CN103513312A - 制造光学片及制造具有光学片的有机发光显示装置的方法 - Google Patents
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Abstract
一种制造光学片的方法，包括：设置包括交替堆叠的多个第一遮光层和多个滤色器层的第一堆叠结构以及切割第一堆叠结构以形成多个光学膜。每个光学膜包括第一切割面和第二切割面，第二切割面与第一切割面平行，每个光学膜包括以第一方向延伸的多个遮光层部分和多个滤色器层部分。该方法还包括形成包括交替堆叠的多个第二遮光层和多个光学膜的第二堆叠结构以及切割第二堆叠结构以形成光学片，光学片包括第三切割面和第四切割面，第四切割面与第三切割面平行。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求于2012年6月22日向韩国知识产权局（KIPO）提交的韩国专利申请第10-2012-0067385号的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本公开涉及制造光学片的方法以及制造包括光学片的有机发光显示装置的方法。
背景技术
有机发光显示装置（OLED）能够使用其有机层中的提供自阳极的空穴与提供自阴极的电子复合产生的光来显示需要的信息，例如图像、字母和/或字符。OLED装置可确保较大的视角、较快的响应速度、较小的厚度以及较低的能耗等。因此，显然OLED装置为最值得开发的下一代显示装置之一。
OLED装置可包括像素阵列，像素阵列具有分别用于红色光、绿色光和蓝色光的像素。包括红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器的光学片可设置在OLED板上以改进颜色纯度。
发明内容
本发明的一方面提供了制造具有改进的光学性质的光学片的方法。
本发明的另一方面提供了制造包括具有改进的光学性质的光学片的有机发光显示装置的方法。
本发明的另一方面提供了制造光学片的方法。该方法包括：设置第一堆叠结构，第一堆叠结构包括交替堆叠的多个第一遮光层和多个滤色器层；切割第一堆叠结构以形成多个光学膜，多个光学膜中的每一个包括第一切割面和第二切割面，第二切割面与第一切割面平行，每个光学膜包括以第一方向延伸的多个遮光层部分和多个滤色器层部分，两个直接相邻的遮光层部分彼此间隔开，两个直接相邻的滤色器层部分彼此间隔开；形成第二堆叠结构，第二堆叠结构包括交替堆叠的多个第二遮光层和所述多个光学膜；切割第二堆叠结构以形成光学片，光学片包括第三切割面和第四切割面，第四切割面与第三切割面平行。
在上述方法中，第一切割面与第二切割面之间的距离可限定光学膜的厚度，第三切割面与第四切割面之间的距离可限定光学片的厚度。
在上述方法中，第一切割面和第二切割面可基本平行于第一方向，第三切割面和第四切割面可基本垂直于所述第一方向。
在上述方法中，形成第一堆叠结构可包括：重复进行在一个滤色器层上形成一个第一遮光层和在该第一遮光层上形成另一滤色器层的循环。
在上述方法中，形成第一堆叠结构可包括：设置多个第一遮光层；设置多个滤色器层；分别交替布置滤色器层和第一遮光层；以及层压滤色器层和第一遮光层以形成包括滤色器层和第一遮光层的第一堆叠结构。
在上述方法中，形成第二堆叠结构可包括重复进行在一个光学膜上形成一个第二遮光层和在该第二遮光层上形成另一光学膜的循环。
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在上述方法中，滤色器层中的每一个均可具有相同的厚度，第一遮光层中的每一个均可具有相同的厚度，光学膜中的每一个均可具有相同的厚度，第二遮光层中的每一个均可具有相同的厚度。
在上述方法中，第一遮光层中的每一个均可具有相同的厚度，第二遮光层中的每一个均可具有相同的厚度，滤色器层中的至少两个可具有彼此不同的厚度，光学膜中的至少两个可具有彼此不同的厚度。
在上述方法中，滤色器层可包括被配置为传递红色光的第一滤色器层、被配置为传递绿色光的第二滤色器层以及被配置为传递蓝色光的第三滤色器层。
在上述方法中，光学片可包括被配置为传递红色光的第一滤色器段、被配置为传递绿色光的第二滤色器段以及被配置为传递蓝色光的第三滤色器段。
本发明的另一方面提供了制造有机发光显示装置的方法。该方法包括：形成包括开关装置、第一电极、有机发光结构和第二电极的显示板，显示板包括像素阵列和与像素相邻的非像素区域，其中，像素以第一方向和第二方向布置，第二方向垂直于第一方向；以及在显示板上设置光学片，其中设置光学片包括：设置第一堆叠结构，第一堆叠结构包括交替堆叠的多个第一遮光层和多个滤色器层；切割第一堆叠结构以形成多个光学膜，多个光学膜中的每一个包括第一切割面和第二切割面，第二切割面与第一切割面平行，每个光学膜包括以第一方向延伸的多个遮光层部分和多个滤色器层部分，两个直接相邻的遮光层部分彼此间隔开，两个直接相邻的滤色器层部分彼此间隔开；形成第二堆叠结构，第二堆叠结构包括交替堆叠的多个第二遮光层和多个光学膜；切割第二堆叠结构以形成光学片，光学片包括第三切割面和第四切割面，第四切割面与第三切割面平行。
在上述方法中，第一切割面与第二切割面之间的距离可限定光学膜的厚度，第三切割面与所述第四切割面之间的距离可限定光学片的厚度。
在上述方法中，第一切割面和第二切割面可基本平行于第一方向，第三切割面和第四切割面可基本垂直于第一方向。
在上述方法中，滤色器层中的每一个均可具有相同的厚度，第一遮光层中的每一个均可具有相同的厚度，光学膜中的每一个均可具有相同的厚度，第二遮光层中的每一个均可具有相同的厚度。
在上述方法中，滤色器层之一的厚度可与像素之一的宽度和高度中的至少一个基本相同。
在上述方法中，光学膜之一的厚度可与像素之一的宽度和高度中的至少一个基本相同。
在上述方法中，像素阵列可包括第一像素、第二像素和第三像素，其中，光学片可包括与第一像素对应的第一滤色器段、与第二像素对应的第二滤色器段以及与第三像素对应的第三滤色器段。
根据实施方式，可在无需进行图案化处理的情况下获得包括第一滤色器部分至第三滤色器部分的光学片。当光学片布置在显示板上时，第一至第三滤色器段可与有机发光显示装置的像素相对应。因此，有机发光显示装置中的每个像素的色纯度可得到改进。
附图说明
通过结合附图参照以下详细的描述能够更清楚地理解实施方式。图1至图19表示本文所述的非限制性实施方式。
图1至图10为示出根据实施方式的制造光学片的方法的立体图；
图11至图14为示出根据一些实施方式的制造光学片的方法的立体图；
图15和图16为示出根据一些实施方式的制造光学片的方法的立体图；
图17至图19为示出根据实施方式的制造有机发光显示装置的方法的立体图和截面图。
具体实施方式
在下文中将参照附图对多个实施方式进行更全面的描述，其中一些实施方式已示出。然而，本发明能够以不同的形式实施并不应被解释为限制于本文所列举的实施方式。相反地，提供这些实施方式使得说明书全面并完整，并且向本领域技术人员全面传达出本发明的范围。在附图中，出于清楚的目的，层和区域的尺寸和相对尺寸可能被夸大。
可以理解，当元件或层被称为位于另一元件或层“上”、“连接至”或“联接至”另一元件或层时，该元件或层可直接位于另一元件或层上或直接连接或联接至另一元件或层，或者可存在中间元件或层。与此相反，当元件被称为“直接位于另一元件或层上”或“直接连接至”或“直接联接至”另一元件或层，则没有中间元件或层。在本文中相似的参考标记表示相似的元件。如本文所使用的，用语“和/或”包括一个或多个相关的列出项的任意及所有组合。
可以理解，虽然本文中使用用语第一、第二、第三等来描述多个元件、部件、区域、层和/或部分，但这些元件、部件、区域、层和/或部分不应由这些用语限制。这些用语仅用于将一个元件、部件、区域、层和/或部分与另一个区域、层或部分区分开。因此，下面讨论的第一元件、部件、区域、层和/或部分可被称为第二元件、部件、区域、层和/或部分而不背离本发明的教导。
出于便于描述的目的，本文可使用空间相对用语例如“之下”、“下方”、“下面”、“之上”、“上方”等以描述附图所示的一个元件或特征与另一元件或特征之间的关系。可以理解，空间相对用语旨在包含除了附图中示出的定向之外，装置在使用或运行过程中的不同定向。例如，如果附图中的装置被翻转，则描述为位于其他元件或特征“下方”或“之下”的元件或特征会被定向为位于其他元件或特征“上方”。因此，示例性的用语“下方”可包括向上和向下两个定向。因此，装置可被定向成或通过本文使用的空间相对描述词语解释为其他定向（例如旋转90度或被布置成其他定向）。
本文使用的专用术语仅用于描述具体实施方式的目的并非旨在限制本发明。如本文所使用的，单数形式“a”、“an”和“the”也旨在包括复数形式，除非文中清楚地另有所指。还可以理解，当说明书中使用用语“comprises（包括）”和/或“comprising（包括）”时，指的是所声明的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，而不是排除其他一个或多个特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的存在。
本文中参照截面图描述了实施方式，其为理想化实施方式（及中间结构）的示意性说明。因此，期待说明中的例如由于制造技术和/或公差导致的形状变形。因此，实施方式不应被解释为限于本文示出的区域的特定形状，而是包括例如制造导致的形状偏差。例如，示出为矩形的嵌入区域通常具有圆形或曲线形特征和/或位于其边缘的嵌入集中的逐渐变化而不是从嵌入至非嵌入区域的二元变化。类似地，通过嵌入形成的埋入区域可导致埋入区域与发生嵌入的表面之间的区域中的一定程度的嵌入。因此，图中示出的区域本质上为示意性的，其形状并不旨在示出装置的区域的实际形状，并且也不旨在限制发明的范围。
除非另有所指，本文使用的所有用语（包括技术和科学用语）具有与本发明所述领域技术人员的一般理解相同的意义。还应理解，例如常用字典中定义的用语应被解释为具有与其在相关技术领域背景中相一致的意义，而且不被解释为理想化或过于正式的意义，除非本文清楚地另有限定。
图1至图10为示出根据实施方式的制造光学片的方法的立体图。在实施方式中，光学片可被用于包括像素阵列的有机发光装置，像素阵列包括红色像素、绿色像素和蓝色像素。
参照图1，第一滤色器层110可形成在第一遮光层100a上。
第一遮光层100a可包括可阻挡入射光的有机材料。例如，第一遮光层100a可包括粘合树脂、黑色颜料等。第一遮光层100a可具有预定的厚度。在实施方式中，第一遮光层100a的厚度可与显示装置的两个直接相邻的像素之间的距离基本相等或相似（参见图17）。
第一滤色器层110可涂覆在第一遮光层100a上。在实施方式中，第一滤色器层110可通过浸涂处理、旋涂处理、丝网涂覆处理、喷涂处理、刮刀涂覆处理、凹版涂覆处理、超声波雾化涂覆处理、喷雾雾化涂覆处理、胶版印刷处理、喷墨印刷处理、衬垫印刷处理等获得。
在实施方式中，第一滤色器层110可通过使用涂覆液的旋涂处理形成在第一遮光层100a上，涂覆液可包括粘合树脂、光聚合引发剂、第一色颜料等。
第一滤色器层110可允许红色光、绿色光和蓝色光之一从中穿过。在一个实施方式中，第一滤色器层110可对红色光具有较高的透明度。
第一滤色器层110可具有预定厚度。第一滤色器层110的厚度可与显示装置的像素的宽度和高度中的至少一个基本相等或相似（参见图17）。
参照图2，另一个第一遮光层100b和第二滤色器层120可顺序地形成在第一滤色器层110上。
另一个第一遮光层100b可分别具有与第一遮光层100a的厚度和材料基本相同或相似的厚度和材料。例如，另一个第一遮光层100b可通过浸涂处理、旋涂处理、丝网涂覆处理、喷涂处理、刮刀涂覆处理、凹版涂覆处理、超声波雾化涂覆处理、喷雾雾化涂覆处理、胶版印刷处理、喷墨印刷处理、衬垫印刷处理等形成在第一滤色器层110上。
第二滤色器层120可涂覆在另一个第一遮光层100b上。第二滤色器层120可通过与形成第一滤色器层110的处理基本相同或相似的处理形成。例如，第二滤色器层120可通过使用涂覆液的旋涂处理获得，涂覆液可包括粘合树脂、光聚合引发剂、第二色颜料等。
第二滤色器层120可允许红色光、绿色光和蓝色光之一从中穿过。在一个实施方式中，第二滤色器层120可对绿色光具有较高的透明度。
第二滤色器层120的厚度可与显示装置的像素的宽度和高度中的至少一个基本相等或相似（参见图17）。在实施方式中，第二滤色器层120可具有与第一滤色器层110基本相同或相似的厚度。
参照图3，又一第一遮光层100c和第三滤色器层130可形成在第二滤色器层120上，上述处理可重复进行以提供第一堆叠结构140，第一堆叠结构140包括第一遮光层100a、100b和100c以及第一滤色器层110、第二滤色器层120和第三滤色器层130。
用于形成又一第一遮光层100c和第三滤色器层130的处理可与参照图2所述的用于形成另一第一遮光层100b和第二滤色器层120的处理基本相同或相似。然而，与第二滤色器层120相比，第三滤色器层130可允许不同颜色的光穿过。在一个实施方式中，第三滤色器层130可对蓝色光具有较高的透明度。
参照图1至图3描述的涂层处理可重复进行以提供第一堆叠结构140，第一堆叠结构140包括多个第一遮光层100a、100b、100c和100d以及多个滤色器层110、120、130，这些层可交替且重复堆叠。在实施方式中，第一滤色器层110至第三滤色器层130能够以如图1至图3所示的顺序涂覆。在一些实施方式中，第一滤色器层110至第三滤色器层130能够以与图1至图3所示的顺序基本不同的顺序形成。
在实施方式中，第一堆叠结构140可包括第一遮光层100a、100b、100c和100d，这些第一遮光层具有基本相同的厚度。此外，第一堆叠结构140可包括第一至第三滤色器层110、120、130，这些滤色器层可具有基本相同的厚度。在一些实施方式中，第一堆叠结构140可包括彼此厚度基本不同的第一遮光层100a、100b、100c和100d。
出于方便示出及描述的目的，如图3所示，第一堆叠结构140可被示出为包括4个第一遮光层100a、100b、100c和100d和3个滤色器层110、120和130，然而，本发明并不限于这样的第一堆叠结构140的构造。例如，用于形成第一遮光层100a、100b、100c和100d的处理以及用于形成第一滤色器层110至第三滤色器层130的处理能够重复进行上百次至上千次。因此，第一堆叠结构140可包括成百或成千的第一遮光层和滤色器层，这些层交替且重复堆叠。在实施方式中，第一遮光层和滤色器层的数量可与显示面板的一行或一列中的像素数量相对应（参见图17）。
参照图4，第一堆叠结构140可被切割开以提供第一切割面142。
第一堆叠结构140的第一部分可通过光学处理、物理处理、热处理、化学处理或其组合进行切割。在一个实施方式中，第一堆叠结构140的第一部分可使用激光切割机进行切割。在另一实施方式中，第一堆叠结构140的第一部分可使用旋转切割刀片进行切割。
如上所述，可获得第一切割面142。第一切割面142可相对于第一遮光层100a、100b、100c和100d以及滤色器层110、120和130之间的接触面形成预定的角度。例如，第一切割面142可基本垂直于第一遮光层100a与第一滤色器层110之间的接触面。
参照图5，第一堆叠结构140可被切割或刨切以提供第二切割面144，从而形成第一光学膜150。
第一堆叠结构140的具有第一切割面142的第二部分可通过光学处理、物理处理、热处理、化学处理或其组合进行切割。例如，第一堆叠结构140的第二部分的切割处理可与参照图4所述的处理基本相同。
如上所述，可获得第二切割面144。第二切割面144可与第一切割面142基本相对。在实施方式中，第二切割面144可与第一切割面142基本平行。此外，第二切割面144可与第一切割面142间隔开预定的距离。第一切割面142与第二切割面144之间的距离可与显示装置的像素的宽度和高度中的至少一个基本相同或相似（参见图17）。在实施方式中，当第一至第三滤色器层110、120、130的厚度与显示装置的像素的高度基本相同或相似时，第一切割面142与第二切割面144之间的距离可与显示装置的像素的高度基本相同或相似。在实施方式中，当第一至第三滤色器层110、120、130的厚度与显示装置的像素的宽度基本相同或相似时，第一切割面142与第二切割面144之间的距离可与显示装置的像素的宽度基本相同或相似。
通过上述切割处理，可获得具有第一切割面142和第二切割面144的第一光学膜150。在这种情况下，第一光学膜150的厚度可与第一切割面142和第二切割面144之间的距离基本相同或相似。此外，第一光学膜150可包括多个细长遮光层部分或细长遮光层带105以及第一细长滤色器层至第三细长滤色器层部分或带115、125和135，这些部分或带能够以预定的方向延伸。
出于方便示出及描述的目的，用于形成第一切割面142的处理和用于形成第二切割面144的处理可依次进行。然而，本发明并不限于上述次序。例如，用于形成第一切割面142的处理和用于形成第二切割面144的处理可同时进行。
参照图6，第一光学膜150可形成在第二遮光层160a上。
第二遮光层160a可包括与参照图1描述的第一遮光层100a的材料基本相同或相似的材料。
通过参照图1至图5所述的处理形成的第一光学膜150可布置在第二遮光层160a上。在这种情况下，第一光学膜150可包括多个遮光层部分105以及第一至第三滤色器层部分115、125和135。
在实施方式中，第一光学膜150可被层压在第二遮光层160a上。在一些实施方式中，还可另外在第一光学膜150与第二遮光层160a之间形成有粘合层（未示出）。
参照图7，在第一光学膜150上可形成有另一第二遮光层160b。
另一第二遮光层160b可包括与参照图6所述的第二遮光层160a的材料基本相同或相似的材料。在实施方式中，另一第二遮光层160b可具有与参照图6所述的第二遮光层160a的厚度基本相同或相似的厚度。在一些实施方式中，另一第二遮光层160b可具有与参照图6所述的第二遮光层160a的厚度不同的厚度。
另一第二遮光层160b可通过与参照图2所述的涂覆处理基本相同或相似的涂覆处理涂覆在第一光学膜150上。
参照图8，上述参照图6和图7所述的处理可重复进行以提供第二堆叠结构170。
通过进行上述处理，第二堆叠结构170可被形成为包括多个第二遮光层160a、160b、160c和160d以及第一至第三光学膜150、151、152，这些层和膜交替且重复布置。也就是说，另一第二遮光层160b可涂覆在第一光学膜150上，第二光学膜151可形成在另一第二遮光层160b上，又一第二遮光层160c可涂覆在第二光学膜151上。第三光学膜152和又一第二遮光层160d可依次形成在又一第二遮光层160c上。用于形成第二光学膜151和第三光学膜152的处理可与用于形成第一光学膜150的处理基本相同或相似。
在实施方式中，第二堆叠结构170可包括具有基本相同的厚度的第二遮光层160a、160b、160c和160d以及具有基本相同的厚度的第一至第三光学膜150、151、152。在一些实施方式中，第二堆叠结构170可包括彼此厚度基本不同的第二遮光层160a、160b、160c和160d。
出于方便示出及描述的目的，如图8所示，第二堆叠结构170可包括4个第二遮光层160a、160b、160c和160d以及3个光学膜150、151、152，然而，本发明不限于这样的第二堆叠结构170的构造。例如，例如，用于形成第二遮光层的处理以及用于形成光学膜的处理能够重复进行上百次至上千次。因此，第二堆叠结构170可包括成百或成千的第二遮光层和光学膜，这些层交替且重复堆叠。
参照图9，第二堆叠结构170可被切割以提供第三切割面172。
第二堆叠结构170的第一部分可通过光学处理、物理处理、热处理、化学处理或其组合进行切割。在一个实施方式中，第二堆叠结构170的第一部分的切割处理可与参照图4描述的方法基本相同。因此，第三切割面172可相对于第二遮光层160a、160b、160c和160d以及3个光学膜150、151和152之间的接触面形成预定的角度。例如，第三切割面172可基本垂直于第二遮光层160a与第一光学膜150之间的接触面，并能够基本垂直于第一至第三滤色器层部分115、125、135可延伸的方向。
参照图10，第二堆叠结构170可被切割或刨切以提供第四切割面174，从而形成光学片180。
具有第三切割面172的第二堆叠结构170的第二部分可通过光学处理、物理处理、热处理、化学处理或其组合进行切割。在实施方式中，第四切割面174可与第三切割面172基本平行，并可与第三切割面172间隔开预定的距离。因此，光学片180可具有第三切割面172和第四切割面174。光学片180可包括第一至第三滤色器层部分115、125和135，这些滤色器层部分可彼此间隔开。如图10所示，在实施方式中，第一滤色器层部分115可形成具有相同y坐标的阵列。第二滤色器层部分125和第三滤色器层部分135中的每一个均可分别形成具有相同y坐标的阵列。
第一至第三滤色器层部分115、125和135可分别与显示装置的像素相对应（参见图17）。例如，第一至第三滤色器层部分115、125和135可与这些像素具有基本相同的面积和形状。因此，可在无需进行任何图案化处理的情况下获得包括第一至第三滤色器层部分115、125和135的光学片180。
图11至图14为示出根据一些实施方式的制造光学片的方法的立体图。
参照图11，多个第一遮光层200a、200b、200c和200d以及第一至第三滤色器层210、220、230可交替且重复堆叠，从而设置第一堆叠结构240。
用于形成第一堆叠结构230的处理可与参照图1至图3所述的处理基本相同或相似。然而，第一滤色器层210、第二滤色器层220和第三滤色器层230可分别具有不同的厚度。在实施方式中，如图11所示，第二滤色器层220可对绿色光具有相对较高的透明度，并可具有基本大于第一滤色器层210的厚度。可替换地，第三滤色器层230可对蓝色光具有相对较高的透明度，并可具有基本大于第一滤色器层210的厚度。第一至第三滤色器层210、220、230的厚度可分别与显示装置的像素的宽度或高度基本相同或相似。
第一堆叠结构240不限于图11所示出的那样。例如，第一堆叠结构240可包括交替且重复堆叠的成百或成千的第一遮光层和滤色器层。
参照图12，第一堆叠结构240可被切割或刨切以形成第一光学膜250。
第一堆叠结构240的切割处理可与参照图4和图5所述的处理基本相同或相似。因此，第一光学膜250可包括多个遮光层部分205以及彼此宽度不同的第一至第三滤色器层部分215、225、235。
参照图13，第二遮光层260a、260b、260c和260d以及第一至第三光学膜250、251和252可交替且重复堆叠以设置第二堆叠结构270。
第一至第三光学膜250、251和252可通过重复进行参照图11和图12所述的处理来形成。然后，第二遮光层260a、260b、260c和260d以及第一至第三光学膜250、251和252可交替且重复堆叠。
在实施方式中，第二遮光层260a、260b、260c和260d中的每一个均具有基本相同的厚度。
出于方便示出及描述的目的，如图13所示，第二堆叠结构270可包括4个第二遮光层260a、260b、260c和260d以及3个光学膜250、251、252，然而，本发明不限于这样的第二堆叠结构270的构造。例如，第二堆叠结构170可包括成百或成千的第二遮光层和光学膜，这些层交替且重复堆叠。
参照图14，第二堆叠结构270可被切割或刨切以形成具有第三切割面272和第四切割面274的光学片280。
第二堆叠结构270的切割处理可与参照图4和图5描述的处理基本相同或相似。第三切割面272和第四切割面274可相对于第一至第三滤色器层段215、225、235可延伸的方向成预定角度。例如，第三切割面272和第四切割面274可基本垂直于该方向。此外，第四切割面274可与第三切割面272分隔开预定距离。因此，光学片280可被形成为包括遮光层图案205和第一至第三滤色器层段215、225、235的阵列，第一至第三滤色器层段215、225、235可彼此分隔开。第一至第三滤色器层段215、225、235可分别具有不同的宽度和面积。
第一至第三滤色器层段215、225、235可与显示装置的像素基本对应（参见图17）。例如，第一至第三滤色器层段215、225、235可分别具有与像素的面积和形状基本相同的面积和形状。因此，在无需进行任何图案化处理的情况下可获得包括第一至第三滤色器层段215、225、235的光学片280。
图15和图16为示出根据一些实施方式的制造光学片的方法的立体图。
参照图15，第一遮光膜300a、300b、300c和300d以及第一至第三滤色器膜310、320和330可交替且重复布置。
在实施方式中，可设置成百或成千的第一遮光膜，还可设置成百或成千的第一至第三滤色器膜310、320和330。
在实施方式中，第一遮光膜300a、300b、300c和300d可与参照图1所述的第一遮光层100a、100b、100c和100d基本相同或相似，第一至第三滤色器膜310、320和330可与参照图1至图3所述的第一至第三滤色器层110、120和130基本相同或相似。
在实施方式中，第一遮光膜300a、300b、300c和300d中的每一个可包括透明压敏粘合剂，例如基于橡胶的粘合剂、基于丙烯酸的粘合剂、基于乙烯基酯的粘合剂、基于硅的粘合剂、基于聚氨酯的粘合剂等。
参照图16，第一遮光膜300a、300b、300c和300d以及第一至第三滤色器膜310、320和330可进行组合以提供第一堆叠结构340，第一堆叠结构340包括第一遮光层301a、301b、301c和301d和滤色器层311、321和331。
当第一遮光膜300a、300b、300c和300d还包括粘合剂时，第一堆叠结构340不需要另外的粘合剂层来将第一遮光膜300a、300b、300c和300d与第一至第三滤色器膜310、320和330粘合在一起。在实施方式中，当第一遮光膜300a、300b、300c和300d包括压敏粘合剂时，第一遮光膜300a、300b、300c和300d和第一至第三滤色器膜310、320和330可交替且重复布置，然后向其施加压力以形成第一堆叠结构340。
出于方便示出及描述的目的，如图16所示，第一堆叠结构340可包括4个第一遮光层301a、301b、301c和301d以及3个滤色器层311、312和313，然而，本发明并不限于这样的第一堆叠结构340的构造。例如，第一堆叠结构340可包括成百或成千的第一遮光层和滤色器层，这些层交替且重复堆叠。
用于形成光学片的处理可与参照图4至图10所述的处理基本相同或相似，因此省略其详细描述。
图17为示出根据实施方式的制造有机发光显示装置的方法的立体图，图18和图19为示出制造沿图17的线I-I’所取的有机发光显示装置的方法的截面图。
参照图18，可设置有机发光显示装置的显示板500。
显示板500可被形成为包括第一基底510、开关结构、第一电极570、发光结构、第二电极620等。虽然图18所示的有机发光显示装置可为底部发光型，但根据包括在第一电极570和第二电极620中的材料，有机发光显示装置还可为顶部发光型。
第一基底510可包括透明绝缘基底。例如，第一基底510可包括玻璃基底、透明塑料基底等。可替换地，第一基底510可包括柔性基底。
当有机发光显示装置为有源矩阵型时，开关结构可形成在第一电极510上。在实施方式中，开关结构可包括开关装置、至少一个绝缘层、接头、焊盘、插头等。在本文中，开关装置可包括薄膜晶体管（TFT）、氧化物半导体器件等。
当开关结构中的开关装置包括薄膜晶体管时，可通过形成半导体层530、栅电极552、源电极554、漏电极556等来获得开关装置。
在实施方式中，半导体层530可被形成在第一基底510上，半导体层530可通过离子注入处理被分成源极区534、漏极区536以及沟道区532。然后，栅极绝缘层540可被形成为使半导体层530电绝缘。
栅电极552可形成在栅极绝缘层540上，然后第一绝缘层560可形成在栅极绝缘层540和栅电极552上。
源电极554和漏电极556可被形成为穿过栅极绝缘层540和第一绝缘层560以分别与源电极534和漏电极536接触。然后，第二绝缘层560可被形成为使源电极554和漏电极556电绝缘。
在图18所示的有机发光显示装置中，包括薄膜晶体管的开关装置可具有顶部栅极构造，其中栅电极552可布置在半导体层530上，然而，开关装置的构造并不限于此。例如，开关装置可具有底部栅极构造，其中栅电极可布置在半导体层之下。
在第一绝缘层560上可形成有第二绝缘层565以基本覆盖源电极554和漏电极556。在实施方式中，第二绝缘层565可通过平坦化处理获得基本平坦的表面，例如化学机械抛光（CMP）处理、回蚀处理等。
第一电极570可形成在开关结构上，像素限定层575可形成在开关结构上的未设有第一电极570的区域。
参照图18，发光结构可通过形成空穴传输层590、通过形成有机发光层600、通过形成电子传输层610等而获得。有机发光层600可使用用于产生红色光、绿色光和/或蓝色光的有机材料或有机材料与无机材料的混合物形成。在一些实施方式中，有机发光层600可具有堆叠结构，堆叠结构包括用于产生红色光、绿色光和蓝色光的多个发光膜以提供白色光。
在实施方式中，有机发光层600可形成在每个像素区域或像素I中，像素限定层575可形成在外周区域或非像素区域II中。因此，由有机发光层600产生的光可从像素区域I发出，而光不会从外周区域II发出。换言之，像素限定层575可限定有机发光显示装置的各个像素区域I。
在实施方式中，第一电极570可用作阳极以将空穴提供至发光结构的空穴传输层590，第二电极620可用作阴极以将电子提供至电子传输层610。根据有机发光显示装置的发光类型，第一电极570可为透明电极或半透明电极，第二电极620可为反射电极。例如，第一电极570可使用透明导电材料形成，例如氧化铟锡（ITO）、氧化锌锡（ZTO）、氧化铟锌（IZO）、锌氧化物（ZnOx）、锡氧化物（SnOX）、镓氧化物（GaOx）等。第二电极620可使用反射材料形成，例如铝（Al）、钨（W）、铜（Cu）、镍（Ni）、铬（Cr）、钼（Mo）、钛（Ti）、铂（Pt）、银（Ag）、钽（Ta）、钌（Ru）、以及其合金和氮化物等。这些材料可单独使用或组合使用。
在第二电极620上可形成有第二基底660。第二基底660可使用透明基底例如玻璃基底、石英基底、透明树脂基底等形成。可替换地，第二基底660可使用柔性基底形成。第二基底660可与第一基底510基本相反。
显示板500可包括像素区域I和外周区域II。像素区域I能够以第一方向和第二方向布置，第二方向基本垂直与第一方向。例如，像素区域I能够以基本矩阵结构的方式布置。外周区域II可围绕像素区域I。在实施方式中，像素区域I可包括用于红色光的第一像素、用于绿色光的第二像素和用于蓝色光的第三像素。
参照图17至图19，光学片480可形成在显示板500上。
形成光学片480的处理可与参照图1至图10描述的处理基本相同或相似。也就是说，光学片480可包括第一至第三滤色器段415、425、435和遮光部400。
第一滤色器部分至第三滤色器段415、425、435可分别与像素区域I相对应，遮光层400可与外周区域II相对应。例如，第一滤色器段415可与红色像素相对应，第二滤色器段425可与绿色像素相对应，第三滤色器段435可与蓝色像素相对应。
有机发光显示装置的视角可通过改变光学片480的厚度来控制。在实施方式中，当光学片480具有相对较大的厚度时，有机发光显示装置的视角可减小。也就是说，沿基本垂直于光学片480的方向（即有机发光显示装置的正面方向）行进的色光可穿过第一滤色器段415、第二滤色器段425或第三滤色器段435。然而，沿与正反向成预定角度的方向（即有机发光显示装置的侧面方向）行进的色光可被遮光部400阻挡。当光学片480具有相对较大的厚度时，沿正面方向行进的色光可穿过光学片480，沿侧面方向行进的色光可被阻挡。因此，有机发光显示装置的视角可减小。
根据实施方式，在无需进行任何图案化处理的情况下可获得包括第一滤色器部分至第三滤色器段415、425、435的光学片480。光学片480可布置在显示板500上以改进有机发光显示装置的每个像素区域中的色纯度。因此，有机发光显示装置的图像质量可得到改进。
上文为对实施方式的说明并且不应被解释为对实施方式的限制。虽然仅描述了少量实施方式，但本领域技术人员可容易地理解，能够对实施方式进行多种修改而不背离本发明的新颖性教导和优点。因此，所有这些修改旨在包括在权利要求限定的本发明的范围内。在权利要求中，装置加功能的项旨在覆盖执行所述功能的本文所述的结构，不仅覆盖结构化的等同物还覆盖等同的结构。因此，可以理解，上文为对多个实施方式的说明而不应被解释为对所公开的具体实施方式的限制，对所公开的实施方式以及其它实施方式的修改旨在包括在所附的权利要求的范围内。
Claims (18)
1.一种制造光学片的方法，所述方法包括：
设置第一堆叠结构，所述第一堆叠结构包括交替堆叠的多个第一遮光层和多个滤色器层；
切割所述第一堆叠结构以形成多个光学膜，所述多个光学膜中的每一个包括第一切割面和第二切割面，所述第二切割面与所述第一切割面平行，每个光学膜包括沿第一方向延伸的多个遮光层部分和多个滤色器层部分，两个直接相邻的遮光层部分彼此间隔开，两个直接相邻的滤色器层部分彼此间隔开；
形成第二堆叠结构，所述第二堆叠结构包括交替堆叠的多个第二遮光层和所述多个光学膜；
切割所述第二堆叠结构以形成光学片，所述光学片包括第三切割面和第四切割面，所述第四切割面与所述第三切割面平行。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一切割面与所述第二切割面之间的距离限定所述光学膜的厚度，所述第三切割面与所述第四切割面之间的距离限定所述光学片的厚度。
3.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一切割面和所述第二切割面平行于所述第一方向，所述第三切割面和所述第四切割面垂直于所述第一方向。
4.如权利要求1所述的方法，其中，形成所述第一堆叠结构包括：
重复进行在一个滤色器层上形成一个第一遮光层和在所述一个第一遮光层上形成另一滤色器层的循环。
5.如权利要求1所述的方法，其中，形成所述第一堆叠结构包括：
设置多个第一遮光层；
设置多个滤色器层；
分别交替布置所述滤色器层和所述第一遮光层；以及
层压所述滤色器层和所述第一遮光层以形成包括所述滤色器层和所述第一遮光层的第一堆叠结构。
6.如权利要求1所述的方法，其中，形成所述第二堆叠结构包括：
重复进行在一个光学膜上形成一个第二遮光层和在所述一个第二遮光层上形成另一光学膜的循环。
7.如权利要求1所述的方法，其中，形成所述第二堆叠结构包括：
设置多个第二遮光层；
设置多个光学膜；
分别交替布置所述光学膜和所述第二遮光层；以及
层压所述光学膜和所述第二遮光层以形成包括所述多个光学膜和所述多个第二遮光膜的第二堆叠结构。
8.如权利要求1所述的方法，其中，所述滤色器层中的每一个均具有相同的厚度，所述第一遮光层中的每一个均具有相同的厚度，所述光学膜中的每一个均具有相同的厚度，所述第二遮光层中的每一个均具有相同的厚度。
9.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一遮光层中的每一个均具有相同的厚度，所述第二遮光层中的每一个均具有相同的厚度，所述滤色器层中的至少两个具有彼此不同的厚度，所述光学膜中的至少两个具有彼此不同的厚度。
10.如权利要求1所述的方法，其中，所述滤色器层包括被配置为传递红色光的第一滤色器层、被配置为传递绿色光的第二滤色器层以及被配置为传递蓝色光的第三滤色器层。
11.如权利要求1所述的方法，其中，所述光学片包括被配置为传递红色光的第一滤色器段、被配置为传递绿色光的第二滤色器段以及被配置为传递蓝色光的第三滤色器段。
12.一种制造有机发光显示装置的方法，所述方法包括：
形成包括开关装置、第一电极、有机发光结构和第二电极的显示板，所述显示板包括像素的阵列和与所述像素相邻的非像素区域，其中，所述像素沿第一方向和第二方向布置，所述第二方向垂直于所述第一方向；以及
在所述显示板上设置光学片；
其中设置所述光学片包括：
设置第一堆叠结构，所述第一堆叠结构包括交替堆叠的多个第一遮光层和多个滤色器层；
切割所述第一堆叠结构以形成多个光学膜，所述多个光学膜中的每一个包括第一切割面和第二切割面，所述第二切割面与所述第一切割面平行，每个光学膜包括沿第一方向延伸的多个遮光层部分和多个滤色器层部分，两个直接相邻的遮光层部分彼此间隔开，两个直接相邻的滤色器层部分彼此间隔开；
形成第二堆叠结构，所述第二堆叠结构包括交替堆叠的多个第二遮光层和所述多个光学膜；
切割所述第二堆叠结构以形成光学片，所述光学片包括第三切割面和第四切割面，所述第四切割面与所述第三切割面平行。
13.如权利要求12所述的方法，其中，所述第一切割面与所述第二切割面之间的距离限定所述光学膜的厚度，所述第三切割面与所述第四切割面之间的距离限定所述光学片的厚度。
14.如权利要求12所述的方法，其中，所述第一切割面和所述第二切割面平行于所述第一方向，所述第三切割面和所述第四切割面垂直于所述第一方向。
15.如权利要求12所述的方法，其中，所述滤色器层中的每一个均具有相同的厚度，所述第一遮光层中的每一个均具有相同的厚度，所述光学膜中的每一个均具有相同的厚度，所述第二遮光层中的每一个均具有相同的厚度。
16.如权利要求15所述的方法，其中，所述滤色器层之一的厚度与所述像素之一的宽度和高度中的至少一个相同。
17.如权利要求15所述的方法，其中，所述光学膜之一的厚度与所述像素之一的宽度和高度中的至少一个相同。
18.如权利要求15所述的方法，其中，所述像素的阵列包括第一像素、第二像素和第三像素，其中，所述光学片包括与所述第一像素对应的第一滤色器段、与所述第二像素对应的第二滤色器段以及与所述第三像素对应的第三滤色器段。
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