CN103409061B

CN103409061B - 用于电容触摸屏的导电材料、电容触摸屏及其制备方法

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Publication number: CN103409061B
Application number: CN201310047827.3A
Authority: CN
Inventors: 周忠
Original assignee: SHENZHEN HAIFULAI ELECTRONIC Co Ltd
Current assignee: SHENZHEN HAIFULAI ELECTRONIC Co Ltd
Priority date: 2013-02-06
Filing date: 2013-02-06
Publication date: 2015-12-02
Anticipated expiration: 2033-02-06
Also published as: CN103409061A

Abstract

本发明公开了一种用于电容触摸屏的导电材料、电容触摸屏的制备方法以及电容触摸屏。该导电材料包括以下重量百分比的组分：60~97%有机导电聚合物、0.4~25%成膜树脂、2~15%高沸点极性溶剂和0.1~1.5%表面活性剂。本发明用于电容触摸屏的导电材料以有机导电聚合物为基础材料，通过添加的成膜树脂和高沸点极性溶剂的协同作用，使得该导电材料在经蚀刻形成导电功能图案的色差小，导电稳定性能和透过率高。另外，还增强了有机导电聚合物对光照的敏感性。电容触摸屏含有该用于电容触摸屏的导电材料，其可以采用蚀刻或印刷制备功能图案层，制备方法工艺简单，条件易控，成本低廉，对设备要求低，适于工业化生产。

Description

用于电容触摸屏的导电材料、电容触摸屏及其制备方法

技术领域

本发明属于触摸屏技术领域，具体涉及一种用于电容触摸屏的导电材料、电容触摸屏及其制备方法。

背景技术

随着计算机及网络技术日益普及，电子行业的迅猛发展，要求印刷制备电子器件及制备柔性电子器件的技术不断完善，由此带动了采用印刷、涂布、蚀刻等各种方式制备电子器件的工艺不断发展。配合此类工艺的材料：如银浆、铝浆、碳浆、高分子聚合物、碳纳米管等导电材料不断涌现。

目前已知的导电材料由于本身的特性及图形化技术的缺陷，在很多方面大规模的实际应用被限制了。比如：用铝浆和银浆来图形化，银浆和铝浆的不透明特性就限制了其用途。又比如：碳纳米管的导电涂料虽然具有对可见光较好的透过性，但是其特性决定其图形化只能采用激光或者印刷制版的方式来形成。而形成图形后，图形之间的色差，不能满足实际的应用。

由于上述无机材料固有的缺陷，有机导电聚合物材料开始用于触摸屏领域。随着导电聚合物技术的发展，目前已出现采用有机导电聚合物代替传统的氧化铟锡（ITO）作为透明电极的触摸屏。与ITO相比，有机导电聚合物具有一系列的优势，例如，比ITO膜更加柔软，不容易产生微小裂缝，具有更长的使用寿命；可直接涂布在基材上，在空气中、且在具有比ITO更低的温度条件下成膜特性，具有更高的量产能力。另外，结合触摸屏基材，可制备出柔性触摸屏，实现弯曲变形等，在更多领域应用。因此，导电聚合物代替ITO作为触摸屏导电材料，将引起触摸屏变革式地发展。

但是，有机导电聚合物在触摸屏上大规模的推广使用仍然存在困难，这与有机导电聚合物本身的特性和触摸屏生产工艺有关。如目前出现了采用有机导电聚合物作为电阻触摸屏的导电材料，但是由于电阻触摸屏的制备工艺中要进行UV固化工序，当将该有机导电聚合物如聚噻吩导电材料在制作电阻触摸屏电极时，由于其对光敏感，导电性能稳定差，在UV固化工序时而导致制备的电极导电性能差。为了克服该该有机导电聚合物如聚噻吩导电材料对光敏感，导电性能稳定差的这一缺陷，研发人员向该有机导电聚合物中添加具有能降低该有机导电聚合物对光敏感的添加剂，来钝化有机导电聚合物如聚噻吩导电材料的光敏感性能，提高其导电的稳定性能，但是效果不是很理想，由此导致该有机导电聚合物如聚噻吩导电材料在电阻触摸屏领域推广缓慢。当然也有研发人员试图将该有机导电聚合物如聚噻吩导电材料用于电容触摸屏领域，但是在应用中经刻蚀形成的图形不但导电性能稳定差，更重要的是蚀刻形成的图形颜色色差大，如△E以及△Lab值较大，不符合生产要求，严重影响了视觉效果，造成产品缺陷，甚至无法使用。

发明内容

本发明实施例的目的在于克服现有技术的上述不足，提供一种可改善图案色差，具有稳定导电能力和优异透过率的电容触摸屏导电材料。

本发明实施例的另一目的是提供一种形成图案色差小，具有稳定导电能力和优异透过率的电容触摸屏。

本发明实施例的又一目的是提供一种能有效降低形成图案色差，工艺简单，条件易控，生产成本低的电容触摸屏制备方法。

本发明实施例的再一目的是提供一种电容触摸屏导电材料在电子标签和EL冷光片中应用。

为了实现上述发明目的，本发明的技术方案如下：

一种用于电容触摸屏的导电材料，包括如下重量百分比的组分：

有机导电聚合物60~97%

成膜树脂0.4~25%

高沸点极性溶剂2~15%

表面活性剂0.1~1.5%

其中，高沸点极性溶剂的沸点为100~350℃。

以及，一种电容触摸屏，包括基材和层叠结合在所述基材一表面的导电功能图案层，所述导电功能图案层是由上述用于电容触摸屏的导电材料形成。

以及，一种电容触摸屏的制备方法，包括如下步骤：

将上述用于电容触摸屏的导电材料涂覆在基材任一表面，干燥处理后形成导电层；

按照电容触摸屏功能图案对所述形成导电层屏蔽处理后进行刻蚀，形成导电功能图案；

或将上述用于电容触摸屏的导电材料按照电容触摸屏功能图案印刷在基材任一表面，干燥处理后形成导电功能图案。

以及，上述用于电容触摸屏的导电材料在电子标签和EL冷光片中应用。

上述用于电容触摸屏的导电材料以有机导电聚合物为基础材料，通过添加的成膜树脂和高沸点极性溶剂的协同作用，有效提高了该用于电容触摸屏的导电材料的导电稳定性，使得该用于电容触摸屏的导电材料在经蚀刻形成导电功能图案的色差小或色差几乎为0，导电稳定性能和透过率高。另外，该成膜树脂和高沸点极性溶剂组分通过协同作用，增强了有机导电聚合物对光照的敏感性，从而使得该用于电容触摸屏的导电材料具有对特定范围的波长光敏感而失去导电性能的特性，开辟了利用该用于电容触摸屏的导电材料蚀刻形成导电功能图案的新途径，并使得蚀刻形成导电功能图案的色差几乎完全消除。正是用于该用于电容触摸屏的导电材料具有该特性，其应用范围广，可在电容触摸屏、电子标签和EL冷光片中应用。

上述电容触摸屏，通过使用上述导电材料，图案色差小甚至几乎完全消除，具有稳定的导电能力和优异的光透过率。

上述电容触摸屏的制备方法只需将上述于电容触摸屏的导电材料经涂覆、蚀刻即可获得导电功能图案或者直接采用印刷即可获得导电功能图案，其制备方法工艺简单，条件易控，成本低廉，对设备要求低，适于工业化生产。另外，根据该方法形成的导电功能图案色差小，导电稳定性能和透过率高。

上述用于电容触摸屏的导电材料在电子标签和EL冷光片中应用，具体地，该导电材料可直接印刷作为电子标签的天线，具有稳定的导电能力，标签稳定性、可靠性好，生产效率高且成本低廉；该导电材料还可作为EL冷光片中的透明导电电极使用，具有稳定的导电能力和优异透过率，与传统的ITO电极相比，成本低，制作工艺简单，基材的选择范围更广泛。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：

图1为本发明实施例电容触摸屏制备方法的工艺流程示意图。

具体实施方式

为了使本发明要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例与附图，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明实施例提供一种可改善图案色差，具有稳定导电能力和优异透过率的用于电容触摸屏的导电材料，包括如下重量百分比的组分：

具体地，上述有机导电聚合物是通过掺杂工艺从本征导电聚合物的共轭π轨道上除去一个电子后得到的导电材料。该有机导电聚合物优选聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯，可以单独使用也可以多种混合使用，可以形成水基分散体产品、或者与溶剂和添加剂混合的即用型配方材料。在优选实施例中，上述有机导电聚合物选用聚噻吩，例如拜耳公司的“BaytronP”、CLEVIOSPHCV4、CLEVIOSPH500。

上述有机导电聚合物的含量优选为上述导电材料总质量的60~97%，进一步优选60~90%。有机导电聚合物含量小于60wt%时，则容易导致该导电材料不均匀，使用时表观出现色斑等；含量大于90wt%时，则该导电材料不能获得所希望的高透明度，如高于95%的透过率。

上述成膜树脂组分能有效改善用于电容触摸屏的导电材料的耐候性和导电性；高沸点极性溶剂能有效降低用于电容触摸屏的导电材料的电阻率，提高其导电性能。更重要的是，该成膜树脂组分和高沸点极性溶剂组分之间发挥了协同效应，共同对有机导电聚合物组分作用，使得该用于电容触摸屏的导电材料在经蚀刻形成导电功能图案的色差小，导电稳定性能和透过率高。另外，该成膜树脂和高沸点极性溶剂组分通过协同作用，增强了有机导电聚合物对光照的敏感性，从而使得该用于电容触摸屏的导电材料具有对特定范围的波长光敏感而失去导电性能的特性，开辟了利用该用于电容触摸屏的导电材料蚀刻形成导电功能图案的新途径，并使得蚀刻形成导电功能图案的色差几乎完全消除。

其中，上述成膜树脂优选如下通式（Ⅰ）所示的碱溶可交联丙烯酸树脂：

通式（Ⅰ）中，R₁表示-H、-CH₃中的一种，R₂表示-COOH、-COOCH₃、-COOC₆H₅、-C₆H₅中的一种，n为50～3000，优选为500～1000整数。进一步优选为水溶性的丙烯酸树脂，如Soluryl-90、Soluryl-120、PPHF401、PPHF402等。

上述成膜树脂的含量优选为上述导电材料总质量的0.4%~25%，进一步优选为0.9%~20%。成膜树脂含量小于0.4wt%时，则该导电材料形成的导电膜耐候性较差；含量大于25wt%时，则导电膜的导电性明显降低。

上述高沸点极性溶剂可以降低材料的电阻率，从而提高有机导电聚合物的电导率，优选极性大于或等于4.0~6.0的高沸点极性有机溶剂。该高沸点极性溶剂的沸点为100~350℃，优选为120~250℃。因此，在优选实施例中，该高沸点极性溶剂选自例如二甲基甲酰胺（DMF）、乙二醇（EG）、二甲基亚砜（DMSO）或N-甲基吡咯烷酮（NMP），可以单独使用也可以组合使用。

上述高沸点极性溶剂的含量优选为上述导电材料总质量的2~15%，进一步优选6~11%。高沸点极性溶剂含量小于2wt%时，则不能实现高电导率；含量大于15wt%时，虽然可实现高电导率，但是加入大量高沸点溶剂，涂层需在很高温度下干燥，将破坏导电聚合物的导电性。

上述表面活性剂可以改善该导电材料涂覆时的流平性和润湿性，使用何种表面活性剂没有特殊的限定，例如氟表面活性剂、阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂等一种或几种混合使用。其中，氟表面活性剂优选F[CF(CF₃)CF₂O]₁CF(CF₃)SO₂NH(CH₂)₄OH、C₄F₉SO₂NH(CH₂)₅OH、F[CF(CF₃)CF₂O]₅CF(CF₃)SO₂NH(CH₂)₃OH、C₈F₁₇CONH(CH₂)₂OH中的至少一种；阴离子表面活性剂优选C₁₂H₂₅NaO₄S、C₁₈H₂₉NaO₃S中的一种或两种复合物。

上述表面活性剂的含量优选为上述导电材料总质量的0.1~1.5%，进一步优选0.3~1.2%。表面活性剂含量小于0.1wt%时，则涂覆时流平性和润湿性不够；含量大于1.5wt%时，则涂覆时容易产生气泡，影响膜的表观。

上述导电材料优选按照如下的制备方法可以为：

（1）按上述导电材料的配方称取各组分；

（2）在伴随搅拌的条件下，将步骤（1）中称取的高沸点极性溶剂、成膜树脂和表面活性剂上述各配方组分按1～5min间隔依次加入有机导电聚合物中，然后将得到的混合物继续搅拌10～30min，得到上述导电材料。

其中，步骤（2）的搅拌速率可以但不仅仅为200转/每分钟。步骤（2）中的高沸点极性溶剂、成膜树脂和表面活性剂加入到有机导电聚合物中的顺序优选为高沸点极性溶剂、成膜树脂和表面活性剂按照先后顺序依次加入，其中间隔时间为1～5min，在加入该高沸点极性溶剂、成膜树脂和表面活性剂组分的过程中，保持搅拌速率。

当然上述导电材料也可以将各组分按照配方直接混合均匀制备获取。

由上述可知，上述实施例用于电容触摸屏的导电材料利用现有用于触摸屏有机导电聚合物对光光敏、导电性稳定性差的固有缺陷，通过添加成膜树脂和高沸点极性溶剂等添加剂，并通过该添加剂的协同作用放大了该有机导电聚合物的对光光敏这一特性，并将该特性变成优点，开辟了利用该用于电容触摸屏的导电材料蚀刻形成导电功能图案的新途径，并使得蚀刻形成导电功能图案的色差几乎完全消除；同时通过添加剂的协同作用，使得该用于电容触摸屏的导电材料在经蚀刻形成导电功能图案的色差小或色差几乎为0，导电稳定性能和透过率高。

相应地，本发明实施例还提供一种电容触摸屏，包括基材和层叠结合在所述基材一表面的导电功能图案层，所述导电功能图案层是由上述用于电容触摸屏的导电材料形成。

具体地，基材可以是触摸屏领域常用的基材，如玻璃或PET薄膜。导电功能图案层是利用上述导电材料按照制备导电功能图案工艺制备而成。该导电功能图案层的厚度优选为0.1~1μm。

本发明实施例提供的电容触摸屏，通过使用上述导电材料，图案色差小甚至几乎完全消除，具有稳定的导电能力和优异的透过率。

相应地，本发明实施例还提供了上述电容触摸屏的制备方法，该制备方法可以是刻蚀法或印刷法。其中，刻蚀法的工艺流程如图1所示，包括如下步骤：

S01.在基材表面形成导电层：将上述用于电容触摸屏的导电材料涂覆在基材任一表面，干燥处理后形成导电层；

S02.对导电层进行屏蔽、蚀刻处理：按照电容触摸屏功能图案对所述形成导电层屏蔽处理后进行刻蚀，形成导电功能图案。

具体地，上述S01步骤中的基材可以为玻璃或PET薄膜。导电材料可以过滤后使用也可以直接使用。为了获得高质量的导电功能图案，优选在进行涂覆前，对该导电材料进行过滤处理，例如可以通过尼龙或涤纶等制成的过滤布过滤。涂覆方式可采用常规的方法，例如采用刷涂、喷涂、旋涂或辊涂法。涂层的干燥处理可采用常规方法，例如暖风或热板上80℃~180℃下干燥5min~1min。涂覆的量优选是的干燥后形成的导电层厚度为0.1~1μm。

上述S02步骤中的屏蔽处理可以为使用掩模膏如：PTFPASTEstripmask503fx保护胶或者苏州瑞虹生产的RZJ-390PG，也可以用铬板或菲林进行屏蔽处理。刻蚀可以有多种方式，例如激光蚀刻、液体酸碱蚀刻、蚀刻膏蚀刻或光蚀刻等。优选采用激光蚀刻或光蚀刻，其中光蚀刻可达到更好的效果，尤其是形成的图案色差变化△E以及△Lab值很小，甚至为0。

在优选实施例中，上述S02步骤中的刻蚀是采用波长为100nm～1500nm，优选100nm~700nm光蚀刻。由于上述实施例中用于电容触摸屏的导电材料中通过添加成膜树脂、高沸点极性溶剂等添加剂，并通过该添加剂的协同作用放大了该有机导电聚合物的对光光敏而丧失导电性能这一特性，因此，利用该特性对经屏蔽处理的该用于电容触摸屏的导电材料图层进行该波长的光照刻蚀。这样，该导电材料图层上未经屏蔽处理的部位经该光照射后失去导电能力，从而形成导电功能图案。由于该光蚀刻并未破坏导电层，因此，与激光蚀刻、液体酸碱蚀刻、蚀刻膏蚀刻等需剥离破坏导电层的方式相比，形成的图案几乎不存在色差。另外，该光照刻蚀有效避免了传统的需要经涂胶、曝光、剥离蚀刻等形成功能图案的繁琐工艺，使得利用上述实施例用于电容触摸屏的导电材料形成功能图案的工艺简单，效率高。

此外，由于利用上述实施例用于电容触摸屏的导电材料并结合上述光照蚀刻方法形成功能图案只需涂覆、屏蔽处理和光照蚀刻等步骤，实现了可以根据实际需要而在任何需要和可以涂覆的基材上形成功能图案，制备触摸屏。基于此，可以利用该上述实施例用于电容触摸屏的导电材料并结合上述光照蚀刻方法制备出质地柔软的触摸屏。

当上述电容触摸屏采用印刷法制备时，该印刷法是将上述用于电容触摸屏的导电材料按照电容触摸屏功能图案印刷在基材任一表面，干燥处理后形成导电功能图案。其中，印刷方式可以为压印、丝印、胶印、凸版、涂布。基材和干燥处理与S01步骤所述相同，不再赘述。

本发明实施例提供的电容触摸屏的制备方法，通过使用上述导电材料和上述方法步骤可以提高电容触摸屏的导电稳定性且保持优异的透过率，同时降低蚀刻形成的图案的色差。且涂覆、干燥、刻蚀后或印刷、干燥后即可得到产品，制备方法工艺简单，条件易控，成本低廉，对设备要求低，适于工业化生产。

此外，正是由于上述用于电容触摸屏的导电材料具有如上述的特性和优点，本发明实施例还提供了一种用于电容触摸屏的导电材料在电子标签和EL冷光片中应用。

具体地，该导电材料可直接印刷在基材上作为电子标签的天线。印刷方式可以为网版印刷、胶印、柔性版印刷或凹印。基材则没有特别限制，例如纸张、木制品、塑料、金属、纺织品等，不但可以印刷在平面上还可以印刷到任何曲面上。使用该导电材料制备的电子标签，具有稳定的导电能力，标签稳定性、可靠性好，生产效率高且成本低廉。

具体地，该导电材料可涂覆在基材上干燥处理作为EL冷光片中的透明导电电极。类似地，基材、涂覆和干燥处理可采用常规手段，在此不再赘述。使用该导电材料制备的EL冷光片，具有稳定的导电能力和优异透过率，与传统的ITO透明导电电极相比，成本低，制作工艺简单，基材的选择范围更广泛。

以下通过多个实施例来举例说明上述用于电容触摸屏的导电材料及其制备方法及应用、电容触摸屏及其制备方法等方面。

实施例1

一种用于电容触摸屏的导电材料及其制备方法，其中，用于电容触摸屏的导电材料的配方如下文表1，其制备方法如下：

首先，加入95.6份（导电材料总质量为100份，下同。）CLEVIOSPHCV4，剧烈搅拌，然后以2min间隔依次加入2份DMF、0.9份成膜树脂Soluryl-120和1.5份C₁₉H₂₅NaO₃S，最后将上述混合物溶液继续搅拌20min，使其变均匀，制得该导电材料I。

一种电容触摸屏及其制备方法：

S11：将上述导电材料I用尼龙布过滤后，通过丝网印刷涂覆到透明基底PVC板材上，涂覆厚度为20μm；

S12：将步骤S11中的涂覆有导电材料I的基材在暖风120℃下干燥5min，干燥后形成的导电层I的厚度为0.3μm；

S13:用PTFPASTEstripmask503fx保护胶按所需电容触摸屏功能图案屏蔽步骤S12中导电层I需保护的部位；

S14:在恒定温度（40℃）下对S13步骤中屏蔽处理后的导电层进行酸碱刻蚀，使用1.0%NAOH溶液作为蚀刻液，蚀刻处理10min，形成导电功能图案层I；

S15:除去屏蔽材料，得到该电容触摸屏I。

实施例2

首先，加入90.3份聚苯胺（市售），剧烈搅拌，然后以3min间隔依次加入8.4份NMP、0.8份HF401水溶性丙烯酸和0.5份C₁₈H₂₉NaO₃S，最后将上述混合物溶液继续搅拌20min，使其变均匀，制得该导电材料II。

一种电容触摸屏及其制备方法：

S21：将上述导电材料II用尼龙布过滤后，通过胶印涂覆到透明基底PET上，涂覆厚度为30μm；

S22：将步骤S21中的涂覆有导电材料II的基材在120℃下热风干燥箱中干燥3min，干燥后形成的导电层II的厚度为0.2μm；

S24:对S23步骤中屏蔽处理后的导电层进行激光刻蚀（速度900mm），形成导电功能图案层II，得到该电容触摸屏Ⅱ。

实施例3

首先，加入90.5份聚吡咯溶液（厂家：Sigma-Aldrich公司），剧烈搅拌，然后以5min间隔依次加入8.1份NMP、0.9份HF402成膜树脂溶液和0.5份DISPERBYK-102，最后将上述混合物溶液继续搅拌30min，使其变均匀，制得该导电材料III。

一种电容触摸屏及其制备方法：

S31：将上述导电材料III用尼龙布过滤后，通过涂覆到透明基底PVC板材上，涂覆厚度为30μm；

S32：将步骤S31中的涂覆有导电材料III的基材在80℃下热风干燥箱中干燥5min，干燥后形成的导电层III的厚度为0.2μm；

S33：步骤中屏蔽处理后的导电层进行激光刻蚀(速度900mm,功率85%)，形成导电功能图案层III。

S35:除去屏蔽材料，得到该电容触摸屏III。

实施例4

首先，加入60份聚苯胺（市售），剧烈搅拌，然后以5min间隔依次加入13.5份NMP、25份Soluryl-90树脂和1.5份DISPERBYK-109，最后将上述混合物溶液继续搅拌30min，使其变均匀，制得该导电材料IV。

一种电容触摸屏及其制备方法：

S41：将上述导电材料IV用尼龙布过滤后，通过涂布涂覆到透明基底PET上，涂覆厚度为80μm；

S42：将步骤S41中的涂覆有导电材料IV的基材在140℃下热风干燥箱中干燥3min，干燥后形成的导电层II的厚度为0.4μm；

S43:用PTFPASTEstripmask503fx保护胶按所需电容触摸屏功能图案屏蔽步骤S42中导电层IV需保护的部位；

S44:在恒定温度（40℃）下对S43步骤中屏蔽处理后的导电层进行酸碱刻蚀，1.0%NAOH溶液作为蚀刻液，蚀刻处理3min，然后在1.5%的硫酸溶液中浸泡2分钟形成导电功能图案层IV。

S45:除去屏蔽材料，得到该电容触摸屏IV。

实施例5

首先，加入88.6份CLEVIOSPH500，剧烈搅拌，然后以5min间隔依次加入10份EG、0.4份HF402成膜树脂溶液和1份C18H29NaO3S，最后将上述混合物溶液继续搅拌15min，使其变均匀，制得该导电材料V。

一种电容触摸屏及其制备方法：

S51：将上述导电材料V用尼龙布过滤后，通过凸版涂覆到PET透明基底上，涂覆厚度为15μm；。

S52：将步骤S51中的涂覆有导电材料V的基材在140℃下热风干燥箱中干燥3min，干燥后形成的导电层V的厚度为0.15μm。

S53:用RZJ-390PG按所需电容触摸屏功能图案屏蔽步骤S52中导电层V需保护的部位。

S54:对S53步骤中屏蔽处理后的导电层进行光蚀刻（UV灯1000瓦），蚀刻处理2min，形成导电功能图案层V。

S55:除去屏蔽材料，得到该电容触摸屏V。

实施例6

首先，加入96.1份CLEVIOSPHCV4，剧烈搅拌，然后以3min间隔依次加入2份DMSO、0.9份PVA17-88和1份DISPERBYK-109，最后将以上混合物搅拌30min，使其变均匀，制得导电材料VI。

一种电容触摸屏及其制备方法：

S61：除了使用导电材料VI以外，其他与S11步骤相同。

S62：与S12步骤相同，得到干燥处理后的导电层VI。

S63:与S13步骤相同。

S64:与S14步骤相同，采用酸碱蚀刻，形成导电功能图案层VI。

S65:与步骤15相同，得到电容触摸屏VI。

实施例7

首先，加入94.7份CLEVIOSPHCV4，剧烈搅拌，然后以5min间隔依次加入4.2份EG、0.6份DHM-301和0.8份DISPERBYK-102，最后将以上混合物搅拌10min，使其变均匀，制得导电材料VII。

一种电容触摸屏及其制备方法：

S71：除了使用导电材料VII以外，其他与S11步骤相同。

S72：与S12步骤相同，得到干燥处理后的导电层VII。

S73:与S13步骤相同。

S74:与S14步骤相同，采用激光蚀刻，形成导电功能图案层VII。

S75:与步骤15相同，得到电容触摸屏VII。

实施例8

一种用于电容触摸屏的导电材料及其制备方法，其中，用于电容触摸屏的导电材料的配方如下，其制备方法如下：

首先，加入94.8份CLEVIOSP，剧烈搅拌，然后以3min间隔依次加入4.2份EG、0.6份DHM-301和0.4份C₁₉H₂₅NaO₃S，最后将以上混合物搅拌20min，使其变均匀，制得导电材料VIII。

一种电容触摸屏及其制备方法：

S81：除了使用导电材料VIII以外，其他与S11步骤相同。

S82：与S12步骤相同，得到干燥处理后的导电层VIII。

S83:与S13步骤相同。

S84:与S24步骤相同，采用激光蚀刻，形成导电功能图案层VIII。S85:与步骤15相同，得到电容触摸屏VIII。

实施例9

一种电子标签或EL冷光片及其制备方法。其中，电子标签或EL冷光片其制备方法如下：

（1）按照实施例1的配方制得导电材料I；

（2）将步骤（1）中导电材料I用尼龙布过滤后，通过丝网印刷涂覆到透明基底PET薄膜上，涂覆厚度80μm；

（3）将步骤（2）中的涂覆有导电材料I的基材在暖风120℃下干燥5min，干燥后形成的导电层I的厚度为0.9μm，得到该电子标签或EL冷光片的导电材料。

实施例10

（1）加入71.4份（导电材料总质量为100份，下同。）CLEVIOSPHCV4，剧烈搅拌，然后以5min间隔依次加入2.7份EG、25份成膜树脂Soluryl-90和0.9份DISPERBYK-109，最后将上述混合物溶液继续搅拌30min，使其变均匀，制得该导电材料。

（2）将步骤（1）中导电材料用尼龙布过滤后，通过涂布涂覆到透明基底PET上，涂覆厚度90μm；

（3）将步骤（2）中的涂覆有导电材料的基材在140℃下热风干燥箱中干燥3min，干燥后形成的导电层II的厚度为0.8μm，得到该电子标签或EL冷光片的导电材料。

对比实施例1

如一种用于透明导电材料及其制备方法，其中，该种导电材料的配方如下文表1，其制备方法如下：

首先，加入96.26份CLEVIOSPHCV4，剧烈搅拌，然后以5min间隔依次加入2.58份NMP、0.86份R986和0.3份Dynol^TM604，最后将以上混合物继续搅拌30min，使其变均匀，制得导电材料A。

一种电容触摸屏及其制备方法：

SA1：除了使用导电材料A以外，其他与S11步骤相同。

SA2：与S12步骤相同，得到干燥处理后的导电层A。

SA3:与S13步骤相同。

SA4:与S14步骤相同，采用激光蚀刻，形成导电功能图案层A。

SA5:与步骤15相同，得到电容触摸屏A。

对比实施例2

一种用于触摸屏的导电材料及其制备方法，其中，用于触摸屏的导电材料的配方如下文表1，其制备方法如下：

首先，加入52.6份CLEVIOSPHCV4，剧烈搅拌，然后以5min间隔依次加入3.1份NMP、31.4份R986和10.5份825，0.1份Dynol^TM604和0.3份Dimethylaminoethanol（50%水溶液），最后将以上混合物继续搅拌30min，使其变均匀，制得导电材料B。

一种触摸屏及其制备方法：

SB1：除了使用导电材料B以外，其他与S11步骤相同。

SB2：与S12步骤相同，得到干燥处理后的导电层B。

SB3:与S13步骤相同。

SB4:与S14步骤相同，采用光刻，形成导电功能图案层B。

SB5:与步骤15相同，得到电容触摸屏B。

对比实施例3

首先，加入80.49份CLEVIOSPHCV4，剧烈搅拌，然后以5min间隔依次加入3.48份EG、15.63份BaydermFinish85UD，0.1份Dynol^TM604和0.3份Dimethylaminoethanol（50%水溶液），最后将以上混合物继续搅拌30min，使其变均匀，制得导电材料C。

一种触摸屏及其制备方法：

SC1：除了使用导电材料C以外，其他与S11步骤相同。

SC2：与S12步骤相同，得到干燥处理后的导电层C。

SC3:与S13步骤相同。

SC4:与S14步骤相同，采用酸碱蚀刻，形成导电功能图案层C。

SC5:与步骤15相同，得到电容触摸屏C。

性能测试：

将上述实施例1~8和对比实施例1~3制备的导电层和电容触摸屏进行相关性能测试。测试方法如下：

（1）方块电阻和膜的均匀性：通过RTS-8型四探针电阻测试仪测定未蚀刻前的导电层的方块电阻，并通过比较多点的方块电阻的变化率来评价膜的均匀性，评价标准如下：

<方块电阻的变化率>

①小于8%：良好

②8%-15%：一般

③大于15%：差

（2）透过率：按照将透明基底的透光率视为100%的方式来表示涂覆基底的透过率，依据GB2410-80标准用WGT-S型透过率测定仪（上海精密仪器科学有限公司）在波长为550nm下进行测试。

（3）蚀刻效果：通过测试蚀刻后导电功能图案层的方块电阻的变化率来评价蚀刻效果，评价标准如下：

<方块电阻的变化率>

①大于10¹⁰：良好

②10⁴-10⁹：一般

③小于10⁴：差

（4）色差效果：通过测试蚀刻后导电功能图案层的色差与蚀刻前的色差来评价色差效果，评价标准如下：

①小于0.3：良好

②0.3-0.4：一般

③大于0.5：差

（5）导电稳定效果：通过将制备好的导电材料放入60℃，90%的恒温恒湿箱中放置240小时后取出测试电阻值，放置后的电阻值R2与放置前的电阻值R1进行对比（R2/R1），评价标准如下：

①小于1.3：良好

②1.3-0.4：一般

③大于1.5：差

经上述测试，各测试结果如下述表2所示。

表1

表2

由上述表2可知，实施例1~5提供的导电材料具有良好的导电稳定性和透过率，同时可实现较好的蚀刻效果且蚀刻前后色差变化小，尤其是采用激光蚀刻和光蚀刻时色差变化更小。其中，实施例6和7中的导电材料在酸碱蚀刻中无法实现蚀刻效果，实施例8提供的导电材料在激光蚀刻中只能达到一般的蚀刻效果。而对比实例1~3提供的导电材料其导电稳定性和透过率都无法达到本发明中列举的实施例的良好效果，同时对比实施例1提供的导电材料在激光蚀刻中只能达到一般的蚀刻效果，对比实施例2中的导电材料在光刻中无法实现蚀刻效果，对比实施例3中的导电材料在酸碱蚀刻中也无法实现蚀刻效果，且对比实施例1~3蚀刻前后的色差变化均比较大，图案效果差。

由实施例9-10制备的电子标签和EL冷光片，具有稳定的导电能力和优异透过率。其中，EL冷光片与传统的ITO透明导电电极相比，成本低，制作工艺简单，基材的选择范围更广泛。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种用于电容触摸屏的导电材料，包括如下重量百分比的组分：

其中，高沸点极性溶剂的沸点为100～350℃，所述高沸点极性溶剂的极性为4.0～6.0，所述成膜树脂为如下通式(Ⅰ)的碱溶可交联丙烯酸树脂：

通式(Ⅰ)中，R₁为-H、-CH₃中的一种，R₂为-COOH、-COOCH₃、-COOC₆H₅、-C₆H₅中的一种，n为50～3000整数。

2.根据权利要求1所述的用于电容触摸屏的导电材料，其特征在于：包括如下重量百分比的组分：

3.根据权利要求1或2所述的用于电容触摸屏的导电材料，其特征在于：所述有机导电聚合物为聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的用于电容触摸屏的导电材料，其特征在于：所述高沸点极性溶剂为二甲基甲酰胺、乙二醇、二甲基亚砜和N-甲基吡咯烷酮中的至少一种。

5.根据权利要求1或2所述的用于电容触摸屏的导电材料，其特征在于：所述表面活性剂为阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂中的至少一种。

6.根据权利要求5所述的用于电容触摸屏的导电材料，其特征在于：所述非离子表面活性剂包括氟表面活性剂，所述氟表面活性剂为F[CF(CF₃)CF₂O]₁CF(CF₃)SO₂NH(CH₂)₄OH、C₄F₉SO₂NH(CH₂)₅OH、F[CF(CF₃)CF₂O]₅CF(CF₃)SO₂NH(CH₂)₃OH、C₈F₁₇CONH(CH₂)₂OH中的至少一种。

7.根据权利要求5所述的用于电容触摸屏的导电材料，其特征在于：所述阴离子表面活性剂为C₁₂H₂₅NaO₄S、C₁₈H₂₉NaO₃S中的至少一种。

8.一种电容触摸屏，包括基材和层叠结合在所述基材一表面的导电功能图案层，所述导电功能图案层是由如权利要求1～7任一所述的用于电容触摸屏的导电材料形成。

9.如权利要求8所述的电容触摸屏的制备方法，包括以下步骤：

将权利要求1～7任一所述的用于电容触摸屏的导电材料涂覆在基材任一表面，干燥处理后形成导电层；

或将权利要求1～7任一所述的用于电容触摸屏的导电材料按照电容触摸屏功能图案印刷在基材任一表面，干燥处理后形成导电功能图案。

10.根据权利要求9所述的电容触摸屏的制备方法，其特征在于：在进行所述刻蚀的步骤中，所述刻蚀为激光蚀刻、液体酸碱蚀刻、蚀刻膏蚀刻或光蚀刻。

11.根据权利要求10所述的电容触摸屏的制备方法，其特征在于：所述刻蚀为激光蚀刻或波长为100nm～1500nm的光蚀刻。

12.如权利要求1～7任一所述的用于电容触摸屏的导电材料在电子标签和EL冷光片中应用。