CN103406291A - 一种铁屑收集铲 - Google Patents

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王力
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Abstract

本发明公开了一种铁屑收集铲，涉及机床加工技术领域，所述收集铲包括：铲头和铲柄，所述铲柄一端与所述铲头连接，另一端设有清扫单元，用于清扫铁屑，所述铲头包括上部面板和下部面板和两侧板，形成收容腔，用于收集铁屑，所述下部面板的前端设有铲料部，所述下部面板设有若干排液孔，用于排除冷却液，本发明所述铁屑收集铲，可以快速的对散落在铣床工作台凹槽里的铁屑进行收集，制作简单，即节约了冷却液，又提高了清理效率。

Description

一种铁屑收集铲
技术领域
本发明涉及机床加工技术领域，特别涉及一种铁屑收集铲。
背景技术
铣床系指主要用铣刀在工件上加工各种表面的机床。通常铣刀旋转运动为主运动，工件(和)铣刀的移动为进给运动。它可以加工平面、沟槽，也可以加工各种曲面、齿轮等。铣床是用铣刀对工件进行铣削加工的机床。铣床除能铣削平面、沟槽、轮齿、螺纹和花键轴外，还能加工比较复杂的型面，效率较高。
在铣床加工中，铣刀切削的铁屑会随着冷却液一起流落到工作台的凹槽中，当铁屑聚集一定量时，就有可能堵塞排水口，所以，加工的铁屑必须定时清理，以保证工作液的正常循环，但在实际操作中，由于工作台的凹槽比较深且窄，一般工具很难对其清理，很多时候操作人员都是通过高压气枪对其打扫清理，但此种方法及其浪费冷却液，且吹散的铁屑在破坏车间卫生的同时，还很有可能吹入人的眼睛，对人造成巨大伤害，还有就是用毛刷进行清理，但毛刷只能将铁屑收集在一起，不能很好的将其从凹槽中清理出来。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是，提供一种铁屑收集铲，使得铣床加工的废屑变的更容易清扫和收集。
(二)技术方案
为了解决上述问题，本发明提供了一种铁屑收集铲，所述收集铲包括：铲头和铲柄，所述铲柄一端与所述铲头连接，另一端设有清扫单元，用于清扫铁屑，所述铲头包括上部面板和下部面板和两侧板，形成收容腔，用于收集铁屑，所述下部面板的前端设有铲料部，所述下部面板设有若干排液孔，用于排除冷却液。
其中，所述清扫单元为锥形尖头。
进一步地，所述清扫单元还可以为毛刷或保持所述锥形尖头的同时设有毛刷。
其中，所述铲料部为若干齿形尖头。
其中，所述排液孔的直径呈预设长度。
(三)有益效果
本发明所述铁屑收集铲，可以快速的对散落在铣床工作台凹槽里的铁屑进行收集，制作简单，即节约了冷却液，又提高了清理效率。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
如图1所示，所述收集铲包括：铲头3和铲柄1，所述铲柄1一端与所述铲头3连接，另一端设有清扫单元6，用于清扫铁屑，所述铲头3包括上部面板2和下部面板7和两侧板，形成收容腔，用于收集铁屑，所述下部面板7的前端设有铲料部5，用于进一步的清理铁屑，所述下部面板7设有若干排液孔4，用于排除冷却液。
为了便于清理铣床凹槽中的死角，优选地，所述清扫单元6为锥形尖头。
优选地，所述清扫单元6还可以为毛刷或保持所述锥形尖头的同时设有毛刷。
优选地，所述铲料部5为若干齿形尖头。
优选地，所述排液孔4的直径呈预设长度，所述预设长度为2～3mm防止铁屑从排液孔中漏出，同时也便于冷却液的排出。
本收集铲设有一个铲柄1和铲头3，所述铲柄1的端部设有一个锥形尖头6，用以清理铁屑，所述底部面板7设有若干排液孔4，用以控漏铁屑中的冷却液，所述底部面板的前端设有齿形的尖头5，更好的用以铲刮铁屑，工作时，可以先用铲柄的端部的锥形尖头或毛刷把铣床凹槽里的铁屑清理到铲头的收容腔中，然后用铲头对铁屑进行集中清铲。
以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。

Claims (5)

1.一种铁屑收集铲，其特征在于，所述收集铲包括：铲头和铲柄，所述铲柄一端与所述铲头连接，另一端设有清扫单元，用于清扫铁屑，所述铲头包括上部面板和下部面板和两侧板，形成收容腔，用于收集铁屑，所述下部面板的前端设有铲料部，所述下部面板设有若干排液孔，用于排除冷却液。
2.如权利要求1所述的收集铲，其特征在于，所述清扫单元为锥形尖头。
3.如权利要求1或2所述的收集铲，其特征在于，所述清扫单元还可以为毛刷或保持所述锥形尖头的同时设有毛刷。
4.如权利要求1所述的收集铲，其特征在于，所述铲料部为若干齿形尖头。
5.如权利要求1所述的收集铲，其特征在于，所述排液孔的直径呈预设长度。
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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