CN103304215A - 超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品，包括陶瓷胚体，以及设置在所述陶瓷胚体表面的釉层，所述陶瓷胚体由下列重量份的原料制成：高岭土30～40份、石英35～45份、硅酸锆5～10份、长石5～10份、木鱼石粉3～5份、滑石5～10份、稀土3～5份；所述釉层由下列质量百分比的原料制成：石英15～20份、长石35～45份、纳米载银抗菌剂1～2份、滑石5～10份、氧化锌1～3份、氧化锡1～3份、氧化铜1～3份、稀土3～5份。有益效果是：通过在陶瓷胚体原料内添加硅酸锆，增强了陶瓷的强度及断裂韧性，不易碎；在釉料原料内添加纳米载银抗菌剂，并引入稀土元素激活纳米载银抗菌剂，从而更有效地强化抗菌效能。

Description

超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品及其制备方法
技术领域
本发明涉及陶瓷制品技术领域，尤其是涉及一种超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品及其制备方法。
背景技术
传统的陶瓷生产，普通采用一次烧成工艺，其特点是工艺简单，工序少，成本低，但产品成品率低，色调单一，色彩单调，艺术效果差，易碎，断裂韧性差。但随着社会的进步及人们审美观的变化，对于陶瓷的艺术性、观赏性、实用性的要求也越来越高。显然传统的陶瓷生产工艺不能满足上述需要了，因此，虽然现有的烧成工艺，烧制出色彩丰富，色泽润透，古雅大方，色调绚丽的陶瓷制品，但是依旧没有能够改善产品成品率低、易碎，断裂韧性差等问题。
因此，一种超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品及其制备方法的出现很有必要了。
发明内容
本发明提供一种超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品及其制备方法，以解决现有技术中的产品成品率低、易碎，断裂韧性差等问题。
本发明所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：
超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品，包括陶瓷胚体，以及设置在所述陶瓷胚体表面的釉层，所述陶瓷胚体由下列重量份的原料制成：
高岭土30～40份、石英35～45份、硅酸锆5～10份、长石5～10份、木鱼石粉3～5份、滑石5～10份、稀土3～5份；
所述釉层由下列质量百分比的原料制成：
石英15～20份、长石35～45份、纳米载银抗菌剂1～2份、滑石5～10份、氧化锌1～3份、氧化锡1～3份、氧化铜1～3份、稀土3～5份。
作为优选的技术方案，所述陶瓷胚体由下列重量份的原料制成：
高岭土30份、石英40份、硅酸锆10份、长石10份、木鱼石粉5份、滑石5份、稀土5份；
所述釉层由下列质量百分比的原料制成：
石英20份、长石45份、纳米载银抗菌剂1份、滑石5份、氧化锌3份、氧化锡3份、氧化铜3份、稀土3份。
作为优选的技术方案，所述稀土为氧化铒、氧化钕、氧化镨、氧化铈中的一种或几种任意比例的混合物。
一种超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法，包括以下步骤：
(a)原料配料：按重量份准确称取下列陶瓷胚体原料，高岭土30～40份、石英35～45份、硅酸锆5～10份、长石5～10份、木鱼石粉3～5份、滑石5～10份、稀土3～5份，并混合、粉碎、研磨、过筛，即得混合原料；
(b)模塑成型：将上述混合原料经过模塑加工成型，并干燥至15～18％水分，得青坯；
(c)胎型修理：使用工具将上述青坯修整平滑；
(d)配釉施釉：按重量份准确称取下列釉层原料，石英15～20份、长石35～45份、纳米载银抗菌剂1～2份、滑石5～10份、氧化锌1～3份、氧化锡1～3份、氧化铜1～3份、稀土3～5份，并混合、粉碎、研磨、过筛，即得混合釉料；对上述修整后的青坯进行施釉，即得釉坯；
(e)高温烧制：将上述釉坯放入炉中焙烧，焙烧温度50～1350℃，烧成时间8～12小时；
(f)冷却成型：经釉烧后冷却，出窑，再进行检验、分级、包装。
作为优选的技术方案，步骤a中称取的陶瓷胚体原料为高岭土30份、石英40份、硅酸锆10份、长石10份、木鱼石粉5份、滑石5份、稀土5份。
作为优选的技术方案，步骤a中所述的混合原料的细度为通过120目筛。
作为优选的技术方案，步骤d中称取的釉层原料为石英20份、长石45份、纳米载银抗菌剂1份、滑石5份、氧化锌3份、氧化锡3份、氧化铜3份、稀土3份。
作为优选的技术方案，所述稀土为氧化铒、氧化钕、氧化镨、氧化铈中的一种或几种任意比例的混合物。
作为优选的技术方案，步骤d中所述的混合釉料的细度为通过280目筛。
作为优选的技术方案，步骤e中的二次釉烧包括三个阶段：
干燥阶段：20～800℃，升温速度控制在50～200℃/小时；
氧化阶段：800～1200℃，升温速度控制在80～150℃/小时；
还原阶段：1200～1350℃，升温速度控制在50～80℃/小时。
本发明具有的有益效果是：通过在陶瓷胚体原料内添加硅酸锆，增强了陶瓷的强度及断裂韧性，不易碎；在釉料原料内添加纳米载银抗菌剂，并引入稀土元素激活纳米载银抗菌剂，从而更有效地强化抗菌效能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施方案或现有技术中的技术方案，下面将对实施方案或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方案，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明：一种超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法的工艺图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本发明。
实施例1
参照图1所示，本实施例超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法，包括以下步骤：
S1原料配料：按重量份准确称取下列陶瓷胚体原料，高岭土30份、石英40份、硅酸锆10份、长石10份、木鱼石粉5份、滑石5份、氧化钕5份，并混合、粉碎、研磨、过筛，即得混合原料，其中，混合原料的细度为通过120目筛；
S2模塑成型：将上述混合原料经过模塑加工成型，并干燥至15～18％水分，得青坯；
S3胎型修理：使用工具将上述青坯修整平滑；
S4配釉施釉：按重量份准确称取下列釉层原料，石英20份、长石45份、纳米载银抗菌剂1份、滑石5份、氧化锌3份、氧化锡3份、氧化铜3份、氧化钕3份，并混合、粉碎、研磨、过筛，即得混合釉料，其中，混合釉料的细度为通过280目筛；对上述修整后的青坯进行施釉，即得釉坯；
S5高温烧制：将上述釉坯放入炉中焙烧，焙烧温度50～1350℃，烧成时间8～12小时；其中，二次釉烧包括三个阶段：
干燥阶段：20～800℃，升温速度控制在50～200℃/小时；
氧化阶段：800～1200℃，升温速度控制在80～150℃/小时；
还原阶段：1200～1350℃，升温速度控制在50～80℃/小时
S6冷却成型：经釉烧后冷却，出窑，再进行检验、分级、包装。
实施例2
本实施例与实施例1的不同点是：陶瓷胚体原料采用高岭土40份、石英45份、硅酸锆5份、长石5份、木鱼石粉3份、滑石5份、氧化铈3份，并混合、粉碎、研磨、过筛，即得混合原料；
釉层原料采用石英15份、长石35份、纳米载银抗菌剂2份、滑石5份、氧化锌2份、氧化锡2份、氧化铜2份、氧化铈5份。
实施例3
本实施例与实施例1的不同点是：陶瓷胚体原料和釉层原料中的稀土为氧化钕和氧化镨的混合物，其混合比例为1∶1。
实施例4
本实施例与实施例1的不同点是：陶瓷胚体原料和釉层原料中的稀土为氧化铒、氧化钕、氧化镨的混合物，其混合比例为1∶1∶1。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (10)

1.超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品，包括陶瓷胚体，以及设置在所述陶瓷胚体表面的釉层，其特征在于：所述陶瓷胚体由下列重量份的原料制成：
高岭土30～40份、石英35～45份、硅酸锆5～10份、长石5～10份、木鱼石粉3～5份、滑石5～10份、稀土3～5份；
所述釉层由下列质量百分比的原料制成：
石英15～20份、长石35～45份、纳米载银抗菌剂1～2份、滑石5～10份、氧化锌1～3份、氧化锡1～3份、氧化铜1～3份、稀土3～5份。
2.根据权利要求1所述的超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品，其特征在于：所述陶瓷胚体由下列重量份的原料制成：
高岭土30份、石英40份、硅酸锆10份、长石10份、木鱼石粉5份、滑石5份、稀土5份；
所述釉层由下列质量百分比的原料制成：
石英20份、长石45份、纳米载银抗菌剂1份、滑石5份、氧化锌3份、氧化锡3份、氧化铜3份、稀土3份。
3.根据权利要求1或2所述的超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品，其特征在于：所述稀土为氧化铒、氧化钕、氧化镨、氧化铈中的一种或几种任意比例的混合物。
4.超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(a)原料配料：按重量份准确称取下列陶瓷胚体原料，高岭土30～40份、石英35～45份、硅酸锆5～10份、长石5～10份、木鱼石粉3～5份、滑石5～10份、稀土3～5份，并混合、粉碎、研磨、过筛，即得混合原料；
(b)模塑成型：将上述混合原料经过模塑加工成型，并干燥至15～18％水分，得青坯；
(c)胎型修理：使用工具将上述青坯修整平滑；
(d)配釉施釉：按重量份准确称取下列釉层原料，石英15～20份、长石35～45份、纳米载银抗菌剂1～2份、滑石5～10份、氧化锌1～3份、氧化锡1～3份、氧化铜1～3份、稀土3～5份，并混合、粉碎、研磨、过筛，即得混合釉料；对上述修整后的青坯进行施釉，即得釉坯；
(e)高温烧制：将上述釉坯放入炉中焙烧，焙烧温度50～1350℃，烧成时间8～12小时，
(f)冷却成型：经釉烧后冷却，出窑，再进行检验、分级、包装。
5.根据权利要求4所述的超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法，其特征在于，步骤a中称取的陶瓷胚体原料为高岭土30份、石英40份、硅酸锆10份、长石10份、木鱼石粉5份、滑石5份、稀土5份。
6.根据权利要求4所述的超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法，其特征在于，步骤a中所述的混合原料的细度为通过120目筛。
7.根据权利要求4所述的超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法，其特征在于，步骤d中称取的釉层原料为石英20份、长石45份、纳米载银抗菌剂1份、滑石5份、氧化锌3份、氧化锡3份、氧化铜3份、稀土3份。
8.根据权利要求5或7所述的超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法，其特征在于，所述稀土为氧化铒、氧化钕、氧化镨、氧化铈中的一种或几种任意比例的混合物。
9.根据权利要求4所述的超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法，其特征在于，步骤d中所述的混合釉料的细度为通过280目筛。
10.根据权利要求4所述的超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品的制备方法，其特征在于，步骤e中的二次釉烧包括三个阶段：
干燥阶段：20～800℃，升温速度控制在50～200℃/小时；
氧化阶段：800～1200℃，升温速度控制在80～150℃/小时；
还原阶段：1200～1350℃，升温速度控制在50～80℃/小时。
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