CN104834137A - 阵列基板、彩膜基板、显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种阵列基板、彩膜基板、显示面板和显示装置。该阵列基板包括第一基板以及依次设置在第一基板上的晶体管和像素电极层,晶体管和像素电极层之间还设置有有机绝缘层,有机绝缘层在远离第一基板的一侧表面形成凸起结构,凸起结构用于与形成在彩膜基板对合面上的凹陷结构相对应咬合。该阵列基板通过设置凸起结构,该彩膜基板通过设置凹陷结构,增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,从而使对合后的阵列基板和彩膜基板在受到外界压力作用时不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的阵列基板对合面上取向膜的划伤,提高了阵列基板的良率。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体地,涉及一种阵列基板、彩膜基板、显示面板和显示装置。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display,简称TFT LCD)是一种尺寸范围广、低能耗、低辐射的显示设备。薄膜晶体管液晶显示面板通常由阵列基板(形成有薄膜晶体管TFT的基板)和彩膜基板(Color Filter,简称CF),以及充满于两者对合形成的盒间隙中的液晶层组成。
为了不断降低产品功耗,提高画面品质,现将有机绝缘材料运用于阵列基板的膜层制成中。如采用有机绝缘材料在阵列基板的像素电极层与薄膜晶体管之间形成有机绝缘层,该有机绝缘层由于厚度较大,能够大大减小像素电极与薄膜晶体管中的导电层(如栅极、有源层和源极)之间的寄生电容,从而提高产品性能。
如图1所示,为现有技术中阵列基板上形成有有机绝缘层4的薄膜晶体管液晶显示面板的结构情况。由于阵列基板上形成有膜层较厚的有机绝缘层4,导致阵列基板对合面表面平坦,这使得彩膜基板上的隔垫物11与阵列基板对合面之间的摩擦阻力减小,在受同等外力作用的情况下,隔垫物11很容易相对阵列基板对合面滑动,隔垫物11相对阵列基板对合面滑动时很容易划伤阵列基板对合面上的取向膜,从而导致液晶显示面板出现亮点等显示不良,对画面品质造成了严重的影响。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述技术问题,提供一种阵列基板、彩膜基板、显示面板和显示装置。该阵列基板通过设置凸起结构,该彩膜基板通过设置凹陷结构,增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,从而使对合后的阵列基板和彩膜基板在受到外界压力作用时不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的阵列基板对合面上取向膜的划伤,提高了阵列基板的良率。
本发明提供一种阵列基板,包括第一基板以及依次设置在所述第一基板上的晶体管和像素电极层,所述晶体管和所述像素电极层之间还设置有有机绝缘层,所述有机绝缘层在远离所述第一基板的一侧表面形成凸起结构,所述凸起结构用于与形成在彩膜基板对合面上的凹陷结构相对应咬合。
优选地,所述凸起结构包括多个,多个所述凸起结构大小形状相同,且多个所述凸起结构均匀分布。
优选地,所述凸起结构的形状为圆柱形、锥台形或梯台形;所述圆柱形凸起结构的顶部端面为凸起状半球面或凹陷状弧面。
优选地,所述彩膜基板上设置有黑矩阵,所述凸起结构对应位于所述黑矩阵所在区域。
优选地,所述晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极,所述有源层、所述源极和所述漏极依次设置在所述栅极的上方,所述栅极和所述有源层之间还设置有栅绝缘层;所述有机绝缘层与所述像素电极层之间还设置有钝化层;所述像素电极层的远离所述第一基板的上表面低于所述凸起结构的远离所述第一基板的顶部。
优选地,所述凸起结构与所述有机绝缘层采用相同材料、并在一次构图工艺中形成。
本发明还提供一种彩膜基板,包括第二基板以及依次设置在所述第二基板上的彩膜层和平坦层,所述平坦层在远离所述第二基板的一侧表面形成凹陷结构,所述凹陷结构用于与形成在阵列基板对合面上的凸起结构相对应咬合。
优选地,所述凹陷结构包括多个,多个所述凹陷结构大小形状相同,且多个所述凹陷结构均匀分布。
优选地,所述凹陷结构的形状为圆柱形、锥台形或梯台形;所述圆柱形凹陷结构的底部为凹陷状半球面或平面。
优选地,还包括黑矩阵,所述黑矩阵与所述彩膜层同层设置,所述凹陷结构对应位于所述黑矩阵所在区域。
优选地,所述凹陷结构与所述平坦层采用相同材料、并在一次构图工艺中形成。
本发明还提供一种显示面板,包括上述阵列基板和上述彩膜基板,所述阵列基板和所述彩膜基板相对合;所述阵列基板上的凸起结构和所述彩膜基板上的凹陷结构位置相对应并相互咬合。
优选地,所述凸起结构和所述凹陷结构的大小形状相适配。
本发明还提供一种显示装置,包括上述显示面板。
本发明的有益效果:本发明所提供的阵列基板,在有机绝缘层远离第一基板的一侧表面形成有凸起结构,该凸起结构能对对合的阵列基板和彩膜基板起到支撑的作用,从而使彩膜基板上无需再设置起支撑作用的隔垫物,进而减少了彩膜基板的制备工序。凸起结构与彩膜基板上凹陷结构的对应咬合,增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,从而使对合后的阵列基板和彩膜基板在受到外界压力作用时不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的阵列基板对合面上取向膜的划伤,提高了阵列基板的良率。
本发明所提供的彩膜基板,在平坦层远离第二基板的一侧表面形成凹陷结构,凹陷结构的设置,使阵列基板上的凸起结构能与其相对应咬合,从而增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,使对合后的阵列基板和彩膜基板在受到外界压力作用时不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的彩膜基板和阵列基板对合面上取向膜的划伤,提高了彩膜基板的良率。
本发明所提供的显示面板,通过采用上述阵列基板和彩膜基板,增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,从而使该显示面板在受到外界压力作用时,阵列基板和彩膜基板之间不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的阵列基板和彩膜基板对合面上取向膜的划伤,提高了该显示面板的良率。
本发明所提供的显示装置,通过采用上述显示面板,提高了该显示装置的良率。
附图说明
图1为现有技术中对合的阵列基板和彩膜基板的结构示意图;
图2为本发明实施例1中阵列基板的结构示意图;
图3为阵列基板上凸起结构的顶部端面为凹陷状弧面的结构示意图;
图4为本发明实施例2中彩膜基板的结构示意图;
图5为彩膜基板上凹陷结构的底部为平面的结构示意图;
图6为本发明实施例3中显示面板的结构示意图。
其中的附图标记说明:
1.第一基板;2.晶体管;21.栅极;22.有源层;23.源极;24.漏极;3.像素电极层;4.有机绝缘层;41.凸起结构;5.栅绝缘层;6.钝化层;7.第二基板;8.彩膜层;9.平坦层;91.凹陷结构;10.黑矩阵;11.隔垫物。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明所提供的一种阵列基板、彩膜基板、显示面板和显示装置作进一步详细描述。
实施例1:
本实施例提供一种阵列基板,如图2所示,包括第一基板1以及依次设置在第一基板1上的晶体管2和像素电极层3,晶体管2和像素电极层3之间还设置有有机绝缘层4,有机绝缘层4在远离第一基板1的一侧表面形成凸起结构41,凸起结构41用于与形成在彩膜基板对合面上的凹陷结构相对应咬合。
凸起结构41能对对合的阵列基板和彩膜基板起到支撑的作用,从而使彩膜基板上无需再设置起支撑作用的隔垫物,进而减少了彩膜基板的制备工序。凸起结构41与彩膜基板上凹陷结构的对应咬合,增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,从而使对合后的阵列基板和彩膜基板在受到外界压力作用时不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的阵列基板和彩膜基板对合面上取向膜的划伤,提高了阵列基板的良率。
本实施例中,凸起结构41包括多个,多个凸起结构41大小形状相同,且多个凸起结构41均匀分布。如此设置,能使凸起结构41对对合的阵列基板和彩膜基板形成均匀的支撑,同时还能进一步增大对合后阵列基板和彩膜基板之间的摩擦力,避免在受外界压力的作用下,阵列基板和彩膜基板之间产生相对滑动。
本实施例中,凸起结构41的形状为圆柱形,圆柱形凸起结构41的顶部端面为凸起状半球面。如此设置,能够减小凸起结构41与凹陷结构之间的相对磕碰,同时还使阵列基板与彩膜基板之间的相对摩擦增大。
需要说明的是,凸起结构41的形状也可以为锥台形或梯台形。
本实施例中,彩膜基板上设置有黑矩阵,凸起结构41对应位于黑矩阵所在区域。如此设置,能使凸起结构41的设置不会对由阵列基板和彩膜基板对合形成的显示面板的显示造成任何影响。
本实施例中,晶体管2包括栅极21、有源层22、源极23和漏极24,有源层22、源极23和漏极24依次设置在栅极21的上方,栅极21和有源层22之间还设置有栅绝缘层5;有机绝缘层4与像素电极层3之间还设置有钝化层6;像素电极层3的远离第一基板1的上表面低于凸起结构41的远离第一基板1的顶部。如此设置,能使凸起结构41的顶部凸出在阵列基板的对合面上,从而便于对彩膜基板进行支撑。另外,阵列基板中有机绝缘层4的设置,能够进一步减小像素电极层3与栅极21、有源层22和源极23之间的寄生电容,提高阵列基板的显示性能。
本实施例中,凸起结构41与有机绝缘层4采用相同材料、并在一次构图工艺中形成。如此设置,使凸起结构41的形成不会额外增加阵列基板的制备工序,同时还减少了彩膜基板上隔垫物的制备工序。
另外需要说明的是,如图3所示,圆柱形凸起结构41的顶部端面也可以为凹陷状弧面。由于有机绝缘层4的材料具有一定的弹性,在阵列基板与彩膜基板对合时的压力作用下,凸起结构41的凹陷状弧面的的顶部端面能够发生形变,从而使凹陷状弧面完全与凹陷结构的底部相贴合(即真空吸合),进而进一步增强了阵列基板与彩膜基板之间的相对摩擦,使二者之间不会产生相对滑动。
实施例1中所提供的阵列基板,在有机绝缘层远离第一基板的一侧表面形成有凸起结构,该凸起结构能对对合的阵列基板和彩膜基板起到支撑的作用,从而使彩膜基板上无需再设置起支撑作用的隔垫物,进而减少了彩膜基板的制备工序。凸起结构与彩膜基板上凹陷结构的对应咬合,增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,从而使对合后的阵列基板和彩膜基板在受到外界压力作用时不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的阵列基板对合面上取向膜的划伤,提高了阵列基板的良率。
实施例2:
本实施例提供一种彩膜基板,如图4所示,包括第二基板7以及依次设置在第二基板7上的彩膜层8和平坦层9,平坦层9在远离第二基板7的一侧表面形成凹陷结构91,凹陷结构91用于与形成在阵列基板对合面上的凸起结构相对应咬合。
凹陷结构91的设置,使阵列基板上的凸起结构能与其相对应咬合,从而增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,使对合后的阵列基板和彩膜基板在受到外界压力作用时不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的彩膜基板和阵列基板对合面上取向膜的划伤,提高了彩膜基板的良率。
本实施例中,凹陷结构91包括多个,多个凹陷结构91大小形状相同,且多个凹陷结构均匀分布。如此设置,能使多个凸起结构分别对应与凹陷结构相咬合,从而进一步增大了对合后阵列基板和彩膜基板之间的摩擦力,避免在受外界压力的作用下,阵列基板和彩膜基板之间产生相对滑动。
本实施例中,凹陷结构91的形状为圆柱形,圆柱形凹陷结构91的底部为凹陷状半球面。如此设置,能使凹陷结构91与实施例1中的凸起结构相匹配咬合,从而使阵列基板与彩膜基板之间的相对摩擦增大。
需要说明的是,凹陷结构91的形状也可以为锥台形或梯台形,从而使锥台形凹陷结构91能够很好地与锥台形的凸起结构相匹配咬合;并使梯台形的凹陷结构91能够很好地与梯台形的凸起结构相匹配咬合。
本实施例中,彩膜基板还包括黑矩阵10,黑矩阵10与彩膜层8同层设置,凹陷结构91对应位于黑矩阵10所在区域。如此设置,能使凹陷结构91的设置不会对由阵列基板和彩膜基板对合形成的显示面板的显示造成任何影响。
本实施例中,凹陷结构91与平坦层9采用相同材料、并在一次构图工艺中形成。如此设置,使凹陷结构91的形成不会额外增加彩膜基板的制备工序。
另外需要说明的是,如图5所示,圆柱形凹陷结构91的底部也可以为平面。当圆柱形凸起结构的顶部端面为凹陷状弧面时,由于有机绝缘层和平坦层9的材料都具有一定的弹性,在阵列基板与彩膜基板对合时的压力作用下,凸起结构的凹陷状弧面的的顶部端面能够发生形变,从而使凹陷状弧面完全与凹陷结构91的底部平面相贴合(即真空吸合),进而进一步增强了阵列基板与彩膜基板之间的相对摩擦,使二者之间不会产生相对滑动。
实施例2中所提供的彩膜基板,在平坦层远离第二基板的一侧表面形成凹陷结构,凹陷结构的设置,使阵列基板上的凸起结构能与其相对应咬合,从而增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,使对合后的阵列基板和彩膜基板在受到外界压力作用时不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的彩膜基板和阵列基板对合面上取向膜的划伤,提高了彩膜基板的良率。
实施例3:
本实施例提供一种显示面板,如图6所示,包括实施例1中的阵列基板和实施例2中的彩膜基板,阵列基板和彩膜基板相对合;阵列基板上的凸起结构41和彩膜基板上的凹陷结构91位置相对应并相互咬合。
凸起结构41和凹陷结构91相对应咬合,增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,从而使该显示面板在受到外界压力作用时,阵列基板和彩膜基板之间不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的阵列基板和彩膜基板对合面上取向膜的划伤,提高了该显示面板的良率。同时,该显示面板还减少了制备隔垫物的工序,制备起来更加简单高效。
本实施例中,凸起结构41和凹陷结构91的大小形状相适配。如此设置,能使凸起结构41和凹陷结构91更好地相匹配咬合,进一步增大对合后阵列基板和彩膜基板之间的摩擦力,避免在受外界压力的作用下,阵列基板和彩膜基板之间产生相对滑动。
实施例3中所提供的显示面板,通过采用实施例1中的阵列基板和实施例2中的彩膜基板,增大了对合后阵列基板与彩膜基板之间的摩擦力,从而使该显示面板在受到外界压力作用时,阵列基板和彩膜基板之间不会产生相对滑动,进而避免了相对滑动所导致的阵列基板和彩膜基板对合面上取向膜的划伤,提高了该显示面板的良率。
实施例4:
本实施例提供一种显示装置,包括实施例3中的显示面板。
通过采用实施例3中的显示面板,提高了该显示装置的良率。
本发明所提供的显示装置可以为,液晶面板、液晶电视、显示器、手机、导航仪等任何具有液晶显示功能的产品或部件。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (14)
1.一种阵列基板,包括第一基板以及依次设置在所述第一基板上的晶体管和像素电极层,所述晶体管和所述像素电极层之间还设置有有机绝缘层,其特征在于,所述有机绝缘层在远离所述第一基板的一侧表面形成凸起结构,所述凸起结构用于与形成在彩膜基板对合面上的凹陷结构相对应咬合。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述凸起结构包括多个,多个所述凸起结构大小形状相同,且多个所述凸起结构均匀分布。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述凸起结构的形状为圆柱形、锥台形或梯台形;所述圆柱形凸起结构的顶部端面为凸起状半球面或凹陷状弧面。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述彩膜基板上设置有黑矩阵,所述凸起结构对应位于所述黑矩阵所在区域。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极,所述有源层、所述源极和所述漏极依次设置在所述栅极的上方,所述栅极和所述有源层之间还设置有栅绝缘层;所述有机绝缘层与所述像素电极层之间还设置有钝化层;所述像素电极层的远离所述第一基板的上表面低于所述凸起结构的远离所述第一基板的顶部。
6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述凸起结构与所述有机绝缘层采用相同材料、并在一次构图工艺中形成。
7.一种彩膜基板,包括第二基板以及依次设置在所述第二基板上的彩膜层和平坦层,其特征在于,所述平坦层在远离所述第二基板的一侧表面形成凹陷结构,所述凹陷结构用于与形成在阵列基板对合面上的凸起结构相对应咬合。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板,其特征在于,所述凹陷结构包括多个,多个所述凹陷结构大小形状相同,且多个所述凹陷结构均匀分布。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板,其特征在于,所述凹陷结构的形状为圆柱形、锥台形或梯台形;所述圆柱形凹陷结构的底部为凹陷状半球面或平面。
10.根据权利要求7所述的彩膜基板,其特征在于,还包括黑矩阵,所述黑矩阵与所述彩膜层同层设置,所述凹陷结构对应位于所述黑矩阵所在区域。
11.根据权利要求7所述的彩膜基板,其特征在于,所述凹陷结构与所述平坦层采用相同材料、并在一次构图工艺中形成。
12.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-6任意一项所述的阵列基板和权利要求7-11任意一项所述的彩膜基板,所述阵列基板和所述彩膜基板相对合;所述阵列基板上的凸起结构和所述彩膜基板上的凹陷结构位置相对应并相互咬合。
13.根据权利要求12所述的显示面板,其特征在于,所述凸起结构和所述凹陷结构的大小形状相适配。
14.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求12-13任意一项所述的显示面板。
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