CN103033991A - 一种基板、基板的形成方法以及液晶显示器 - Google Patents

Abstract

本发明属于液晶显示器领域，具体涉及一种基板以及液晶显示器。一种基板，包括基底以及多个规则排列在所述基底上的单元功能块，所述基底上各单元功能块之间为空隙区域，每一所述单元功能块中具有多个功能器件，所述功能器件相对所述基底具有工艺段差，所述空隙区域设置有缓冲单元，所述缓冲单元的高度大于零小于等于所述工艺段差的高度。本发明所述缓冲单元能改善或消除摩擦工艺形成竖线Mura不良的产生，提高产品的良率，同时还延长绒布的使用寿命、提高绒布的利用率。

Description

一种基板、基板的形成方法以及液晶显示器

技术领域

本发明属于液晶显示器领域，具体涉及一种基板、基板的形成方法以及液晶显示器。

背景技术

液晶显示器（LCD）中的主要构成部件是液晶面板，液晶面板包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板之间形成填充有液晶的液晶盒。所述液晶面板分为用于图像显示的显示区域以及其他部分的非显示区域。所述显示区域包括成矩阵排列的多个像素区域，对应显示区域的彩膜基板上，每个像素区域均包括红（R）、绿（G）、蓝（B）三个彩色膜层；对应显示区域的阵列基板上，每个像素区域均设置有薄膜晶体管（TFT）。在液晶显示器工作的过程中，根据驱动信号的不同，在液晶面板的不同部位产生不同的电场，液晶盒中对应区域的液晶分子的几何形态与方向在电场作用下发生变化，从而改变光的传输路径与相位，实现图像显示。

在液晶面板中，为了获得均匀的液晶分子排列以及方向，实现对液晶的控制，需要对液晶进行取向。在现有技术中，对液晶取向通常采用的方式是在彩膜基板和阵列基板中分别设置取向层，并经过摩擦工艺使取向层具有取向能力。在液晶面板的量产中，采用摩擦辊轮（Roller）完成摩擦工艺，所述摩擦辊轮外表面包覆有特殊的摩擦用的绒布（Cloth Pile，称为绒布）。如图2所示，摩擦辊轮在取向层上沿设定的方向滚动，绒布对取向层施加摩擦力，在取向层表面形成方向一致的取向槽，以使液晶分子沿着取向槽按照一定的方向排列，实现液晶取向。在摩擦工艺中，摩擦辊轮的绒布对取向层施加垂直方向的压力，因此被摩擦面的平整度（或者平坦度）对取向槽的深度影响很大，如果被摩擦面的表面某处存在高度差，则绒布纤维将产生不一致的形变，进而导致在被摩擦面上摩擦生成的取向槽深浅不一致。

液晶显示器的生产工艺复杂且步骤繁多，尤其是阵列基板中，如图1所示，根据设计需要，每一个TFT均包括像素电极（ITO）、源电极（S）、漏电极（D）、钝化层（PVX）、栅电极（G）和栅极绝缘层（GI）等多层，同时还包括栅极扫描线、数据扫描线等电连接线，使得阵列基板上形成了处于不同高度的工艺段差。

在量产过程中，为了提高生产效率，通常会根据不同尺寸要求在基板上形成多个单元阵列区域（即有效显示区域），不同单元阵列区域之间预留有一定间隙区域（即非显示区域）。为保证产品良率，通常在空隙区域设置检测盘（Test Pad），检测盘中设置有与TFT相似的结构；同时，检测盘中根据需要设置相应的检测点或检测端口，例如设置过孔用于加载驱动信号，以便在关键工艺后对TFT阵列进行相应的检测。但是，检测盘中设置过孔时，过孔与阵列基板中各工艺层会形成较大的段差。这样，当该基板采用摩擦工艺进行摩擦取向时，绒布受基板表面较大段差的影响会产生不同的形变，这种形变导致绒布在基板上的摩擦强度不均匀，进而造成在取向层中取向槽的深浅不一致，而取向槽深浅的不一致容易造成沿摩擦方向产生竖线Mura的不良，产品良率降低。图8所示即为采用蒸汽检查机作为检测装置观察到的因摩擦工艺造成的竖线Mura不良。

而对于摩擦辊轮而言，因为绒布纤维形变具有一定的累加性（或叫记忆性）,由段差造成的纤维形变若得不到及时缓解，会使绒布的利用率和使用寿命大幅降低；同时也将导致被摩擦面产生不良的程度逐渐加剧。尤其是对于小尺寸高对比度的广视角液晶显示器，即采用高透过率高级超维场转换技术（Higher ADvancedSuper Dimension Switch，简称HADS）的阵列基板，因其在每一间隙区域都设置有检测盘以及过孔，因此使得绒布频繁且持续的多次经过过孔段差，导致阵列基板因摩擦强度不一致而产生不良，也降低了摩擦辊轮中绒布的利用率和使用寿命。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种基板、基板的形成方法以及液晶显示器，所述基板中缓冲单元能有效消除因摩擦工艺造成的竖线Mura不良，提高产品良率。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是该基板，包括基底以及排列在所述基底上的多个单元功能块，所述基底上各单元功能块之间的区域为空隙区域，每一所述单元功能块中具有多个功能器件，所述功能器件相对所述基底具有工艺段差，所述空隙区域设置有缓冲单元，所述缓冲单元的高度大于零且小于等于所述工艺段差的高度。

其中，每个所述功能器件相对所述基底具有一个以上不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于其中一个所述工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述单元功能块的一侧或两侧。

优选的是，所述缓冲单元为长方体形，在所述长方体与所述基底平行的截面中，与摩擦辊轮运动方向平行的边的尺寸大于等于所述摩擦辊轮滚动一圈的时间内基板移动的距离。

一种优选的方案是，所述单元功能块为阵列功能块，所述空隙区域还设置有检测盘，所述检测盘包括栅极层、栅绝缘层、钝化层以及像素电极层，所述栅极层、栅绝缘层、钝化层、像素电极层相对所述基底分别具有不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于栅极层相对于基底的工艺段差的高度、或等于栅绝缘层相对于基底的工艺段差的高度、或等于钝化层相对于基底的工艺段差的高度、或等于像素电极相对于基底的工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述检测盘的一侧或两侧。

一种优选的方案是，所述单元功能块为彩膜功能块，所述功能器件包括彩色膜层，所述彩色膜层包括彩色树脂以及黑矩阵，所述彩色膜层中的彩色树脂以及黑矩阵相对所述基底具有不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于彩色树脂相对于基底的工艺段差的高度、或等于黑矩阵相对于基底的工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述彩膜功能块的一侧或两侧。

优选上述方案中，所述基板中还包括设于基底上的取向层，所述缓冲单元采用与形成所述取向层相同的材料制成，更进一步优选采用聚酰亚胺材料制成。

优选的是，所述缓冲单元通过喷墨方式形成在所述基底上，或者，所述缓冲单元通过凸版转印方式形成在所述基底上。

一种基板的形成方法，包括在基板上的多个单元功能块之间的空隙区域中，设置高度大于零且小于等于所述工艺段差的高度的缓冲单元的步骤。

一种液晶显示器，包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板采用分割上述的基板形成的单元阵列基板，或/和所述彩膜基板采用分割上述的基板形成的单元彩膜基板。

本发明的有益效果是：通过在所述基板中设置缓冲单元，消除了竖线Mura不良的产生，提高了产品的良率，同时还延长了摩擦辊轮上绒布的使用寿命、提高了绒布的利用率。

附图说明

图1为现有技术中单元阵列功能块与检测盘的俯视图，以及检测盘沿平行于摩擦方向上的纵截面图；

图2为现有技术中摩擦辊轮的工作示意图；

图3为本发明实施例1缓冲单元的截面图与俯视图；

图4为本发明实施例1缓冲单元、单元功能块与检测盘的俯视图，以及检测盘沿平行于摩擦方向上的纵截面图；

图5为本发明实施例2缓冲单元、单元阵列功能块与检测盘的俯视图，以及检测盘沿平行于摩擦方向上的纵截面图；

图6为本发明实施例3缓冲单元、单元阵列功能块与检测盘的俯视图，以及检测盘沿平行于摩擦方向上的纵截面图；

图7为本发明实施例4缓冲单元、单元阵列功能块与检测盘的俯视图，以及检测盘沿平行于摩擦方向上的纵截面图；

图8为现有技术中液晶显示器竖线Mura不良的示意图。

图中：1-基底；2-栅极层；3-栅绝缘层；4-钝化层；5-像素电极层；6-单元功能块；7-检测盘；8-过孔；9-摩擦辊轮；10-缓冲单元。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明基板、基板的形成方法以及液晶显示器作进一步详细描述。

在详细描述具体实施例之前，先对现有技术中存在因摩擦造成竖线Mura等产品不良的原因分析如下：现有技术中，单元阵列功能块具有多个规则排列的TFT，单元彩膜功能块具有多个规则排列的彩色树脂和黑矩阵，所述TFT与彩色树脂和黑矩阵相对所述基底均具有不同高度的多个工艺段差。例如，如图1所示，在单元阵列功能块中，所述TFT相对所述基底具有四个不同的工艺段差H1-H4，尤其是测试盘7中除具有与TFT相似的结构外还设置有过孔8，当摩擦辊轮经过检测盘中的过孔时，受各工艺段差的影响，绒布作用于过孔处的纤维形变量与非过孔区域的纤维形变量明显不相同。当摩擦辊轮通过单元阵列功能块后，绒布纤维形变还来不及恢复至一致，因此造成在后续被摩擦的取向层上的摩擦强度不均匀。

发明人经认真研究后发现，摩擦辊轮中绒布纤维的形变是被摩擦面表面段差对其的挤压力与其自身弹性恢复力的合力表现，由于在取向层中采用摩擦工艺形成一定深浅的取向槽需要的垂直挤压力（对应着摩擦强度）是一定的，因此可以通过使绒布纤维形变尽量保持一致，或设置一个缓冲单元使其绒布自身弹性尽快恢复以达到减小绒布的纤维形变的效果。

一种基板，包括基底以及多个规则排列在所述基底上的单元功能块，所述基底上各单元功能块之间的区域为空隙区域，每一所述单元功能块中具有多个功能器件，所述功能器件相对所述基底具有工艺段差，所述空隙区域设置有缓冲单元，所述缓冲单元的高度大于零且小于等于所述工艺段差的高度。

其中，每个所述功能器件相对所述基底具有一个以上不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于其中一个所述工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述单元功能块的一侧或两侧。

一种基板的形成方法，包括在基板上的多个单元功能块之间的空隙区域中，设置高度大于零且小于等于所述工艺段差的高度的缓冲单元的步骤。

为描述方便，本发明中定义所述摩擦辊轮相对先经过的区域为前方，后经过的区域为后方；同时定义，摩擦辊轮上的绒布纤维形变以在基底上产生的形变量为零形变量（此时摩擦辊轮上的绒布未产生形变），绒布被挤压得越厉害，形变量就越大。

实施例1：

如图4所示，基底1上排列有多个单元阵列功能块，多个单元阵列功能块之间的区域为空隙区域。所述单元阵列功能块中具有多个规则排列的TFT，所述TFT相对所述基底1具有不同高度的多个工艺段差；所述空隙区域设置有检测盘7，所述检测盘中开设有过孔8。在本实施例中，所述缓冲单元设置在所述检测盘的前方的空隙区域，即设置在所述单元阵列功能块与所述检测盘之间。

一种基板的形成方法，包括在基板上的多个单元功能块之间的空隙区域中，设置高度大于零且小于等于所述工艺段差的高度的缓冲单元的步骤。

其中，单元阵列功能块上的功能器件为薄膜晶体管（TFT），所述检测盘中形成有与所述薄膜晶体管相似的结构，其包括栅极层2、栅绝缘层3、钝化层4以及像素电极层5，所述多个工艺段差具体指的是栅极层2（Gate）相对于基底1（Glass）形成的工艺段差H1，栅绝缘层3（GI）相对于基底1形成的工艺段差H2，钝化层4（PVX）相对于基底1形成的工艺段差H3，像素电极层5（ITO）相对于基底1形成的工艺段差H4。

如图3所示，所述缓冲单元10为长方体形，所述缓冲单元的高度等于至少一个工艺段差的高度，即所述缓冲单元的高度等于栅极层2相对于基底1的工艺段差的高度H1、或等于栅绝缘层3相对于基底1的工艺段差的高度H2、或等于钝化层4相对于基底1的工艺段差的高度H3、或等于像素电极层5相对于基底1的工艺段差的高度H4。

在本实施例中，摩擦工艺采用摩擦辊轮摩擦在单元阵列功能块上方形成取向槽，在所述长方体与所述基底平行的截面中，与所述摩擦辊轮运动方向垂直的边的尺寸（即缓冲单元的长度）大于等于所述检测盘与摩擦辊轮运动方向垂直的边的尺寸，所述缓冲单元与所述摩擦辊轮运动方向平行的边的尺寸（即缓冲单元的宽度）大于等于所述摩擦辊轮滚动一圈的时间内基底移动的距离，以保证摩擦辊轮整圈的绒布都经过缓冲单元。

在本实施例中，沿摩擦方向（即摩擦辊轮运动方向），在检测盘7前方设置所述缓冲单元，所述缓冲单元的高度h1等于栅极层2相对于基底1形成的工艺段差H1（即h1=H1），宽度为L，L等于所述摩擦辊轮滚动一圈的时间内基底移动的距离。

为了在间隙区域能设置合适宽度的缓冲单元，可对摩擦工艺的参数，例如摩擦辊轮的运动速度进行调整。如图2所示，摩擦辊轮在所述基底1上滚动一圈移动的距离L=机台移动速度/摩擦辊轮滚动速度。例如：检测盘7前方的间隙区域的宽度为2mm，后方的间隙区域的宽度为1.5mm,则所述缓冲单元在所述检测盘前方或后方的间隙区域内可调整的宽度总范围为0-3.5mm。针对上述的间隙区域尺寸，当将缓冲单元设置在所述检测盘的前方间隙区域中时，可设置以下参数：摩擦辊轮的滚动速度（旋转速度）为800转/min，机台移动速度为25mm/s，于是得到：L=25/800×60=1.875mm，即在所述检测盘前方的间隙区域中设置缓冲单元时，可将该缓冲单元的宽度设置为1.875mm。

所述基板中还包括设于基底上的取向层，所述缓冲单元采用与形成所述取向层相同的材料制成，一般是采用聚酰亚胺材料（Polyimide，简称PI）制成。根据单元阵列功能块中形成取向层的涂布方式的不同，所述缓冲单元可采用与之相应的方式同时形成在所述基底上，例如取向层采用注射（或喷墨）方式形成，则所述缓冲单元可采用注射PI液的方式形成；如取向层采用APR板（因日本旭化成公司的商标而得名，即采用以紫外线固化聚氨酯类树脂为原料的凸版形成取向层）转印PI液的方式形成，则所述缓冲单元可采用APR板转印PI液的方式形成。这两种方式各有特点，采用注射PI液的方式，可以将所述缓冲单元形成在任何需要的位置，且形成阵列基板的阵列功能块和形成彩膜基板的彩膜功能块可以不共用工艺参数，因此比较灵活；采用ARP板转印的方式，则由于目前涂布设备的成本以及工艺的复杂性的原因，常将形成阵列基板的阵列功能块和形成彩膜基板的彩膜功能块设计为共用同一张APR板，导致同一张ARP板在转印阵列基板或彩膜基板上的缓冲单元时可能导致取向层出现不良，例如出现将TFT上的电极遮盖住的不良，或者是可能需要ARP板分开设计而造成成本增加，因此实际量产中被利用的可能性较小。

如前所述，摩擦辊轮对取向层的摩擦强度受摩擦辊轮上绒布的损伤形变与绒布纤维本身的弹性形变的共同作用力的影响，即绒布对摩擦强度均匀性的影响是绒布受工艺段差挤压造成的损伤形变与绒布自身弹性恢复形变的合力作用。在摩擦过程中，绒布持续经过一定高度的工艺段差时，绒布纤维自身的弹性恢复能力减弱，但只要该工艺段差不变时，摩擦辊轮对取向层的摩擦强度是均匀的。

如图1所示，在检测盘中，由于栅极层2面积最大，其在与摩擦面平行的截面方向的长度也最长，因此其与摩擦辊轮的接触面积最大、接触时间也最长。此时摩擦辊轮受栅极层1顶面与基底1之间的工艺段差（高度为H1）的影响，导致摩擦辊轮上绒布纤维受损，根据本发明中的定义，此时绒布纤维形变量为Δd1（即绒布纤维在垂直方向的被压缩量）；如果没有缓冲单元，则摩擦辊轮接下来经过其他工艺段差的高度不同于H1的区域时，使得绒布纤维产生不同于Δd1的形变量，由于摩擦辊轮在其绒布纤维弹性还来不及恢复时就重新改变为新的形变量，因此可能导致摩擦辊轮在取向层上的摩擦强度均匀性较差。本实施例在不改变现有的检测盘设计的基础上，通过在所述检测盘前方的间隙区域中设置高度为H1的缓冲单元，用于对摩擦辊轮因所述检测盘中存在过孔8而导致所述摩擦辊轮上的绒布纤维产生的形变不一致进行预防。由于高度是相等的，因此摩擦辊轮经过缓冲单元时绒布产生的形变量与经过面积最大的层与基底产生的工艺段差时产生的形变量相同，当摩擦辊轮从高度为H1的缓冲单元过渡到其他不同于H1工艺段差高度时，绒布纤维实际发生改变的形变量为（Δd2-Δd1）、（Δd3-Δd1）或（Δd4-Δd1），因此使得摩擦辊轮上的绒布纤维形变量改变较小，趋于获得相同的形变量。

可见，通过在检测盘前方的间隙区域中设置缓冲单元，能使绒布在过孔区域与不同高度的非过孔区域的摩擦强度差异缩小，即整个摩擦辊轮上绒布纤维受到的挤压力降低，也为绒布赢得了弹性恢复的空间和时间，此消彼长，从而保证绒布纤维的损伤能降至最低，甚至可以将损伤忽略不计，也因此保证了摩擦辊轮对取向层摩擦强度的均匀性。

实施例2：

本实施例与实施例1的区别在于，所述缓冲单元设置在所述间隙区域的位置不同，相应的，所述缓冲单元的高度也不同。

如图5所示，在本实施例中，沿摩擦方向，在检测盘7后方的间隙区域中设置缓冲单元，所述缓冲单元的高度h2=H2，宽度大于等于L。参考实施例1，所述缓冲单元在检测盘后方的间隙区域中的宽度，可根据所述检测盘的位置，相应地调整摩擦工艺的参数来进行设置。例如：相应地调整摩擦辊轮的滚动速度为r pm=1000转/min，得到缓冲单元的宽度L=25/1000*60=1.5mm，以使缓冲单元能适合检测盘后方间隙区域的尺寸。

同样的，在本实施例中，由于所述摩擦辊轮先经过所述检测盘，因受到不同高度的工艺段差而受到不同的挤压力，导致所述绒布纤维已经在各处产生不同的形变量；当经过所述缓冲单元时，绒布纤维产生的形变量为Δd2，由于所述缓冲单元的高度h2与先经过的工艺段差的高度为H2的部分是相同的，因此摩擦辊轮在经过缓冲单元时与先经过的工艺段差的高度为H2的区域中产生的形变量是相同的（均为Δd2），从而为绒布纤维获得了一个弹性恢复的缓冲期，使得绒布纤维在经过检测盘7后经过缓冲单元时产生的形变改变量为（Δd2-Δd1）、（Δd3-Δd2）或（Δd4-Δd2）。综合来看，使得摩擦辊轮上受损伤较大的绒布纤维和受损伤较小的绒布纤维发生改变的形变量比较一致，因此能保证摩擦辊轮在经过正常显示区域时具有均匀的摩擦强度，消除产品因摩擦工艺造成的不良。

本实施例相对实施例1，主要是用于对摩擦辊轮因所述检测盘中存在过孔而导致所述摩擦辊轮上的绒布纤维产生的形变不一致进行补救，此时如果所述缓冲单元的高度仍为H1，则因经过栅绝缘层3、钝化层4及像素电极层5与基底1之间的工艺段差产生的绒布纤维形变仍然得不到有效恢复；而所述缓冲单元的高度设置为H 3或H4，则因经过栅极层2和栅绝缘层3与基底1之间的工艺段差产生的绒布纤维形变将发生累积，因此将缓冲单元设置在检测盘后方的间隙区域中时其高度最佳为H2。

实施例3：

本实施例与实施例1、2的区别在于，所述缓冲单元的数量、设置位置以及设置高度都有所不同。

如图6所示，在本实施例中，所述缓冲单元包括有第一缓冲单元和第二缓冲单元，沿摩擦方向，第一缓冲单元设置在所述检测盘前方的间隙区域中，该缓冲单元的高度h1=H1，宽度大于等于L；第二缓冲单元设置在所述检测盘后方的间隙区域中，该缓冲单元的高度h2=H2，宽度大于等于L。

在摩擦过程中，所述摩擦辊轮经过所述第一缓冲单元时，整个摩擦辊轮中的绒布受到相同的形变量（为Δd1），保持着该形变量，所述摩擦辊轮经过所述检测盘时，摩擦辊轮的绒布形变改变量分别为（Δd2-Δd1）、（Δd3-Δd1）或（Δd4-Δd1），相对零形变时产生的形变改变量较小；经过所述检测盘后，摩擦辊轮经过所述第二缓冲单元，整个摩擦辊轮中的绒布受到相同的形变量（为Δd2），摩擦辊轮的绒布形变改变量分别为（Δd2-Δd1-Δd2）、（Δd3-Δd1-Δd2）或（Δd4-Δd1-Δd2），摩擦辊轮上发生形变较大的绒布纤维有了一个弹性恢复的缓冲期，而发生形变较小的纤维此时发生的形变稍微有些许增大。综合来看，摩擦辊轮上受损伤较大的绒布纤维和受损伤较小的绒布纤维形变改变量比较一致，因此能保证摩擦辊轮在经过正常显示区域时对取向层具有均匀的摩擦强度。

在本实施例中，在所述检测盘的前方间隙区域和后方间隙区域都分别设置有缓冲单元，参考实施例1、2，所述缓冲单元在相应间隙区域中的宽度，可根据其所在间隙区域的尺寸来相应地调整摩擦工艺进行参数设置。

本实施例中，由于在所述检测盘沿摩擦方向的前方间隙区域和后方间隙区域都分别设置了缓冲单元，既可在摩擦辊轮接触单元阵列功能块前先对绒布纤维进行梳理，预减小摩擦辊轮在所述不同高度的工艺段差上产生的形变量与在所述过孔产生的形变量之间的形变改变量过大，从而减小绒布纤维的形变改变量；还同时对已经在对单元阵列功能块进行摩擦后产生了形变量的绒布纤维起到缓冲作用，让产生较大形变量的绒布纤维有一个弹性恢复时间，让产生较小形变量的绒布纤维有一个调节时间，经过这两重缓冲后，最终使得整个摩擦辊轮中的绒布纤维都趋于具有相同的形变量，进而保证摩擦辊轮对正常显示区域的取向层摩擦强度的均匀性。

实施例4：

如图7所示，本实施例与实施例1-3的区别在于，本实施例中的检测盘中没有设置过孔。

本实施例中所述缓冲单元的位置设置和宽度设置可相应参考实施例1-3任一中所述缓冲单元的设置，这里不再详细描述。

本实施例通过缓冲单元的设置，克服了阵列功能块与检测盘之间的工艺段差，使得设置有多个阵列功能块的基板的表面尽可能平整，因此整个摩擦辊轮中的绒布纤维都趋于产生相同的形变量，进而保证摩擦辊轮对正常显示区域的取向层摩擦强度的均匀性。

实施例5：

本实施例与实施例1-3的区别在于，本实施例中所述单元功能块包括彩膜功能块，所述功能器件为彩色膜层，所述彩色膜层包括彩色树脂以及黑矩阵，所述彩色膜层中的彩色树脂以及黑矩阵相对所述基底具有不同高度的工艺段差。具体的，所述缓冲单元的高度等于彩色树脂相对于基底的工艺段差的高度、或等于黑矩阵相对于基底的工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述彩膜功能块的一侧或两侧。

所述缓冲单元为长方体形，在所述长方体与所述基底平行的截面中，与摩擦辊轮运动方向平行的边的尺寸大于等于所述摩擦辊轮滚动一圈移动的距离，以保证摩擦辊轮整圈的绒布都经过缓冲单元。

本实施例中所述缓冲单元的宽度设置可相应参考实施例1-3任一中所述缓冲单元的设置，这里不再详细描述。

本实施例通过缓冲单元的设置，克服了彩膜功能块上黑矩阵与彩色树脂之间的工艺段差，使得设置有多个彩膜功能块的基板的表面尽可能平整，因此整个摩擦辊轮中的绒布纤维都趋于产生相同的形变量，进而保证摩擦辊轮对正常显示区域的取向层摩擦强度的均匀性。

实施例1-4中，基板上的阵列功能块经过分割，并去除所述缓冲单元，即形成单元阵列基板；实施例5中，基板上的彩膜功能块经过分割，并去除所述缓冲单元，即形成单元彩膜基板。采用分割形成的单元阵列基板与单元彩膜基板即可形成液晶显示面板，进而形成液晶显示器。

实施例1-5通过在基板的间隙区域设置特定高度和宽度的缓冲单元，提供了一种基板的形成方法，不仅不会对现有阵列基板或彩膜基板中的检测工序产生任何影响，而且后续工艺过程也无需作任何设备或和工艺参数的改变，但是却能有效缓解（或者说减弱）工艺段差对摩擦辊轮的绒布造成不一致形变，均衡绒布纤维的被挤压力，并能加速绒布纤维自身的弹性恢复，有效降低了工艺段差对摩擦辊轮上绒布纤维的影响，延长了绒布的使用寿命、提高了绒布的利用率。并且，从根本上消除了因摩擦工艺不良造成的竖线Mura的产生，提高了产品良率。

本发明所述的缓冲单元尤其适用于改善或消除摩擦工艺对小尺寸ADS产品阵列基板上形成的竖线Mura不良，同时对其他尺寸ADS产品的Mura类不良的改善也有借鉴作用。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种基板，包括基底以及排列在所述基底上的多个单元功能块，所述基底上各单元功能块之间的区域为空隙区域，每一所述单元功能块中具有多个功能器件，所述功能器件相对所述基底具有工艺段差，其特征在于，所述空隙区域设置有缓冲单元，所述缓冲单元的高度大于零且小于等于所述工艺段差的高度。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，每个所述功能器件相对所述基底具有一个以上不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于其中一个所述工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述单元功能块的一侧或两侧。

3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述缓冲单元为长方体形，在所述长方体与所述基底平行的截面中，与摩擦辊轮运动方向平行的边的尺寸大于等于所述摩擦辊轮滚动一圈的时间内基板移动的距离。

4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述单元功能块为阵列功能块，所述空隙区域还设置有检测盘，所述检测盘包括栅极层、栅绝缘层、钝化层以及像素电极层，所述栅极层、栅绝缘层、钝化层、像素电极层相对所述基底分别具有不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于栅极层相对于基底的工艺段差的高度、或等于栅绝缘层相对于基底的工艺段差的高度、或等于钝化层相对于基底的工艺段差的高度、或等于像素电极相对于基底的工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述检测盘的一侧或两侧。

5.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述单元功能块为彩膜功能块，所述功能器件包括彩色膜层，所述彩色膜层包括彩色树脂以及黑矩阵，所述彩色膜层中的彩色树脂以及黑矩阵相对所述基底具有不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于彩色树脂相对于基底的工艺段差的高度、或等于黑矩阵相对于基底的工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述彩膜功能块的一侧或两侧。

6.根据权利要求4或5所述的基板，其特征在于，所述基板中还包括设于基底上的取向层，所述缓冲单元采用与形成所述取向层相同的材料制成。

7.根据权利要求6所述的基板，其特征在于，所述缓冲单元采用聚酰亚胺材料制成。

8.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，所述缓冲单元通过喷墨方式形成在所述基底上，或者，所述缓冲单元通过凸版转印方式形成在所述基底上。

9.一种基板的形成方法，其特征在于，包括在基板上的多个单元功能块之间的空隙区域中，设置高度大于零且小于等于如权利要求1-8任一一项所述工艺段差的高度的缓冲单元的步骤。

10.一种液晶显示器，包括阵列基板和彩膜基板，其特征在于，所述阵列基板采用分割权利要求4所述的基板形成的单元阵列基板，或/和所述彩膜基板采用分割权利要求6所述的基板形成的单元彩膜基板。

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