KR20050097005A - 액정표시장치용 기판 제조방법 - Google Patents

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KR20050097005A
KR20050097005A KR1020040021713A KR20040021713A KR20050097005A KR 20050097005 A KR20050097005 A KR 20050097005A KR 1020040021713 A KR1020040021713 A KR 1020040021713A KR 20040021713 A KR20040021713 A KR 20040021713A KR 20050097005 A KR20050097005 A KR 20050097005A
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Abstract

본 발명은, 다수의 화소가 배열되는 표시영역과 상기 표시영역 주변의 비표시영역을 갖는 기판의 상기 표시영역에 제 1 블랙매트릭스를 형성하고, 상기 비표시 영역에 제 2 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 표시영역에 컬러필터층을 형성하는 단계와; 상기 컬러필터층 상에 오버코트층을 형성하는 단계와; 상기 오버코트층 상에 상기 제 2 블랙매트릭스와 전기적으로 연결되는 공통 전극을 형성하는 단계와; 상기 공통 전극 상에 배향막을 형성하는 단계와; 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 전기적으로 분리하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 기판 제조방법을 제공한다.
본 발명은, 제조 공정 중에 EMI 쉴드용 블랙매트릭스와 공통 전극을 전기적으로 연결하여 배향막 도포 및 러빙 공정시 전하가 유도되지 않도록 함으로써 주위의 이물이 기판 면에 흡착되는 것을 방지할 수 있고, 이후의 공정에서 EMI 쉴드용 블랙매트릭스와 공통 전극을 끊어줌으로써 EMI 쉴드용 블랙매트릭스는 전자기파를 차폐할 수 있는 효과가 있다.

Description

액정표시장치용 기판 제조방법{Manufacturing method of substrate for liquid crystal display device}
본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전자기 간섭 차폐용 블랙매트릭스를 갖는 액정표시장치용 기판 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시장치는 액정분자의 광학적 이방성과 복굴절 특성을 이용하여 화상을 표현하는 것으로, 전계가 인가되면 액정의 배열이 달라지고 달라진 액정의 배열 방향에 따라 빛이 투과되는 특성 또한 달라진다.일반적으로, 액정표시장치는 전계 생성 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.
도 1은 일반적인 액정표시장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도시한 바와 같이, 일반적인 컬러 액정표시장치(11)는 적, 녹, 청의 컬러필터층(8)과 컬러필터층(8) 사이에 구성된 블랙매트릭스(6) 및 컬러필터층(8)의 상부에 증착된 공통전극(18)이 형성된 상부기판(5)과, 화소영역(P)이 정의되고 화소영역(P)에는 화소전극(17)과 스위칭소자(T)가 구성되며, 화소영역(P)의 주변으로 어레이배선이 형성된 하부기판(22)을 포함하며, 상부기판(5)과 하부기판(22) 사이에는 액정(14)이 충진되어 있다.
하부기판(22)은 어레이기판(array substrate)이라고도 하며, 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 매트릭스형태(matrix type)로 위치하고, 이러한 다수의 박막트랜지스터(TFT)를 교차하여 지나가는 게이트배선(13)과 데이터배선(15)이 형성된다. 이때, 화소영역(P)은 게이트배선(13)과 데이터배선(15)이 교차하여 정의되는 영역이며, 화소영역(P)상에는 전술한 바와 같이 투명한 화소전극(17)이 형성된다.
화소전극(17)은 ITO(indium-tin-oxide)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명 도전성금속을 사용한다. 화소전극(17)과 병렬로 연결된 스토리지 캐패시터(CST)가 게이트 배선(13)의 상부에 구성되며, 스토리지 캐패시터(CST)의 제 1 전극으로 게이트 배선(13)의 일부를 사용하고, 제 2 전극으로 소스 및 드레인 전극과 동일층 동일물질로 형성된 아일랜드 형상의 소스/드레인 금속층(30)을 사용한다.
소스/드레인 금속층(30)은 화소전극(17)과 접촉되어 화소전극의 신호를 받도록 구성된다.
그런데, 액정표시장치에는 내부에 게이트 배선, 데이터 배선 등과 같이 전기적 신호가 전달되는 금속 패턴이 다수 존재한다. 따라서, 전기적 신호에 의한 전자기파가 형성되어 액정표시장치의 구동에 영향을 미치게 되며, 또한 외부로 전자기파가 방출되는 문제가 발생하게 된다.
위와 같은 문제를 해결하기 위해 상부기판인 컬러필터기판에 EMI(Electro-Magnetic Interference) 쉴드(shield) 기능을 하는 전자파 차단 수단을 형성하게 된다.
도 2는 EMI 쉴드용 블랙매트릭스가 형성된 종래의 컬러필터기판을 도시한 평면도이다. 그리고, 도 3은 도 2의 절단선 Ⅲ-Ⅲ을 따라 도시한 단면도이다. 여기서, 설명의 편의를 위해, 도 2에서는 기판 내부에 형성된 블랙매트릭스에 대해서는 도시하지 않았다.
도시한 바와 같이, 기판(100) 상에 제 1, 2 블랙매트릭스(111, 112), 컬러필터층(120), 오버코트층(130), 공통 전극(140)이 형성되어 있다.
제 1 블랙매트릭스(111)는 어레이기판에 형성된 게이트 배선(도 1의 13 참조) 등과 같은 금속 패턴에 대응하여 형성되고, 제 2 블랙매트릭스(112)는 기판(100)의 가장자리를 따라 형성되는데, 제 2 블랙매트릭스(112)는 콘택홀(115)을 통해 제 2 블랙매트릭스 단자(142)와 연결되고 외부에 접지되어 EMI 쉴드 기능을 하게 된다.
공통 전극(140)은 공통 전극 단자(141)를 통해 외부에 연결되어 공통 전압을 인가받게 된다.
전술한 바와 같은 컬러필터기판은, 적층 순서에 따라서 형성된다. 즉, 기판(100) 상에 제 1, 2 블랙매트릭스(111, 121)를 형성한다. 다음으로, 컬러필터층(120)과 오버코트층(130)을 순차적으로 형성한다. 다음으로, 투명 도전성 금속물질을 증착하고 패터닝하여 공통 전극 및 공통 전극 단자(140, 141)와 제 2 블랙매트릭스 단자(142)를 형성한다. 이후에, 배향막(미도시)을 형성하고 러빙 공정을 진행하게 된다.
그런데, 컬러필터기판에서 공통 전극(140)과 제 2 블랙매트릭스(112)는 컬러필터층(120)과 오버코트층(130)을 사이에 두고 위치하게 되어, 도 4에 도시한 바와 같이, 전기적으로 캐패시터(C)를 구성하게 된다. 즉, 제 2 블랙매트릭스(112)와 공통 전극(140)은 각각 캐패시터(C)의 두 전극이 되고, 컬러필터층(120)과 오버코트층(130)은 유전체로서 기능하게 된다.
따라서, 공통 전극(140) 상에 배향막 도포 및 러빙 공정 중에 마찰 등에 의해 발생된 전하가 유도되어 주위의 먼지 등의 이물질이 컬러필터기판 표면에 흡착된다. 이에 따라 화질을 저하시키는 문제가 발생하게 된다.
전술한 바와 같은 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은, EMI 쉴드용 블랙매트릭스와 공통 전극이 분리 형성됨으로써 배향막 도포 및 러빙 등의 공정시 유도되는 전하에 의해 이물질이 흡착하여 화질을 저하시키는 문제를 개선할 수 있는 액정표시장치용 기판의 제조방법을 제공함에 있다.
전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 다수의 화소가 배열되는 표시영역과 상기 표시영역 주변의 비표시영역을 갖는 기판의 상기 표시영역에 제 1 블랙매트릭스를 형성하고, 상기 비표시 영역에 제 2 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 표시영역에 컬러필터층을 형성하는 단계와; 상기 컬러필터층 상에 오버코트층을 형성하는 단계와; 상기 오버코트층 상에 상기 제 2 블랙매트릭스와 전기적으로 연결되는 공통 전극을 형성하는 단계와; 상기 공통 전극 상에 배향막을 형성하는 단계와; 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 전기적으로 분리하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 기판 제조방법을 제공한다.
여기서, 상기 공통 전극을 형성하는 단계는, 상기 오버코트층 상에 투명 도전성 금속 물질을 도포하는 단계와; 상기 투명 도전성 금속 물질을 패터닝하여 공통 전극과, 상기 공통 전극과 연결되는 공통 전극 단자와, 상기 제 2 블랙매트릭스와 연결되고 상기 공통 전극 단자와 연결되는 연결 단자를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 오버코트층에 상기 제 2 블랙매트릭스를 노출하는 콘택홀을 형성하는 단계를 더욱 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 전기적으로 분리하는 단계는, 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 연결하는 부분을 스크라이빙 공정으로 제거하는 단계일 수 있다.
또한, 상기 배향막은 전기적으로 연결된 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극이 연결되는 부분을 노출할 수 있다.
다른 측면에서, 본 발명은, 다수의 화소가 배열되는 표시영역과 상기 표시영역 주변의 비표시영역을 갖는 제 1 기판의 상기 표시영역에 제 1 블랙매트릭스를 형성하고, 상기 비표시 영역에 제 2 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 표시영역에 컬러필터층을 형성하는 단계와; 상기 컬러필터층 상에 오버코트층을 형성하는 단계와; 상기 오버코트층 상에 상기 제 2 블랙매트릭스와 전기적으로 연결되는 공통 전극을 형성하는 단계와; 상기 공통 전극 상에 배향막을 형성하는 단계와; 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 전기적으로 분리하는 단계와; 게이트 배선과 데이터 배선과 화소 전극을 갖는 제 2 기판의 화소 전극이 상기 공통 전극과 마주보도록 상기 제 1, 2 기판을 합착하고, 상기 제 1, 2 기판 사이에 액정층을 충진하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조방법을 제공한다.
여기서, 상기 공통 전극을 형성하는 단계는, 상기 오버코트층 상에 투명 도전성 금속 물질을 도포하는 단계와; 상기 투명 도전성 금속 물질을 패터닝하여 공통 전극과, 상기 공통 전극과 연결되는 공통 전극 단자와, 상기 제 2 블랙매트릭스와 연결되고 상기 공통 전극 단자와 연결되는 연결 단자를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 오버코트층에 상기 제 2 블랙매트릭스를 노출하는 콘택홀을 형성하는 단계를 더욱 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 전기적으로 분리하는 단계는, 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 연결하는 부분을 스크라이빙 공정으로 제거하는 단계일 수 있다.
또한, 상기 배향막은 전기적으로 연결된 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극이 연결되는 부분을 노출할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 기판 제조방법은 제조 공정에서 전자기파 차단용 블랙매트릭스와 공통전극을 전기적으로 연결하여, 전자기파 차단용 블랙매트릭스와 공통전극을 등전위로 만들게 된다. 배향막에 대한 러빙공정시 전하가 유도되어 불량을 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 5a와 5b 내지 도 9a와 9b는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 기판을 제조하는 방법을 도시한 도면이다. 그리고, 도 5b, 6b, 7b, 8b, 9b는 각각 도 5a, 6a, 7a, 8a, 9a의 절단선 Ⅴb-Ⅴb, Ⅵb-Ⅵb, Ⅶb-Ⅶb, Ⅷb-Ⅷb, Ⅸb-Ⅸb를 따라 도시한 단면도이다. 여기서, 설명의 편의를 위해, 도 5a, 6a, 7a, 8a, 9a에서는 기판 내부의 표시 영역에 형성된 블랙매트릭스에 대해서는 도시하지 않았다.
먼저, 도 5a와 5b에 도시한 바와 같이, 기판(200) 상에 차광물질을 증착하고 패터닝하여 블랙매트릭스(210)를 형성한다. 차광물질은 크롬(Cr) 등을 포함하는 금속물질을 사용한다. 기판(200)은 다수의 화소가 배열되어 화상을 표시하게 되는 표시영역(E)과 표시영역(E) 주위의 비표시영역(N)으로 이루어진다. 블랙매트릭스(210)는 표시영역(E)에 형성되는 제 1 블랙매트릭스(211)와 비표시영역(N)에 형성되는 제 2 블랙매트릭스(212)로 나뉘어진다.
제 1 블랙매트릭스(211)는 표시영역(E)에 위치하여, 대응기판(미도시)에 형성된 데이터 배선, 게이트 배선, 박막트랜지스터 등의 금속 패턴을 가리게 됨으로써, 금속 패턴 상부에 위치하는 액정층을 통과하는 빛을 차단하는 기능을 하게 된다. 제 1 블랙매트릭스(211) 사이의 개구부(213)는 화소에 각각 대응한다.
제 2 블랙매트릭스(212)는 비표시영역(N), 즉 기판(200)의 가장자리를 따라 형성되는데, 이후에 접지되어 액정표시장치로부터 발생되는 전자기파 장애를 방지하는 EMI 쉴드로서 기능을 하게 된다. 여기서, 제 2 블랙매트릭스(212)는 제 1 블랙매트릭스(211)와 전기적으로 연결되지 않는다.
다음으로, 도 6a와 6b에 도시한 바와 같이, 표시영역(E)에 컬러필터층(220)을 형성한다. 컬러필터층(220)은 제 1 블랙매트릭스(211) 사이의 화소(P)에 대응하는 개구부(213)를 채우게 된다. 컬러필터층(220)은 레드(R), 그린(G), 블루(B) 컬러필터층(221, 222, 223)으로 이루어진다. 레드 컬러필터층(221)은 레드 색을 갖는 컬러수지를 기판 전면에 도포하고 패터닝하여 형성되며, 같은 방법으로 그린, 블루 컬러수지를 도포하고 패터닝하여 그린, 블루 컬러필터층(222, 223)을 형성한다.
다음으로, 도 7a와 7b에 도시한 바와 같이, 컬러필터층(220)이 형성된 기판 전면에 오버코트층(230)을 형성한다. 오버코트층(230)은 컬러필터층(220)이 형성된 기판을 평탄화하는 기능을 하게 된다. 오버코트층(230)에는 제 2 블랙매트릭스(212) 일부를 노출하는 콘택홀(215)이 기판의 가장 자리에 형성된다.
다음으로, 도 8a와 8b에 도시한 바와 같이, 투명 도전성 금속물질을 증착한다. 투명 도전성 금속물질은 인듐-틴-옥사이드(Indium-Tin-Oxide), 인듐-징크-옥사이드(Indium-Zinc-Oxide)와 같은 물질을 포함한다.
투명 도전성 물질을 패터닝하여 표시영역(E)에 공통 전극(240)을 형성하고, 비표시영역(N)에 공통 전극(240)을 외부와 연결시켜 공통 전압을 인가받기 위한 공통 전극 단자(241)와 제 2 블랙매트릭스 단자(242)를 형성한다. 제 2 블랙매트릭스 단자(242)는 콘택홀(215)을 통해 제 2 블랙매트릭스(242)와 전기적으로 연결된다.
한편, 제 2 블랙매트릭스 단자(242)는 공통 전극 단자(241)와 연결부(243)를 통해 연결되어 전기적으로 등전위가 된다. 따라서, 제 2 블랙매트릭스(212)와 공통 전극(240)은 전기적으로 연결된다.
도 12는 공통 전극(240)과 제 2 블랙매트릭스(212)가 전기적으로 연결된 구성을 도시한 등가회로도이다. 공통 전극(240)과 제 2 블랙매트릭스(212)는 컬러필터층과 오버코트층(도 8b의 220, 230 참조)을 유전체로 하여 캐패시터(C)를 구성하게 되는데, 전기적으로 연결됨으로써 도시한 바와 같은 등가회로를 구성하게 된다.
연속한 공정으로, 도 9a와 9b에 도시한 바와 같이, 공통 전극(240)이 형성된 기판 상에 배향막(250)을 형성한다. 배향막(250)은 공통 전극 단자(241)와 제 2 블랙매트릭스 단자(242)가 형성된 부분에는 형성되지 않는다.
배향막(250)은 폴리이미드(polyimide)와 같은 배향물질로 이루어진다. 배향막(250)은 액정층(미도시)을 배향하기 위해 러빙 공정이 진행된다. 러빙포 등을 사용하여 배향막(250)을 배향하게 된다.
배향막(250) 도포 및 러빙 공정시 마찰 등에 의해 전하가 발생할 수 있는데, 전술한 바와 같이 공통 전극(240)과 제 2 블랙매트릭스(212)로 구성되는 캐패시터(C)는 전기적으로 연결되어 전위차가 발생하지 않기 때문에, 공통 전극(240)에 전하가 유도되지 않게 된다. 따라서, 주위의 먼지 등과 같은 이물은 기판 표면에 유도되지 않게 되어 불량을 방지할 수 있게 된다.
한편, 제 2 블랙매트릭스(212)는 공통 전극(240)과 연결되어 있어 EMI 쉴드로서 기능하지 못하게 된다. 따라서, 제 2 블랙매트릭스(212)와 공통 전극(240)의 전기적 연결을 끊어주는 공정이 진행된다.
도 10에 도시한 바와 같이, 스크라이빙 라인(L ; scribing line)을 따라 연결부가 형성된 부분을 제거하는 스크라이빙 공정이 진행된다.
스크라이빙 공정이 진행되면, 도 11에 도시한 바와 같이, 제 2 블랙매트릭스 단자(242)와 공통 전극 단자(241)는 분리되어, 공통 전극(240)과 제 2 블랙매트릭스(212)는 전기적 연결이 끊어지게 된다.
도 13은 스크라이빙 공정 후에, 공통 전극(240)과 제 2 블랙매트릭스(212)가 전기적으로 끊어진 구성을 도시한 등가회로도이다.
이후에, 제 2 블랙매트릭스 단자(242)는 외부에 연결되어 접지되고, 공통 전극 단자(241)는 외부에 연결되어 공통 전압을 인가받게 된다.
전술한 바와 같은 공정이 진행되면 블랙매트릭스가 형성된 액정표시장치용 기판을 형성할 수 있게 된다.
또한, 전술한 바와 같이 형성된 액정표시장치용 기판과, 게이트 배선, 데이터 배선, 박막트랜지스터, 화소 전극이 형성된 대응기판을 공통 전극과 화소 전극이 서로 마주보도록 합착하고, 두 기판 사이에 액정층을 충진하여 액정표시장치용 기판을 제조하게 된다.
전술한 바와 같이 본 발명은, 액정표시장치용 기판을 제조하는 공정 중에 EMI 쉴드용 블랙매트릭스와 공통 전극을 전기적으로 연결하여 배향막 도포 및 러빙 공정시 전하가 유도되지 않도록 함으로써 주위의 이물이 기판 면에 흡착되는 것을 방지하게 된다. 또한, 이후의 공정에서 EMI 쉴드용 블랙매트릭스와 공통 전극을 끊어줌으로써, EMI 쉴드용 블랙매트릭스는 전자기파를 차폐할 수 있는 기능을 하도록 한다.
전술한 바와 같이, 본 발명은, EMI 쉴드용 블랙매트릭스와 공통 전극을 전기적으로 연결하여 배향막 도포 및 러빙 공정시 전하가 유도되지 않도록 함으로써 주위의 이물이 기판 면에 흡착되는 것을 방지할 수 있고, 또한 이후의 공정에서 EMI 쉴드용 블랙매트릭스와 공통 전극을 끊어줌으로써 EMI 쉴드용 블랙매트릭스는 전자기파를 차폐할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 일반적인 액정표시장치를 도시한 도면.
도 2는 EMI 쉴드용 블랙매트릭스가 형성된 컬러필터기판을 도시한 평면도.
도 3은 도 2의 절단선 Ⅲ-Ⅲ을 따라 도시한 단면도.
도 4는 종래의 컬러필터기판에서 공통 전극과 제 2 블랙매트릭스가 전기적으로 연결된 구성을 도시한 등가회로도.
도 5a와 5b 내지 도 11은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 기판을 제조하는 방법을 도시한 평면도와 단면도로서, 도 5b, 6b, 7b, 8b, 9b는 각각 도 5a, 6a, 7a, 8a, 9a의 절단선 Ⅴb-Ⅴb, Ⅵb-Ⅵb, Ⅶb-Ⅶb, Ⅷb-Ⅷb, Ⅸb-Ⅸb를 따라 도시한 단면도.
도 12는 본 발명의 실시예에 따라 공통 전극과 제 2 블랙매트릭스가 전기적으로 연결된 구성을 도시한 등가회로도.
도 13은 본 발명의 실시예에 따라 스크라이빙 공정 후에, 공통 전극과 제 2 블랙매트릭스가 전기적으로 끊어진 구성을 도시한 등가회로도.
<도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명>
200 : 기판 212 : 제 2 블랙매트릭스
215 : 콘택홀 220 : 컬러필터층
230 : 오버코트층 240 : 공통 전극
241 : 공통 전극 단자 242 : 제 2 블랙매트릭스 단자
243 : 연결부 250 : 배향막

Claims (10)

  1. 다수의 화소가 배열되는 표시영역과 상기 표시영역 주변의 비표시영역을 갖는 기판의 상기 표시영역에 제 1 블랙매트릭스를 형성하고, 상기 비표시 영역에 제 2 블랙매트릭스를 형성하는 단계와;
    상기 표시영역에 컬러필터층을 형성하는 단계와;
    상기 컬러필터층 상에 오버코트층을 형성하는 단계와;
    상기 오버코트층 상에 상기 제 2 블랙매트릭스와 전기적으로 연결되는 공통 전극을 형성하는 단계와;
    상기 공통 전극 상에 배향막을 형성하는 단계와;
    상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 전기적으로 분리하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 기판 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 공통 전극을 형성하는 단계는,
    상기 오버코트층 상에 투명 도전성 금속 물질을 도포하는 단계와;
    상기 투명 도전성 금속 물질을 패터닝하여 공통 전극과, 상기 공통 전극과 연결되는 공통 전극 단자와, 상기 제 2 블랙매트릭스와 연결되고 상기 공통 전극 단자와 연결되는 연결 단자를 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 기판 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 오버코트층에 상기 제 2 블랙매트릭스를 노출하는 콘택홀을 형성하는 단계를 더욱 포함하는 액정표시장치용 기판 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 전기적으로 분리하는 단계는,
    상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 연결하는 부분을 스크라이빙 공정으로 제거하는 단계인 액정표시장치용 기판 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 배향막은 전기적으로 연결된 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극이 연결되는 부분을 노출하는 액정표시장치용 기판 제조방법.
  6. 다수의 화소가 배열되는 표시영역과 상기 표시영역 주변의 비표시영역을 갖는 제 1 기판의 상기 표시영역에 제 1 블랙매트릭스를 형성하고, 상기 비표시 영역에 제 2 블랙매트릭스를 형성하는 단계와;
    상기 표시영역에 컬러필터층을 형성하는 단계와;
    상기 컬러필터층 상에 오버코트층을 형성하는 단계와;
    상기 오버코트층 상에 상기 제 2 블랙매트릭스와 전기적으로 연결되는 공통 전극을 형성하는 단계와;
    상기 공통 전극 상에 배향막을 형성하는 단계와;
    상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 전기적으로 분리하는 단계와;
    게이트 배선과 데이터 배선과 화소 전극을 갖는 제 2 기판의 화소 전극이 상기 공통 전극과 마주보도록 상기 제 1, 2 기판을 합착하고, 상기 제 1, 2 기판 사이에 액정층을 충진하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 공통 전극을 형성하는 단계는,
    상기 오버코트층 상에 투명 도전성 금속 물질을 도포하는 단계와;
    상기 투명 도전성 금속 물질을 패터닝하여 공통 전극과, 상기 공통 전극과 연결되는 공통 전극 단자와, 상기 제 2 블랙매트릭스와 연결되고 상기 공통 전극 단자와 연결되는 연결 단자를 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조방법.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 오버코트층에 상기 제 2 블랙매트릭스를 노출하는 콘택홀을 형성하는 단계를 더욱 포함하는 액정표시장치 제조방법.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 전기적으로 분리하는 단계는,
    상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극을 연결하는 부분을 스크라이빙 공정으로 제거하는 단계인 액정표시장치 제조방법.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 배향막은 전기적으로 연결된 상기 제 2 블랙매트릭스와 상기 공통 전극이 연결되는 부분을 노출하는 액정표시장치 제조방법.
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