CN111309192A - 触控屏、其导电膜及导电膜的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种触控屏、其导电膜及导电膜的制备方法。其方法包括通过金属栅格工艺，在柔性膜材的可视区上制备第一功能组件；在所述柔性膜材的非可视区上，通过印刷工艺形成导电涂层；通过激光蚀刻的方法，在所述导电涂层上蚀刻形成所述非可视区上的第二功能组件。该方法采用不同的制作工艺，以组合多种成熟工艺的方式制备组合型的导电膜，取得了面阻值小，原料成本低，加工工艺稳定可靠，易于实现的技术效果。
Description
技术领域
本发明涉及触控屏技术领域，尤其涉及一种触控屏、其导电膜及导电膜的制备方法。
背景技术
伴随着电子技术的不断发展，触控屏开始广泛的被应用于各种不同的电子设备中。通常的，电容式触控屏由GFF结构和OGS结构两种。
其中，GFF电容式触控屏是由玻璃层和两层Film层叠加形成的触控屏结构，相对于OGS触控屏具有成本低廉的优势而被广泛的使用。
图1为典型的GFF结构示意图。如图1所示，其依次包括表层玻璃11，光学胶层12、TOP导电膜13，光学胶层14以及BOT导电膜15的五层结构。在制作GFF电容触控屏时，导电膜的制备是其中非常重要的部分。
现有的导电膜制作结构及工艺有很多种，包括氧铟锡(Indium Tin Oxide, 简称：ITO)蚀刻工艺、钠米银涂布工艺以及铜膜做减法工艺等。
具体而言，ITO蚀刻工艺是在玻璃与薄膜上通过溅或蒸镀ITO导电层，再通过蚀刻工艺制作导电膜。钠米银涂布工艺是将钠料银浆涂布在含有凹槽网格薄膜上，经过低温固化，形成导电膜的工艺。铜膜减法工艺是在透明基材上镀纯铜层(厚度为2um左右)，再用菲琳暴光或蚀刻铜层，留下所需要网格线路。
在实现本发明的过程中，申请人发现现有技术存在如下的问题：ITO蚀刻工艺制作导电膜所需要的材料成本高且工艺复杂。而且，ITO面阻值较大(一般在50Ω/方～150Ω/方)，导致其触控灵敏度差，不宜制做大尺寸触控屏。
而钠米银涂布工艺制造的导电膜无法保证外观要求，银材料成本高，加工难度高，良率低。铜膜减法工艺的制作工艺难度较大，耗费材料较大，成本高。
发明内容
针对上述技术问题，本发明实施例提供了一种触控屏、其导电膜及导电膜的制备方法，以解决现有导电膜制作工艺所存在的一种或者多种的问题。
本发明实施例的第一方面提供一种导电膜的制作方法。所述方法包括：
通过金属栅格工艺，在柔性膜材的可视区上制备第一功能组件；在所述柔性膜材的非可视区上，通过印刷工艺形成导电涂层；通过激光蚀刻的方法，在所述导电涂层上蚀刻形成所述非可视区上的第二功能组件。
可选地，所述第二功能组件为布置在所述导电膜边缘的外走线。
可选地，所述通过金属栅格工艺，在柔性膜材的可视区上制备第一功能组件，具体包括：
确定可视区图案；通过UV压印工艺，将所述可视区图案转印至所述柔性膜材的表面；在转印有有所述可视区图案的柔性膜材的表面涂布导电涂料；烧结所述导电涂料，形成对应的导电层。
可选地，所述柔性膜材为光学级柔性薄膜基材，包括PET、PC或者PMMA。
可选地，所述可视区图案包括TOP层可视区图案或者BOT层可视区图案。
可选地，所述导电涂料包括导电油墨或者导电胶水。
本发明实施例的第二方面提供了一种导电膜。其中，所述导电膜应用如上所述的导电膜制备方法制备获得。
可选地，所述导电膜的外走线的线宽为25um。
可选地，所述导电膜单位正方形面积下的电阻值小于5Ω。
本发明实施例的第三方面提供了一种触控屏。其中，所述触控屏包括如上所述的导电膜。
本发明实施例提供的技术方案中，针对导电膜可视区和非可视区的特点，采用不同的制作工艺，以组合多种成熟工艺的方式制备导电膜，取得了面阻值小，原料成本低，加工工艺稳定可靠，易于实现的技术效果。
将激光镭雕和金属栅格一体成型工艺相结合，突破了传统工艺阻值过高无法应用于大尺寸触控以及金属栅格一体成型工艺无法实现窄边框的缺陷，具有良好的应用前景。
附图说明
图1为典型的GFF结构电容触摸屏的示意图；
图2为本发明实施例的导电膜的一个实施例示意图；
图3为本发明实施例的导电膜制备方法的一个实施例示意图；
图4为本发明实施例的可视区制备过程的一个实施例示意图；
图5为本发明实施例的非可视区制备过程的一个实施例示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明的是，当元件被表述“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上、或者其间可以存在一个或多个居中的元件。当一个元件被表述“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件、或者其间可以存在一个或多个居中的元件。本说明书所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”、“上”、“下”、“内”、“外”、“底部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
除非另有定义，本说明书所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本说明书中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是用于限制本发明。本说明书所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
图2为本发明实施例提供的导电膜的示意图。如图2所示，在实际使用过程中，导电膜按照功能的不同可以被划分为可视区21和非可视区22两部分。其中，可视区是触控屏进行显示和触摸控制的屏幕部分。而非可视区中布设有相应的走线，用于连接可视区内的功能元件，并实现电信号的传输，与触控屏的边框部分相对应。
针对可视区和非可视区之间的使用特点以及需求等所存在的差异，在制备导电膜时，可以组合多种制备工艺来制备获得导电膜。
图3为本发明实施例提供的导电膜制备方法的流程图。如图3所示，该方法包括如下步骤：
S310：通过金属栅格工艺，在柔性膜材的可视区上制备第一功能组件。
金属栅格工艺是指Metal Mesh工艺。其可以在可视区上形成具有特定图案的金属格栅，具有面阻值低的特点。该第一功能组件是指需要在基材上形成的导电图案，其具体可以根据实际情况的需要而进行设置，在此不作赘述。
S320：在所述柔性膜材的非可视区上，通过印刷工艺形成导电涂层。
印刷工艺是指通过网板等在基材表面形成特定厚度的导电涂层的制作工艺。其是一种成熟的工艺，可以很容易的实现。
S330：通过激光蚀刻的方法，在所述导电涂层上蚀刻形成所述非可视区上的第二功能组件。
具体的，所述第二功能组件为布置在所述导电膜边缘的外走线。具体的走线形式等可以由技术人员根据实际情况的需要而决定和设置，只需要能够满足使用需求即可。
图4为本发明实施例提供的可视区制备过程的示意图。如图4所示，具体的制备过程可以包括：
步骤410：确定可视区图案和柔性膜材。
可视区图案是指根据实际情况的需要而预先设计确定的金属栅格的图案。
在一些实施例中，如图1所示的，在制备GFF结构的电容式触摸屏时，需要使用TOP层可视区图案以及BOT层可视区图案。
因此，在步骤410制备TOP层导电膜时，可以设计使用TOP层可视区图案。而在制备BOT层导电膜时，则可以设计使用BOT层可视区图案。
步骤420：通过UV压印工艺，将所述可视区图案转印至所述柔性膜材的表面。
具体的，所述柔性膜材可以为光学级柔性薄膜基材，用以保证足够的透光率以提供良好的显示效果。具体可以根据实际情况的需要或者设计的偏好选择使用合适的材质，包括但不限于PET、PC以及PMMA，只需要能够满足使用需要即可。
在图案被转移到柔性膜材表面以后，柔性膜材的表面会形成与图案相对应的沟槽(亦即沟槽Film膜材)。
步骤430：在转印有所述可视区图案的柔性膜材的表面涂布导电涂料并烧结所述导电涂料，形成对应的导电层。
最后在形成了沟槽的膜材表面涂布导电涂料，烧结固化以后即可形成具有设计的可视区图案的导电层，在柔性膜材的表面形成所需要的第一功能组件。
具体可以选择使用任何合适类型或者种类的导电涂料，例如导电油墨或者导电胶水等，只需要能够满足工艺或者制程需要即可。
图5为本发明实施例提供的非可视区的制备过程的示意图。如图5所示，所述方法包括：
步骤510：获得可视区已经制备完毕的柔性膜材。
步骤520：在该柔性膜材的基础上，使用印刷工艺在预先划定的非可视区上印刷导电浆料并固化。
固化后的导电浆料可以会在非可视区形成待加工雕刻的导电涂层。
步骤530：使用激光镭雕工艺，在所述非可视区上形成外走线。
外走线是指位于非可视区内的连接线路或者连接节点，亦即布置在触控屏边框中的连接线路部分。激光镭雕是指利用激光蚀刻的方式，在涂层上雕刻形成所需要的线路或者图案的工艺。
本发明实施例提供的导电膜制备方法利用成熟工艺(如涂布工艺，印刷工艺，激光镭雕工艺等)制作组合型导电膜，具有工艺简单易操作，制作稳定的优势。
这样的组合式制备方法拓宽了制备导电膜的思路，突破了传统工艺因电阻过高无法应用于大尺寸触控以及Metal Mesh一体成型工艺无法实现超窄边框的缺陷，具有优化结构，减少材料，节约成本，减少制作工序以及提升良率等的技术效果。
本发明实施例还提供了一种应用如上所述的导电膜制备方法制备获得的导电膜。基于上述组合型的制备方法，可以使制备获得的导电膜具有良好的使用性能。
一方面，所述导电膜的外走线的线宽可以控制在25um，满足超窄边框的要求。另一方面，所述导电膜的单位正方形面积(1cm2)下的电阻值可以控制在5Ω以内，面阻值显著的降低，可以很好的应用在大尺寸触控屏中，满足大尺寸触控屏的使用要求。
可以理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案及本发明构思加以等同替换或改变，而所有这些改变或替换都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种导电膜的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
通过金属栅格工艺，在柔性膜材的可视区上制备第一功能组件；
在所述柔性膜材的非可视区上，通过印刷工艺形成导电涂层；
通过激光蚀刻的方法，在所述导电涂层上蚀刻形成所述非可视区上的第二功能组件。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二功能组件为布置在所述导电膜边缘的外走线。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过金属栅格工艺，在柔性膜材的可视区上制备第一功能组件，具体包括：
确定可视区图案；
通过UV压印工艺，将所述可视区图案转印至所述柔性膜材的表面；
在转印有有所述可视区图案的柔性膜材的表面涂布导电涂料；
烧结所述导电涂料，形成对应的导电层。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述柔性膜材为光学级柔性薄膜基材，包括PET、PC或者PMMA。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述可视区图案包括TOP层可视区图案或者BOT层可视区图案。
6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述导电涂料包括导电油墨或者导电胶水。
7.一种导电膜，其特征在于，所述导电膜应用如权利要求1-6任一项所述的导电膜制备方法制备获得。
8.根据权利要求7所述的导电膜，其特征在于，所述导电膜的外走线的线宽为25um。
9.根据权利要求7所述的导电膜，其特征在于，所述导电膜单位正方形面积下的电阻值小于5Ω。
10.一种触控屏，其特征在于，所述触控屏包括如权利要求7-9任一项所述的导电膜。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20200619 |