据权利要求1所述的直接覆铜陶瓷基板的热压方法,其特征在于,所述热压的压力为单位面积10Pa~200MPa。
5.根据权利要求1所述的直接覆铜陶瓷基板的热压方法,其特征在于,所述保护气氛为惰性气体。
6.根据权利要求5所述的直接覆铜陶瓷基板的热压方法,其特征在于,所述保护气氛为N2或Ar或He。
7.根据权利要求1所述的直接覆铜陶瓷基板的热压方法,其特征在于,所述热压模具的材料为不锈钢或铁或氧化铝或氮化铝或氮化硅或碳化硅或它们的两种或多种的组合。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310718944.8A CN103715101A (zh) | 2013-12-23 | 2013-12-23 | 直接覆铜陶瓷基板的热压方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310718944.8A CN103715101A (zh) | 2013-12-23 | 2013-12-23 | 直接覆铜陶瓷基板的热压方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103715101A true CN103715101A (zh) | 2014-04-09 |
Family
ID=50407976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310718944.8A Pending CN103715101A (zh) | 2013-12-23 | 2013-12-23 | 直接覆铜陶瓷基板的热压方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103715101A (zh) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105622126A (zh) * | 2015-12-25 | 2016-06-01 | 上海申和热磁电子有限公司 | 一种Si3N4陶瓷覆铜基板及其制备方法 |
CN105702588A (zh) * | 2014-11-24 | 2016-06-22 | 上海申和热磁电子有限公司 | 加厚dbc基板制造方法及使用该方法制造的dbc基板 |
CN107369625A (zh) * | 2017-07-01 | 2017-11-21 | 合肥圣达电子科技实业有限公司 | Dbc基板的制造方法及使用该方法制造的dbc基板 |
CN110702490A (zh) * | 2019-11-01 | 2020-01-17 | 上海申和热磁电子有限公司 | 一种半导体切片废液中碳化硅的提纯分析方法 |
CN116504683A (zh) * | 2023-06-25 | 2023-07-28 | 江苏富乐华半导体科技股份有限公司 | 一种阴阳铜dbc产品翘曲管控方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101161607A (zh) * | 2006-10-10 | 2008-04-16 | 台达电子工业股份有限公司 | 陶瓷基板及其制造方法 |
CN102206098A (zh) * | 2010-03-30 | 2011-10-05 | 比亚迪股份有限公司 | 一种陶瓷覆铜基板及其制备方法 |
CN202816924U (zh) * | 2012-08-14 | 2013-03-20 | 武汉利之达科技有限公司 | 一种功率器件封装基板 |
CN103117256A (zh) * | 2011-11-17 | 2013-05-22 | 上海申和热磁电子有限公司 | 陶瓷覆铜基板及其制造方法 |
CN104362099A (zh) * | 2014-09-17 | 2015-02-18 | 上海申和热磁电子有限公司 | 高热导覆铜陶瓷基板的制备方法 |
-
2013
- 2013-12-23 CN CN201310718944.8A patent/CN103715101A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101161607A (zh) * | 2006-10-10 | 2008-04-16 | 台达电子工业股份有限公司 | 陶瓷基板及其制造方法 |
CN102206098A (zh) * | 2010-03-30 | 2011-10-05 | 比亚迪股份有限公司 | 一种陶瓷覆铜基板及其制备方法 |
CN103117256A (zh) * | 2011-11-17 | 2013-05-22 | 上海申和热磁电子有限公司 | 陶瓷覆铜基板及其制造方法 |
CN202816924U (zh) * | 2012-08-14 | 2013-03-20 | 武汉利之达科技有限公司 | 一种功率器件封装基板 |
CN104362099A (zh) * | 2014-09-17 | 2015-02-18 | 上海申和热磁电子有限公司 | 高热导覆铜陶瓷基板的制备方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105702588A (zh) * | 2014-11-24 | 2016-06-22 | 上海申和热磁电子有限公司 | 加厚dbc基板制造方法及使用该方法制造的dbc基板 |
CN105622126A (zh) * | 2015-12-25 | 2016-06-01 | 上海申和热磁电子有限公司 | 一种Si3N4陶瓷覆铜基板及其制备方法 |
CN107369625A (zh) * | 2017-07-01 | 2017-11-21 | 合肥圣达电子科技实业有限公司 | Dbc基板的制造方法及使用该方法制造的dbc基板 |
CN110702490A (zh) * | 2019-11-01 | 2020-01-17 | 上海申和热磁电子有限公司 | 一种半导体切片废液中碳化硅的提纯分析方法 |
CN116504683A (zh) * | 2023-06-25 | 2023-07-28 | 江苏富乐华半导体科技股份有限公司 | 一种阴阳铜dbc产品翘曲管控方法 |
CN116504683B (zh) * | 2023-06-25 | 2023-08-25 | 江苏富乐华半导体科技股份有限公司 | 一种阴阳铜dbc产品翘曲管控方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103715101A (zh) | 直接覆铜陶瓷基板的热压方法 | |
CN106876267B (zh) | 一种ltcc基板组件及其共晶烧结工艺方法 | |
KR101659194B1 (ko) | 세라믹 구리 회로 기판과 그것을 사용한 반도체 장치 | |
TWI619207B (zh) | 接合體、電源模組用基板、電源模組及接合體之製造方法 | |
CN106653627B (zh) | 一种纳米银焊膏连接裸铜衬底或敷铜基板的烧结方法 | |
CN103762181A (zh) | 氮化铝覆铜陶瓷基板的制备方法 | |
US8552306B2 (en) | Assembly and production of an assembly | |
EP3375606A1 (en) | Laminate and laminate manufacturing method | |
CN104362099A (zh) | 高热导覆铜陶瓷基板的制备方法 | |
EP1122780A3 (en) | Laminated radiation member, power semiconductor apparatus and method for producing the same | |
CN103117256A (zh) | 陶瓷覆铜基板及其制造方法 | |
CN105702588A (zh) | 加厚dbc基板制造方法及使用该方法制造的dbc基板 | |
JP2004022973A (ja) | セラミック回路基板および半導体モジュール | |
US8944310B2 (en) | Method of manufacturing a semiconductor device | |
CN108640701B (zh) | 一种氮化硅陶瓷散热翅覆铜板及其制备方法 | |
JP2019087586A (ja) | 絶縁回路基板の製造方法、ヒートシンク付き絶縁回路基板の製造方法、及び、絶縁回路基板、ヒートシンク付き絶縁回路基板、並びに、絶縁回路基板の積層構造体の製造方法 | |
JP5944530B2 (ja) | 接合方法およびそれに用いられる接合装置 | |
MY196101A (en) | Copper Alloy Strip Having High Heat Resistance And Thermal Dissipation Properties | |
JP3934966B2 (ja) | セラミック回路基板 | |
CN203503711U (zh) | 一种覆铜AlSiC复合散热基板 | |
KR102409815B1 (ko) | 구리/세라믹스 접합체, 절연 회로 기판, 및 구리/세라믹스 접합체의 제조 방법, 및 절연 회로 기판의 제조 방법 | |
CN102569213A (zh) | Dbc板绝缘结构 | |
CN111656518B (zh) | 铜-钛-铝接合体、绝缘电路基板、带散热器的绝缘电路基板、功率或led或热电模块 | |
CN205428904U (zh) | 一种大功率可控硅封装结构 | |
CN213273718U (zh) | 用于Al2O3陶瓷基片的压烧炉 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140409 |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |