CN111123639B - 掩膜版及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种掩膜版及其制备方法。所述掩膜版包括：所述掩膜本体、多个支撑结构和多个折射结构。所述掩膜本体包括多个通孔以及间隔的多个所述掩膜块。每一个所述掩膜块的所述出光面至少设置一个所述支撑结构。每一个所述折射结构靠近所述掩膜块与所述通孔的分界线设置。本申请中，通过在所述掩膜版的所述出光面设置高折射率的所述折射结构，达到了使原本发散的衍射光发生折射，折射光向有效透光区靠近，以缩小衍射光线在待曝光膜层上的照射范围，从而使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜版及其制备方法。
背景技术
目前高像素产品越来越多，像素结构也越来越小，这就要求接触孔的直径也越来越小。同样用于制作像素结构的掩膜版的通孔的直径也越来越小。但由于掩膜版的通孔会产生的衍射效应，当曝光光线从掩膜版透光区垂直照射时，在掩膜版出光侧会发生光的衍射现象，使得实际被曝光区域比透光区宽度要大，影响曝光精度和分辨率。
发明内容
基于此，有必要针对当曝光光线从掩膜版透光区垂直照射时，在掩膜版出光侧会发生光的衍射现象，使得实际被曝光区域比透光区宽度要大的问题，提供一种掩膜版及其制备方法。
一种掩膜版，包括：
掩膜本体，所述掩膜本体沿着第一方向延伸，且具有相对设置的入光面和出光面；
间隔设置的多个通孔开设于所述掩膜本体，并形成多个间隔设置的掩膜块；
多个支撑结构，固定设置于多个所述掩膜块的所述出光面，每个所述掩膜块至少设置一个所述支撑结构；以及
多个折射结构，每个所述支撑结构至少固定设置一个所述折射结构，所述折射结构靠近所述掩膜块与所述通孔的分界线设置。
在一个实施例中，所述折射结构沿第二方向形成的投影位于所述掩膜块沿所述第二方向形成的投影区域内；所述第一方向与所述第二方向垂直；
优选地，沿所述第一方向，所述折射结构远离所述支撑结构的边与所述通孔与所述掩膜块的分界线，在一条直线上。
在一个实施例中，沿所述第二方向，所述支撑结构远离所述出光面的边与所述折射结构远离所述出光面边或者边界点，在一条直线上。
在一个实施例中，沿垂直于所述第一方向的第二方向，所述折射结构靠近所述出光面的边或者边界点到所述掩膜块的距离为第一距离，所述支撑结构远离所述出光面的边到所述掩膜块的距离为第二距离，所述第一距离小于所述第二距离；优选地，所述第一距离等于所述第二距离的四分之一。
在一个实施例中，所述第一距离为1微米-5毫米；所述第二距离为2微米-10毫米。
在一个实施例中，所述折射结构为双凹型折射结构，所述双凹型折射结构包括：第一折射部，面向所述出光面形成凹面；以及第二折射部，背向所述出光面形成凹面。
在一个实施例中，所述折射结构的材料为镧冕玻璃或者掺杂氧化铅的石英玻璃。
在一个实施例中，还包括增透结构，所述增透结构与所述折射结构固定连接；所述增透结构沿所述第二方向的投影区域覆盖所述通孔沿所述第二方向的投影区域。
在一个实施例中，所述支撑结构包括吸光材料，所述吸光材料用于吸收照射至所述支撑结构的衍射光线；
优选地，所述支撑结构与所述折射结构一体成型，或者所述支撑结构与所述折射结构的连接方式为焊接、镶嵌、卡扣或粘结中的任意一种。
一种掩膜版的制备方法，包括：
提供掩膜本体，所述掩膜本体沿第一方向延伸，所述掩膜本体具有入光面和出光面；
在所述掩膜本体形成多个通孔，所述通孔将所述掩膜本体分为多个掩膜块；
在每一个所述掩膜块的所述出光面至少固定设置一个支撑结构；
在每一个所述支撑结构至少固定设置一个折射结构，所述折射结构靠近所述掩膜块与所述通孔的分界线设置。
本申请中提供一种掩膜版及其制备方法。所述掩膜版包括：所述掩膜本体、多个支撑结构和多个折射结构。所述掩膜本体包括多个通孔以及间隔的多个所述掩膜块。每一个所述掩膜块的所述出光面至少设置一个所述支撑结构。每一个所述折射结构靠近所述掩膜块与所述通孔的分界线设置。本申请中，通过在所述掩膜版的所述出光面设置高折射率的所述折射结构，达到了使原本发散的衍射光发生折射，折射光向有效透光区靠近，以缩小衍射光线在待曝光膜层上的照射范围，从而使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。
附图说明
图1为本申请一个实施例中提供的掩膜版的部分结构示意图；
图2为本申请一个实施例中提供的掩膜版的部分结构示意图；
图3为本申请一个实施例中提供的掩膜版的部分结构示意图；
图4为本申请一个实施例中提供的掩膜版的俯视图；
图5为本申请一个实施例中提供的掩膜版的部分结构示意图；
图6为本申请一个实施例中提供的掩膜版的俯视图；
图7为本申请一个实施例中提供的采用掩膜版制备显示面板的图案化膜层的示意图。
附图标号说明：
掩膜版100
掩膜本体10
入光面101
出光面102
通孔103
掩膜块104
支撑结构20
折射结构30
第一折射部31
第二折射部32
增透结构40
基板110
待曝光膜层120
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
掩膜版是制作显示面板，形成图案化膜层的重要工具。掩膜版上存在通孔，当光线照射到所述通孔时，会存在小孔衍射的现象。通孔/狭缝越小，衍射角越大，衍射光涉及的面积越大，在待曝光膜层形成的曝光区域越大。本申请提供的技术方案中，在传统方案的掩膜版的出光面设置折射结构。所述折射结构主要形成在所述通孔和所述掩膜块的分界线处。本申请提供的加上所述折射结构的所述掩膜版可以缩小衍射光的照射范围，减短无效光区域面积。
请参阅图1至图3，本申请提供一种掩膜版100，包括：掩膜本体10、多个支撑结构20和多个折射结构30。
所述掩膜本体10包括间隔设置的多个通孔103和多个掩膜块104。多个所述通孔103间隔设置。多个所述掩膜块104也间隔设置。沿第一方向，所述掩膜本体10具有入光面101和出光面102。光线透过所述通孔103由所述入光面101向所述出光面102照射。具体的，所述通孔103的形状和大小可以根据实际的所述掩膜版100需要形成的图案化状态进行调整。所述掩膜本体10可以是金属材质或者其他可以满足蒸镀或者刻蚀要求的材料。
多个所述支撑结构20固定设置于多个所述掩膜块104的所述出光面102。每个所述掩膜块104至少设置一个所述支撑结构20。所述第一方向与所述第二方向垂直。具体的，所述支撑结构20在所述掩膜本体10的所述出光面102固定设置。在一个实施例中，所述支撑结构20沿第二方向的投影面积小于或等于所述掩膜块104在所述第二方向的投影面积。
所述支撑结构20的材质可以是完全不透光的结构。所述支撑结构20的表面可镀不透光铬膜。比如，所述支撑结构20也可以是通过溅射的方法在表面镀有厚约0.1um不透光铬层的石英玻璃。所述支撑结构20还可以是碳纳米管材料涂层(比如：Vantablack材料，又称为梵塔黑，可吸收99.965％的可见光)。所述支撑结构20与所述掩膜块104之间可以通过焊接、镶嵌、卡扣以及粘结的方式相连接。具体的，粘结材料如丙烯酸酯光固化胶黏剂。
每个所述支撑结构20至少固定设置一个所述折射结构30。比如，图1和图2所示，每个所述支撑结构20设置一个所述折射结构30。图3所示，每个所述支撑结构20设置两个所述折射结构30。图1-图3所示，所述折射结构30靠近所述掩膜块104与所述通孔103的分界线设置。所述折射结构30用于将通过所述通孔103后形成的衍射光线折射，使折射后的光线向有效透光区靠近。
所述支撑结构20与所述折射结构30之间可以均选用石英玻璃，一体成型实现固定连接。所述支撑结构20与所述折射结构30之间也可以通过焊接、镶嵌、卡扣以及粘结的方式相连。所述折射结构30的形状可变，比如图1-图3所示。所述折射结构30的形状还可以是其他的凹面透镜，或者其他折射镜的其它能够达到折射效果的棱镜也包括在内。
本实施例中，提供的所述掩膜版100包括：所述掩膜本体10、多个支撑结构20和多个折射结构30。其中，所述掩膜本体10包括间隔设置的多个通孔103以及间隔设置的多个所述掩膜块104。每一个所述掩膜块104的所述出光面102至少固定设置一个所述支撑结构20。每一个所述支撑结构20靠近所述通孔103的至少设置一个所述折射结构30。本实施例中，通过在所述掩膜版100的所述出光面102设置高折射率的所述折射结构30，达到了使原本发散的衍射光发生折射，折射光向有效透光区靠近，并垂直照射到带有光刻胶的待曝光膜层(如图7所示的所述待曝光膜层120)。折射光向有效透光区靠近，使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。本申请提供的实施例中，将通过所述通孔103时形成的衍射光利用起来，同时也减少了光线损失，达到降低能耗的效果。
如图1和图2所示，在一个具体的实施例中，所述折射结构30沿所述第二方向形成的投影位于所述掩膜块104沿所述第二方向形成的投影区域内。在一个实施例中，沿所述第一方向，所述折射结构30远离所述支撑结构20的边与所述通孔103与所述掩膜块104的分界线，在一条直线上。
本实施例中，所述折射结构30仅设置在所述掩膜块104覆盖的范围内。所述折射结构30至少具有与所述掩膜块104和所述通孔103的交界重合的边。在所述通孔103与所述掩膜块104的交界处附近容易发生衍射，所述折射结构30设置的位置可以使原本发散的衍射光发生折射，折射光向有效透光区靠近，并垂直照射到带有光刻胶的待曝光膜层120。折射光向有效透光区靠近，使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。将通过所述通孔103时形成的衍射光利用起来，同时也减少了光线损失，达到降低能耗的效果。
如图3所示，在一个具体的实施例中，沿所述第二方向，所述支撑结构20远离所述出光面102的边与所述折射结构30远离所述出光面102的边或者边界点，在一条直线上。
本实施例中，所述支撑结构20的底边与所述折射结构30的底边重合，可以避免所述支撑结构20会影响从所述通孔103中透过的光线的传输路径。
在一个实施例中，所述折射结构30沿第二方向形成的投影可以部分位于所述掩膜块104沿所述第二方向形成的投影区域内，部分位于所述通孔103沿所述第二方向形成的投影区域内。这里所述折射结构30沿第二方向形成的投影可以有很少的一部分位于所述通孔103沿所述第二方向形成的投影区域内。本申请的目的在于通过所述掩膜版100的所述出光面102一侧设置高折射率的所述折射结构30，达到了使原本发散的衍射光发生折射，折射光向有效透光区靠近，进一步地，能够垂直照射到带有光刻胶的待曝光膜层。有很少的一部分超出所述掩膜块104的所述折射结构30会对光线造成一定的折射，但是折射后的光线仍然是照射到有效透光区，因此对掩膜结果的影响较小。本申请中，将通过所述通孔103后形成的衍射光利用起来。将通过所述通孔103后形成的衍射光通过所述折射结构30发生折射，折射光向有效透光区靠近，以缩小衍射光线在待曝光膜层上的照射范围，从而使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。
请再次参阅图1，在一个具体的实施例中，所述折射结构30为双凹型折射结构，包括：第一折射部31和第二折射部32。
所述第一折射部31可以是凹面透镜，具体的所述第一折射部31的折射角度范围调整到多大可以根据实际的掩膜需要进行合理的设计和调整。所述第一折射部31面向所述出光面102形成凹面。
第二折射部32也可以是凹面透镜，但是所述第二折射部32是背向所述出光面102形成的凹面。所述第一折射部31和所述第二折射部32可以是一体成型的，避免中间的界限导致光线的方向进一步的发生变化。在一个具体的实施例中，所述第一折射部31和所述第二折射部32的凹面线对应的中心在一条直线上。本实施例中，所述折射结构30的形状还可以是其他的组合结构，只要能够达到折射效果即可。
本实施例中，所述折射结构30为双凹型折射结构。所述双凹型折射结构包括所述第一折射部31和所述第二折射部32。在所述通孔103和所述掩膜块104的交界处附近光线发生衍射时，所述第一折射部31先进行一次折射，使得衍射光线变得汇聚。经过所述第一折射部31折射后的光线进入所述第二折射部32。所述第二折射部32进一步起到折射的作用，使得原本发散的衍射光发生二次折射，二次折射后的光向有效透光区进一步靠近，以缩小衍射光的照射范围，提高曝光精度。本实施例中，二次折射后的光向有效透光区进一步靠近，使得被曝光区域面积进一步缩小，曝光精度和分辨率得到提高。所述双凹型折射结构将通过所述通孔103时形成的衍射光利用起来，同时也减少了光线损失，达到降低能耗的效果。
在一个具体的实施例中，所述折射结构30的材料为镧冕玻璃或者掺杂氧化铅的石英玻璃。本实施例中，所述折射结构30可以选用掺杂氧化铅的石英玻璃，掺杂氧化铅的石英玻璃可以使得折射率达到1.8804左右。所述折射结构30的材料还可以是镧冕玻璃等其它高纯度的光玻璃。所述折射结构30的材质还可以为其他高纯度、低反射率、低热膨胀系数的透光材料。
在一个具体的实施例中，如图1所示，沿垂直于所述第一方向的第二方向，所述折射结构30靠近所述出光面102的边或者边界点到所述掩膜块104的距离为第一距离d1。所述支撑结构20远离所述出光面102的边到所述掩膜块104的距离为第二距离d2。所述第一距离d1小于所述第二距离d2。可以理解为，所述第一距离d1可以是小于所述第二距离d2的任意可行的距离。在一个实施例中，所述第一距离d1等于所述第二距离d2的四分之一。
本实施例中，设置所述第一距离d1小于所述第二距离d2是为了更好的收集所述通孔103附近的衍射光。经过所述折射结构30的折射使得收集的衍射光，经过折射后，照射到有效透光区。在一个实施例中，当所述第一距离d1等于所述第二距离d2的四分之一时，有更多的衍射光会被所述折射结构30收集，进行折射。剩下的极小部分不能被所述折射结构30收集的衍射光，可以被包括吸光材料的所述支撑结构20吸收，避免剩下的极小部分照射到支撑结构20的衍射光线，或衍射光线经折射后的光线照射到待曝光膜层120上，进一步提高了曝光精度。
在一个具体的实施例中，所述第一距离d1为1微米-5毫米；所述第二距离d2为2微米-10毫米。所述支撑结构20到所述掩膜块104的距离(或者所述支撑结构20的整体厚度)小于或等于10毫米。所述通孔103的直径(或者相邻的两个所述掩膜块104之间的距离)小于或等于1.5微米。本实施例中，所述折射结构30用于将经过所述通孔103后形成的衍射光线折射后，垂直(或者近乎垂直的)照射于带有光刻胶的所述待曝光膜层120。经过所述折射结构30折射后照射的光斑与有效透光区重叠。上述实施例中的距离关系得出的衍射光线经折射后照射的光斑与有效透光区的接近度达到90％-95％，可以理解，本方案中，掩膜板的通孔103在待曝光膜层120上的正投影与有效光区重叠。
请参阅图4，分别提供所述掩膜版100的俯视图。图4中所述掩膜版100仅包括：所述掩膜本体10、多个支撑结构20和多个折射结构30。通过在所述掩膜版100的所述出光面102设置高折射率的所述折射结构30，达到了使原本发散的衍射光发生折射，折射光向有效透光区靠近，以缩小衍射光线在待曝光膜层120的照射范围，提高曝光精度。
图4中示出了所述折射结构30完全被所述掩膜块104覆盖。图4中实现了折射光向有效透光区靠近的效果，使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。本申请提供的实施例中，将通过所述通孔103时形成的衍射光利用起来，同时也减少了光线损失，达到降低能耗的效果。
请参阅图5，在一个具体的实施例中，所述掩膜版100还包括：增透结构40。
所述增透结构40与所述折射结构30固定连接。所述增透结构40沿所述第二方向的投影区域覆盖所述通孔103沿所述第二方向的投影区域。
所述增透结构40可以将90°垂直入射的光线，更准确的照射到待曝光膜层120(如图7所示的)。另外设置所述增透结构40可以进一步的加固所述掩膜版100的整体结构。在所述增透结构40的两端分别固定连接一个所述折射结构30，可以避免在掩膜过程中各个结构发生形变，影响所述掩膜版100的掩膜精度。所述增透结构40的设置可以进一步的提高曝光精度和分辨率。
所述增透结构40的材质可以为普通玻璃、掺杂氧化铅的石英玻璃、镧冕玻璃或者其他高纯度、低反射率、低热膨胀系数的透光材料。掺杂氧化铅的石英玻璃的折射率可达到1.8804。所述增透结构40还可以选择以聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯为主要成分的高透过率光学镜片。
所述增透结构40与所述折射结构30(可以为双凹型)可以是一体成型的结构。所述增透结构40与所述折射结构30(可以为双凹型)也可以是经过特殊工艺结构形成的结构。
请参阅图6，分别提供所述掩膜版100的俯视图。图6中所述掩膜版100包括：所述掩膜本体10、多个支撑结构20、多个折射结构30以及所述增透结构40。通过在所述掩膜版100的所述出光面102设置高折射率的所述折射结构30，达到了使原本发散的衍射光发生折射，折射光向有效透光区靠近，图6中示出了所述折射结构30完全被所述掩膜块104覆盖，所述增透结构40的面积与所述通孔103的面积完全重合。图6中实现了折射光向有效透光区靠近的效果，使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。另外，设置所述增透结构40可以进一步的加固所述掩膜版100的整体结构。在所述增透结构40的两端分别固定连接一个所述折射结构30，可以避免在掩膜过程中各个结构发生形变，影响所述掩膜版100的掩膜精度。所述增透结构40的设置可以进一步的提高曝光精度和分辨率。
在一个具体的实施例中，所述掩膜块104与所述支撑结构20一体成型。所述掩膜本体10与所述支撑结构20焊接，镶嵌，卡扣，以及粘结的方式相连接，粘结材料如丙烯酸酯光固化胶黏剂。所述支撑结构20与所述折射结构30一体成型。或者，所述支撑结构20与所述折射结构30的连接方式为焊接、镶嵌、卡扣或粘结中的任意一种。所述折射结构30与所述增透结构40可以一体成型。或者，所述折射结构30与所述增透结构40的连接方式为焊接、镶嵌、卡扣或粘结中的任意一种。
本申请还提供一种掩膜版的制备方法，包括：
S10，提供掩膜本体10，所述掩膜本体10沿第一方向延伸，所述掩膜本体10具有入光面101和出光面102。
S20，在所述掩膜本体10形成多个通孔103，所述通孔103将所述掩膜本体10分为多个掩膜块104。
S30，在每一个所述掩膜块104的所述出光面102至少固定设置一个支撑结构20。
S40，在每一个所述支撑结构20至少固定设置一个折射结构30，所述折射结构30靠近所述掩膜块104与所述通孔103的分界线设置。
本实施例中，提供一种掩膜版的基本制备方法，形成所述掩膜版100的具体结构形式可以参考上述任一个实施例中提供的所述掩膜版100。本实施例中，采用所述掩膜版的制备方法制备得到的所述掩膜版100包括所述掩膜本体10、多个支撑结构20和多个折射结构30。通过在所述掩膜版100的所述出光面102设置高折射率的所述折射结构30，达到了使原本发散的衍射光发生折射，折射光向有效透光区靠近，以缩小衍射光线在所述待曝光膜层120上的照射范围，从而使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。
请参阅图7，一种显示面板的制备方法，包括形成图案化膜层的步骤。所述形成图案化膜层的步骤采用上述任一个实施例中提到的所述掩膜版100。
本申请实施例中在传统的掩膜版出光面设置一层高折射率的折射结构30，高折射率的所述折射结构30通过所述支撑结构20固定设置于所述掩膜块104的所述出光面102。在一个实施例中所述折射结构30为双凹型折射结构。所述双凹型折射结构能够改变衍射光线传播路径，使衍射光得以利用并向有效光区靠近，最终垂直照射到所述待曝光膜层120上。
本实施例中，所述支撑结构20上可以设置遮光层。对于部分无法折射的衍射光，最终可以被带有遮光作用的所述支撑结构20吸收，避免光线向其它方向传播。比如所述支撑结构20的表面可镀不透光铬膜。
本实施例中提供的所述掩膜版100可以使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。将衍射光利用起来，同时也减少了光线损失，降低能耗。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：
掩膜本体(10)，所述掩膜本体(10)沿着第一方向延伸，且具有相对设置的入光面(101)和出光面(102)；
间隔设置的多个通孔(103)开设于所述掩膜本体(10)，并形成多个间隔设置的掩膜块(104)；
多个支撑结构(20)，固定设置于多个所述掩膜块(104)的所述出光面(102)，每个所述掩膜块(104)至少设置一个所述支撑结构(20)；所述支撑结构(20)包括吸光材料，所述吸光材料用于吸收照射至所述支撑结构(20)的衍射光线；
多个折射结构(30)，每个所述支撑结构(20)至少固定设置一个所述折射结构(30)，所述折射结构(30)靠近所述掩膜块(104)与所述通孔(103)的分界线设置；其中，所述折射结构(30)为双凹型折射结构，所述双凹型折射结构包括第一折射部(31)和第二折射部(32)：所述第一折射部(31)面向所述出光面(102)形成凹面；所述第二折射部(32)背向所述出光面(102)形成凹面；
增透结构(40)，所述增透结构(40)与所述折射结构(30)固定连接；所述增透结构(40)沿第二方向的投影区域覆盖所述通孔(103)沿所述第二方向的投影区域。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述折射结构(30)沿第二方向形成的投影位于所述掩膜块(104)沿所述第二方向形成的投影区域内；所述第一方向与所述第二方向垂直。
3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，沿所述第一方向，所述折射结构(30)远离所述支撑结构(20)的边与所述通孔(103)与所述掩膜块(104)的分界线，在一条直线上。
4.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，沿所述第二方向，所述支撑结构(20)远离所述出光面(102)的边与所述折射结构(30)远离所述出光面(102)的边或者边界点，在一条直线上。
5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，沿垂直于所述第一方向的第二方向，所述折射结构(30)靠近所述出光面(102)的边或者边界点到所述掩膜块(104)的距离为第一距离，所述支撑结构(20)远离所述出光面(102)的边到所述掩膜块(104)的距离为第二距离，所述第一距离小于所述第二距离。
6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述第一距离等于所述第二距离的四分之一。
7.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述第一距离为1微米-5毫米；所述第二距离为2微米-10毫米。
8.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述折射结构(30)的材料为镧冕玻璃或者掺杂氧化铅的石英玻璃。
9.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述支撑结构(20)与所述折射结构(30)一体成型，或者所述支撑结构(20)与所述折射结构(30)的连接方式为焊接、镶嵌、卡扣或粘结中的任意一种。
10.一种掩膜版的制备方法，其特征在于，包括：
提供掩膜本体(10)，所述掩膜本体(10)沿第一方向延伸，所述掩膜本体(10)具有入光面(101)和出光面(102)；
在所述掩膜本体(10)形成多个通孔(103)，所述通孔(103)将所述掩膜本体(10)分为多个掩膜块(104)；
在每一个所述掩膜块(104)的所述出光面(102)至少固定设置一个支撑结构(20)；所述支撑结构(20)包括吸光材料，所述吸光材料用于吸收照射至所述支撑结构(20)的衍射光线；
在每一个所述支撑结构(20)至少固定设置一个折射结构(30)，所述折射结构(30)靠近所述掩膜块(104)与所述通孔(103)的分界线设置；其中，所述折射结构(30)为双凹型折射结构，所述双凹型折射结构包括第一折射部(31)和第二折射部(32)：所述第一折射部(31)面向所述出光面(102)形成凹面；所述第二折射部(32)背向所述出光面(102)形成凹面；
在折射结构(30)背离所述支撑结构(20)的一端固定设置增透结构(40)，所述增透结构(40)与所述折射结构(30)固定连接；所述增透结构(40)沿第二方向的投影区域覆盖所述通孔(103)沿所述第二方向的投影区域。
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