CN103178105B - Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件 - Google Patents
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Abstract
本发明创造涉及一种Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件。采用的技术方案是:包括P型衬底,P型衬底上设置N阱,在N阱上设有第一P+注入区和第一N+注入区,第一N+注入区临近N阱和P型衬底的交界处;在P型衬底上设有第二P+注入区和第二N+注入区,第二P+注入区临近N阱和P型衬底的交界处;第一P+注入区接阳极,第二N+注入区接阴极;Native NMOS源接第一N+注入区,Native NMOS漏接第二P+注入区,Native NMOS衬底接电路的Vss。本发明Native NMOS导通后,Native NMOS的导通电流充当SCR期间的触发电流,触发晶闸管SCR导通,晶闸管导通后,晶闸管电流导通大部分ESD 电流,从而实现了ESD保护。
Description
技术领域
本发明创造涉及一种可用于65nm半导体工艺的静电保护(ESD)器件,特别涉及低电压触发的SCR器件。
背景技术
静电放电(ESD,Electron Static Discharge)是当一个集成电路的管脚浮接时,大量静电荷从外向内灌入集成电路的瞬时过程,整个过程大约耗时100ns。在集成电路的静电放电时会产生数百甚至数千伏特的高压,将集成电路中输入级的栅氧化层击穿。随着集成电路工艺的进步,MOS管的特征尺寸越来越小,栅氧化层的厚度也越来越薄,在这种趋势下,使用高性能的ESD防护器件来泄放静电电荷以保护栅极氧化层显得十分重要。
ESD现象的模型主要有四种:人体放电模型(HBM)、机械放电模型(MM)、器件充电模型(CDM)以及电场感应模型(FIM)。对一般集成电路产品来说,一般要经过人体放电模型,机械放电模型以及器件充电模型的测试。为了能够承受如此高的静电放电电压,集成电路产品通常必须使用具有高性能、高耐受力的静电放电保护器件。
为了达到保护芯片抵御静电打击的目的,目前,已有很多技术来减小触发电压,如:二极管触发的SCR、GGNMOS触发的SCR、modified SCR、RCT触发的SCR等结构。在一般CMOS工艺中,经常采用SCR器件来进行ESD保护,常规的SCR器件,如图1所示,P型衬底上设有N阱和P阱,N阱和P阱上分别设有N+和P+两个注入区,所有注入区之间用浅沟槽(STI)隔离,有一个浅沟槽(STI)跨接在N阱和P阱之间。此种结构的SCR器件被用于ESD 防护存在的缺点是:其ESD 触发电压是由Nwell-pwell决定的,此电压比较大,往往大于ESD设计窗口的需要。
随着器件的特征尺寸的缩小,电路的工作电压也不断下降,为了将可控硅ESD防护器件的触发电压降低到可观的电压值内,研制低压触发SCR器件是本领域的技术人员不断研究的课题。
发明内容
为了解决以上问题,本发明创造提供一种采用新型技术减小器件的ESD触发电压的Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件。
为了实现上述目的,本发明创造采用的技术方案是:Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件,包括P型衬底,P型衬底上设置N阱,在N阱上设有第一P+注入区和第一N+注入区,第一N+注入区临近N阱和P型衬底的交界处;在P型衬底上设有第二P+注入区和第二N+注入区,第二P+注入区临近N阱和P型衬底的交界处;第一P+注入区接阳极,第二N+注入区接阴极;Native NMOS源接第一N+注入区,Native NMOS漏接第二P+注入区,Native NMOS衬底接电路的Vss。
上述的Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件:由第一P+注入区、N阱、P型衬底和第二N+注入区构成SCR通路。
本发明中,所述的Native NMOS的结构是在p型衬底上直接设置两个N+注入区。此Native NMOS管子不需要Pwell,其开启电压为一负值。
本发明中,Native NMOS的导通电流触发SCR晶闸管,从而减小SCR器件的ESD触发电压。ESD脉冲信号施加在Anode和Cathode之间。Native NMOS具有负的开启电压,处于常开状态,Native NMOS的导通电流充当SCR期间的触发电流,触发晶闸管SCR导通,晶闸管电流(SCR current)导通大部分ESD 电流,从而实现了ESD保护。
本发明中的Native NMOS,其结构如图3所示,此NMOS管子不需要Nwell和Pwell,其开启电压为一负值,负的开启电压保证Trigger触发通路的快速导通。
附图说明
图1是常规SCR器件剖面图。
图2是本发明创造SCR器件剖面图。
图3是本发明创造的Native NMOS器件剖面图。
图4是本发明创造SCR器件TLP测试结果。
具体实施方式
如图2所示,Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件,包括P型衬底(6)、N阱(5)和Native NMOS(30),P型衬底(6)上设置N阱(5)。
在N阱(5)上设有第一P+注入区(1)和第一N+注入区(2),第一N+注入区(2)临近N阱(5)和P型衬底(6)的交界处,第一P+注入区(1)接阳极。
在P型衬底(6)上设有第二P+注入区(3)和第二N+注入区(4),第二P+注入区(3)临近N阱(5)和P型衬底(6)的交界处,第二N+注入区(4)接阴极。
Native NMOS(30)源接第一N+注入区(2),漏接第二P+注入区(3),衬底接电路的Vss。
本发明中,由第一P+注入区(1)、N阱(5)、P型衬底(6)和第二N+注入区(4)构成SCR通路。
本发明中,如图3所示,所述的Native NMOS的结构是在p型衬底上直接设置两个N+注入区。此Native NMOS管子不需要Pwell,其开启电压为一负值。
本发明,电路正常工作时,因为Native NMOS具有负的开启电压,所以需要给Native NMOS(30)的栅极施加一个负电压,此负电压可以保证Native NMOS (30)关闭,从而此器件没有漏电。
ESD来临时,控制线(Control line)为浮空(floating )状态,电压一般为0或者一正电压,因为Native NMOS器件具有负的开启电压,native NMOS(30)处于导通状态。触发电流首先经过P+(1),N+(2),native NMOS (30) ,P+(3),N+(4)。此触发电流路径在阳极(Anode)电压大于1.4V(通路中有2个二极管)就可以产生。
当触发电流大于一定程度(如 100mA左右),就会很快触发SCR导通,形成SCR 通路来导通ESD电流。从而实现ESD保护,实现低电压SCR触发。
本发明创造Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件的TLP测试结果如图4所示。从图4可见,本发明的触发电压为7V。
Claims (2)
1. Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件,包括P型衬底(6),P型衬底(6)上设置N阱(5),其特征在于:在N阱(5)上设有第一P+注入区(1)和第一N+注入区(2),第一N+注入区(2)临近N阱(5)和P型衬底(6)的交界处;在P型衬底(6)上设有第二P+注入区(3)和第二N+注入区(4),第二P+注入区(3)临近N阱(5)和P型衬底(6)的交界处;第一P+注入区(1)接阳极,第二N+注入区(4)接阴极;Native NMOS(30)源接第一N+注入区(2),Native NMOS(30)漏接第二P+注入区(3),Native NMOS(30)衬底接电路的Vss;所述的Native NMOS的结构是在p型衬底上直接设置两个N+注入区,此Native NMOS管子不需要Pwell,其开启电压为负值。
2.如权利要求1所述的Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件,其特征在于:由第一P+注入区(1)、N阱(5)、P型衬底(6)和第二N+注入区(4)构成SCR通路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310123051.9A CN103178105B (zh) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310123051.9A CN103178105B (zh) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103178105A CN103178105A (zh) | 2013-06-26 |
CN103178105B true CN103178105B (zh) | 2015-07-08 |
Family
ID=48637851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310123051.9A Active CN103178105B (zh) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | Native NMOS低压触发的用于ESD保护的SCR器件 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103178105B (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105556667B (zh) * | 2015-09-08 | 2018-09-18 | 香港应用科技研究院有限公司 | 用于高hbm esd保护能力的横向二极管和垂直scr混合结构 |
CN113257916B (zh) * | 2021-03-29 | 2023-04-14 | 重庆中科渝芯电子有限公司 | 一种集成整流器的平面场效应晶体管及其制造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101814498A (zh) * | 2010-03-10 | 2010-08-25 | 浙江大学 | 一种内嵌nmos辅助触发可控硅结构 |
CN102110686A (zh) * | 2010-12-17 | 2011-06-29 | 无锡华润上华半导体有限公司 | 一种基于scr的集成电路静电保护器件 |
CN102938403A (zh) * | 2012-11-28 | 2013-02-20 | 辽宁大学 | 一种用于esd保护的低压触发scr器件 |
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2013
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Patent Citations (3)
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---|---|---|---|---|
CN101814498A (zh) * | 2010-03-10 | 2010-08-25 | 浙江大学 | 一种内嵌nmos辅助触发可控硅结构 |
CN102110686A (zh) * | 2010-12-17 | 2011-06-29 | 无锡华润上华半导体有限公司 | 一种基于scr的集成电路静电保护器件 |
CN102938403A (zh) * | 2012-11-28 | 2013-02-20 | 辽宁大学 | 一种用于esd保护的低压触发scr器件 |
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CN103178105A (zh) | 2013-06-26 |
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C06 | Publication | ||
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