CN103365112A - 曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法。用支承辊支撑第一处理膜（10A）并进行输送。与支承辊接近地设置有掩模（28），来自光源的光隔着掩模对第一处理膜（10A）进行照射。在掩模（28）上形成有沿宽度方向排列的多条狭缝（29）。掩模（28）具有矩形的板（28A）、形成在板（28A）的一面上的掩蔽膜（28B）以及形成在掩蔽膜（28B）上的高折射率层（28C）。高折射率层（28C）由对光源的光具有透射性并具有板（28A）的材质的折射率以上的折射率的原材料形成。

Description

曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法

技术领域

本发明涉及曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法。

背景技术

设置了微细图案的膜或玻璃板可以用于3D显示器等中使用的相位差板等。另外，为了提高设置了微细图案的膜的制造效率，对于可挠性料片希望以较长的状态形成微细图案。为了满足3D显示器等所要求的低成本和高品质，需要进一步提高可挠性料片上的微细图案的精度以及进一步减少图案间的边界区域的缺陷。

对含有涂布在可挠性料片上的光反应性化合物的光反应性膜照射光从而使光反应性膜反应的曝光装置是已知的。有关光反应，已经知道利用了光的液晶分子的取向以及固化等。例如，在日本特开昭63-194779号公报的曝光装置中，为了防止光反应引起的光反应性膜的褶皱，在被支撑辊支撑的部分上设定了照射光的范围。

例如，日本特开平09-274323号公报中还公开了使用配置在光源和光反应性膜之间的光掩模板而仅仅对光反应性膜的一部分照射光的曝光装置。在日本特开平09-274323号公报中记载的光掩模板上，设置了多条狭缝。多条狭缝分别沿料片的长度方向（输送方向）延伸，并在料片的宽度方向上排列。根据该曝光装置，可以在连续输送料片的同时，在光反应性膜上有效地形成所谓条纹状的曝光图案。即，该曝光图案是通过曝光而进行了光反应的线状的曝光部分、和因未曝光所以未发生光反应的线状的未曝光部分交替排列的图案。

但是，即使像日本特开平09-274323号公报中记载的曝光装置那样，用透镜或反射镜等光学体系将来自光源的光调整后通过掩模板进行曝光，灯或LED等构成的光源自身也会有分散。因此，光学体系或光掩模板无论使用多么高精度的产品，只要未使光掩模板与作为曝光对象的膜的表面密合，原理上就无法避免作为未曝光范围设定的区域也被曝光的灰雾故障。该曝光工序中的灰雾故障会成为膜上的条纹状图案间的边界区域的缺陷而显现出来。为了满足膜所要求的高品质，在曝光工序中必须尽可能地减少灰雾故障。为此，例如必须减小光掩模板与支撑辊之间的缝隙（间隙）。

另外，一般光掩模板的基板使用石英玻璃。其表面上形成遮光性的金属膜，该金属膜具有在膜的宽度方向上排列有一定间距的狭缝的图案，通过该狭缝对膜表面进行曝光。此时，如果膜的表面背面有微小的附着物、或膜上有褶皱，则膜或微小的附着物与光掩模板的金属膜接触，表面会发生污染或擦伤等问题。该问题可以通过使光掩模板离开膜表面某程度地设置而得到改善。但是，这样的话就会助长前述的灰雾故障，对于获得微细的曝光图案来说将成为很大的弊病。

发明内容

本发明的目的是提供能够在不降低生产率、不增大成本的条件下获得可以抑制灰雾故障并且能够实现掩模的保护的良好的曝光图案的曝光装置、曝光方法以及图案膜的制造方法。

本发明的曝光装置具有金属制的支撑辊、光源、掩模、矩形的板、掩蔽膜以及高折射率层，通过隔着掩模对光反应性膜照射光而使光反应性膜曝光。支撑辊具有对表面上形成有所述光反应性膜的可挠性料片的背面进行支撑的周面，并输送被支撑的可挠性料片。光源朝着形成在被支撑的可挠性料片上的光反应性膜，对光反应性膜照射具有引起光反应的性质的光。掩模以接近支撑辊的状态配置于光源和支撑辊之间。掩模具有狭缝。狭缝在可挠性料片的输送方向上延伸，并在可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条，使来自光源的光通过。板设置于掩模中，其对光是透明的并且不具有反应性。掩蔽膜由对光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于板的支撑辊侧的面上。高折射率层由对光具有透射性并具有板的材质的折射率以上的折射率的原材料在板的形成了掩蔽膜的一侧以覆盖掩蔽膜的方式来形成。

光源照射的光优选为紫外线。

板优选由无臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一种材料构成。

掩蔽膜优选由金属形成。

金属优选为铬。

掩蔽膜优选是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

高折射率层优选是由无机材料所构成的薄膜形成的。

无机材料优选为下述物质中的至少一种：BaF₂、DyF₃、GdF₃、LaF₃、NdF₂、TdF₃、YbF₃、YF₃这样的氟化物；SiO₂、SiO、Al₂O₃、HfO₂、ZrO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、In₂O₃、WO₃这样的氧化物；SiON、Si₃N₄这样的氮化物；SiC、B₄C这样的碳化物；SiO₂/Al₂O₃、Al₂O₃/Pr₆O₁₁、Al₂O₃/La₂O₃、ZrO₂/Ta₂O₅、ZrO₂/MgO、ZrO₂/Al₂O₃、TiO₂/Pr₆O₁₁、TiO₂/Al₂O₃、TiO₂/La₂O₃这样的氧化物的混合物。

高折射率层优选是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

本发明的曝光方法具有输送工序、支撑工序以及照射工序，并且通过隔着掩模对形成在可挠性料片上的光反应性膜照射光而使光反应性膜曝光。在输送工序中，由金属制的支撑辊来输送表面上形成有光反应性膜的可挠性料片。在支撑工序中，由支承辊支撑可挠性料片的背面。在照射工序中，朝着被支撑的可挠性料片上的光反应性膜，由光源对光反应性膜照射具有引起光反应的性质的光。掩模以接近支撑辊的状态配置于光源和支撑辊之间，并具有狭缝、矩形的板、掩蔽膜以及高折射率层。狭缝在可挠性料片的输送方向上延伸，并在可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条。板对光是透明的并且不具有反应性。掩蔽膜由对光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于板的支撑辊侧的面上。高折射率层由对光具有透射性并具有板的材质的折射率以上的折射率的原材料在板的形成了掩蔽膜的一侧以覆盖掩蔽膜的方式来形成。

优选的是，光是紫外线，并且光反应性膜含有具有与紫外线反应的性质的化合物。

板优选由无臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一种材料构成。

掩蔽膜优选由金属形成。

金属优选为铬。

掩蔽膜优选是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

高折射率层优选是由无机材料所构成的薄膜形成的。

无机材料优选为下述物质中的至少一种：BaF₂、DyF₃、GdF₃、LaF₃、NdF₂、TdF₃、YbF₃、YF₃这样的氟化物；SiO₂、SiO、Al₂O₃、HfO₂、ZrO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、In₂O₃、WO₃这样的氧化物；SiON、Si₃N₄这样的氮化物；SiC、B₄C这样的碳化物；SiO₂/Al₂O₃、Al₂O₃/Pr₆O₁₁、Al₂O₃/La₂O₃、ZrO₂/Ta₂O₅、ZrO₂/MgO、ZrO₂/Al₂O₃、TiO₂/Pr₆O₁₁、TiO₂/Al₂O₃、TiO₂/La₂O₃这样的氧化物的混合物。

高折射层优选是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

本发明的图案膜的制造方法具有光反应性膜形成工序、输送工序、支撑工序以及照射工序，并且通过隔着掩模对可挠性料片上的光反应性膜照射光而使光反应性膜曝光，从而制造图案膜。在光反应性膜形成工序中，在可挠性料片的表面上形成光反应性膜。在输送工序中，由金属制的支撑辊来输送表面上形成有光反应性膜的可挠性料片。在支撑工序中，由支承辊支撑可挠性料片的背面。在照射工序中，朝着被支撑的可挠性料片上的光反应性膜，由光源对光反应性膜照射具有引起光反应的性质的光。掩模以接近支撑辊的状态配置于光源和支撑辊之间。掩模具有狭缝、矩形的板、掩蔽膜以及高折射率层。狭缝在可挠性料片的输送方向上延伸，并在可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条。板对光是透明的并且不具有反应性。掩蔽膜由对光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于板的支撑辊侧的面上。高折射率层由对光具有透射性并具有板的材质的折射率以上的折射率的原材料在板的形成了掩蔽膜的一侧以覆盖掩蔽膜的方式来形成。

光反应性膜形成工序优选具有：将光反应性膜涂布液进行涂布的光反应性膜涂布工序、和将光反应性涂布液进行干燥的光反应性膜干燥工序。

优选的是，具有输送工序、支撑工序和照射工序，并且在光反应性膜形成工序后的曝光工序之前或之后，具有对反应性膜实施摩擦处理的摩擦工序。

优选的是，在曝光工序和摩擦工序这两个工序之后，具有涂布液晶膜涂布液的液晶膜涂布工序、和使液晶膜涂布液固化的液晶膜固化工序。

发明效果

根据本发明，能够在不特别增大成本、不降低生产率的条件下获得可以抑制灰雾故障并且能够实现掩模的保护的良好的曝光图案。

附图说明

图1A是在本发明的实施方案的可挠性料片上设置了微细图案的膜（以下称为图案膜）的制造工序的流程图。

图1B是图案膜的另一个制造工序的流程图。

图2是进行本发明的实施方案的涂布和干燥工序的制膜装置的示意图。

图3是本发明的实施方案的曝光装置的示意图。

图4是表示本发明的实施方案的曝光装置的概略的局部剖视图。

图5是表示本发明的实施方案的曝光装置中使用的掩模的剖视图。

图6A是说明对掩模照射光源的光的形态的说明图。

图6B是说明对掩模照射光源的光的形态的说明图。

具体实施方式

（图案膜的制造工序）

如图1A所示，图案膜13的制造工序具有光反应性膜涂布工序S1和光反应性膜干燥工序S2。光反应性膜涂布工序S1如图1A和图2所示，在基材膜10的一侧的表面上涂布含有至少一种光酸产生剂的摩擦取向膜液，形成摩擦取向膜12。通过涂布而形成的摩擦取向膜是液膜状。所以，光反应性膜干燥工序S2如图1A和图2所示，使摩擦取向膜12干燥而得到第一处理膜10A。该第一处理膜10A具有基材膜10和摩擦取向膜12。不过，第一处理膜10A中的摩擦取向膜12还未显现使液晶取向的取向作用，要通过摩擦工序S5中的摩擦处理而显现取向作用。另外，第一处理膜10A中的摩擦取向膜12是在后续工序的照射工序S4中与照射的光反应的光反应性膜，光反应性膜形成工序具有光反应性膜涂布工序S1和光反应性膜干燥工序S2。

另外，如图1A所示，图案膜13的制造工序具有输送工序S3和照射工序S4。输送工序S3如图1A和图3所示，在图案膜13的制造工序中，由支撑辊25支撑第一处理膜10A的基材膜10侧，同时进行输送。在照射工序S4中，由紫外线光源34对摩擦取向膜液的涂布侧的面照射紫外线而得到第二处理膜10B。在照射工序S4中，隔着掩模28由紫外线光源34朝着第一处理膜10A照射紫外线。在掩模28的掩蔽膜28B上形成有沿宽度方向排列的多条狭缝29，由此，掩模28具有对曝光部4照射紫外线但对非曝光部5不照射紫外线的图案。利用该掩模28进行紫外线照射，使曝光部4的光酸产生剂产生酸，得到第二处理膜10B。

另外，图案膜13的制造工序如图1A所示，具有摩擦工序S5、液晶膜涂布工序S6、熟化工序S7以及紫外线固化工序S8。在摩擦工序S5中，对摩擦取向膜液的涂布侧的面，沿特定的摩擦取向的方向进行摩擦。在液晶膜涂布工序S6中，对摩擦取向膜液的涂布侧的面，涂布含有盘状液晶且形成作为液晶膜的光学各向异性层14的液体。在熟化工序S7中，使盘状液晶取向。在紫外线固化工序S8中，对整个面照射紫外线，使得根据曝光部4和非曝光部5的不同而沿各自的方向取向的盘状液晶固化，以避免取向方向发生变化。光学各向异性层14的第1相位差区域14a形成于曝光部14上，第2相位差区域15b形成于非曝光部5上。第1相位差区域14a和第2相位差区域14b朝着图1A的纸面朝内方向延伸。此外，如图1B所示，摩擦工序S5也可以在光反应性膜干燥工序S2和输送工序S3之间。

[光酸产生剂]

作为光酸产生剂，使用可以通过紫外线等的光照射而分解并产生酸性化合物的化合物，例如化学式1或化学式2所示的化合物。当光酸产生剂通过光照射而分解并产生酸性化合物时，摩擦取向膜12的取向控制能力会发生变化。这里所说的取向控制能力的变化可以特定为摩擦取向膜12单独的取向控制能力的变化，也可以特定为通过摩擦取向膜12及在其上配置的光学各向异性层形成用组合物中所含的添加剂等实现的取向控制能力的变化，另外还可以特定为它们的组合。

化学式1

化学式2

[具有聚合性基团的盘状液晶化合物]

能够作为光学各向异性层14的主原料使用的盘状液晶，优选具有聚合性基团的化合物。作为盘状液晶，优选下述通式（I）表示的化合物。

通式（I）：D(-L-H-Q)_n

通式（I）中的D是圆盘状芯，L是二价的连接基团，H是二价的芳香族环或杂环，Q是聚合性基团，n表示3～12的整数。

圆盘状芯（D）优选苯环、萘环、苯并[9,10]菲（triphenylene）环、蒽醌环、三聚茚（truxene）环、吡啶环、嘧啶环、三嗪环，特别优选苯环、苯并[9,10]菲环、吡啶环、嘧啶环、三嗪环。

L优选为选自由*-O-CO-、*-CO-O-、*-CH=CH-、*-C≡C-以及它们的组合组成的组中的二价连接基团，特别优选为含有至少一个以上的*-CH=CH-或*-C≡C-中的任一种的二价连接基团。这里，*表示与通式（I）中的D结合的位置。

H作为芳香族环时，优选为苯环和萘环，特别优选为苯环。作为杂环时，优选为吡啶环和嘧啶环，特别优选为吡啶环。H特别优选为芳香族环。

聚合性基团Q的聚合反应优选为加聚（包括开环聚合）或缩聚。换言之，聚合性基团优选为能够进行加聚反应或缩聚反应的官能团。其中，优选（甲基）丙烯酸酯基、环氧基。

通式（I）表示的盘状液晶特别优选为下述通式（II）或（III）表示的盘状液晶。

式中，L、H、Q的定义分别与通式（I）中的L、H、Q相同，优选的范围也相同。

式中，Y¹、Y²和Y³的定义与后述的通式（IV）中的Y¹¹、Y¹²和Y¹³相同，其优选的范围也相同。另外，L¹、L²、L³、H¹、H²、H³、R¹、R²、R³的定义也与后述的通式（IV）中的L¹、L²、L³、H¹、H²、H³、R¹、R²、R³相同，其优选的范围也相同。

如后所述，像通式（I）、（II）、（III）和（IV）所表示的那样，由于分子内具有多个芳香环的盘状液晶与作为取向控制剂使用的吡啶鎓化合物或咪唑鎓化合物等鎓盐之间会发生分子间π-π相互作用，所以能够实现垂直取向。特别是，例如在通式（II）中，当L是含有至少一个以上的*-CH=CH-或*-C≡C-中的任一种的二价连接基团时，以及在通式（III）中，当多个芳香环和杂环以单键连接时，该连接基团使得键的自由旋转受到强烈束缚，由此使分子的线性得到保持。因此，在液晶性提高的同时，会产生更强的分子间π-π相互作用，可以实现稳定的垂直取向。

作为盘状液晶，优选由下述通式（IV）表示的化合物。

式中，Y¹¹、Y¹²和Y¹³分别独立地表示可被取代的次甲基或氮原子，L¹、L²和L³分别独立地表示单键或二价连结基，H¹、H²和H³分别独立地表示通式（I-A）或（I-B）的基团，R¹、R²和R³分别独立地表示下述通式（I-R）。

通式（I-A）中，YA¹和YA²分别独立地表示次甲基或氮原子，XA表示氧原子、硫原子、亚甲基或亚氨基，*表示与上述通式（IV）中的L¹～L³侧结合的位置，**表示与上述通式（IV）中的R¹～R³侧结合的位置。

通式（I-B）中，YB¹和YB²分别独立地表示次甲基或氮原子，XB表示氧原子、硫原子、亚甲基或亚氨基，*表示与上述通式（IV）中的L¹～L³侧结合的位置，**表示与上述通式（IV）中的R¹～R³侧结合的位置。

通式（I-R）：*-(L²¹-Q²)_n1-L²²-L²³-Q¹

通式（I-R）中，*表示与上述通式（IV）中的H¹～H³侧结合的位置，L²¹表示单键或二价连结基，Q²表示具有至少一种环状结构的二价基团（环状基团）。n1表示0～4的整数。L²²表示**-O-、**-O-CO-、**-CO-O-、**-O-CO-O-、**-S-、**-NH-、**-SO₂-、**-CH₂-、**-CH=CH-或**-C≡C-。L²³表示选自由-O-、-S-、-C(＝O)-、-SO₂-、-NH-、-CH₂-、-CH=CH-、-C≡C-以及它们的组合组成的组中的二价连接基团。Q¹表示聚合性基团或氢原子。

有关式（IV）表示的3取代苯系盘状液晶化合物的各个符号的优选范围、以及式（IV）的化合物的具体例子，可以参照日本特开2010-244038号公报的段落[0013]～[0077]的记载。不过，本发明中可以使用的盘状液晶化合物并不限于式（IV）表示的3取代苯系盘状液晶化合物。

作为苯并[9,10]菲化合物，可以列举出在日本特开2007-108732号公报的段落[0062]～[0067]中记载的化合物等，但本发明并不限于这些化合物。

通式（IV）表示的盘状液晶在分子内具有多个芳香环。因此，与后述的吡啶鎓化合物或咪唑鎓化合物之间会产生强的分子间π-π相互作用，使盘状液晶的取向膜界面附近的倾斜角增加。特别是，通式（IV）表示的盘状液晶由于多个芳香环由单键连接，所以具有分子的旋转自由度被束缚的线性高的分子结构。其结果是，与吡啶鎓化合物或咪唑鎓化合物之间会产生更强的分子间π-π相互作用，使盘状液晶的取向膜界面附近的倾斜角增加，实现垂直取向状态。

本发明中，优选使盘状液晶垂直取向。此外，本说明书中，“垂直取向”是指盘状液晶的圆盘面与层面垂直。不过，并非严格地要求垂直，本说明书中，是指与水平面（层面）所成的倾斜角为70度以上的取向。倾斜角优选为85～90度，更优选为87～90度，进一步优选为88～90度，最优选为89～90。此外，在前述的组合物中，优选添加可促进液晶的垂直取向的添加剂，该添加剂的例子包括日本特开2009-223001号公报的[0055]～[0063]中记载的化合物。

盘状液晶通过添加鎓盐，有可能成为正交垂直取向状态。进而，通过光照射而产生的酸与该鎓盐发生阴离子交换时，有可能该鎓盐在取向膜界面的集中（偏在）性下降，使正交垂直取向效果降低，形成垂直取向状态。在本实施例中，按照使光学各向异性层14中含有具备上述特征的鎓盐、使摩擦取向膜12中含有具备上述特征的光酸产生剂的方式，选择可成为材料的化合物来使用。另外，也可以按照在摩擦取向膜12中采用聚乙烯醇系的化合物、由通过光照射而产生的酸使其酯部分分解从而使鎓盐的取向膜界面集中性变化的方式来选择各种化合物来使用。当然不限于上述方法，只要是用具有同样的技术思想的化合物的组合进行的实施，都属于本发明的范围内。使用上述的技术思想，可以获得曝光部4中的盘状液晶的取向方向和非曝光部5中的盘状液晶的取向方向朝着各自不同的方向的图案膜13。

[鎓盐化合物（取向膜侧取向控制剂）]

本发明中，如前所述，为了实现具有聚合性基团的盘状液晶的垂直取向，优选添加鎓盐。鎓盐集中于摩擦取向膜12界面，起到使液晶分子在摩擦取向膜12界面附近的倾斜角增加的作用。

作为鎓盐，优选由下述通式（1）表示的化合物。

通式（1）Z-(Y-L-)_nCy⁺·X^-

式中，Cy是5或6元环的鎓基，L、Y、Z、X的定义与后述的通式（2a）和（2b）中的L²³、L²⁴、Y²²、Y²³、Z²¹、X相同，其优选的范围也相同，n表示2以上的整数。

5或6元环的鎓基（Cy）优选为吡唑鎓环、咪唑鎓环、三唑鎓环、四唑鎓环、吡啶鎓环、吡啶鎓环、嘧啶鎓环、三嗪鎓环，特别优选为咪唑鎓环、吡啶鎓环。

5或6元环的鎓基（Cy）优选具有与取向膜材料有亲和性的基团。进而，鎓盐化合物优选为，在温度T₁℃下与取向膜材料的亲和性高，另一方面，在温度T₂℃下，亲和性下降。在使液晶取向的实际的温度范围内（室温～150℃左右），氢键的结合状态也有可能变成其结合消失的状态，因此优选利用氢键带来的亲和性。不过，并不限于该例子。

例如，在利用聚乙烯醇作为摩擦取向膜12材料的方案中，为了与聚乙烯醇的羟基形成氢键，优选具有氢键性基团。作为氢键的理论解释，例如在H.Uneyama and K.Morokuma、Journal of American Chemical Society、第99卷、第1316～1332页、1977年中有报告。作为具体的氢键的形态，可以列举出例如在J.N.Israelachvili著、近藤保、大岛广行翻译的分子间力和表面力、McGraw-Hill公司、1991年的第98页、图17中记载的形态。作为具体的氢键的例子，可列举出例如在G. R.Desiraju、Angewante Chemistry InternationalEdition English、第34卷、第2311页、1995年中记载的例子。

具有氢键性基团的5或6元环的鎓基除了具有鎓基的亲水性的效果以外，还可以通过与聚乙烯醇形成氢键，提高摩擦取向膜12界面的表面集中性（表面偏存性），同时还可以促进赋予相对于聚乙烯醇主链的正交取向性的功能。作为优选的氢键性基团，可以列举出氨基、羧酰胺基、磺酰胺基、酰胺基、脲基、氨基甲酰基、羧基、磺基、含氮杂环基（例如可以列举出咪唑基、苯并咪唑基、吡唑基、吡啶基、1,3,5-三嗪基、嘧啶基、哒嗪基、喹啉基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、琥珀酰亚胺基、邻苯二甲酰亚胺基、马来酰亚胺基、尿嘧啶基、硫尿嘧啶基、巴比土酸基、乙内酰脲基、马来酰肼基、吲哚醌基、尿咪基等）。作为更优选的氢键性基团，可以列举出氨基、吡啶基。

另外，像咪唑环的氮原子那样，5或6元环的鎓环上也优选含有具有氢键性基团的原子。

n优选为2～5的整数，更优选为3或4，特别优选为3。多个L和Y相互可以相同，也可以不同。当n为3以上时，通式（1）表示的鎓盐具有3个以上的5或6元环，所以与盘状液晶之间产生强的分子间π-π相互作用，因此可以实现该盘状液晶的垂直取向，特别是在聚乙烯醇的摩擦取向膜12上，可以实现相对于聚乙烯醇主链的正交垂直取向。

通式（1）表示的鎓盐特别优选为下述通式（2a）表示的吡啶鎓化合物或下述通式（2b）表示的咪唑鎓化合物。由通式（2a）和（2b）表示的化合物主要是以控制通式（I）～（IV）表示的盘状液晶在取向膜界面的取向为目的而添加的，具有使盘状液晶的分子在取向膜界面附近的倾斜角增加的作用。此外，通式（2）是指通式（2a）和（2b）。

式中，L²³和L²⁴分别表示二价连接基团，L²³优选为单键、-O-、-O-CO-、-CO-O-、-C≡C-、-CH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-O-AL-O-、-O-AL-O-CO-、-O-AL-CO-O-、-CO-O-AL-O-、-CO-O-AL-O-CO-、-CO-O-AL-CO-O-、-O-CO-AL-O-、-O-CO-AL-O-CO-或-O-CO-AL-CO-O-，AL是碳原子数为1～10的亚烷基。L²³更优选为单键、-O-、-O-AL-O-、-O-AL-O-CO-、-O-AL-CO-O-、-CO-O-AL-O-、-CO-O-AL-O-CO-、-CO-O-AL-CO-O-、-O-CO-AL-O-、-O-CO-AL-O-CO-或-O-CO-AL-CO-O-，进一步优选为单键或-O-，最优选为-O-。

L²⁴优选为单键、-O-、-O-CO-、-CO-O-、-C≡C-、-CH=CH-、-CH=N-、-N=CH-或-N=N-，更优选为-O-CO-或-CO-O-。当m为2以上时，更优选多个L²⁴交替地为-O-CO-和-CO-O-。

R²²为氢原子、无取代氨基、或碳原子数为1～20的取代氨基。当R²²为二烷基取代氨基时，2个烷基也可以相互结合而形成含氮杂环。此时形成的含氮杂环优选为5元环或6元环。R²³进一步优选为氢原子、无取代氨基、或碳原子数为2～12的二烷基取代氨基，更进一步优选为氢原子、无取代氨基、或碳原子数为2～8的二烷基取代氨基。当R²³为无取代氨基和取代氨基时，优选吡啶鎓环的4位被取代。

X是阴离子，X优选为一价的阴离子。阴离子的例子包括卤离子（氟离子、氯离子、溴离子、碘离子）以及磺酸根离子（例如甲磺酸根离子、对甲苯磺酸根离子、苯磺酸根离子）。

Y²²和Y²³分别为含有5或6元环作为局部结构的二价连接基团。前述的5或6元环也可以具有取代基。优选的是，Y²²和Y²³中的至少一个是含有具有取代基的5或6元环作为局部结构的二价连接基团。Y²²和Y²³分别独立地优选为含有可以具有取代基的6元环作为局部结构的二价连接基团。6元环包括脂肪族环、芳香族环（苯环）以及杂环。6元脂肪族环的例子包括环己烷环、环己烯环以及环己二烯环。6元杂环的例子包括吡喃环、二噁烷环、二噻烷环、噻哌喃（thiin）环、吡啶环、哌啶环、噁嗪环、吗啉环、噻嗪环、哒嗪环、嘧啶环、吡嗪环、哌嗪环以及三嗪环。6元环上也可以缩合有其它的6元环或5元环。

5或6元环所具有的取代基的例子包括卤原子、氰基、碳原子数为1～12的烷基以及碳原子数为1～12的烷氧基。烷基和烷氧基也可以被碳原子数为2～12的酰基或碳原子数为2～12的酰氧基取代。取代基优选为碳原子数为1～12的（更优选为1～6、进一步优选为1～3）的烷基。取代基也可以为2个以上，例如当Y²²和Y²³为亚苯基时，也可以被1～4个碳原子数为1～12（更优选为1～6、进一步优选为1～3）的烷基取代。

此外，m为1或2，优选为2。当m为2时，多个Y²³和L²⁴相互可以相同，也可以不同。

Z²¹是选自由下述基团组成的组中的一价基团：卤取代苯基、硝基取代苯基、氰基取代苯基、被碳原子数为1～10的烷基取代的苯基、被碳原子数为2～10的烷氧基取代的苯基、碳原子数为1～12的烷基、碳原子数为2～20的炔基、碳原子数为1～12的烷氧基、碳原子数为2～13的烷氧基羰基、碳原子数为7～26的芳氧基羰基以及碳原子数为7～26的芳基羰氧基。

当m为2时，Z²¹优选为氰基、碳原子数为1～10的烷基或碳原子数为1～10的烷氧基，更优选为碳原子数为4～10的烷氧基。当m为1时，Z²¹优选为碳原子数为7～12的烷基、碳原子数为7～12的烷氧基、碳原子数为7～12的酰基取代烷基、碳原子数为7～12的酰基取代烷氧基、碳原子数为7～12的酰氧基取代烷基或碳原子数为7～12的酰氧基取代烷氧基。

酰基用-CO-R表示，酰氧基用-O-CO-R表示，R为脂肪族基团（烷基、取代烷基、链烯基、取代链烯基、炔基、取代炔基）或芳香族基团（芳基、取代芳基）。R优选为脂肪族基团，更优选为烷基或链烯基。

p为1～10的整数。p特别优选为1或2。C_pH_2p是指可以具有分支结构的链状亚烷基。C_pH_2p优选为直链状亚烷基（-(CH₂)_p-）。

式（2b）中，R³⁰为氢原子或碳原子数为1～12（更优选为1～6、进一步优选为1～3）的烷基。

在式（2a）或式（2b）表示的化合物中，优选下述式（2a'）或（2b'）表示的化合物。此外，通式（2'）是指通式（2a'）和（2b'）。

在式（2a'）和（2b'）中，与式（2）相同的符号是相同的定义，优选的范围也相同。L²⁵的定义与L²⁴相同，优选的范围也相同。L²⁴和L²⁵优选为-O-CO-或-CO-O-，优选L²⁴为-O-CO-，并且L²⁵为-CO-O-。

R²³、R²⁴和R²⁵分别为碳原子数为1～12（更优选为1～6、进一步优选为1～3）的烷基。n₂₃表示0～4，n₂₄表示1～4，n₂₅表示0～4。优选n₂₃和n₂₅为0，并且n₂₄为1～4（更优选为1～3）。R³⁰优选为碳原子数为1～12（更优选为1～6、进一步优选为1～3）的烷基。

作为通式（2）表示的化合物的具体例子，可以列举出在日本特开2006-113500号公报的说明书[0058]～[0061]中记载的化合物。

以下示出通式（2'）表示的化合物的具体例子。不过，在下述式中，省略了阴离子（X^-）。

式（2a）和（2b）的化合物可以使用一般的方法来制造。例如，式（2a）的吡啶鎓衍生物一般可以通过使吡啶环烷基化（门舒特金反应）来获得。另外，鎓盐的添加量相对于液晶化合物不超过5质量%，优选为0.1～2质量%左右。

通式（2a）和（2b）表示的鎓盐由于吡啶基或咪唑基是亲水性的，所以集中于前述的亲水性的聚乙烯醇摩擦取向膜12表面。特别是，作为氢原子的受体的取代基的氨基（在通式（2a）和（2a'）中，R²²为无取代的氨基或碳原子数为1～20的取代氨基）进一步被取代为吡啶鎓基时，与聚乙烯醇之间会产生分子间氢键，更高密度地集中于取向膜表面，同时由于氢键的效果，吡啶鎓衍生物会朝着与聚乙烯醇的主链正交的方向取向，所以可以促进液晶相对于摩擦方向的正交取向。前述的吡啶鎓衍生物由于分子内具有多个芳香环，所以与前述的液晶、特别是盘状液晶之间会产生强的分子间π-π相互作用，诱发盘状液晶在取向膜界面附近的正交取向。特别是，如通式（2a'）所表示的，亲水性的吡啶鎓基上连接有疏水性的芳香环时，其疏水性的效果使得还具有诱发垂直取向的效果。

进而，并用通式（2a）和（2b）表示的鎓盐时，通过超过某个温度加热，可以促进平行取向，即液晶按照使其慢轴相对于摩擦方向平行的方式取向。这是因为加热的热能切断与聚乙烯醇的氢键，鎓盐被均匀分散于取向膜中，取向膜表面的密度下降，通过摩擦取向膜自身的控制力使液晶取向的缘故。

下面对光反应性膜涂布工序S1和光反应性膜干燥工序S2的制膜装置11进行说明。如图2所示，该制膜装置11具有模具20和干燥装置22。模具20在光反应性膜涂布工序S1中将摩擦取向膜液涂布于基材膜10上。在光反应性膜干燥工序S2中，干燥装置22吹送热风以使摩擦取向膜12干燥而得到第一处理膜10A。在该制膜装置11中，各处都设置有输送基材膜10、第一处理膜10A等的输送辊23。在曝光装置24等中也设置有输送辊23，用以输送后述的第二处理膜10B等。

模具20从未图示的供给口经常地供给含有摩擦取向膜液的液体。在干燥装置22上设置有排气装置（省略图示），将从摩擦取向膜12蒸发的有机溶剂排出。

下面对输送工序S3和照射工序S4的曝光装置24进行说明。如图3和图4所示，该曝光装置24具有支撑辊25、驱动轴26、掩模28、设置在掩模28上的狭缝29、掩模夹30以及紫外线光源34。驱动轴26与驱动源（省略图示）连接，使支撑辊25旋转运动。掩模28按照曝光部4被曝光、非曝光部5不被曝光的方式布图。掩模夹30支撑掩模28。光源34隔着掩模28对被支撑辊25支撑的第一处理膜10A照射紫外线。

如图5所示，掩模28例如可以通过在矩形的板28A的一面上形成掩蔽膜28B，然后在其上形成高折射率层28C，再对高折射率层28C的支撑辊25侧的面进行研磨而得到。板28A对紫外线是透明的并且不具有反应性。掩模28例如是通过对板28A的支撑辊25侧的面蒸镀或溅射对紫外线是不透明并且不具有反应性的材料而形成的。通过在该掩蔽膜28B上将高折射率的材料成膜，就形成高折射率层28C，对其支撑辊25侧的面进行研磨就得到掩模28。

透明的板28A优选具有优良的紫外线的透射率，并且对来自紫外线光源的热是稳定的，优选例如无臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃。作为掩蔽膜28B，优选使用容易成膜并且对紫外线不具有反应性的材料，例如优选金属。掩蔽膜28B的成膜的方法优选为真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法。另外，掩蔽膜28B优选在曝光工序中不会被由摩擦取向膜12产生的气体等劣化的材料，例如优选对强酸形成致密的表面氧化覆盖膜的铬。

高折射率层28C的折射率比板28A高。高折射率层28C优选是由无机材料所构成的薄膜形成的。高折射率层28C的成膜方法优选为真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种。此外，也可以单纯地设置高折射率的材料的板代替高折射率层28C。

形成高折射率层28C的无机材料优选为下述物质中的至少一种：BaF₂、DyF₃、GdF₃、LaF₃、NdF₂、TdF₃、YbF₃、YF₃这样的氟化物；SiO₂、SiO、Al₂O₃、HfO₂、ZrO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、In₂O₃、WO₃这样的氧化物；SiON、Si₃N₄这样的氮化物；SiC、B₄C这样的碳化物；SiO₂/Al₂O₃、Al₂O₃/Pr₆O₁₁、Al₂O₃/La₂O₃、ZrO₂/Ta₂O₅、ZrO₂/MgO、ZrO₂/Al₂O₃、TiO₂/Pr₆O₁₁、TiO₂/Al₂O₃、TiO₂/La₂O₃这样的氧化物的混合物。

作为紫外线光源34，例如可以使用至少一种紫外线灯。作为紫外线等，例如有低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、碳弧灯、金属卤化物灯、氙灯等。紫外线光源34的照度例如为500mW/cm²～1000mW/cm²。对于图案来说，从防止灰雾的观点出发，紫外线光源34优选为平行光。其平行度（图6B中的θ）相对于板28A的宽度方向优选为10°以下，更优选为5°以下。光的平行化的手段没有特别限定，可以使用反射镜或透镜等各种光学仪器。另外，紫外线光源34优选仅仅将掩模28中形成了掩模图案的部分进行曝光。由此，起因于由掩模的表面温度变高所引起的热膨胀收缩的灰雾故障的频度也降低。曝光的手段没有特别限定，可以使用利用了反射镜或透镜的聚光板或遮光板。

下面，对本发明的作用进行说明。在光反应性膜涂布工序S1中，由用于涂布的模具20在基材膜10上以14cc/ｍ²的涂布量涂布摩擦取向膜液，以液膜的形式形成摩擦取向膜12。然后在光反应性膜干燥工序S2中，用干燥装置22对摩擦取向膜12吹送110℃的热风1分钟左右以使其干燥，从而得到第一处理膜10A。

进而，在输送工序S3中，在由支撑辊25支撑第一处理膜10A的基材膜10侧的状态下，第一处理膜10A被供给至照射工序S4。即，照射工序S4处于输送工序S3中。在照射工序S4中，对被支撑在支撑辊25上的第一处理膜10A的摩擦取向膜液的涂布侧的面，隔着掩模28由紫外线光源34照射紫外线，得到第二处理膜10B。掩模28具有狭缝29，该狭缝29的图案对曝光部4照射紫外线，但对非曝光部5不照射紫外线。由紫外线光源34照射10mJ/cm²左右能量的紫外线，仅仅使曝光部4中的光酸产生剂产生酸，由此得到第二处理膜10B。此外，本实施方案中，曝光部4和非曝光部5在料片的宽度方向上的图案宽度设定为280μm左右。

掩模28被暴露于由摩擦取向膜12产生的气体等中，高折射率层28C作为保护掩蔽膜28B的保护膜而起作用，由此使掩蔽膜28B受到保护而不受由摩擦取向膜12产生的气体等的影响。因此，如图6A和图6B所示，因此可以将图6B的掩模28配置成距离第一处理膜10A的距离D比图6A的掩模35更小的状态。另外，由紫外线光源34的照射光如图6A和图6B所示，相对于掩模28的表面有不完全垂直的成分。因此，在以往的曝光装置和方法中，在被设定成未曝光部分的区域上，被曝光的区域RF如图6A所示那样形成得较大。但是，对于掩模28来说，除了以距离D小于掩模35的状态配置以外，还由于高折射率层28C的高折射率，如图6B所示，在被设定成未曝光部分的区域上，被曝光的区域RF大幅减小。具体地，如图6A所示，对于不具有高折射率层28C的掩模35来说，由紫外线光源34所照射的与掩模35不完全垂直的光通过掩模28后将扩展。但是，如图6B所示，对于具有高折射率层28C的掩模28来说，由紫外线光源34所照射的与掩模28不完全垂直的光通过掩模28后由于高折射率层28C的作用，其扩展被大幅抑制。此外，高折射率层28C的折射率比掩模28与第一处理膜10A之间的气氛的折射率高时，对于缩窄区域RF具有一定的效果。但是，通过将高折射率层28C设定为比板28更高的折射率，区域RF会进一步缩窄。

对于第二处理膜10B，在摩擦工序S5中，对摩擦取向膜液的涂布侧的面沿着所期望的方向进行摩擦。另外，在液晶膜涂布工序S6中，对摩擦取向膜液的涂布侧的面，以5cc/m²的条件涂布含有盘状液晶并形成光学各向异性层14的液体。进而，进行2个阶段的熟化工序S7。在第1阶段中，通过放置于75℃的环境下，使盘状液晶朝着与摩擦取向方向垂直的方向取向，在曝光部4处，使垂直取向剂与酸反应。在第2阶段中，进一步放置于110℃的环境下，在曝光部4处，使盘状液晶朝着摩擦取向方向取向。最后，在紫外线固化工序S8中，对由形成光学各向异性层14的液体构成的涂膜的整个面照射500mJ/cm²的能量的紫外线，使得在曝光部4和非曝光部5上沿各自的方向取向的盘状液晶固化，以避免取向方向发生变化。由此，得到所期望的图案膜13（参照图1A）。

因此，起因于下述情况的灰雾故障的频度大幅降低：由光源所照射的与掩模不完全垂直的光被可挠性料片或支撑辊反射，其反射光再被光掩模板反射，结果光照射到被设定成未曝光部分的区域。

另外，本实施方案中，对用于3D显示器等中使用的相位差板的设置了微细图案的可挠性料片的制造装置以及制造工序的一部分即曝光装置24和曝光工序进行了记载。但是，本发明不限于此，对于滤色器等彩色图案或遮光图案的制造，也同样可以使用。

为了确认本发明的效果，进行了实施例和针对本发明的比较例。

[实施例]

<基材膜10的制作>

将下述的组合物投入搅拌槽中，边加热边搅拌，使各成分溶解，制备酰化纤维素溶液A。

向另一个搅拌槽中投入下述的组合物，边加热边搅拌，使各成分溶解，制备添加剂溶液B。

化合物B1

化合物B2

<<醋酸纤维素制的基材膜10的制作>>

向477质量份的酰化纤维素溶液A中添加40质量份的添加剂溶液B，充分搅拌，制备浓浆。从流延模（未图示）的流延口向冷却至0℃的辊筒上流延浓浆。在溶剂含有率为70质量%的状态下剥离，将膜的宽度方向的两端用针板拉幅机（日本特开平4-1009号的图3中记载的针板拉幅机）固定，在溶剂含有率为3至5质量%的状态下，保持横向（与输送方向垂直的方向）的延伸率成为3%的间隔，同时进行干燥。之后，通过在热处理装置的辊间输送，将膜进一步干燥，制成厚度为60μm的醋酸纤维素制的基材膜10。该醋酸纤维素制的基材膜10不含有紫外线吸收剂，Re(550)为0nm，Rth(550)为12.3nm。

<<碱皂化处理>>

使醋酸纤维素制的基材膜10通过温度为60℃的感应式加热辊，使膜表面温度升温至40℃。在升温后，使用棒涂机在膜的一面以14ml/m²的涂布量涂布下述所示的组成的碱溶液，加热至110℃，在株式会社NORITAKE CO.,LIMITED制的蒸汽式远红外线加热器下，输送10秒钟。接着，使用相同的棒涂机，涂布纯水3ml/m²。接着，反复三次进行利用喷水涂布机（fountaincoater）进行的水洗和利用气刀进行的除水。然后，向70℃的干燥区输送10秒钟进行干燥，从而制成碱皂化处理过的醋酸纤维素制的基材膜10。

<掩模28的制作>

在无臭氧石英玻璃的一个表面上，按照形成图案的方式，通过溅射形成铬，所述图案是在可挠性料片（基材膜10）的输送方向上延伸、并在可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列多条狭缝的图案。然后，在其面上进一步通过等离子体蒸镀来蒸镀BaF₂，制成本发明的实施例的曝光装置24中使用的掩模28。

<摩擦取向膜的形成>

在上述制作的基材膜10的实施了皂化处理的面上，用＃8的绕线棒连续涂布下述的组成的摩擦取向膜液。用60℃的热风干燥60秒，进而用100℃的热风干燥120秒，形成摩擦取向膜12。接着，将透射部（狭缝29）的横条纹宽为285μm、遮蔽部（狭缝29与狭缝29之间）的横条纹宽为285μm的掩模28配置于摩擦取向膜上。在室温空气下，使用紫外线-C区域上的照度为2.5mW/cm²的空冷金属卤化物灯（Eyegraphics株式会社制）照射紫外线4秒钟，使光酸产生剂分解而产生酸性化合物。由此，形成第一相位差区域14a（参照图1A）用的摩擦取向层12。之后，相对于条纹状掩模的条纹保持45°的角度并以500rpm向一个方向往复一次，进行摩擦处理，制成带摩擦取向膜12的透明支撑体（基材膜10）。另外，摩擦取向膜12的膜厚为0.5μm。

化学式13

<图案化后的光学各向异性层14的形成>

使用棒涂机以4ml/m²的涂布量涂布下述光学各向异性层用涂布液。接着，在110℃的膜面温度下加热熟化2分钟后，冷却至80℃并在空气中使用20mW/cm²的空冷金属卤化物灯（Eyegraphics株式会社制）照射紫外线20秒钟，通过使其取向状态固定化而形成图案化的光学各向异性层A。在掩模曝光部4上的第一相位差区域14a（参照图1A），盘状液晶以慢轴方向相对于摩擦方向平行的方式垂直取向，在非曝光部5上的第二相位差区域14b（参照图1A），以正交的方式垂直取向。另外，图案光学各向异性层14的膜厚为0.9μm。

[比较例]

在比较例中，在无臭氧石英玻璃的一个表面上，按照形成图案的方式，通过溅射形成铬，由此而制作掩模，所述图案是在可挠性料片（基材膜10）的输送方向上延伸、并在可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列多条狭缝的图案。除了将实施例的掩模28置换为该掩模以外，在与实施例相同的条件下进行。

在实施例和比较例中，用图案膜中相邻的图案间的边界区域的宽度的大小来评价灰雾故障的大小。实施例中，在实施初期，该灰雾故障被较低地抑制到实用上没有问题的水平，即使制造了3000m的图案膜13之后，仍能保持该水平。另一方面，比较例中，在实施初期就发生了实用上存在问题的水平的灰雾故障，制造了3000m的图案膜之后，发生了比初期更大的灰雾故障。进而，在实施例中，在所使用的掩模的掩蔽膜上并未观察到劣化，而在比较例中，在所使用的掩模的掩蔽膜上观察到了劣化。

Claims (23)

1.一种曝光装置，其是通过隔着掩模对光反应性膜照射光而使所述光反应性膜曝光的曝光装置，其特征在于，具备：

金属制的支撑辊，其具有对表面上形成有所述光反应性膜的可挠性料片的背面进行支撑的周面，并输送所述被支撑的可挠性料片；

光源，其朝着形成在所述被支撑的所述可挠性料片上的所述光反应性膜，对所述光反应性膜照射具有引起光反应的性质的光；

掩模，其以接近所述支撑辊的状态配置于所述光源和所述支撑辊之间，并具有使来自所述光源的光通过的狭缝，所述狭缝在所述可挠性料片的输送方向上延伸，并在所述可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条；

矩形的板，其设置于所述掩模中，对所述光是透明的并且不具有反应性；

掩蔽膜，其由对所述光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于所述板的所述支撑辊侧的面上；

高折射率层，其由对所述光具有透射性并具有所述板的材质的折射率以上的折射率的原材料在所述板的形成了所述掩蔽膜的一侧以覆盖所述掩蔽膜的方式来形成。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述光源照射的所述光是紫外线。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述板由无臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一种材料构成。

4.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩蔽膜是由金属形成的。

5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述掩蔽膜是由金属形成的。

6.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述金属是铬。

7.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩蔽膜是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

8.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述高折射率层是由无机材料所构成的薄膜形成的。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述无机材料是下述物质中的至少一种：BaF₂、DyF₃、GdF₃、LaF₃、NdF₂、TdF₃、YbF₃、YF₃这样的氟化物；SiO₂、SiO、Al₂O₃、HfO₂、ZrO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、In₂O₃、WO₃这样的氧化物；SiON、Si₃N₄这样的氮化物；SiC、B₄C这样的碳化物；SiO₂/Al₂O₃、Al₂O₃/Pr₆O₁₁、Al₂O₃/La₂O₃、ZrO₂/Ta₂O₅、ZrO₂/MgO、ZrO₂/Al₂O₃、TiO₂/Pr₆O₁₁、TiO₂/Al₂O₃、TiO₂/La₂O₃这样的氧化物的混合物。

10.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述高折射率层是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

11.一种曝光方法，其是通过隔着掩模对形成在可挠性料片上的光反应性膜照射光而使所述光反应性膜曝光的曝光方法，其特征在于，具有下述工序：

输送工序，在该工序中，由金属制的支撑辊来输送表面上形成有所述光反应性膜的所述可挠性料片；

支撑工序，在该工序中，由所述支承辊支撑所述可挠性料片的背面；

照射工序，在该工序中，朝着所述被支撑的所述可挠性料片上的所述光反应性膜，由光源对所述光反应性膜照射具有引起光反应的性质的光；

所述掩模以接近所述支撑辊的状态配置于所述光源和所述支撑辊之间，并具有狭缝、矩形的板、掩蔽膜以及高折射率层，

所述狭缝在所述可挠性料片的输送方向上延伸，并在所述可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条，

所述板对所述光是透明的并且不具有反应性，

所述掩蔽膜由对所述光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于所述板的所述支撑辊侧的面上，

所述高折射率层由对所述光具有透射性并具有所述板的材质的折射率以上的折射率的原材料在所述板的形成了所述掩蔽膜的一侧以覆盖所述掩蔽膜的方式来形成。

12.根据权利要求10所述的曝光方法，其特征在于，所述光是紫外线，所述光反应性膜含有具有与紫外线反应的性质的化合物。

13.根据权利要求11或12所述的曝光方法，其特征在于，所述板由无臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一种材料构成。

14.根据权利要求11或12所述的曝光方法，其特征在于，所述掩蔽膜是由金属形成的。

15.根据权利要求14所述的曝光方法，其特征在于，所述金属是铬。

16.根据权利要求11或12所述的曝光方法，其特征在于，所述掩蔽膜是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

17.根据权利要求11或12所述的曝光方法，其特征在于，所述高折射率层是由无机材料所构成的薄膜形成的。

18.根据权利要求17所述的曝光方法，其特征在于，所述无机材料是下述物质中的至少一种：BaF₂、DyF₃、GdF₃、LaF₃、NdF₂、TdF₃、YbF₃、YF₃这样的氟化物；SiO₂、SiO、Al₂O₃、HfO₂、ZrO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、In₂O₃、WO₃这样的氧化物；SiON、Si₃N₄这样的氮化物；SiC、B₄C这样的碳化物；SiO₂/Al₂O₃、Al₂O₃/Pr₆O₁₁、Al₂O₃/La₂O₃、ZrO₂/Ta₂O₅、ZrO₂/MgO、ZrO₂/Al₂O₃、TiO₂/Pr₆O₁₁、TiO₂/Al₂O₃、TiO₂/La₂O₃这样的氧化物的混合物。

19.根据权利要求11或12所述的曝光方法，其特征在于，所述高折射层是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

20.一种图案膜的制造方法，其是通过隔着掩模对可挠性料片上的光反应性膜照射光而使所述光反应性膜曝光从而制造图案膜的图案膜的制造方法，其特征在于，具有下述工序：

光反应性膜形成工序，在该工序中，在所述可挠性料片的表面上形成所述光反应性膜；

输送工序，在该工序中，由金属制的支撑辊来输送表面上形成有所述光反应性膜的所述可挠性料片；

支撑工序，在该工序中，由所述支承辊支撑所述可挠性料片的背面；

照射工序，在该工序中，朝着所述被支撑的所述可挠性料片上的所述光反应性膜，由光源对所述光反应性膜照射具有引起光反应的性质的光；

所述掩模以接近所述支撑辊的状态配置于所述光源和所述支撑辊之间，并具有狭缝、矩形的板、掩蔽膜以及高折射率层，

所述狭缝在所述可挠性料片的输送方向上延伸，并在所述可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条，

所述板对所述光是透明的并且不具有反应性，

所述掩蔽膜由对所述光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于所述板的所述支撑辊侧的面上，

所述高折射率层由对所述光具有透射性并具有所述板的材质的折射率以上的折射率的原材料在所述板的形成了所述掩蔽膜的一侧以覆盖所述掩蔽膜的方式来形成。

21.根据权利要求20所述的图案膜的制造方法，其特征在于，所述光反应性膜形成工序具有：将光反应性膜涂布液进行涂布的光反应性膜涂布工序、和将所述光反应性涂布液进行干燥的光反应性膜干燥工序。

22.根据权利要求20或21所述的图案膜的制造方法，其特征在于，具有所述输送工序、所述支撑工序和所述照射工序，并且在所述光反应性膜形成工序后的曝光工序之前或之后，具有对所述反应性膜实施摩擦处理的摩擦工序。

23.根据权利要求20或21所述的图案膜的制造方法，在所述曝光工序和所述摩擦工序这两个工序之后，具有涂布液晶膜涂布液的液晶膜涂布工序、和使所述液晶膜涂布液固化的液晶膜固化工序。

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