CN103630574A - 一种石墨烯dna传感器的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种石墨烯DNA传感器的制备方法,该方法包括下述步骤:1)生长石墨烯;2)在步骤1)中得到的石墨烯的表面连上金纳米粒子;3)将得到的表面连有金纳米粒子的石墨烯,制备成石墨烯晶体管器件。4)通过石墨烯表面的金纳米粒子,连接DNA,实现石墨烯DNA传感器的制备。
Description
技术领域
一种石墨烯DNA传感器的制备方法,属于生物医学领域中的方法学研究。
背景技术
目前存在的石墨烯传感器,多是以石墨烯氧化物为基础,利用石墨烯氧化物能淬灭荧光的特性,来检测末端标记荧光的DNA序列,这种方法能够检测的样本非常有限,而且需要荧光标记,在检测的灵敏度、特异性等方面仍存在一定的局限性。Li等2009年在Science上报道使用化学气相沉积法,在制备大尺寸、高质量石墨烯薄膜方面取得的重大突破(Li,X.S.,Cai,W.W.,An,J.H.,Kim,S.,Nah,J.,Yang,D.X.,Piner,R.,Velamakanni,A.,Jung,I.,Tutuc,E.,Banerjee,S.K.,Colombo,L.,Ruoff,R.S.,Large-Area Synthesis of High-Quality and Uniform Graphene Films on Copper Foils,Science,2009,324:1312-1314.),这为大规模地应用石墨烯制备DNA传感器提供了机遇,为充分利用石墨烯的良好的导电性和化学稳定性,有必要进一步发展以单层石墨烯为基础更为优良的DNA传感器。
单层石墨烯每个原子都在表面上,具有亚纳米/单原子层的厚度,对外界分子的光响应与电响应极其灵敏,具有化学稳定性,因此可以作为一种理想的导电材料,同时石墨烯的平面二维结构与传统的平板加工技术兼容,在DNA传感器方面具有巨大的潜在应用(Siwy Z.S.,Davenport M.Nanopores:Graphene opens up toDNA.Nat.Nanotechnol.2010,5:697-698.)(Pei H.,Li J.,Lv M.,Wang J.,Gao J.,Lu J.,Li Y.,Huang Q.,Hu J.,Fan C.,A graphene-based sensor array for high-precision and adaptive target identification with ensembleaptamers,Journal of the American Chemical Society,2012,134(33):13843-13849.)。我们充分利用石墨烯良好的导电性以及能大面积生长的现状,制备出石墨烯DNA传感器(图1):巯基修饰的DNA通过化学反应固定在表面具有金纳米粒子的石墨烯上,降低其电阻,提高石墨烯的导电性,在石墨烯表面通过微纳加工工艺制备具有电极的器件,以石墨烯作为导电材料,构成电极-DNA-电极的传感器模式构建DNA传感器,从而实现高灵敏、无标记的检测。
发明内容
本发明的目的是提供一种石墨烯DNA传感器及其制备方法。
一种石墨烯DNA传感器,包括两端具有电极的石墨烯晶体管器件,在石墨烯晶体管器件的石墨烯表面上通过金纳米粒子连接DNA。
上述石墨烯DNA传感器的制备方法是:首先制备两端具有电极的石墨烯晶体管器件,然后在石墨烯晶体管器件的石墨烯表面上通过金纳米粒子连接DNA,从而构成石墨烯DNA传感器。
具体包括下述步骤:
1)在铜箔上使用化学气相沉积的方法生长大面积连续的单层石墨烯;
2)把铜箔上生长的石墨烯浸泡在金纳米粒子溶液中;
3)将步骤2)得到的表面修饰有金纳米粒子的石墨烯,制备石墨烯晶体管器件;
4)在3)中加入末端有巯基修饰的DNA样本,在37℃下杂交60min后,超纯水冲洗。
其中,步骤3)中石墨烯利用柔性的聚甲基丙烯酸甲酯高分子膜做载体,从铜箔转移到含有300nm热氧化层二氧化硅的高掺杂的硅片上,所述石墨烯器件包括栅极、源极、漏极和导电沟道,所述导电沟道为表面修饰有金纳米粒子的石墨烯,单个石墨烯晶体管器件组成石墨烯晶体管器件阵列。
本发明提供的一种石墨烯DNA传感器的制备方法,具有以下优点:
1、本发明仅仅是将DNA连接在石墨烯的表面的金纳米粒子上,即可进行DNA的检测,是一种无标记检测方法。
2、本发明充分利用制备的石墨烯传感器的良好的导电性,能对样本进行高灵敏性的检测,具有很好的稳定性。
附图说明
图1石墨烯DNA传感器示意图。S为源极,D为漏极,1为石墨烯表面,2为金纳米粒子,3为DNA。
具体实施方式
下述实施例中所述实验方法,如无特殊说明,均为常规方法;所述材料,如无特殊说明,均可从商业途径获得。
本发明的石墨烯DNA传感器如图1,S为源极,D为漏极,石墨烯晶体管器件上石墨烯表面1上通过金纳米粒子2连接DNA3,从而构成石墨烯DNA传感器。
具体制备步骤是:
1)在铜箔上使用化学气相沉积的方法生长大面积连续的单层石墨烯;在CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)中放入铜箔,通入氢气和甲烷,在1050℃下反应后,氢气进行冷却保存。
2)把铜箔上生长的石墨烯浸泡在金纳米粒子溶液中;在CVD中的铜箔上生长石墨烯后,把该铜箔浸泡在10nm大小的金纳米粒子中过夜,然后用水冲洗后取出。
3)制备器件:a)利用柔性的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)高分子膜做担载,在所述已生长石墨烯的铜箔上旋涂PMMA薄膜,180℃烘2min,然后将样品置于饱和硝酸铁溶液中,将铜箔腐蚀掉,石墨烯包埋在PMMA薄膜中被分离出来。PMMA薄膜携带着石墨烯薄膜可以附着硅基底上,然后用丙酮除去PMMA薄膜即可。
b)在石墨烯上旋涂光刻胶,记为光刻胶1,对光刻胶1进行曝光得到标记图案,在标记图案处依次蒸镀厚度为1-100nm(如80nm)Cr层、20-1000nm(如200nm)Au层,除去光刻胶1,在石墨烯曝光位置处留下了蒸镀的金属标记,所述金属标记用于下两步光刻的位置对准标记;其中,所述石墨烯附着于表面具有二氧化硅层的硅基底上;
c)在步骤b得到的有金属标记的石墨烯上旋涂光刻胶2,通过步骤b的标记定位,曝光,留下条带状的光刻胶将部分石墨烯保护起来,其它部分通过曝光显影将石墨烯曝露出来,用氧等离子体刻蚀掉其它部分曝露的石墨烯,保护在条带状光刻胶下面的石墨烯不被刻蚀得以保留,除去光刻胶2,得到条带状石墨烯,将所述条带状石墨烯在氢气和氩气气氛下于400-450℃退火,清洁石墨烯条带的表面;
d)在步骤c得到的有石墨烯条带的硅片上旋涂光刻胶3,通过步骤b的标记定位在石墨烯条带上曝光源极和漏极电极图案,所述源极和漏极之间的间距为4-7μm,在所述电极图案上依次蒸镀厚度为1-100nm(如80nm)的Cr层、厚度为20-1000nm(如600nm)的Au层作为器件的源极和漏极,除去光刻胶3,得到所述石墨烯晶体管器件。
4)在3)中制备的石墨烯晶体管器件上,加入末端有巯基修饰的浓度为10μM的DNA序列HS-ATAGCGAGCAGATTAAG(SEQ ID NO.1),在37℃下过夜浸泡后,超纯水冲洗,探针台检测,获得清晰的检测信号。
Claims (4)
1. 一种石墨烯DNA传感器,包括两端具有电极的石墨烯晶体管器件,其特征在于,在石墨烯晶体管器件的石墨烯表面上通过金纳米粒子连接DNA。
2.根据权利要求1所述石墨烯DNA传感器的方法,其特征在于:首先在石墨烯晶体管器件的石墨烯表面上通过金纳米粒子连接DNA,然后制备两端具有电极的石墨烯晶体管器件,从而构成石墨烯DNA传感器。
3.根据权利要求2所述的石墨烯DNA传感器的制备方法,其特征在于包括下述步骤:
1)在铜箔上使用化学气相沉积的方法生长大面积连续的单层石墨烯;
2)把铜箔上生长的石墨烯浸泡在金纳米粒子溶液中;
3)将步骤2)得到的表面修饰有金纳米粒子的石墨烯,制备石墨烯晶体管器件;
4)在3)中加入末端有巯基修饰的DNA样本,在37°C下杂交60 min后,超纯水冲洗。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:步骤3)中石墨烯利用柔性的聚甲基丙烯酸甲酯高分子膜做载体,从铜箔转移到含有300nm热氧化层二氧化硅的高掺杂的硅片上,构建石墨烯晶体管器件。
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