CN103383504B - 具有黑带的构图延迟器型显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本公开涉及具有黑带的构图延迟器型显示装置及其制造方法。本公开提出了一种构图延迟器型显示装置，该显示装置包括：上基板，该上基板具有按照矩阵型设置有单元像素的显示区域和包围该显示区域的非显示区域；下基板，该下基板通过设置在所述非显示区域中的密封剂与所述上基板结合；液晶层，该液晶层设置在所述上基板与所述下基板之间；多个水平黑带，该多个水平黑带沿着区分所述单元像素的水平边界设置在所述上基板的外表面上；以及外部带，该外部带在所述上基板的所述外表面上覆盖所述非显示区域。

Description

具有黑带的构图延迟器型显示装置及其制造方法

技术领域

本公开涉及具有黑带的构图延迟器型显示装置及其制造方法。具体地说，本公开涉及构图延迟器型显示装置及其制造方法，该构图延迟器型显示装置具有用于防止构图延迟器之间的串扰以及用于作为黑底工作的黑带，并具有覆盖非显示区域并且与所述黑带连接以作为后表面电极工作的外部带。

背景技术

近来，归功于各种视频内容的进展，积极开发了能够选择性地再现2D图像和3D图像的显示装置。为了再现3D图像，显示器使用立体技术或自动立体技术。

作为眼镜类型的一个示例，存在一种在显示面板上具有构图延迟器的3D显示装置。该3D显示装置利用构图延迟器和偏振眼镜的偏振特性来呈现3D图像。因此，左眼图像与右眼图像之间不存在串扰问题，并且保证了较亮的亮度，以使得图像的质量比其它类型的3D显示装置好。

图1是例示根据现有技术的具有构图延迟器的3D显示系统的结构的立体图。构图延迟器型3D显示系统利用设置在显示面板DP上的构图延迟器PR的偏振特性以及由观看者使用的偏振眼镜的偏振特性来呈现3D图像。

参照图1，构图延迟器型3D显示系统包括呈现2D图像或3D图像的显示面板DP、附接在该显示面板DP的正面上的构图延迟器PR，以及偏振眼镜PG。

作为用于显示2D视频图像和/或3D视频图像的装置，显示面板DP可以包括液晶显示装置（或LCD）、场发射显示器（或FED）、等离子体显示面板（或PDP）、包括无机发光二级管和有机发光二级管（或OLED）的电致发光装置（或EL）以及电泳显示装置（或EPD）中的任意一种。下文中，将针对显示面板DP是液晶显示面板的情况解释本公开的实施方式。

显示面板DP包括按照由数据线和选通线的交叉结构限定的矩阵方式设置的液晶单元。显示面板DP的下玻璃基板SL包括像素阵列，该像素阵列包括数据线、选通线、薄膜晶体管、像素电极和存储电容器。显示面板DP的上玻璃基板SU包括黑底、滤色器和公共电极。各个液晶单元被在连接到薄膜晶体管的像素电极与公共电极之间形成的电场驱动。上玻璃基板SU和下玻璃基板SL的各个内表面具有分别用于设置液晶的预倾角的配向层。上玻璃基板SU和下玻璃基板SL的各个外表面分别具有上偏振膜PU和下偏振膜PL。

构图延迟器PR被附接在显示面板DP的上偏振膜PU的外表面上。构图延迟器PR具有与沿显示面板DP的水平方向排布的像素的各行对应的单位延迟器。例如，一个单位延迟器可以被限定为与共同连接到一个选通线的像素的区域对应。具体地说，第一延迟器RT1被形成为与构图延迟器PR的奇数行对应，第二延迟器RT2被形成为与构图延迟器PR的偶数行对应。第一延迟器RT1可以通过将光的相位延迟+λ/4（这里，“λ”是从像素阵列入射的光的波长）来透射第一圆偏振光。第二延迟器RT2可以通过将光的相位延迟-λ/4（实际上，+3λ/4）来透射第二圆偏振光。第一延迟器RT1的光吸收轴（或光透射轴）与第二延迟器RT2的光吸收轴彼此垂直。

例如，构图延迟器PR的第一延迟器RT1可以是透射左旋圆偏振光的偏振滤波器，构图延迟器PR的第二延迟器RT2可以是透射右旋圆偏振光的偏振滤波器。在这种情况下，呈现在显示面板DP的奇数行上的视频图像的光可以透射过第一延迟器RT1，然后成为第一圆偏振光（即，左旋圆偏振光）。此外，呈现在显示面板DP的偶数行上的视频图像的光可以透射过第二延迟器RT2，然后成为第二圆偏振光（即，右旋圆偏振光）。

偏振眼镜PG包括具有第一偏振滤波器P1的左眼镜窗口LG和具有第二偏振滤波器P2的右眼镜窗口RG。第一偏振滤波器P1具有与构图延迟器PR的第一延迟器RT1的光偏振特性相同的光偏振特性。同时，第二偏振滤波器P2具有与构图延迟器PR的第二延迟器RT2的光透射轴相同的光透射轴。例如，偏振眼镜PG的第一偏振滤波器P1可以是左旋圆偏振滤波器，偏振眼镜PG的第二偏振滤波器P2可以是右旋圆偏振滤波器。

利用该结构，可以通过在与第一延迟器RT1相关的像素上呈现左图像并且在与第二延迟器RT2相关的像素上呈现右图像来实现3D图像。在如图1所示的3D显示系统中，通过将左眼图像的偏振光特性设定为不同于右眼图像的偏振光特性，左眼图像和右眼图像可以分别独立地到达观看者的左眼和右眼。

在具有薄膜构图延迟器的3D显示装置中，由于左眼图像与右眼图像以像素行为单位交替呈现，所以在沿上下方向的宽视角处存在一些串扰问题。图2是沿图1中的切割线A-A’的截面图，例示在图1所示的3D显示装置处出现的串扰问题。

参照图2，当在并非正前方的上方（或下方）处观察视频数据时，左眼图像L1和右眼图像R1可以同时透射过第一构图延迟器RT1。结果，出现串扰问题，其中左眼图像L1与右眼图像R1同时通过偏振眼镜PG的左眼镜窗口LG。尽管在水平单元的像素之间的边界处存在黑底BM，但是黑底BM不具有足以防止该串扰问题的宽度。

为了解决沿竖直视角方向的该串扰问题，已经提出了一些方法。第一方法是加宽黑底BM的宽度，以使得可以保证不出现串扰问题的宽视角。图3是例示黑底的宽度比图2所示的黑底的宽度更宽的3D显示装置的截面图。

参照图3，在右眼图像R1通过第一延迟器RT1的光路上，具有更宽宽度的黑底BM被设置为使得可以阻挡通过第一延迟器RT1的右眼图像R1。因此，当位于显示装置的正前方的观看者在上下方向进行一些移动时，不会出现串扰问题。然而，在该结构中，为了更有效地防止串扰问题，黑底BM应具有明显更宽的宽度。随着黑底BM的宽度变得更宽，前方的孔径比变低，接着亮度下降或者不能呈现正确的颜色。

这样，前孔径比与串扰改进之间存在折中关系。此外，难以找到其间的适当点。因此，需要用于保证前孔径比以及用于同时改进串扰问题的新的方法。

发明内容

为了克服上述缺点，本公开的目的是提出保证前孔径比同时改进串扰问题的显示装置及其制造方法。本公开的其它目的是为了保证前孔径比并且为了同时改进串扰问题的通过在密封区域中形成驱动IC的没有边框区域的用于2D/3D视频图像的大面积显示装置及其制造方法。

为了实现以上目的，本公开提出了一种构图延迟器型显示装置，该显示装置包括：上基板，该上基板具有按照矩阵类型设置有单元像素的显示区域和包围该显示区域的非显示区域；通过设置在所述非显示区域中的密封剂与所述上基板结合的下基板；设置在所述上基板与所述下基板之间的液晶层；多个水平黑带，该多个水平黑带沿着区分所述单元像素的水平边界设置在所述上基板的外表面上；以及外部带，该外部带在所述上基板的所述外表面上覆盖所述非显示区域。

所述下基板包括：选通线和数据线，所述选通线和所述数据线在所述下基板的内表面上限定所述单元像素；连接到所述选通线和所述数据线的薄膜晶体管；在所述单元像素中形成并连接到所述薄膜晶体管的像素电极；以及设置在所述非显示区域中的驱动元件。

所述装置还包括多个竖直黑带，该多个竖直黑带沿着区分所述单元像素的竖直边界设置在所述上基板的所述外表面上。

所述装置还包括在所述上基板的所述内表面上形成在所述单元像素中的滤色器。

所述装置还包括滤色器，该滤色器在所述下基板的所述内表面上覆盖所述像素电极并形成在所述单元像素中。

所述装置还包括：滤色器，该滤色器在所述下基板的所述内表面上被设置在所述像素电极与所述下基板之间，其中，所述像素电极的光反射率与所述外部带的光反射率之间的差异小于5%。

所述装置还包括：在所述上基板的所述内表面上形成在所述单元像素中的滤色器；以及多个竖直黑带，该多个竖直黑带沿着区分形成在所述上基板的所述内表面上的所述单元像素中的所述滤色器的竖直边界设置。

所述装置还包括柱间隔体，该柱间隔体被设置在所述单元像素之间，以恒定地保持所述上基板与所述下基板之间的单元间隙。

所述水平黑带与所述外部带彼此连接，并且包括钼钛（Mo-Ti）合金和氮化铜（CuNx）中的至少一种。

此外，本公开提出了一种显示装置的制造方法，该制造方法包括以下步骤：形成上基板，包括将上基板划分为具有矩阵型的单元像素的显示区域和包围该显示区域的非显示区域，以及形成在所述上基板的外表面上沿着区分所述单元像素的水平边界设置的多个水平黑带和在所述上基板的所述外表面上覆盖所述非显示区域的外部带；形成下基板，该下基板包括在所述下基板的内表面上限定所述单元像素的选通线和数据线、连接到所述选通线和所述数据线的薄膜晶体管、形成在所述单元像素中并连接到所述薄膜晶体管的像素电极和设置在所述非显示区域中的驱动元件；以及通过在所述非显示区域内设置密封剂并通过使所述上基板的内表面与所述下基板的所述内表面面对并且液晶层位于之间来结合所述上基板与所述下基板。

用于形成所述上基板的方法步骤还包括以下步骤：在所述上基板的所述外表面上形成沿着区分所述单元像素的竖直边界设置的多个竖直黑带。

用于形成所述上基板的方法步骤还包括以下步骤：在所述上基板的所述内表面上且在所述单元像素中形成滤色器；以及形成与所述水平黑带和所述竖直黑带中的至少一个交叠的柱间隔体。

用于形成所述下基板的方法步骤还包括以下步骤：形成覆盖所述下基板的所述内表面上的所述单元像素中的所述像素电极的滤色器；以及在所述滤色器上形成与所述水平黑带和所述竖直黑带中的至少一个交叠的柱间隔体。

用于形成所述下基板的方法步骤还包括以下步骤：在形成所述选通线、所述数据线、所述薄膜晶体管和所述像素电极之前，在所述下基板的所述内表面上且在所述单元像素中形成滤色器；以及在所述像素电极上形成与所述水平黑带和所述竖直黑带中的至少一个交叠的柱间隔体，其中，所述像素电极的光反射率与所述外部带的光反射率之间的差异小于5%。

用于形成所述上基板的方法步骤还包括以下步骤：在所述上基板的所述内表面上且在所述单元像素中形成滤色器；形成沿着区分所述滤色器的竖直边界设置的多个竖直黑带；以及在所述竖直黑带上形成柱间隔体。

所述水平黑带与所述外部带彼此连接，并且包括钼钛（Mo-Ti）合金和氮化铜（CuNx）中的至少一种。

根据本公开所述的显示装置包括与所述黑底交叠的黑带，以有效防止3D视频图像中的串扰问题以及充分保证所述前孔径比。本公开包括外部带，该外部带连接到黑带，覆盖所述密封剂区域并且由导电材料制成以使得能够作为后表面电极工作以防止在没有后表面电极的情况下的静电。本公开包括所述上基板的去除了所述黑底的所述外表面上的所述黑带，以使得3D模式能够具有与2D模式的前孔径比相同的前孔径比，并且有效地防止串扰问题。

附图说明

附图被包括在本说明书中以提供对本发明的进一步理解，并结合到本说明书中且构成本说明书的一部分，附图示出了本发明的实施方式，并且与说明书一起用于解释本发明的原理。

在附图中：

图1是例示根据现有技术的具有构图延迟器的3D显示系统的结构的立体图。

图2是沿图1中的切割线A-A’的截面图，例示在图1所示的3D显示装置处出现的串扰问题。

图3是例示黑底的宽度比图2所示的黑底的宽度更宽的3D显示装置的截面图。

图4是例示根据本公开的第一实施方式的具有双黑带的构图延迟器型3D显示面板的结构的立体图。

图5A至图5D是沿图4的切割线B-B’的截面图，例示用于制造根据第一实施方式的3D显示面板的方法。

图6是例示根据本公开的第二实施方式的具有双黑带和外部带的构图延迟器型3D显示面板的结构的立体图。

图7A至图7D是沿图6的切割线C-C’的截面图，例示用于制造根据第二实施方式的3D显示面板的方法。

图8是例示根据本公开的第三实施方式的具有双黑带和外部带的构图延迟器型3D显示面板的结构的立体图。

图9A至图9D是沿图8的切割线D-D’的截面图，例示用于制造根据第三实施方式的3D显示面板的方法。

图10A至图10D是例示根据第四实施方式的用于制造3D显示面板的方法的截面图。

具体实施方式

参照附图，将解释本公开的优选实施方式。在整个详细描述中，类似的标号指示类似的元件。然而，本公开不限于这些实施方式，而是可以在不改变技术实质的情况下应用于各种改变和修改。在以下实施方式中，通过考虑解释的方便来选择元件的名称，以使得它们可以不同于实际的名称。

参照图4和图5A至图5D，将解释根据本公开的第一实施方式。图4是例示根据本公开的第一实施方式的具有双黑带的构图延迟器型3D显示面板的结构的立体图。图5A至图5D是沿图4的切割线B-B’的截面图，例示用于制造根据第一实施方式的3D显示面板的方法。

首先，参照图4，根据本公开的第一实施方式的3D显示系统利用设置在显示面板DP上的构图延迟器PR的偏振特性和观看者使用的偏振眼镜PG的偏振特性来呈现3D图像。

如图4所示，构图延迟器型3D显示系统包括呈现2D图像或3D图像的显示面板DP、附接在显示面板DP的正面上的构图延迟器PR和偏振眼镜PG。作为用于显示2D视频图像和/或3D视频图像的装置，显示面板DP可以包括液晶显示装置（或LCD）、场发射显示器（或FED）、等离子体显示面板（或PDP）、包括无机发光二级管和有机发光二级管（或OLED）的电致发光装置（或EL）以及电泳显示装置（或EPD）中的任意一种。下文中，将针对显示面板DP是液晶显示面板的情况解释本公开的实施方式。

显示面板DP包括按照由数据线和选通线的交叉结构限定的矩阵方式设置的液晶单元。显示面板DP的下玻璃基板SL包括像素阵列，该像素阵列包括数据线、选通线、薄膜晶体管、像素电极和存储电容器。显示面板DP的上玻璃基板SU包括黑底、滤色器和/或公共电极。各个液晶单元由形成在连接到薄膜晶体管的像素电极与公共电极之间的电场驱动。上玻璃基板SU和下玻璃基板SL的各个外表面分别具有上偏振膜PU和下偏振膜PL。它们被设置为使得它们的光透射轴垂直交叉。

构图延迟器PR被附接在显示面板DP的上偏振膜PU的外表面（即，与上玻璃基板SU相反的表面）上。构图延迟器PR具有与沿显示面板DP的水平方向排布的像素的各行对应的单位延迟器。例如，一个单位延迟器可以被限定为与共同连接到一个选通线的像素的区域对应。具体地说，第一延迟器RT1被形成为与构图延迟器PR的奇数行对应，第二延迟器RT2被形成为与构图延迟器PR的偶数行对应。第一延迟器RT1可以通过将光的相位延迟+λ/4（这里，λ是从像素阵列入射的光的波长）来透射第一圆偏振光。第二延迟器RT2可以通过将光的相位延迟-λ/4（实际上，+3λ/4）来透射第二圆偏振光。第一延迟器RT1的光吸收轴（或光透射轴）与第二延迟器RT2的光吸收轴彼此垂直。

例如，构图延迟器PR的第一延迟器RT1可以是透射左旋圆偏振光的偏振滤波器，构图延迟器PR的第二延迟器RT2可以是透射右旋圆偏振光的偏振滤波器。在这种情况下，呈现在显示面板DP的奇数行上的视频图像的光可以透射过第一延迟器RT1，然后成为第一圆偏振光（即，左旋圆偏振光）。此外，呈现在显示面板DP的偶数行上的视频图像的光可以透射过第二延迟器RT2，然后成为第二圆偏振光（即，右旋圆偏振光）。

偏振眼镜PG包括具有第一偏振滤波器P1的左眼镜窗口LG和具有第二偏振滤波器P2的右眼镜窗口RG。第一偏振滤波器P1具有与构图延迟器PR的第一延迟器RT1的光偏振特性相同的光偏振特性。同时，第二偏振滤波器P2具有与构图延迟器PR的第二延迟器RT2的光透射轴相同的光透射轴。例如，偏振眼镜PG的第一偏振滤波器P1可以是左旋圆偏振滤波器，偏振眼镜PG的第二偏振滤波器P2可以是右旋圆偏振滤波器。

利用该结构，可以通过在与第一延迟器RT1相关的像素上呈现左图像并且在与第二延迟器RT2相关的像素上呈现右图像来实现3D图像。在如图4所示的3D显示系统中，通过将左眼图像的偏振光特性设置为不同于右眼图像的偏振光特性，左眼图像和右眼图像可以分别独立地到达观看者的左眼和右眼。

具体地说，当在显示面板DP上呈现3D视频数据时，每像素行交替地显示一个左眼图像或一个右眼图像。用于防止左眼图像与右眼图像之间的串扰问题的黑带BS被设置在上基板SU的外表面上（在上基板SU与上偏振膜PU之间）。此外，在与上基板SU的内表面上（即，在上基板SU的在上基板SU与液晶层LC之间的表面）形成的水平黑底BMH对应的区域内，设置了具有与水平黑底BMH的宽度相同或者更窄的宽度的黑带BS。这里基本上可以注意到，元件的“外”表面是指元件的与液晶层LC相反或远离液晶层LC的表面，元件的“内”表面是指元件的靠近液晶层LC的表面。在图4中，竖直黑底BMV形成在上基板SU的内表面上，所以用虚线示出。相反地，与水平黑底BMH交叠的黑带BS形成在上基板SU的外表面上，所以用黑实带示出。

此外，在图4中，附图标记“BZ”是指边框区域。边框区域BZ包括非显示区域，其中设置了用于将显示面板DP的上基板SU与下基板SL结合的密封剂，设置了驱动电路和/或形成了连接驱动电路与显示元件的一些电气元件。

下文中，参照图5A至图5D，将详细解释根据本公开的第一实施方式的构图延迟器型3D显示装置的制造方法。

首先，针对薄膜晶体管基板，制备透明的下基板SL。如图5A所示，在透明的下基板SL的内表面上，通过形成彼此交叉的选通线和数据线来限定按照矩阵型设置的像素区域。在各个像素区域，形成薄膜晶体管和由薄膜晶体管驱动的像素电极。在图5A中，包括诸如薄膜晶体管和像素电极这样的显示驱动元件的层被简单地例示为薄膜晶体管层TFL。

接着，针对滤色器基板，制备透明的上基板SU。如图5B所示，在一个表面（即，外表面）上形成黑带BS。具体地说，根据本公开的显示面板DP具有沿水平方向延伸的构图延迟器PR，所以黑带BS优选地被设置在各个单位构图延迟器RT1和RT2之间。为了有效地防止串扰问题并且保证显示面板DP的足够的孔径比，黑带BS的宽度优选地与黑底BM的宽度相同或者比黑底BM的宽度小。此外，具有与黑底BM的宽度相同的宽度的黑带BS优选地被设置为在相对于上基板SU的竖直空间上与黑底BM交叠。

例如，针对诸如便携式个人数字装置和/或笔记本计算机这样的小面积显示面板的情况，优选的是，黑带BS在竖直空间上完全与水平黑底BMBMH交叠。相反，针对诸如TV监视器这样的大面积显示面板的情况，黑带BS可以与水平黑底BMH的一些区域交叠，以便保证显示面板的前方的上下视角的中心位置的优化观看状况。

在形成有黑带BS的整个表面上，设置后表面电极BIT。后表面电极BIT用于去除在显示面板DP的制造期间被充有的静电。

如图5C所示，翻转上基板SU，在另一表面上（即，内表面，之上未形成后表面电极BIT）形成黑底BM。作为区分像素区域的边界线，黑底BM包括在显示面板DP的水平方向延伸的水平黑底BMH以及在显示面板DP的竖直方向延伸的竖直黑底BMV。例如，水平黑底BMH被设置在与选通线对应的区域处，竖直黑底BMV被设置在与数据线对应的区域处。这里，水平黑底BMH优选地被设置为在竖直空间上与黑带BS（完全地或部分地）交叠。结果，黑底BM可以限定与像素区域对应的滤色器区域。

此后，在该滤色器区域内，形成滤色器CF。在一些情况下，可以在形成黑底BM之前形成滤色器。在滤色器CF上，设置覆盖整个表面的涂覆层OC。尽管附图中未示出，但是在涂覆层OC上，还可以设置用于决定液晶分子的初始配向的配向层。否则，涂覆层OC本身可以被用作配向层。在涂覆层OC上，形成柱间隔体CS，柱间隔体CS用于维持薄膜晶体管基板与滤色器基板之间的单元间隙。柱间隔体CS优选地被形成为在相对于上基板SU的竖直空间上与黑底BM交叠。

如图5D所示，将薄膜晶体管基板与滤色器基板彼此结合，并且其间具有液晶层LC。通过柱间隔体CS，可以恒定地维持上基板SU与下基板SL之间的单元间隙。在下基板SL的外表面上（即，与晶体管层TFL相反的表面）附接下偏振膜PL。按照相同的方式，在上基板SU的外表面（即，上基板SU的形成了后表面电极BIT的表面）上附接上偏振膜PU。此外，在与上偏振膜PU的后表面电极BIT相反的外表面上，附接用于呈现3D图像的构图延迟器PR。具体地说，构图延迟器PR优选地形成为膜型。

再次参照图5D，黑带BS与黑底BM（具体地说，与水平黑底BMH）交叠。此外，当从液晶显示装置的前方观看时，按照包括黑带BS和水平黑底BMH的整个区域不应当降低显示面板的前孔径比的方式决定交叠区域是重要的。例如，在诸如便携式个人显示装置这样的小面积显示面板的情况下，优选的是，黑带BS与水平黑底BMH具有相同的宽度，并且彼此完全交叠。然而，在诸如TV监视器这样的大面积显示面板的情况下，黑带BS可以与水平黑底BMH的一些部分交叠。在这些情况下，黑带BS可以具有与水平黑底BMH的宽度相同或者更小的宽度，并且与水平黑底BMH的一些部分交叠。交叠结构应该被决定为使得，当沿正面方向观看时，黑带BS的不与水平黑底BMH交叠的区域不应当降低显示面板的孔径比。结果，当呈现3D视频图像时，能够保证与呈现2D视频图像时相同的正面亮度。

此外，由于黑带BS和黑底BM分别形成在上基板SU的外表面和内表面上，其具有两个黑带与上基板SU的厚度交叠的双黑带结构（因为黑底像黑带一样工作）。因此，可以有效防止左眼图像与右眼图像之间的串扰。

下文中，参照图6和图7A至图7D，将解释根据本公开的第二实施方式。图6是例示根据本公开的第二实施方式的具有双黑带和外部带的构图延迟器型3D显示面板的结构的立体图。图7A至图7D是沿图6的切割线C-C’的截面图，例示用于制造根据第二实施方式的3D显示面板的方法。

根据本公开的第二实施方式的3D显示装置面板基本上具有与第一实施方式的结构相同的结构。差异在于：在下基板SU上基本不存在选通驱动器ICGIC直接形成在用于密封下基板SL与上基板SU的密封剂区域SE内的边框区域。下文中，将不提到针对与第一实施方式相同的部分的详细解释。

首先，参照图6，显示面板DP不具有边框区域。显示面板DP具有外部带OT，该外部带OT被设置在外表面上，并且在上基板SU的与用于密封上基板SU和下基板SL的密封剂区域SE对应的四边周界处。优选的是，当利用相同的材料形成黑带BS时，形成外部带OT。

在第一实施方式中，由于在水平方向延伸的黑带BS被形成在上基板SU的外表面上，所以所有黑带BS不彼此连接。然而，在第二实施方式中，所有黑带BS通过外部带OT彼此连接。在一些情况下，黑带BS可以不经过外部带OT彼此连接，并且彼此隔离。在黑带BS通过外部带OT彼此连接的情况下，通过由不透明的金属材料制成，黑带BS和外部带OT也可以作为第一实施方式中的后表面电极BIT工作，尽管后表面电极BIT不形成在黑带BS上。在该情况下，优选的是，黑带BS和外部带OT包括诸如钼钛（Mo-Ti）合金或氮化铜（CuNx）这样的在上基板SU的材料上具有良好的粘附性以及优良的抗腐蚀性的不透明的金属材料。

参照图7A至图7D，将详细解释根据本公开的第二实施方式的用于制造具有黑带的构图延迟器型3D显示装置的方法。

首先，针对薄膜晶体管基板，制备透明的下基板SL。如图7A所示，在透明的下基板SL的内表面上，通过形成彼此交叉的选通线和数据线来限定按照矩阵型设置的像素区域。在各个像素区域中，形成薄膜晶体管和薄膜晶体管驱动的像素电极。在图7A中，包括诸如薄膜晶体管和像素电极这样的显示驱动元件的层被简单地例示为薄膜晶体管层TFL。

限定像素区域的薄膜晶体管层TFL被设置在用于呈现视频数据的显示区域AA中。并且，显示区域AA的外部区域可以被限定为非显示区域NA。非显示区域NA是其中设置了用于结合并密封上基板SU和下基板SL的密封剂SE的区域。此外，在该非显示区域NA中，可以形成用于驱动薄膜晶体管层TFL的选通驱动ICGIC。优选的是，利用显示区域AA中的薄膜晶体管形成选通驱动ICGIC。也就是说，根据第二实施方式的选通驱动ICGIC具有比第一实施方式中的安装在下基板SL上的驱动IC小得多的尺寸，并且被直接形成在下基板SL上。

接着，针对滤色器基板，制备透明的上基板SU。如图7B所示，在一个表面（即，外表面）上，形成黑带BS和外部带OT。具体地说，根据本公开的显示面板DP具有沿水平方向延伸的构图延迟器PR，所以黑带BS优选地被设置在各个单位构图延迟器RT1和RT2之间。为了有效地防止串扰问题并且保证显示面板DP的足够的孔径比，黑带BS的宽度优选地与水平黑底BMH的宽度相同或者比水平黑底BMH的宽度小。此外，具有与水平黑底BMH的宽度大致相同的宽度的黑带BS优选地被设置为与相对于上基板SU的竖直间隔上的水平黑底BMH交叠。

例如，针对诸如便携式个人数字装置和/或笔记本计算机这样的小面积显示面板的情况，优选的是，黑带BS在竖直空间上完全与水平黑底BMBMH交叠。相反，针对诸如TV监视器这样的大面积显示面板的情况，黑带BS可以与水平黑底BMH的一些区域交叠，以便保证显示面板的前方的上下视角的中心位置的优化观看状况。

在中间时期，外部带OT优选地被形成为覆盖非显示区域NA。具体地说，外部带OT可以连接位于上基板SU的外表面上的所有黑带BS，并且可以被设置在包围显示区域AA的上基板SU的四个边处。此外，由于黑带BS和外部带OT包括不透明的金属材料，所以它们作为第一实施方式中的后表面电极BIT工作。也就是说，在没有后表面电极BIT的情况下，黑带BS和外部带OT可以去除在显示面板DP的制造期间被充有的静电。

如图7C所示，翻转上基板SU，在另一表面（即，内表面，之上未形成黑带BS和外部带OT）上形成黑底BM。作为区分像素区域的边界线，黑底BM包括在显示面板DP的水平方向延伸的水平黑底BMH以及在显示面板DP的竖直方向延伸的竖直黑底BMV。例如，水平黑底BMH被设置在与选通线对应的区域处，竖直黑底BMV被设置在与数据线对应的区域处。这里，水平黑底BMH优选地被设置为在相对于上基板SU的竖直空间上与黑带BS（完全地或部分地）交叠。结果，黑底BM可以限定与像素区域对应的滤色器区域。

此后，在滤色器区域内，形成滤色器CF。在一些情况下，可以在形成黑底BM之前形成滤色器。在滤色器CF上，涂覆层OC被设置为覆盖整个表面。尽管附图中未示出，但是在涂覆层OC上，还可以设置用于决定液晶分子的初始配向的配向层。否则，涂覆层OC本身可以被用作配向层。在涂覆层OC上，形成柱间隔体CS，柱间隔体CS用于维持薄膜晶体管基板与滤色器基板之间的单元间隙。柱间隔体CS优选地被形成在黑底BM的区域内。

如图7D所示，将薄膜晶体管基板与滤色器基板彼此结合，并且其间具有液晶层LC。通过柱间隔体CS，可以恒定地维持上基板SU与下基板SL之间的单元间隙。上基板SU和下基板SL被非显示区域NA中设置的密封剂SE完全密封。在下基板SL的外表面（即，与薄膜晶体管层TFL相反的表面）上，附接下偏振膜PL。按照相同的方式，在上基板SU的外表面（即，形成了黑带BS和外部带OT的表面）上，附接上偏振膜PU。此外，在上偏振膜PU上，附接用于呈现3D图像的构图延迟器。具体地说，构图延迟器PR优选地形成为膜型。

再次参照图7D，黑带BS与黑底BM（具体地说，与水平黑底BMH）交叠。此外，当从液晶显示装置的前方观看时，重要的是按照包括黑带BS和水平黑底BMH的整个区域不应当降低显示面板的前孔径比的方式决定交叠区域。例如，在诸如便携式个人显示装置这样的小面积显示面板的情况下，优选的是，黑带BS与水平黑底BMH具有相同的宽度，并且彼此完全交叠。然而，在诸如TV监视器这样的大面积显示面板的情况下，黑带BS可以与水平黑底BMH的一些部分交叠。在这些情况下，黑带BS可以具有与水平黑底BMH的宽度相同或者更小的宽度，并且与水平黑底BMH的一些部分交叠。交叠结构应该被决定为使得，当沿正面方向观看时，黑带BS的不与水平黑底BMH交叠的区域不应当降低显示面板的孔径比。结果，当呈现3D视频图像时，能够保证与呈现2D视频图像时相同的正面亮度。

此外，由于黑带BS和黑底BM分别形成在上基板SU的外表面和内表面上，其具有两个黑带与上基板SU的厚度交叠的双黑带结构（因为黑底像黑带一样工作）。因此，可以有效防止左眼图像与右眼图像之间的串扰。

下文中，参照图8和图9A至图9D，将解释根据本公开的第三实施方式。图8是例示根据本公开的第三实施方式的具有双黑带和外部带的构图延迟器型3D显示面板的结构的立体图。图9A至图9D是沿图8的切割线D-D’的截面图，例示用于制造根据第三实施方式的3D显示面板的方法。

首先，参照图8，与第二实施方式类似，根据第三实施方式的显示面板DP不具有边框区域。显示面板DP具有外部带OT，该外部带OT被设置在外表面上，并且在上基板SU的与用于密封上基板SU和下基板SL的密封剂区域SE对应的四边周界处。优选的是，当利用相同的材料形成黑带BS时，形成外部带OT。此外，与第二实施方式不同，在第三实施方式中，黑底BM不被形成在上基板SU的内表面上，而是形成在上基板SU的外表面上。也就是说，黑底BM、黑带BS和外部带OT被形成在上基板SU的外表面上。

换言之，在上基板SU的内表面上不存在黑底BM，但是在上基板SU的外表面上，形成黑带BS（或者水平黑带和竖直黑带）而不是黑底BM。在图8中，由于竖直黑带BMV和具有水平黑带BMH的功能的黑带BS（换言之，水平黑带和竖直黑带）被形成在上基板SU的外表面上，所以它们被示出为实黑带。

此外，在第三实施方式中，竖直黑底BMV与具有水平黑底BMH的黑带BS通过外部带OT彼此连接。在一些情况下，黑带BS可以不经过外部带OT彼此连接，并且彼此隔离。在竖直黑底BMV与黑带BS通过外部带OT彼此连接的情况下，通过由不透明的金属材料制成，竖直黑底BMV、黑带BS和外部带OT也可以像第一实施方式中的后表面电极BIT工作，尽管后表面电极BIT不形成在黑带BS上。在该情况下，优选的是，竖直黑底BMV、黑带BS和外部带OT包括诸如钼钛（Mo-Ti）合金或氮化铜（CuNx）这样的在上基板SU的材料上具有良好的粘附性以及优良的抗腐蚀性的不透明的金属材料。

参照图9A至图9D，将详细解释根据本公开的第三实施方式的用于制造具有黑带的构图延迟器型3D显示装置的方法。

首先，针对薄膜晶体管基板，制备透明的下基板SL。如图9A所示，在透明的下基板SL的内表面上，通过形成彼此交叉的选通线和数据线来限定按照矩阵型设置的像素区域。在各个像素区域中，形成薄膜晶体管和由薄膜晶体管驱动的像素电极。在图9A中，包括诸如薄膜晶体管和像素电极这样的显示驱动元件的层被简单地例示为薄膜晶体管层TFL。

限定像素区域的薄膜晶体管层TFL被设置在用于呈现视频数据的显示区域AA中。并且，显示区域AA的外部区域可以被限定为非显示区域NA。非显示区域NA是其中设置了用于结合并密封上基板SU和下基板SL的密封剂SE的区域。此外，在该非显示区域NA中，可以形成用于驱动薄膜晶体管层TFL的选通驱动ICGIC。优选的是，利用显示区域AA中的薄膜晶体管形成选通驱动ICGIC。也就是说，根据第三实施方式的选通驱动ICGIC具有比第一实施方式中的安装在下基板SL上的驱动IC小得多的尺寸，并且被直接形成在下基板SL上。

尽管附图中未示出，但是作为具有薄膜晶体管层TFL的下基板SL的上层，还可以包括涂覆层。在涂覆层OC上方，还可以设置用于决定液晶分子的初始配向的配向层。否则，涂覆层OC本身可以用作配向层。

接着，针对滤色器基板，制备透明的上基板SU。如图9B所示，在一个表面（即，外表面）上，形成黑带BS和外部带OT。具体地说，在第三实施方式中，黑底BM不形成在滤色器CF之间，而是形成在上基板SU的外表面上。因此，在第三实施方式中，最终，黑带BS具有与第一实施方式中的黑底BM的形状相同的形状，沿水平方向和竖直方向设置网格状，以区分各个像素区域。也就是说，在单位构图延迟器RT1与RT2之间形成作为水平黑底BMH工作的黑带BS。并且，竖直黑底BMV（或者还称作“竖直黑带”）被设置在各个像素列之间。由于水平黑底BMH和黑带BS成为一个元件，并且形成在上基板SU的外表面上，所以可以有效地防止串扰，并且可以保证前孔径比。

在中间时期，外部带OT优选地被形成为覆盖非显示区域NA。具体地说，外部带OT可以连接竖直黑底BMV和位于上基板SU的外表面上的所有黑带BS，并且可以被设置在包围显示区域AA的上基板SU的四周。此外，由于竖直黑底BMV、黑带BS和外部带OT包括不透明的金属材料，所以它们作为第一实施方式中的后表面电极BIT工作。也就是说，在没有后表面电极BIT的情况下，黑带BS和外部带OT可以去除在显示面板DP的制造期间被充有的静电。

如图9C所示，翻转上基板SU，在另一表面（即，内表面）上的与由竖直黑底BMV和黑带BS限定的像素区域对应的区域中形成滤色器CF。在滤色器CF上，涂覆层OC被设置为覆盖整个表面。尽管附图中未示出，但是在涂覆层OC上，还可以设置用于决定液晶分子的初始配向的配向层。否则，涂覆层OC本身可以被用作配向层。在涂覆层OC上，形成柱间隔体CS，柱间隔体CS用于维持薄膜晶体管基板与滤色器基板之间的单元间隙。柱间隔体CS优选地被形成在竖直黑底BMV和/或黑带BS的区域内。

如图9D所示，薄膜晶体管基板与滤色器基板彼此结合，并且其间具有液晶层LC。通过柱间隔体CS，可以恒定地维持上基板SU与下基板SL之间的单元间隙。上基板SU和下基板SL被设置在非显示区域NA中的密封剂SE完全密封。在下基板SL的外表面上，附接有下偏振膜PL。按照相同的方式，在上基板SU的外表面上，附接上偏振膜PU。此外，在上偏振膜PU上，附接用于呈现3D图像的构图延迟器。具体地说，构图延迟器PR优选地形成为膜型。

再次参照图9D，在上基板SU的外表面上形成竖直黑底BMV和取代黑带BS的水平黑底BMH。因此，当与第一实施方式比较时，可以说，省略了黑带BS，并且形成在上基板SU的内表面上的黑底BM被移到上基板SU的外表面上。也就是说，当在显示面板的正面观看时，通过与传统的2D显示装置比较，前孔径比不处于劣势。因此，当呈现3D视频数据时，可以保证与2D视频数据的亮度相同的亮度。此外，由于黑底BM（在该实施方式中，还称为“黑带BS”）位于从滤色器CF离开达上基板SU的厚度，所以可以有效防止左眼图像与右眼图像之间的串扰问题。

下文中，参照图10A至图10D，将解释根据本公开的第四实施方式的用于制造具有黑带的构图延迟器型3D显示装置的方法，另一示例应用于第一实施方式至第三实施方式，其中，滤色器直接形成在薄膜晶体管基板上而不是形成在上基板上。这里，为了方便，将针对滤色器形成在第三实施方式中的下基板的情况解释第四实施方式。图10A至图10D是例示根据第四实施方式的用于制造3D显示面板的方法的截面图。

首先，针对薄膜晶体管基板，制备透明的下基板SL。如图10A所示，在透明的下基板SL的内表面的显示区域AA上，通过形成彼此交叉的选通线和数据线来限定按照矩阵型设置的像素区域。在各个像素区域中，形成包括薄膜晶体管和由薄膜晶体管驱动的像素电极的薄膜晶体管层TFL。在薄膜晶体管层TFL上，形成滤色器CF。在滤色器CF上，形成柱间隔体CS。优选的是，柱间隔体CS被形成在与形成在上基板SU的外表面上的黑带BS交叠的区域内。在非显示区域NA中，形成用于驱动薄膜晶体管层TFL的元件的选通驱动ICGIC。优选的是，利用显示区域AA中的薄膜晶体管形成选通驱动ICGIC。也就是说，根据第四实施方式的选通驱动ICGIC具有比第一实施方式中的安装在下基板SL上的驱动IC小得多的尺寸，并且被直接形成在下基板SL上。

接着，制备透明的上基板SU。如图10B所示，在一个表面（即，外表面）上，形成黑带BS和外部带OT。具体地说，在第四实施方式中，滤色器CF不形成在上基板SU上，而是形成在下基板SL上，所以，不需要在上基板SU的内表面上形成黑底BM。因此，在第四实施方式中，黑带BS被形成在上基板SU的外表面上，具有与第一实施方式中的黑底BM相同的网格状，其中，通过设置在单元像素之间来区分单元像素。也就是说，同时作为水平黑底BMH工作的（水平）黑带BS被形成在单位构图延迟器RT1与RT2之间。并且，作为竖直黑底BMV工作的（竖直）黑带BS被设置在各个像素列之间。由于在上基板SU的外表面上形成具有与黑底BM相同的结构的黑带BS，所以尽管不存在黑底BM，也可以有效地防止串扰，并且可以保证足够的前孔径比。

如图10B所示，外部带OT优选地被形成为覆盖非显示区域NA。具体地说，外部带OT可以连接竖直黑底BMV和位于上基板SU的外表面上的所有黑带BS，并且可以被设置在包围显示区域AA的上基板SU的四周。此外，由于竖直黑底BMV、黑带BS和外部带OT包括不透明的金属材料，所以它们作为第一实施方式中的后表面电极BIT工作。也就是说，在没有后表面电极BIT的情况下，黑带BS和外部带OT可以去除在显示面板DP的制造期间被充有的静电。

如图10C所示，如果有必要，翻转上基板SU，则可以在上基板SU的内表面上形成涂覆层OC。尽管附图中未示出，但是在涂覆层OC上，还可以设置用于决定液晶分子的初始配向的配向层。否则，涂覆层OC本身可以被用作配向层。

如图10D所示，具有薄膜晶体管和滤色器的下基板SL与具有黑带BS和外部带OT的上基板SU彼此结合，并且液晶层LC位于之间。通过柱间隔体CS，可以恒定地维持上基板SU与下基板SL之间的单元间隙。上基板SU和下基板SL被设置在非显示区域NA中的密封剂SE完全密封。在下基板SL的外表面上，附接下偏振膜PL。按照相同的方式，在上基板SU的外表面上，附接有上偏振膜PU。此外，在上偏振膜PU上，附接用于呈现3D图像的构图延迟器。具体地说，构图延迟器PR优选地形成为膜型。

尽管附图中未示出，但是作为具有滤色器CF的下基板SL的上层，还可以包括涂覆层。在涂覆层OC上方，还可以设置用于决定液晶分子的初始配向的配向层。否则，涂覆层OC本身可以被用作配向层。

根据本公开的第四实施方式的显示面板与第三实施方式的显示面板非常相似。差异在于：滤色器CF被直接形成在薄膜晶体管层TFL上，并且柱间隔体CS被形成在滤色器CF上。因此，上基板SU具有作为黑底并且作为用于防止单位构图延迟器之间的串扰的元件工作的黑带BS，以及用于覆盖GIP区域并作为后表面电极工作的外部带OT。也就是说，相比于第三实施方式的制造方法，明显简化了上基板SU的制造方法。

在上述的第四实施方式中，滤色器CF被形成在薄膜晶体管层TFL上。然而，如果有必要，滤色器CF可以在形成薄膜晶体管层TFL之前形成在下基板SL上。在该情况下，下基板SL的最上层。在该结构中，像素电极可以暴露于观看者，因为滤色器CF被设置在像素电极下方。具体地说，如果像素电极包括具有高反射率的金属材料或者诸如氮化铜（CuNx）这样的有色金属材料（铜材料具有黄色问题），则观看者可以明显识别出外部带OT。这是由于外部带OT也是金属材料但是黑色而的导致的，所以外部带OT具有比具有较高反射率或黄色属性的像素电极更低的反射率。因此，外部带OT（非显示区域NA）被示出为比像素电极（显示区域AA）更黑暗。

为了解决这些问题，要求像素电极的光反射率与外部带OT的光反射率之间的差异应当被控制在5%以内。例如，像素电极不应当包括诸如铜这样的有色金属材料，而是包括钼钛（Mo-Ti）合金或铟锡氧化物，或者包括钼钛（Mo-Ti）合金和铟锡氧化物（ITO）的多层材料。否则，如上述第四实施方式，滤色器CF将被形成在薄膜晶体管层TFL上，以通过覆盖像素电极来显著降低像素电极的光反射率。

虽然已经参照附图详细描述了本公开的实施方式，但是本领域技术人员应当理解，在不改变本公开的技术实质或实质特征的情况下，可以按照其它具体形式来实现本公开。因此，应当注意的是，以上实施方式就各方面而言仅是例示性的，而不应当被理解为限制本公开。本公开的范围由本公开的所附权利要求而不是由详细描述来限定。在权利要求的涵义和范围内进行的所有改变或修改或它们的等效例应当被理解为在本公开的范围以内。

本申请要求2012年5月2日提交的韩国专利申请第10-2012-0046535号的优先权，就各方面而言，通过引用将其并入本文，如同在此充分阐释一样。

Claims (15)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：

上基板，所述上基板具有按照矩阵型设置有单元像素的显示区域和包围所述显示区域的非显示区域；

与所述上基板结合的下基板；

设置在所述上基板与所述下基板之间的液晶层；

多个水平黑带，所述多个水平黑带沿着区分所述单元像素的水平边界设置在所述上基板的外表面上，其中，所述上基板的所述外表面是所述上基板的与所述液晶层相背对的表面；以及

外部带，所述外部带在所述上基板的所述外表面上并且覆盖所述非显示区域，其中，所述多个水平黑带通过所述外部带电连接。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述下基板包括：

选通线和数据线，所述选通线和所述数据线在所述下基板的内表面上限定所述单元像素；

连接到所述选通线和所述数据线的薄膜晶体管；

形成在所述单元像素中并连接到所述薄膜晶体管的像素电极；以及

设置在所述非显示区域中的驱动元件。

3.根据权利要求2所述的显示装置，所述显示装置还包括：

多个竖直黑带，所述多个竖直黑带沿着区分所述单元像素的竖直边界设置在所述上基板的所述外表面上。

4.根据权利要求3所述的显示装置，所述显示装置还包括：

在所述上基板的内表面上且在所述单元像素中形成的滤色器。

5.根据权利要求3所述的显示装置，所述显示装置还包括：

滤色器，该滤色器在所述下基板的内表面上覆盖所述像素电极并形成在所述单元像素中。

6.根据权利要求3所述的显示装置，所述显示装置还包括：

滤色器，该滤色器在所述下基板的内表面上被设置在所述像素电极与所述下基板之间。

7.根据权利要求2所述的显示装置，所述显示装置还包括：

在所述上基板的所述内表面上且在所述单元像素中形成的滤色器；以及

多个竖直黑带，所述多个竖直黑带沿着区分在所述上基板的所述内表面上形成在所述单元像素中的所述滤色器的竖直边界设置。

8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述水平黑带与所述外部带两者都包括钼钛(Mo-Ti)合金和氮化铜(CuNx)中的至少一种。

9.一种显示装置的制造方法，所述制造方法包括以下步骤：

形成上基板，包括将上基板划分为具有矩阵型的单元像素的显示区域和包围所述显示区域的非显示区域，以及形成沿着区分所述单元像素的水平边界设置在所述上基板的外表面上的多个水平黑带和在所述上基板的所述外表面上覆盖所述非显示区域的外部带，其中，所述上基板的所述外表面是所述上基板的与液晶层相背对的表面，并且所述多个水平黑带通过所述外部带电连接；

形成下基板，所述下基板包括在所述下基板的内表面上限定所述单元像素的选通线和数据线、连接到所述选通线和所述数据线的薄膜晶体管、形成在所述单元像素中并连接到所述薄膜晶体管的像素电极和设置在所述非显示区域中的驱动元件；以及

通过在所述非显示区域内设置密封剂，并且通过在所述上基板与所述下基板之间设置液晶层且使所述上基板的内表面面对所述下基板的所述内表面，来结合所述上基板与所述下基板。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述形成上基板的步骤还包括以下步骤：

形成沿着区分所述单元像素的竖直边界设置在所述上基板的所述外表面上的多个竖直黑带。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述形成上基板的步骤还包括以下步骤：

在所述上基板的所述内表面上且在所述单元像素中形成滤色器；以及

形成与所述水平黑带和所述竖直黑带中的至少一个交叠的柱间隔体。

12.根据权利要求10所述的方法，其中，所述形成下基板的步骤还包括以下步骤：

在所述下基板的所述内表面上且在所述单元像素中形成覆盖所述像素电极的滤色器；以及

在所述滤色器上形成与所述水平黑带和所述竖直黑带中的至少一个交叠的柱间隔体。

13.根据权利要求10所述的方法，其中，所述形成下基板的步骤还包括以下步骤：

在形成所述选通线、所述数据线、所述薄膜晶体管和所述像素电极之前，在所述下基板的所述内表面上且在所述单元像素中形成滤色器；以及

在所述像素电极上形成与所述水平黑带和所述竖直黑带中的至少一个交叠的柱间隔体。

14.根据权利要求9所述的方法，其中，所述形成上基板的步骤还包括以下步骤：

在所述上基板的所述内表面上在所述单元像素中形成滤色器；

形成沿着区分所述滤色器的竖直边界设置的多个竖直黑带；以及

在所述竖直黑带上形成柱间隔体。

15.根据权利要求9所述的方法，其中，所述水平黑带与所述外部带两者都包括钼钛(Mo-Ti)合金和氮化铜(CuNx)中的至少一种。