CN103224332B - 一种用于玻璃蚀刻的槽结构 - Google Patents
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- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 210000005056 cell body Anatomy 0.000 claims abstract description 44
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 claims abstract description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 9
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 abstract description 7
- 238000004886 process control Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000002633 protecting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本发明涉及终端显示产品制造领域，具体为一种用于玻璃蚀刻的槽结构，包括槽体，槽体具有内槽体和设置在内槽体外侧的外槽体，内槽体的底壁上方设有鼓泡板，鼓泡板将内槽体分隔形成上部的溶液池和下部的气室，通过度槽体内外部结构的重新设计，控制蚀刻工艺的高精度控制，能将大片玻璃通过蚀刻直接变成小片成品玻璃。
Description
技术领域
本发明涉及终端显示产品制造领域，具体为一种用于玻璃蚀刻的槽结构。
背景技术
现有的玻璃蚀刻技术主要是用来对玻璃进行减薄处理或者是边缘的二次强化处理，所用的蚀刻槽的设计也主要是服务于上述技术，如公开号101215100的中国发明专利公开了一种平板玻璃基板减薄蚀刻槽，其对反应液、环境参数等的控制比较粗糙，对玻璃的蚀刻的精度比较低，无法完成通过高精度的蚀刻直接将大片玻璃变成小片成品玻璃的工艺。另外传统的触摸屏都是将大玻璃切割成小玻璃，切割过程会带来边缘机械损伤，就需要对通过二次物理或者化学强化进行玻璃进行再加工，则需要用到更多设备，成本也较高。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于玻璃高精度蚀刻、能将大片玻璃通过蚀刻直接变成小片成品玻璃的槽结构。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种用于玻璃蚀刻的槽结构，包括槽体，槽体具有内槽体和设置在内槽体外侧的外槽体，内槽体的底壁上方设有鼓泡板，鼓泡板将内槽体分隔形成上部的溶液池和下部的气室，溶液池连通有进液管和抽液管，溶液池内还设有自动加热设备，内槽体和外槽体之间设有冷却水盘管，气室连通有气管，气管通过支管分别连接到臭氧发生器和增压装置，槽体还配有PH值自动控制器， PH值自动控制器包括PH值传感器和PH加液器。
上述技术方案中，由于是对大片玻璃直接蚀刻断变成小片成品玻璃，所有采用的是强酸或者强碱溶液，腐蚀性很强，万一造成泄露会比较危险，不够安全，所以采用内槽体和外槽体的双层结构，可以起到较好的保护作用，鼓泡板可以使得蚀刻溶液在蚀刻过程中保持很均匀的状态，并能及时取出玻璃表面的反应生成物，保证玻璃蚀刻断以后边缘的质量，再者，通过进液管和抽液管的设计，使得蚀刻溶液形成一个主动循环，同样是为了蚀刻溶液更加均匀的目的，由于该种工艺的高精度要求，需要保证一个较为稳定的温度环境，通过自动加热设备和冷却水盘管有效得到控制，另外臭氧发生器的设置一方面是为了槽内均匀鼓泡的供气，另外该种工艺需要双氧水的供应，臭氧进入蚀刻溶液能够生产所需的双氧水，而且可以通过臭氧发生器控制其排量，以及增压装置是配合该臭氧发生器实现对工艺过程所需压强的精度控制，最后，该生产工艺对PH有加高的要求，需要比较稳定的PH环境，在反应过程中酸碱性会随着反应的进行发生变化，PH值自动控制器则可以很好的保证蚀刻溶液PH环境的稳定性，以上的设计都是为了整个工艺过程的稳定、高精度的控制，对大片玻璃涂好带有蚀刻线路的保护层后进行蚀刻断的工艺，可以使得蚀刻的速率、蚀刻的效果达到最优的状态，
作为对上述技术方案的优选，鼓泡板上均匀地分布有鼓泡孔，孔径范围在0.1mm-0.5mm之间且间距在0.5cm-1.5cm之间。该优选方式可以达到较好的鼓泡效果，使得蚀刻溶液各个位置都比较均匀，从而达到较好的蚀刻效果。
作为对上述技术方案的优选，气管连通到气室并进入到气室内，呈回折形设置且设有若干出气孔。该优选方式提高了鼓泡效果的均匀程度，基本上保证了鼓泡板各个鼓泡孔的气压的一致性，通过增加鼓泡效果的均匀度来提高蚀刻溶液的均匀度和蚀刻的均匀度。
作为对上述技术方案的优选，出气孔面向鼓泡板上的鼓泡孔均布。对上述优选方式的进一步优化，提高鼓泡精度。
作为对上述技术方案的优选，鼓泡板的截面呈波浪形，其波峰上设有鼓泡孔。该优选方式同样进一步提高了鼓泡效果，在蚀刻过程中，会有一些不溶解的沉淀物沉淀下来，在蚀刻溶液的活动中对鼓泡孔的畅通会造成一定的影响，势必对鼓泡效果的均匀度造成一定的影响，同时会造成蚀刻溶液均匀度的影响而最终影响蚀刻的均匀度，波浪形的鼓泡板，可以使得沉淀物保持在波谷的位置，不容易起来影响波峰处的鼓泡孔的畅通，从而起到较好的鼓泡效果。
作为对上述技术方案的优选，抽液管上设有过滤装置。该优选方式可以有效阻止反应中沉淀在下部的沉淀物进入循环影响上部反应的蚀刻溶液。
作为对上述技术方案的优选，槽体上方还设有排风装置并连通到处理池。该优选方式既能及时地排出废气保证环境的洁净度，又能有效起到环保的功能。
作为对上述技术方案的优选，增压装置为N
2
空压装置。
作为对上述技术方案的优选，自动加热设备包括设置在溶液池内的加热管。
作为对上述技术方案的优选，气管上设有反向阀。
本发明的有益效果是：1、对蚀刻工艺的条件、环境参数等控制更加精确且能够实现自动化控制，从而能够实现精度更高、效果更好的蚀刻作业；
2、蚀刻的速率、蚀刻的效果能够得到有效地控制，能将大片玻璃通过蚀刻直接变成小片成品玻璃；
3、相比传统的切割工艺更加简单，减少了较多的生产成本。
附图说明
图1是本发明实施例1的立体结构示意图；
图2是本发明实施例1的鼓泡板的体结构示意图。
图中： 1、内槽体，2、外槽体，11、鼓泡板，3、溶液池，4、气室，31、进液管，32、抽液管，6、自动加热设备，7、冷却水盘管，8、气管，81、臭氧发生器，82、增压装置，5、PH值自动控制器，51、PH值传感器，52、PH加液器，111、鼓泡孔。
具体实施方式
以下具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。
实施例1，如图1所示，一种用于玻璃蚀刻的槽结构，包括槽体，槽体具有内槽体1和设置在内槽体1外侧的外槽体2，内槽体1的底壁上方设有鼓泡板11，鼓泡板11将内槽体1分隔形成上部的溶液池3和下部的气室4，溶液池3连通有进液管31和抽液管32，进液管31和抽液管32在槽体外部连接到一个溶液罐中，可以采用能放置重量达到2T的溶液罐，溶液池3内还设有自动加热设备6，内槽体1和外槽体2之间设有冷却水盘管7，气室4连通有气管8，气管8通过支管分别连接到臭氧发生器81和增压装置82，槽体还配有PH值自动控制器5，PH值自动控制器5包括PH值传感器51和PH加液器52。
鼓泡板11上均匀地分布有鼓泡孔111，孔径范围在0.1mm-0.5mm之间且间距在0.5cm-1.5cm之间，气管8连通到气室4并进入到气室4内，呈回折形设置且设有若干出气孔，出气孔面向鼓泡板11上的鼓泡孔111均布。抽液管32上设有过滤装置。增压装置82为N
2
空压装置。自动加热设备6包括设置在所述溶液池3内的加热管。
实施例2，如图2所示，其与实施例1的区别在于：鼓泡板11的截面呈波浪形，其波峰上设有鼓泡孔111。
实施例3，其与实施例1的区别在于：槽体上方还设有排风装置并连通到处理池。
实施例4，其与实施例1的区别在于：气管8上设有反向阀。
Claims (6)
1.一种用于玻璃蚀刻的槽结构，包括槽体，其特征在于：所述槽体具有内槽体（1）和设置在所述内槽体（1）外侧的外槽体（2），所述内槽体（1）的底壁上方设有鼓泡板（11），所述鼓泡板（11）将所述内槽体（1）分隔形成上部的溶液池（3）和下部的气室（4），所述溶液池（3）连通有进液管（31）和抽液管（32），所述溶液池（3）内还设有自动加热设备（6），所述内槽体（1）和所述外槽体（2）之间设有冷却水盘管（7），所述气室（4）连通有气管（8），所述气管（8）通过支管分别连接到臭氧发生器（81）和增压装置（82），所述槽体还配有pH值自动控制器（5），所述pH值自动控制器（5）包括pH值传感器（51）和pH加液器（52），所述鼓泡板（11）上均匀地分布有鼓泡孔（111），孔径范围在0.1mm-0.5mm之间且间距在0.5cm-1.5cm之间，所述气管（8）连通到所述气室（4）并进入到所述气室（4）内，呈回折形设置且设有若干出气孔，所述出气孔面向所述鼓泡板（11）上的所述鼓泡孔（111）均布，所述鼓泡板（11）的截面呈波浪形，其波峰上设有鼓泡孔（111）。
2.根据权利要求1所述的一种用于玻璃蚀刻的槽结构，其特征在于：所述抽液管（32）上设有过滤装置。
3.根据权利要求2所述的一种用于玻璃蚀刻的槽结构，其特征在于：所述槽体上方还设有排风装置并连通到处理池。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种用于玻璃蚀刻的槽结构，其特征在于：所述增压装置（82）为N2空压装置。
5.根据权利要求1或2或3所述的一种用于玻璃蚀刻的槽结构，其特征在于：所述自动加热设备（6）包括设置在所述溶液池（3）内的加热管。
6.根据权利要求1或2或3所述的一种用于玻璃蚀刻的槽结构，其特征在于：所述气管（8）上设有反向阀。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310143423.4A CN103224332B (zh) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 一种用于玻璃蚀刻的槽结构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310143423.4A CN103224332B (zh) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 一种用于玻璃蚀刻的槽结构 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103224332A CN103224332A (zh) | 2013-07-31 |
| CN103224332B true CN103224332B (zh) | 2015-07-29 |
Family
ID=48835009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310143423.4A Active CN103224332B (zh) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 一种用于玻璃蚀刻的槽结构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103224332B (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108585534B (zh) * | 2018-07-25 | 2021-07-13 | 湖北鸿创科技有限公司 | 一种玻璃蚀刻用鼓泡装置 |
| CN110076128A (zh) * | 2019-06-04 | 2019-08-02 | 大连达利凯普科技有限公司 | 单层电容器加工过程的清洗装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101033116A (zh) * | 2006-02-17 | 2007-09-12 | 智圆技术株式会社 | 薄化玻璃衬底的设备 |
| CN101051603A (zh) * | 2006-04-07 | 2007-10-10 | 悦城科技股份有限公司 | 面板蚀刻制程的方法及其装置 |
| CN101215100A (zh) * | 2008-01-16 | 2008-07-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 平板玻璃基板减薄蚀刻槽 |
| CN203256140U (zh) * | 2013-04-24 | 2013-10-30 | 浙江金指科技有限公司 | 一种用于玻璃蚀刻的槽结构 |
-
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101033116A (zh) * | 2006-02-17 | 2007-09-12 | 智圆技术株式会社 | 薄化玻璃衬底的设备 |
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| CN203256140U (zh) * | 2013-04-24 | 2013-10-30 | 浙江金指科技有限公司 | 一种用于玻璃蚀刻的槽结构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103224332A (zh) | 2013-07-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PP01 | Preservation of patent right |
Effective date of registration: 20150730 Granted publication date: 20150729 |
|
| RINS | Preservation of patent right or utility model and its discharge | ||
| PD01 | Discharge of preservation of patent |
Date of cancellation: 20160130 Granted publication date: 20150729 |
|
| RINS | Preservation of patent right or utility model and its discharge | ||
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Chen Huanjie Inventor before: Wang Sheng |
|
| COR | Change of bibliographic data | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20160901 Address after: 313100 No. 588 Changxin Avenue, Taihu street, Huzhou, Zhejiang, Changxing County Patentee after: Zhejiang Changxin Heli Photoelectric Technology Co., Ltd. Address before: 313100, No. three, No. 588, Changxing County Economic Development Zone, Huzhou, Zhejiang Patentee before: Zhejiang Goldfinger Technology Co., Ltd. |
|
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20161027 Address after: 518000, 22 Industrial Zone, Second Industrial Road, Songgang street, Baoan District, Guangdong, Shenzhen Patentee after: Shenzhen Hua Shi Photoelectric Co., Ltd. Address before: 313100 No. 588 Changxin Avenue, Taihu street, Huzhou, Zhejiang, Changxing County Patentee before: Zhejiang Changxin Heli Photoelectric Technology Co., Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20200604 Address after: 330072 4-6 / F, building 2, Nanchang high tech electronic information industrial park, No. 888, Yaohu West Sixth Road, Nanchang high tech Industrial Development Zone, Nanchang City, Jiangxi Province Patentee after: Jiangxi Huashi photoelectric Co., Ltd Address before: 518000, 22 Industrial Zone, Second Industrial Road, Songgang street, Baoan District, Guangdong, Shenzhen Patentee before: SHENZHEN HUASHI OPTOELECTRONIC Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right |